JPH0836186A - 液晶装置の製造方法 - Google Patents

液晶装置の製造方法

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JPH0836186A
JPH0836186A JP16963494A JP16963494A JPH0836186A JP H0836186 A JPH0836186 A JP H0836186A JP 16963494 A JP16963494 A JP 16963494A JP 16963494 A JP16963494 A JP 16963494A JP H0836186 A JPH0836186 A JP H0836186A
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JP
Japan
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liquid crystal
crystal device
substrates
phase transition
phase
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JP16963494A
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English (en)
Inventor
Tsuyoshi Maeda
強 前田
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 a−TN型液晶装置及び高分子分散型液晶装
置において、ドメインサイズを小さく制御できる液晶装
置の製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 少なくとも一方の基板に配向処理を施さない
液晶装置の製造方法において、液晶−等方相転移温度以
上で液晶材料を基板間に注入する工程と、注入完了後、
等方相から液晶相への相転移時に10℃/秒以上の速度
で急冷却する工程とを備えてなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶装置の製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来の液晶装置は基板表面にラビングな
どの配向処理を施し、パネル内の液晶をモノドメイン化
している。代表的なツイステッドネマティック(TN)
型液晶装置の構成を図4に示す。液晶分子405は2枚
の透明電極403付き基板402間で90°ねじれた配
列をしている。電圧を印加すると、液晶分子405はプ
レティルト角(液晶分子長軸方向と基板のなす角度)方
向から立ち上がる。実際には、電圧を印加したときに全
ての液晶分子405が立ち上がるのではなく、基板の配
向膜404近くに位置する液晶分子は配向膜404に規
制されてわずかしか立ち上がらず、両基板の中央部に位
置する液晶分子405が最も大きく立ち上がる。このた
め、最も表示に関与するのは中央部の液晶分子405で
ある。電圧印加時に中央部の液晶分子405は完全に電
界方向に揃うわけではないので、観察者が画面を見る方
向によって液晶分子長軸方向との位置関係が異なり、視
角特性が生じる。
【0003】これに対して、パネル内の液晶が不規則な
配列をしているアモルファスツイステッドネマティック
(a−TN)型液晶装置(SID’93 DIGEST
p622)及びポリマー材料を添加した高分子分散型
液晶装置は、液晶配向がランダムなため観察方向に依ら
ない広視角表示を得ることができる。図2にa−TN型
液晶装置,図3に高分子分散型液晶装置を示す。a−T
N型液晶装置では配向処理を施していないコーティング
層204上で液晶分子205がランダムに吸着し、ミク
ロなツイスト領域が無数存在する。電圧を印加すると、
液晶分子205の立ち上がり方向が一方向に規定されな
いため、視角依存性がなく広視角な表示を得ることがで
きる。また、高分子分散型液晶装置はポリマー材料30
5に囲まれた液晶滴304の中で液晶分子303がラン
ダム配向をしているため、視角依存性がなく広視角な表
示を得ることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、a−T
N型液晶装置及び高分子分散型液晶装置は容易にドメイ
ンサイズ(ミクロなツイスト領域の大きさ及び液晶滴の
大きさ)を制御することができないという問題点を有し
ていた。ドメインが1画素に複数存在しなければ、その
画素の表示情報を全ての視角方向に提供することができ
ない。
【0005】そこで、本発明はドメインサイズを小さく
制御できる液晶装置の製造方法を提供することを目的と
する。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
一対の基板間に液晶材料を挟持してなり、該基板上には
電極が形成されてなり、少なくとも一方の該基板に配向
処理を施さない液晶装置の製造方法において、液晶−等
方相転移温度以上で液晶材料を基板間に注入する工程
と、注入完了後、等方相から液晶相への相転移時に10
℃/秒以上の速度で急冷却する工程とを備えてなること
を特徴とする。
【0007】請求項2記載の発明は、該液晶材料をカイ
ラルネマティック液晶とし、該カイラルネマティック液
晶の自発ピッチpと該一対の基板間の間隔dが概ねd=
p/4であることを特徴とする。
【0008】請求項3記載の発明は、該液晶材料がポリ
マー材料を含むことを特徴とする。
【0009】
【実施例】
(実施例1)ITO透明電極203付きガラス基板20
2上にスピンコート法でポリイミドAL−3046(日
本合成ゴム(株)製)を塗布し、恒温槽で180℃,1
時間硬化させ、コーティング層204を形成した。ポリ
イミドコーティング層204にはラビングなどの配向処
理を全く施さずに、セルギャップ5.4μmの空パネル
を作製した。本実施例に用いたカイラルネマティック液
晶は、ネマティック液晶ZLI−4535(メルク
(株)製)にカイラル剤S−811(メルク(株)製)
を0.35wt%添加した自発ピッチ21.6μmの液
晶材料である。
【0010】本発明の液晶装置製造工程のタイムチャー
トを図1に示す。前記空パネルをヒータープレート上に
セットし、液晶相−等方相転移温度TNI以上の100℃
でカイラルネマティック液晶を等方相状態で注入した。
注入後、冷却用プレート上で液晶パネルを20℃/秒の
速度で等方相から液晶相に急冷却した。2枚の偏光子が
互いに直交するように液晶パネル両面に貼り合わせ、評
価用の液晶装置とした。
【0011】アクティブ素子(薄膜トランジスタTF
T)を用いて駆動したところ、100×200μmの1
画素に10ヶ以上のドメイン(径サイズ約30μm)を
形成することができた。これによって、白表示,黒表示
時及び中間調表示時に視角による情報の反転もなく、広
視角の液晶装置を実現できた。
【0012】本実施例ではカイラル剤を添加した液晶材
料を用いたが、カイラル剤が添加されていない液晶材料
を用いた場合でも本発明の製造方法を適用すると、1画
素に多数のドメインを形成することができた。
【0013】(実施例2)ITO透明電極302付きガ
ラス基板301でセルギャップ5.4μmの空パネルを
作製し、紫外線(UV)硬化ポリマー305を3wt%
添加した液晶材料をヒータープレートで加熱しながら、
液晶相−等方相転移温度TNI以上の100℃で注入し
た。注入後、冷却用プレート上で液晶パネルを10℃/
秒以上の速度で等方相から液晶相に急冷却し、液晶30
4と紫外線硬化ポリマー305を微細に相分離させた後
に、紫外線(1000mJ/cm2)を照射してポリマ
ー305を硬化させた。
【0014】顕微鏡による観察で、径サイズ約20μm
の液晶滴304が形成されていることを確認した。アク
ティブ素子(薄膜トランジスタTFT)を用いて駆動し
たところ、白表示,黒表示時及び中間調表示時に視角に
よる情報の反転もなく、広視角の液晶装置を実現でき
た。
【0015】(比較例1)実施例1における冷却速度を
1℃/秒,10℃/秒,20℃/秒,30℃/秒,40
℃/秒とした時のドメインサイズの比較結果を表1に示
す。冷却速度を速めることによって、液晶装置内のドメ
インをミクロにすることができた。また、実施例1及び
実施例2では冷却にプレートを用いたが、低温液体中に
浸す方法や低温気体を吹きかける方法によっても冷却速
度を制御することができ、液晶装置内のドメインをミク
ロにすることができた。
【0016】
【表1】
【0017】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、液晶−等
方相転移温度以上で液晶材料を基板間に注入する工程
と、注入完了後、等方相から液晶相への相転移時に10
℃/秒以上の速度で急冷却する工程とを備えているの
で、液晶ドメインサイズを小さく制御することができ、
広視角な液晶装置を作製することができる。
【0018】請求項2記載の発明によれば、該液晶材料
をカイラルネマティック液晶とし、該カイラルネマティ
ック液晶の自発ピッチpと該一対の基板間の間隔dが概
ねd=p/4であるので、パネル内の液晶を起点がミク
ロにランダムな90゜ツイスト配向させることができ
る。
【0019】請求項3記載の発明によれば、該液晶材料
がポリマー材料を含んでいるので、液晶滴サイズを小さ
く制御した広視角な液晶装置を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の液晶装置製造工程のタイムチャート
を示す図。
【図2】 a−TN型液晶装置の構成図。
【図3】 高分子分散型液晶装置の構成図。
【図4】 従来のTN型液晶装置の構成図。
【符号の説明】
101・・・空パネルの温度を上昇させる工程 102・・・液晶材料を相転移温度以上で注入する工程 103・・・注入口を封止する工程 104・・・急冷却工程 105・・・液晶材料の相転移温度 106・・・室温 201,401・・・偏光板 202,301,402・・・ガラス基板 203,302,403・・・電極 204・・・コーティング層 205,303,405・・・液晶分子 304・・・液晶滴 305・・・紫外線硬化ポリマー 404・・・配向膜

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一対の基板間に液晶材料を挟持してな
    り、該基板上には電極が形成されてなり、少なくとも一
    方の該基板に配向処理を施さない液晶装置の製造方法に
    おいて、液晶−等方相転移温度以上で液晶材料を基板間
    に注入する工程と、注入完了後、等方相から液晶相への
    相転移時に10℃/秒以上の速度で急冷却する工程とを
    備えてなることを特徴とする液晶装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 該液晶材料をカイラルネマティック液晶
    とし、該カイラルネマティック液晶の自発ピッチpと該
    一対の基板間の間隔dが概ねd=p/4であることを特
    徴とする請求項1記載の液晶装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 該液晶材料がポリマー材料を含むことを
    特徴とする請求項1記載の液晶装置の製造方法。
JP16963494A 1994-07-21 1994-07-21 液晶装置の製造方法 Pending JPH0836186A (ja)

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