JPH07258544A - ポリアリーレンスルホンとポリアリーレンスルホキシドおよびポリアリーレンサルファイドとの混合物 - Google Patents

ポリアリーレンスルホンとポリアリーレンスルホキシドおよびポリアリーレンサルファイドとの混合物

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JPH07258544A
JPH07258544A JP7032044A JP3204495A JPH07258544A JP H07258544 A JPH07258544 A JP H07258544A JP 7032044 A JP7032044 A JP 7032044A JP 3204495 A JP3204495 A JP 3204495A JP H07258544 A JPH07258544 A JP H07258544A
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polyarylene
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JP7032044A
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Helmut Scheckenbach
ヘルムート・シエケンバハ
Andreas Schleicher
アンドレーアス・シユライヒヤー
Juergen Kulpe
ユルゲン・クルペ
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Hoechst AG
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Hoechst AG
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 均質な成形部品を得るように加工できるポリ
アリーレンスルホンと、ポリアリーレンスルホキシドお
よび/またはポリアリーレンサルファイドとの二元およ
び三元混合物の提供。 【構成】 これらの混合物は、(A)33〜99重量%
の少なくとも一つのポリアリーレンスルホン、(B)1
〜67重量%の少なくとも一つのポリアリーレンスルホ
キシドおよび/または(C)1〜67重量%のポリアリ
ーレンサルファイドからなり、これらの成分(A)、
(B)および(C)の合計は常に100%である。これ
らの混合物は処理手続きによって均質なポリマー物質へ
と処理され、またポリアリーレンスルホンのガラス転移
温度のみを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明はポリアリーレンスルホンとポリア
リーレンスルホキシドおよびポリアリーレンサルファイ
ドとの二元および三元混合物ならびにこれらからつくら
れる成形物体に関する。ポリアリーレンスルホンはかな
り以前から知られている。これの製造は多くの特許(G
B−A 1 365 486、DE−A 1 938 80
6、JP−Sho63−210130、および1933
年5月4日付の未だ公にされていないドイツ特許出願P
43 14 738.0「Process for the oxidation of
polyarylene compounds containing thioether group
s」)および文献(Gablerら、Chimia、28(1974
年)、567ページ)中に記載されている。
【0002】フルオロポリマーと酸化されたポリアリー
レンサルファイドとの混合物も同様に知られている。こ
の酸化ポリアリーレンサルファイドはこの場合、フルオ
ロポリマーの摩耗する性質を改善しかつクリープの傾向
を低減することになる(1993年7月10日付の未だ
公にされていないドイツ特許出願P 43 23 181.
0「Mixtures of fluoropolymers and oxidized polyar
ylene sulfides」およびP 43 23 121.7「Abra
sion-resistant fluoropolymer mixtures」)。ポリア
リーレンスルホンは温度に例外的に耐えるポリマーであ
る。化学構造の故にこのポリマーは固有の難燃性を有す
る。
【0003】しかしながら、ポリアリーレンスルホンの
高い融点(例えばポリアリーレンスルホンの融点は52
0℃である)のため、ポリマーがその融点を越える処理
温度において熱的に安定でない場合、部分的に結晶性を
もつポリアリーレンスルホンは熱可塑性的に加工され得
ない。このようなポリアリーレンスルホンはまたホット
プレスによりあるいはトランスファー成形法によって加
工できるが、大きな困難を伴う。これらの加工方法にお
いては、ガラス転移温度(例えばポリフェニレンスルホ
ンの場合、Tは350℃)を越える温度は無定形成分
の融解を惹起し、この無定形成分は、特に比較的大きな
あるいは複雑な形状の成形物体の場合、均一に可塑化さ
れず、そのために特に成形物体内に亀裂が発生する。
【0004】従って、上述した不利な点を減らしあるい
は避けることが本発明の目的である。このため本発明
は、(A) 33〜99重量%の割合の少なくとも一つ
のポリアリーレンスルホン、(B) 1〜67重量%
の、望ましくは5〜50重量%の、特に15〜40重量
%の割合の少なくとも一つのポリアリーレンスルホキシ
ド、および(または)(C) 1〜67重量%、望まし
くは1〜40重量%、特に1〜25重量%の割合の少な
くとも一つのポリアリーレンサルファイドのポリマー混
合物であって、成分(A)、(B)および(または)
(C)の合計が常に100重量%である混合物を提供す
る。
【0005】ポリアリーレンスルホンはポリアリーレン
スルホキシドおよび(または)ポリアリーレンサルファ
イドの添加により均質な成形物品を与えるように加工で
きることが見出されている。発見されている驚くべき効
果の一つは例えば、ポリフェニレンサルファイドが28
0〜290℃の融点を有するにもかかわらず、例えばこ
れを添加剤成分として用いるポリアリーレンスルホンの
コールドプレス成形物は360℃を越える温度でさえ融
解しないということである。さらにまた、ポリマー混合
物の加工の後、ポリアリーレンスルホンのガラス転移温
度のみが熱解析において検知されることが確認されてい
る。このことは、もともとは不均質であるポリマー混合
物が加工手続によって物理化学的に均質なポリマー物質
へと転換されていることを示す。
【0006】本発明の混合物として使用できるポリアリ
ーレンスルホン(A)は、式(I): 〔−(E−S−)a−(−E−SO2−)b−〕 (I) (式中、Eは互いに独立に、炭素原子6〜18個を有す
る単純な、または直接的パラ−、メタ−もしくはオルト
結合のあるアリーレン系、望ましくはフェニレン、ナフ
チレンまたはビフェニレンであり、aとbとの和は1で
あるが、bは常に0.65以上である)の反復単位を有
する直鎖および(または)分枝鎖ポリアリーレン(分子
量は4000〜200,000)である。
【0007】特に好適であるのは式(II):
【化4】 (式中、aおよびbは前記に定義した値を有する)の反
復単位を有する直鎖および分枝鎖のポリフェニレン(分
子量は4000〜200,000)である。ポリアリー
レンスルホン(A)は、参照によって本記載に特に加入
されている、前記に引用した1993年5月4日付の未
だ公にされていないドイツ特許出願P 43 14 73
8.0「Process for the oxidation of polyarylene co
mpounds containing thioether groups」中に記載の方
法によって製造できる。
【0008】本発明の混合物として使用できるポリアリ
ーレンスルホキシド(B)は式(III): 〔−(F−S−)c−(−F−SO−)d−〕 (III) (式中、Fは互いに独立に、炭素原子6〜18個を有す
る単純な、または直接的パラ−、メタ−もしくはオルト
結合のあるアリーレン系、望ましくはフェニレン、ナフ
チレンまたはビフェニレンであり、cとdとの和は1で
あるが、dは常に0.70以上である)の反復単位から
なる直鎖および(または)分枝鎖ポリアリーレン(分子
量は4000〜200,000)である。
【0009】特に好適であるのは式(IV):
【化5】 (式中cおよびdは前記に定義した通りである)の反復
単位を有する直鎖および分枝鎖のポリフェニレン(分子
量は4000〜200,000)である。ポリアリーレ
ンスルホキシド(B)は、参照によって本記載に特に加
入されている、1993年5月4日付の未だ公にされて
いないドイツ特許出願P 43 14 737.2「Two-st
age oxidation of polyarylene sulfides」中に記載の
方法によって製造できる。
【0010】本発明の混合物として使用できるポリアリ
ーレンサルファイド(C)は、式(V): 〔−G−S−〕 (V) (式中、Gは炭素原子6〜18個を有する単純な、また
は直接的パラ−、メタ−もしくはオルト結合のあるアリ
ーレン系、望ましくはフェニレン、ナフチレンまたはビ
フェニレンである)の反復単位を有する直鎖および(ま
たは)分枝鎖ポリアリーレン(分子量は4000〜20
0,000)である。
【0011】特に好適であるのは式(VI):
【化6】 の反復単位を有する商業的に入手可能な直鎖および分枝
鎖のポリフェニレンサルファイド(分子量は4000〜
200,000)である。
【0012】本発明の混合物は慣用的な添加剤例えば熱
安定剤、紫外線安定剤、静電気防止剤、難燃性付与剤、
染料、顔料、無機および(または)有機充填材そしてま
た硫化モリブデンまたは黒鉛のような潤滑添加剤も含有
してよい。使用する(A)から(C)のポリマーの平均
粒子寸法(d50)は一般に3×10-6〜500×10-6
m、望ましくは5×10-6〜300×10-6m、特に5
×10-6〜200×10-6mである。
【0013】本発明の混合物は本目的のために好適な混
合機内で個々の成分から一般に調製される。本混合物
は、均質であり、しかも加熱時の幾何学的安定性が要求
される応用分野に対して熱的抵抗性の故に好適である成
形物体へと既知の種々な方法によって転換されうる。例
えば、本混合物はエンジンの製作において、また電気機
器および電子機器の工場において使用するのに特に適し
ている。例えば、プラグ型の電気結線の導電電極の焼け
焦げは既知の問題であって、この焼け焦げはしばしば部
品の破壊を惹起しまた火災発生の原因となる。本発明の
混合物から製造される成形物体はこれらの欠点をもたな
い。
【0014】成形の際の条件は本目的にとって好適な種
々な方法におけるのと同じ水準にある。あらゆる場合、
加工されるべき混合物は使用するそれぞれのポリアリー
レンスルホンのガラス転移温度より高い温度にさらされ
る。この際、通常の温度は280〜450℃、望ましく
は290〜450℃、特に300〜425℃である。成
形にとって必要な特定的なプレス圧力は一般に10バー
ル以上、望ましくは50バール以上そして特に100バ
ール以上である。
【0015】好適な成形方法はホットプレス、トランス
ファー成形、コールドプレスおよび焼結である。ホット
プレス法において混合物は高温の状態でプレスされる
が、コールドプレス法においては、低い温度にあるプレ
ス用の型の中の混合物に特定的な圧力が加えられ、次い
で適当な方法によってプレス型が必要な温度に昇温され
る。トランスファー成形法においては、適当なプレス型
の内部で混合物が所要の温度に加熱され、引続いて室温
下にあるプレスによってプレスされる。焼結法において
は、室温下で成形体がまずつくられ、引続いてこれが焼
結される。
【0016】
【実施例】使用したポリフェニレンスルホン(A)は、
前記したドイツ特許出願P 4314 738.0の実施
例2に従って製造された製品であった。使用したポリフ
ェニレンスルホキシド(B)は、前記したドイツ特許出
願P43 14 737.2の実施例1に従って製造され
た製品であった。使用したポリフェニレンサルファイド
(C)は1.35g/cm3の密度を有した。ポリマー
(A)、(B)および(C)はそれぞれ約20×10-6
mの平均粒子寸法(d50)を有し、またDiosna混合機
(ドイツのOsnabrueckのDierks & Soehne社製)内で混
合された。
【0017】
【表1】
【0018】実施例1から4の混合物および実施例5お
よび6のポリマーを以下のような種々な方法で加工し
た。 トランスファー成形:二つの中実の円筒(solid cylind
er)により閉塞された内径16ミリの円筒状の型の内部
にあるポリマー粉末またはポリマー混合物をHeraeus
(ドイツのHanauにある)のK750/1モデルのオー
ブン中で2時間加熱した。型の中に秤量して入れた量は
約8.25gであった。加熱時間の後、充填した型を直
ちに10トンプレス(自作、ただしハイドローリックシ
リンダーはドイツのErlangenのFAGKugelfisher製)下で
ホットプレスした。特定的プレス圧力は1500バー
ル、プレス時間は30分、圧力緩和(減圧)時間は30
分であった。引続いて、成形物体を型から外しそして可
視的な亀裂を検査した。得られた製品はすべて可塑化し
ており、可視的な亀裂はなく、種々の機械的処理(例え
ば鋸引き、さん孔、フライス加工、旋削)にかけて満足
な結果を得ることができた。
【0019】
【表2】
【0020】焼結:表1に示すポリマー(A)および
(B)〔比較例1および2〕そしてまた混合物1から4
〔実施例1から4〕をトランスファー成形のためのもの
と同じな円筒状の型にいれ、ただし加熱工程は用いずに
プレスすることにより成形物体(低い温度成形体)を得
た。次いでこの成形体をHeraeusのK750/1オーブ
ン内で下記の条件の下で空気中で焼結した。 a) 室温から焼結温度(表3参照)まで一定の加熱速
度にて加熱。加熱工程の継続時間は8時間; b) 焼結温度に4時間保持; c) 焼結温度から室温まで一定速度で冷却。冷却工程
の継続時間は8時間。
【0021】
【表3】 得られた製品はすべて可塑化しておりまた可視的な亀裂
はなかった。引続いての試験片の機械加工(例えば鋸引
き、さん孔、フライス加工、旋削)は満足に行われた。
【0022】熱解析測定:出発物質または出発混合物、
低い温度の成形体、焼結成形部品およびトランスファー
成形により製造された成形物体に対してDSC解析を行
った。 DSC計測器:ドイツのUeberlingenのPerkin Elmerに
より製造のDSC−2C 測定条件: 測定雰囲気:窒素 加熱/冷却速度:20℃/分 温度プログラム(実施例1〜4、比較例1): 第1の加熱、50℃から380℃に加熱、 冷却、 380℃から50℃に冷却、 第2の加熱、50℃から380℃に加熱、 温度プログラム(比較例2): 第1の加熱、50℃から300℃に加熱、 冷却、 300℃から50℃に冷却、 第2の加熱、50℃から300℃に加熱、 Tはガラス転移温度である。
【0023】実施例1の組成物:第1の加熱において、
粉末混合物および低い温度の成形体は約240℃のガラ
ス転移温度(ポリフェニレンスルホキシド)を示し、ま
た約300℃を越える温度で発熱反応の開始(開始DS
C、ポリフェニレンスルホキシドの分解)を示した。第
2の加熱においては、約350℃のTg(ポリフェニレ
ンスルホン)のみを検知することができた。焼結された
成形部品およびトランスファー成形物は、第1および第
2の加熱においてともに約350℃のTg(ポリフェニ
レンスルホン)のみを示した。冷却工程に際して、熱的
作用は何ら認めることができなかった。
【0024】実施例2の組成物:第1の加熱において、
粉末混合物および低い温度の成形体はそれぞれ約100
℃のTg(ポリフェニレンサルファイド)および約24
0℃のTg(ポリフェニレンスルホキシド)と、約29
0℃の融解温度ピーク(ポリフェニレンサルファイド)
とを示し、また300℃を越える温度で発熱反応の開始
(開始DSC、ポリフェニレンスルホキシドの分解)を
示した。第2の加熱においては、約350℃のTg(ポ
リフェニレンスルホン)のみを検知することができた。
焼結された成形部品およびトランスファー成形物は、第
1および第2の加熱においてともに約350℃のT
g(ポリフェニレンスルホン)のみを示した。冷却工程
に際して、熱的作用は何ら認めることができなかった。
【0025】実施例3の組成物:第1および第2の加熱
において、粉末混合物および低い温度の成形体は約29
0℃の融解温度ピークを示し、また約100℃のT
g(ポリオレフィンサルファイド)および約350℃の
g(ポリオレフィンスルホン)も示した。冷却工程に
際して、約180℃において再結晶のピーク(ポリフェ
ニレンサルファイド)を認めることができた。焼結され
た成形部品およびトランスファー成形物は、第1および
第2の加熱においてともに約350℃のTg(ポリフェ
ニレンスルホン)のみを示した。二つの冷却工程に際し
て、熱的作用は何ら認めることができなかった。
【0026】実施例4の組成物:本ポリマー混合物は実
施例3の混合物と同じ挙動を示した。 実施例1の組成物:粉末混合物、低い温度の成形体、焼
結成形部品およびトランスファー成形物に関して、第1
および第2の加熱において約350℃のTg(ポリフェ
ニレンスルホン)を検知することができた。冷却工程に
おいては、熱的作用を何ら認めることができなかった。
【0027】実施例2の組成物:粉末混合物、低い温度
の成形体、焼結成形部品およびトランスファー成形物に
関して、第1および第2の加熱において約240℃のT
g(ポリフェニレンスルホキシド)を検知することがで
きた。冷却工程において、熱的作用は何ら認めることが
できなかった。
【0028】比較例3:旧西ドイツのFrankfurt/Main
のHoechst AGのポリフェニレンサルファイドであるRFor
tron X 0205/20μmを比較用の物質として用い
た。ポリマー粉末を未処理の状態で検査した。第1およ
び第2の加熱において、試験した粉末は約100℃のT
を示しまた約290℃において融解ピークも示した。
冷却工程に際して、約180℃において再結晶のピーク
を認めることができた。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A) 33〜99重量%の少なくとも
    一つのポリアリーレンスルホン、 (B) 1〜67重量%の少なくとも一つのポリアリー
    レンスルホキシドおよび(または) (C) 1〜67重量%のポリアリーレンサルファイド
    の混合物であって、成分(A)、(B)および(C)の
    合計が常に100%であるポリマー混合物。
  2. 【請求項2】 成分(B)の割合が望ましくは5〜50
    重量%、特に15〜40重量%であり、また成分(C)
    の割合が1〜40重量%、望ましくは1〜25重量%で
    あり、成分(A)、(B)および(C)の合計が常に1
    00%である請求項1記載の混合物。
  3. 【請求項3】 使用する成分(A)が、式(I) 〔−(E−S−)a−(−E−SO2−)b−〕 (I) (式中、Eは互いに独立に、炭素原子6〜18個を有す
    る単純な、または直接的パラ−、メタ−もしくはオルト
    結合のあるアリーレン系、望ましくはフェニレン、ナフ
    チレンまたはビフェニレンであり、aとbとの和は1で
    あるが、bは常に0.65以上である)の反復単位から
    なる直鎖および(または)分枝鎖ポリアリーレン(分子
    量は4000〜200,000)からなる、請求項1ま
    たは2に記載の混合物。
  4. 【請求項4】 使用する成分(A)が、式(II) 【化1】 の反復単位を有するポリアリーレンからなる請求項3記
    載の混合物。
  5. 【請求項5】 使用する成分(B)が、式(III) 〔−(F−S−)c−(−F−SO−)d−〕 (III) (式中、Fは互いに独立に、炭素原子6〜18個を有す
    る単純な、または直接的パラ−、メタ−もしくはオルト
    結合のあるアリーレン系、望ましくはフェニレン、ナフ
    チレンまたはビフェニレンであり、cとdとの和は1で
    あるが、dは常に0.70以上である)の反復単位から
    なる直鎖および(または)分枝鎖ポリアリーレン(分子
    量は4000〜200,000)からなる、請求項1か
    ら4のいずれか1項に記載の混合物。
  6. 【請求項6】 成分(B)が、式(IV) 【化2】 の反復単位を有するポリアリーレンからなる請求項5記
    載の混合物。
  7. 【請求項7】 使用する成分(C)が、式(V) 〔−G−S−〕 (V) (式中、Gは炭素原子6〜18個を有する単純な、また
    は直接的パラ−、メタ−もしくはオルト結合のあるアリ
    ーレン系、望ましくはフェニレン、ナフチレンまたはビ
    フェニレンである)の反復単位からなる直鎖および(ま
    たは)分枝鎖ポリアリーレン(分子量は4000〜20
    0,000)からなる、請求項1から6のいずれか1項
    に記載の混合物。
  8. 【請求項8】 使用する成分(C)が、式(VI) 【化3】 の反復単位を有するポリアリーレン(分子量は4000
    〜200,000)からなる請求項7記載の混合物。
  9. 【請求項9】 熱安定剤、紫外線安定剤、静電気防止
    剤、難燃性付与剤、染料、顔料、無機および(または)
    有機充填材を追加的に含有する、請求項1から8のいず
    れか1項に記載の混合物。
  10. 【請求項10】 個々の成分(A)、(B)および
    (C)の平均粒子寸法が3×10-6〜500×10
    -6m、望ましくは5×10-6〜300×10-6m、そし
    て特に5×10-6〜200×10-6mの範囲にある、請
    求項1から9のいずれか1項に記載の混合物。
  11. 【請求項11】 ホットプレス、トランスファー成形、
    コールドプレスまたは焼結によって成形物体を製造する
    ために、請求項1から10のいずれか1項に記載のポリ
    マー混合物の使用。
  12. 【請求項12】 280〜450℃、望ましくは290
    〜450℃、特に300〜425℃の温度において、成
    形物体が製造され、また特定的なプレス圧力が10バー
    ル以上、望ましくは50バール以上そして特に100バ
    ール以上である請求項11記載の使用。
JP7032044A 1994-02-22 1995-02-21 ポリアリーレンスルホンとポリアリーレンスルホキシドおよびポリアリーレンサルファイドとの混合物 Pending JPH07258544A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4405536A DE4405536A1 (de) 1994-02-22 1994-02-22 Mischungen aus Polyarylensulfonen mit Polyarylensulfoxiden und Polyarylensulfiden
DE4405536:6 1994-02-22

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Publication Number Publication Date
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ID=6510802

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7032044A Pending JPH07258544A (ja) 1994-02-22 1995-02-21 ポリアリーレンスルホンとポリアリーレンスルホキシドおよびポリアリーレンサルファイドとの混合物

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US (1) US5780561A (ja)
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