JPS6240428A - 液晶素子の製造方法 - Google Patents
液晶素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS6240428A JPS6240428A JP18051485A JP18051485A JPS6240428A JP S6240428 A JPS6240428 A JP S6240428A JP 18051485 A JP18051485 A JP 18051485A JP 18051485 A JP18051485 A JP 18051485A JP S6240428 A JPS6240428 A JP S6240428A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- temperature
- heater
- crystal element
- cooler
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、強誘電性液晶を角いた液晶表示装置において
特に液晶の配向に関するものである。
特に液晶の配向に関するものである。
〔発明の技術的背景およびその問題点〕液晶素子は、腕
時計、電卓をはじめとしてパーソナルコンピュータ用デ
ィスプレイ、ポケットカラーテレビなど幅広く電気光学
装置に利用されている。しかし現在使用されているネマ
チック液晶は電気光学応答時間が約50m秒と遅いため
、高速応答が要求される分野での利用には制限がおる。
時計、電卓をはじめとしてパーソナルコンピュータ用デ
ィスプレイ、ポケットカラーテレビなど幅広く電気光学
装置に利用されている。しかし現在使用されているネマ
チック液晶は電気光学応答時間が約50m秒と遅いため
、高速応答が要求される分野での利用には制限がおる。
また表示容量の点でも限界に遼しつつおる。
一方、強誘電性液晶はμ秒単位の高速応答性を示すため
、その実用化により液晶素子の用途の飛躍的拡大をもた
らすことが期待されている。
、その実用化により液晶素子の用途の飛躍的拡大をもた
らすことが期待されている。
強誘電性液晶を用いる場合の技術的問題点は配向の困難
性である。強誘電性液晶の電気光学特性の出現には液晶
分子が基板に平行に揃った、いわゆるホモジニアス配向
が必要である。しかし、従来のネマチック液晶のホモジ
ニアス配向に用いられる布で基板をこするラビング方法
では十分良好な配向を得ることができない。そこで従来
とは異なる配向方法が幾つか提案されてきた。例えば磁
場印加法、電場印加法、シェアリング法、スペーサエツ
ヂ法が必げられる。しかし各方法とも以下に述べる欠点
を有している。磁場印加法では数に〜十数にガ「クスの
ia場を必要とするため大型の磁場発生装置が不可欠と
なり実用性に乏しい。電場印加法は液晶分子中を電流が
流れることにより液晶分子の劣化を招く。シェアリング
法は大きな面積で均一な配向を得ることができない。ス
ペーサーエッヂ法は大型パネルの作成が困難である。以
上、いずれの方法においても実用性の面で配向法として
は採用しがたい。
性である。強誘電性液晶の電気光学特性の出現には液晶
分子が基板に平行に揃った、いわゆるホモジニアス配向
が必要である。しかし、従来のネマチック液晶のホモジ
ニアス配向に用いられる布で基板をこするラビング方法
では十分良好な配向を得ることができない。そこで従来
とは異なる配向方法が幾つか提案されてきた。例えば磁
場印加法、電場印加法、シェアリング法、スペーサエツ
ヂ法が必げられる。しかし各方法とも以下に述べる欠点
を有している。磁場印加法では数に〜十数にガ「クスの
ia場を必要とするため大型の磁場発生装置が不可欠と
なり実用性に乏しい。電場印加法は液晶分子中を電流が
流れることにより液晶分子の劣化を招く。シェアリング
法は大きな面積で均一な配向を得ることができない。ス
ペーサーエッヂ法は大型パネルの作成が困難である。以
上、いずれの方法においても実用性の面で配向法として
は採用しがたい。
一方、従来からのラビング法を改良した配向法も提唱さ
れている。特開昭59−131911号公報にラビング
方向を平行すなわち同方位とする試みが記載されている
。これによると、2枚のガラス基板にポリイミド樹脂を
塗布、硬化後、ラビングを行ない、しかる2枚のガラス
基板上のラビング方向を上下同一方向に平行に組み合せ
ることでカイラルスメクチック液晶の配向性が向上し、
良好なコントラスト特性が得られるとされている。
れている。特開昭59−131911号公報にラビング
方向を平行すなわち同方位とする試みが記載されている
。これによると、2枚のガラス基板にポリイミド樹脂を
塗布、硬化後、ラビングを行ない、しかる2枚のガラス
基板上のラビング方向を上下同一方向に平行に組み合せ
ることでカイラルスメクチック液晶の配向性が向上し、
良好なコントラスト特性が得られるとされている。
しかしこの方法ではスメクチック液晶層が上下ガラス基
板間に垂直に形成されるのに対して、上下ガラス基板上
のラビング各々が分子層を規制するため分子層間に多く
の欠陥を生じる。
板間に垂直に形成されるのに対して、上下ガラス基板上
のラビング各々が分子層を規制するため分子層間に多く
の欠陥を生じる。
本発明は従来技術の欠点を除去するもので、従来、実用
になっている蒸着法など、一軸性表面処理の簡便さを生
かしつつ、かつ上記欠陥の減少によりコントラスト特性
の上昇と信頼性の向上をはかることを目的とするもので
市る。
になっている蒸着法など、一軸性表面処理の簡便さを生
かしつつ、かつ上記欠陥の減少によりコントラスト特性
の上昇と信頼性の向上をはかることを目的とするもので
市る。
この発明の液晶素子の製造方法は、まず一方の基板の液
晶に接触する面に一軸性の水平配向処理を施し、他方の
基板の面には無軸性の水平配向処理を施して、両基板間
に強誘電性液晶を挟持させる。次いで、液晶素子全体を
液晶が強誘電性を示す温度以上に昇温した後、前記一軸
性水平配向処理をした基板が他方の基板の温度よりも低
くなる温度勾配を持たせながら、液晶素子全体の温度を
降下させ、液晶が強誘電性を示す温度以下まで低下させ
るものでおる。
晶に接触する面に一軸性の水平配向処理を施し、他方の
基板の面には無軸性の水平配向処理を施して、両基板間
に強誘電性液晶を挟持させる。次いで、液晶素子全体を
液晶が強誘電性を示す温度以上に昇温した後、前記一軸
性水平配向処理をした基板が他方の基板の温度よりも低
くなる温度勾配を持たせながら、液晶素子全体の温度を
降下させ、液晶が強誘電性を示す温度以下まで低下させ
るものでおる。
これにより、一軸性水平配向処理をした基板側から配向
成長を促進し、良好な配向を得、液晶素子のコントラス
トを向上させるものである。なお、無軸性の水平配向処
理とは基板面と液晶分子長軸方向が平行になる以外の分
子長軸の方位規制は行なわないことを意味する。
成長を促進し、良好な配向を得、液晶素子のコントラス
トを向上させるものである。なお、無軸性の水平配向処
理とは基板面と液晶分子長軸方向が平行になる以外の分
子長軸の方位規制は行なわないことを意味する。
[発明の実施例]
実施例1
第1図は本発明の一実施例で、透明ガラスでできた2枚
の基板1.2を相対向させる。各基板の対向面にはそれ
ぞれ電極3.4が形成され、これら電極3.4上にはポ
リイミド樹脂などの配向層5.6が被着されている。下
側基板1の配向層5には矢印7で示す基板に水平な一方
向に、すなわち一軸性の水平配向処理が施されている。
の基板1.2を相対向させる。各基板の対向面にはそれ
ぞれ電極3.4が形成され、これら電極3.4上にはポ
リイミド樹脂などの配向層5.6が被着されている。下
側基板1の配向層5には矢印7で示す基板に水平な一方
向に、すなわち一軸性の水平配向処理が施されている。
上側基板2の配向層6は矢印8で示すように基板面に水
平であるが、全方向すなわち無軸性の水平配向処理が施
されている。これら基板間に強誘電性液晶9が配向層に
接して挟持されて、液晶素子10が形成されている。
平であるが、全方向すなわち無軸性の水平配向処理が施
されている。これら基板間に強誘電性液晶9が配向層に
接して挟持されて、液晶素子10が形成されている。
以下、この液晶素子の製造法について説明する。
第2図に示すように両基板1.2の一方の面にネサ膜で
できた透明なN極3.4を設けておき、この上にポリイ
ミド樹脂を回転速度dooorpmのスピンナーにより
30OA厚に塗布した。続いて、一方の基板1をラビン
グマシンにより一軸方向7にラビングし、ラビング処理
を施さない他方の基板2(無軸性水平配向処理になる)
と一定の間隔(1〜3Pm )をとって貼り合せた。こ
の後、強誘電性液晶としてDOBALIBc系混合組成
物を封入した。
できた透明なN極3.4を設けておき、この上にポリイ
ミド樹脂を回転速度dooorpmのスピンナーにより
30OA厚に塗布した。続いて、一方の基板1をラビン
グマシンにより一軸方向7にラビングし、ラビング処理
を施さない他方の基板2(無軸性水平配向処理になる)
と一定の間隔(1〜3Pm )をとって貼り合せた。こ
の後、強誘電性液晶としてDOBALIBc系混合組成
物を封入した。
次に第3図に示すように、ラビング処理を施さない(無
軸性水平配向処理になる)方の基板2がヒータ20に接
するように、ヒータ20と冷却器22との間に液晶素子
10を挟持する。なあ、図中15は液晶素子のシール剤
である。まず、ヒータ20を動作させて液晶素子10全
体の温度を125°Cまで昇温し、強誘電性液晶9を等
方性液体相に変えた。次に、冷却器22を動作させて、
ヒータ20の温度をTt、冷却器22の温度をT2とし
た場合、ヒータ20と冷、却器22の温度差をTI −
T2 =20’Cとなるようにした。ざらに、ヒータ2
0と冷却器22を調整して、この温度差を保ちながら液
晶素子全体の温度を5°C/時間の速度でゆっくりと低
下させていった。
軸性水平配向処理になる)方の基板2がヒータ20に接
するように、ヒータ20と冷却器22との間に液晶素子
10を挟持する。なあ、図中15は液晶素子のシール剤
である。まず、ヒータ20を動作させて液晶素子10全
体の温度を125°Cまで昇温し、強誘電性液晶9を等
方性液体相に変えた。次に、冷却器22を動作させて、
ヒータ20の温度をTt、冷却器22の温度をT2とし
た場合、ヒータ20と冷、却器22の温度差をTI −
T2 =20’Cとなるようにした。ざらに、ヒータ2
0と冷却器22を調整して、この温度差を保ちながら液
晶素子全体の温度を5°C/時間の速度でゆっくりと低
下させていった。
強誘電性液晶6が強誘電性を示す温度(60’C)以下
に達したのち、液晶素子10を、ヒータ20と冷却器2
2の間から取り出した。次に第2図に示すように、液晶
素子10の上下基板1.2にラビング方向7から偏光軸
を約22度ずらした偏光板11とそれに偏光軸を直交す
る他の偏光板12を配置した。
に達したのち、液晶素子10を、ヒータ20と冷却器2
2の間から取り出した。次に第2図に示すように、液晶
素子10の上下基板1.2にラビング方向7から偏光軸
を約22度ずらした偏光板11とそれに偏光軸を直交す
る他の偏光板12を配置した。
以上の液晶素子を用いて、コントラスト特性を測定した
ところ20.1〜15:1であった。
ところ20.1〜15:1であった。
実施例2
実施例1で用いた強誘電性液晶材料をHOBACPC系
に変え、また温度処理は実施例1と同様に行なった。コ
ントラスト特性を測定したところ、23.1〜18:1
であった。
に変え、また温度処理は実施例1と同様に行なった。コ
ントラスト特性を測定したところ、23.1〜18:1
であった。
比較例1
実施例1と同じ液晶素子を、一軸性水平配向処理を施し
た基板1が、実施例1とは逆に、ヒータ20と接するよ
うに配置して、ヒータ20と冷却器22の間に挟持した
。液晶素子仝休を125’Cまで昇温した後、ヒータ2
0と冷却器22の温度関係を、実施例1と同様にT1−
丁2=20℃とした後、前述同様に、5℃/時間の速度
でゆっくりと低下させた。この場合の液晶素子のコント
ラスト特性を測定したところ、14:1〜12;1で必
った。
た基板1が、実施例1とは逆に、ヒータ20と接するよ
うに配置して、ヒータ20と冷却器22の間に挟持した
。液晶素子仝休を125’Cまで昇温した後、ヒータ2
0と冷却器22の温度関係を、実施例1と同様にT1−
丁2=20℃とした後、前述同様に、5℃/時間の速度
でゆっくりと低下させた。この場合の液晶素子のコント
ラスト特性を測定したところ、14:1〜12;1で必
った。
比較例2
実施例1と同じ液晶素子を125°Cまで加熱した後、
すぐに室温中に放置した場合の液晶素子のコントラスト
特性を測定したところ、10;1〜6:1であった。
すぐに室温中に放置した場合の液晶素子のコントラスト
特性を測定したところ、10;1〜6:1であった。
比較例3
実施例2と同じ液晶素子で比較例1と同じ温度処理を行
なったところ、コントラスト特性は18;1〜14;1
であった。
なったところ、コントラスト特性は18;1〜14;1
であった。
比較例4
実施例2と同じ液晶素子で比較例2と同じ温度処理を行
なったところ、コントラスト特性は9:1〜6,1であ
った。
なったところ、コントラスト特性は9:1〜6,1であ
った。
(発明の効果)
以上実施例で述ぺたように本発明によれば、一軸性水平
配向処理基板と無軸性水平配向処理基板を組み合せ、さ
らに等方性液体相から強誘電液晶相へ温度降下させる際
に、列内する基板間で所定の温度勾配を持たせることに
より、配向が良好でコントラスト特性のすぐれた強誘電
性液晶素子を実現することができる。
配向処理基板と無軸性水平配向処理基板を組み合せ、さ
らに等方性液体相から強誘電液晶相へ温度降下させる際
に、列内する基板間で所定の温度勾配を持たせることに
より、配向が良好でコントラスト特性のすぐれた強誘電
性液晶素子を実現することができる。
なあ、基板は視認のため、少なくとも一方が透明でおれ
ばよく、配向層も種々のものが利用でき、強誘電性液晶
も)!BRA系など種々のものを選べることはいうまで
もない。
ばよく、配向層も種々のものが利用でき、強誘電性液晶
も)!BRA系など種々のものを選べることはいうまで
もない。
第1図は本発明の一実施例を示す斜視図、第2図は本発
明の詳細な説明する略図、第3図は液晶素子の温度処理
をするための装置を示す図である。 1・・・・・・下側基板、 2・・・・・・上側基板、
3.4・・・・・・電極、 5.6・・・・・・配向層
、9・・・・・・強誘電性液晶、 10・・・・・・液
晶素子20・・・・・・ヒータ、 22・・・・・・冷
却器。 第1図 第2図
明の詳細な説明する略図、第3図は液晶素子の温度処理
をするための装置を示す図である。 1・・・・・・下側基板、 2・・・・・・上側基板、
3.4・・・・・・電極、 5.6・・・・・・配向層
、9・・・・・・強誘電性液晶、 10・・・・・・液
晶素子20・・・・・・ヒータ、 22・・・・・・冷
却器。 第1図 第2図
Claims (1)
- 少なくとも一方が透明な一対の基板間に強誘電性液晶を
挟持させた液晶素子の製造方法において、前記基板の一
方の内面に一軸性の水平配向処理を行なう工程と、前記
一対の基板を対向配置し、その間隙に前記液晶を充填す
る工程と、前記一対の基板及び前記液晶を加熱し、前記
液晶が強誘電性を示す温度以上に昇温する工程と、前記
一軸性の水平配向処理をした基板が他方の基板の温度よ
りも低くなる温度勾配を持たせながら、前記一対の基板
及び前記液晶を冷却し、前記液晶が強誘電性を示す温度
以下まで低下させる工程とを含むことを特徴とする液晶
素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18051485A JPS6240428A (ja) | 1985-08-19 | 1985-08-19 | 液晶素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18051485A JPS6240428A (ja) | 1985-08-19 | 1985-08-19 | 液晶素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6240428A true JPS6240428A (ja) | 1987-02-21 |
Family
ID=16084584
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18051485A Pending JPS6240428A (ja) | 1985-08-19 | 1985-08-19 | 液晶素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6240428A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62275224A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-30 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH02273718A (ja) * | 1989-04-14 | 1990-11-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネルの製造方法 |
JPH06289359A (ja) * | 1992-03-04 | 1994-10-18 | Shunsuke Kobayashi | 液晶表示装置の製造方法 |
JPH06289358A (ja) * | 1992-03-04 | 1994-10-18 | Shunsuke Kobayashi | 液晶表示装置の製造方法と液晶表示装置 |
-
1985
- 1985-08-19 JP JP18051485A patent/JPS6240428A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62275224A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-30 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示素子の製造方法 |
JPH02273718A (ja) * | 1989-04-14 | 1990-11-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネルの製造方法 |
JPH06289359A (ja) * | 1992-03-04 | 1994-10-18 | Shunsuke Kobayashi | 液晶表示装置の製造方法 |
JPH06289358A (ja) * | 1992-03-04 | 1994-10-18 | Shunsuke Kobayashi | 液晶表示装置の製造方法と液晶表示装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2530432B2 (ja) | 液晶素子 | |
JPS61252532A (ja) | 強誘電性スメクチック液晶電気光学装置の製造方法 | |
JPS6240428A (ja) | 液晶素子の製造方法 | |
JPH07261185A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
JPS62299815A (ja) | 強誘電性液晶表示素子の製造方法 | |
JPS6330828A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JP2548390B2 (ja) | 強誘電性液晶パネルの製造方法 | |
JPS6398632A (ja) | 液晶電気光学装置 | |
JP3041667B2 (ja) | 液晶パネルの製法 | |
JPH0816222B2 (ja) | 強誘電性液晶組成物 | |
JPS6330827A (ja) | 液晶装置の製造方法 | |
JPH08286190A (ja) | 強誘電性液晶素子の製造方法 | |
JPS63280221A (ja) | 強誘電性液晶表示素子の製造方法 | |
JPS61258224A (ja) | 液晶素子 | |
JP2819822B2 (ja) | 強誘電性液晶パネル | |
JPS59131913A (ja) | 液晶電気光学装置 | |
JPH01253716A (ja) | 強誘電性液晶パネル | |
JPS61179419A (ja) | 強誘電性液晶の配向方法 | |
JPH0240625A (ja) | 液晶電気光学装置 | |
KR20020028518A (ko) | 강유전성 액정 물질을 사용하는 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
JPS63159825A (ja) | 液晶電気光学素子の製造方法 | |
JPH0195187A (ja) | 液晶電気光学装置 | |
JPH0331821A (ja) | 液晶電気光学装置 | |
JPS6017719A (ja) | 液晶表示装置 | |
JPS6370227A (ja) | 強誘電性液晶表示素子 |