JPH0725841A - ２−メチルグルタロニトリル又はアジポニトリルの精製 - Google Patents
２−メチルグルタロニトリル又はアジポニトリルの精製Info
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- JPH0725841A JPH0725841A JP6177748A JP17774894A JPH0725841A JP H0725841 A JPH0725841 A JP H0725841A JP 6177748 A JP6177748 A JP 6177748A JP 17774894 A JP17774894 A JP 17774894A JP H0725841 A JPH0725841 A JP H0725841A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/32—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C253/34—Separation; Purification
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 アルコール又はアミノアルコールを加え、蒸
留によりニトリルを回収してホウ素残留物を除去するこ
とにより２−メチルグルタロニトリル及びアジポニトリ
ルを精製する。 【効果】 除去の困難なホウ素化合物を除去し、アルコ
ールを加えない場合より高品質のニトリル得ることがで
きる。
留によりニトリルを回収してホウ素残留物を除去するこ
とにより２−メチルグルタロニトリル及びアジポニトリ
ルを精製する。 【効果】 除去の困難なホウ素化合物を除去し、アルコ
ールを加えない場合より高品質のニトリル得ることがで
きる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ニッケル触媒及び促進
剤としてのホウ素化合物を用いてブタジエンをシアン化
水素と反応させる方法からのホウ素残渣を含む２−メチ
ルグルタロニトリル又はアジポニトリルの精製法に関す
る。ホウ素残渣をアルコールと反応させ、蒸留によりニ
トリルを混合物から分離する。
剤としてのホウ素化合物を用いてブタジエンをシアン化
水素と反応させる方法からのホウ素残渣を含む２−メチ
ルグルタロニトリル又はアジポニトリルの精製法に関す
る。ホウ素残渣をアルコールと反応させ、蒸留によりニ
トリルを混合物から分離する。
【０００２】
【従来の技術】Ｄｒｉｎｋａｒｄの米国特許第３，４９
６，２１８号明細書はニッケル触媒及びホウ素促進剤の
存在下におけるシアン化水素とブタジエンの反応による
ニトリルの製造を開示している。この方法に関する他の
改良特許にはＲａｐｏｐｏｒｔの米国特許第４，３３
０，４８３号及びＢａｒｎｅｔｔｅ ｅｔ ａｌ．の米
国特許第４，３３９，３９５号が含まれる。
６，２１８号明細書はニッケル触媒及びホウ素促進剤の
存在下におけるシアン化水素とブタジエンの反応による
ニトリルの製造を開示している。この方法に関する他の
改良特許にはＲａｐｏｐｏｒｔの米国特許第４，３３
０，４８３号及びＢａｒｎｅｔｔｅ ｅｔ ａｌ．の米
国特許第４，３３９，３９５号が含まれる。
【０００３】２−メチルグルタロニトリル及びアジポニ
トリルを上記の方法により製造する場合、反応混合物は
これらのニトリル生成物のみでなく、有機ホウ素化合物
も含み、これらは単純な蒸留によりニトリルから分離す
るのが困難である。これらのニトリルは水添されてヘキ
サメチレンジアミン及び２−メチルペンタメチレンジア
ミンとされ、ジアミンはナイロンの製造に用いられる。
ニトリルに含まれる有機ホウ素化合物は触媒の活性、選
択性及び寿命を制限することにより水添触媒の効率を低
下させる。
トリルを上記の方法により製造する場合、反応混合物は
これらのニトリル生成物のみでなく、有機ホウ素化合物
も含み、これらは単純な蒸留によりニトリルから分離す
るのが困難である。これらのニトリルは水添されてヘキ
サメチレンジアミン及び２−メチルペンタメチレンジア
ミンとされ、ジアミンはナイロンの製造に用いられる。
ニトリルに含まれる有機ホウ素化合物は触媒の活性、選
択性及び寿命を制限することにより水添触媒の効率を低
下させる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は高品質
のアジポニトリル及び２−メチルグルタロニトリルを与
え、ニトリルを水添した時にジアミンを高収率で与え、
ホウ素汚染物の熱分解によって生ずるベンゼンなどの望
ましくない副生成物を減少させることにある。
のアジポニトリル及び２−メチルグルタロニトリルを与
え、ニトリルを水添した時にジアミンを高収率で与え、
ホウ素汚染物の熱分解によって生ずるベンゼンなどの望
ましくない副生成物を減少させることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、アミノアルコ
ール及びグリコールから成る群より選ばれるアルコール
を加え、続いて蒸留によりニトリルを回収する段階を含
む、（１）アジポニトリル及び２−メチルグルタロニト
リルから成る群より選ばれるニトリル、及び（２）有機
ホウ素化合物を含む混合物の精製法に関する。（アルコ
ールは（ａ）少なくとも２つのＯＨ基あるいは（ｂ）Ｎ
Ｈ2あるいはＲがメチル又はエチルであるＮＨＲあるい
はＮＲ2基及び１つのＯＨ基を有していなければならな
い。）有機ホウ素化合物は化合物の混合物であることが
でき、以下の１つか又はそれ以上を含むことができる：
トリフェニルホウ素、ｔ−ブチルカテコールボロン酸フ
ェニル、フェニルボロン酸、その無水物又はそのエステ
ル。加えるアルコールの量は少なくとも存在する有機ホ
ウ素化合物の量に対する化学量論的当量が好ましい。好
ましいアルコールはトリエタノールアミン、ペンタエリ
スリトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ソルビトール、１，３−プロパンジオール、１，４
−ブタンジオール及び１，２，６−ヘキサントリオール
から選ばれる。官能基が１，２−、１，３−又は１，４
−の関係で位置している他のグリコール又はアミノアル
コールを用いることもできる。
ール及びグリコールから成る群より選ばれるアルコール
を加え、続いて蒸留によりニトリルを回収する段階を含
む、（１）アジポニトリル及び２−メチルグルタロニト
リルから成る群より選ばれるニトリル、及び（２）有機
ホウ素化合物を含む混合物の精製法に関する。（アルコ
ールは（ａ）少なくとも２つのＯＨ基あるいは（ｂ）Ｎ
Ｈ2あるいはＲがメチル又はエチルであるＮＨＲあるい
はＮＲ2基及び１つのＯＨ基を有していなければならな
い。）有機ホウ素化合物は化合物の混合物であることが
でき、以下の１つか又はそれ以上を含むことができる：
トリフェニルホウ素、ｔ−ブチルカテコールボロン酸フ
ェニル、フェニルボロン酸、その無水物又はそのエステ
ル。加えるアルコールの量は少なくとも存在する有機ホ
ウ素化合物の量に対する化学量論的当量が好ましい。好
ましいアルコールはトリエタノールアミン、ペンタエリ
スリトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ソルビトール、１，３−プロパンジオール、１，４
−ブタンジオール及び１，２，６−ヘキサントリオール
から選ばれる。官能基が１，２−、１，３−又は１，４
−の関係で位置している他のグリコール又はアミノアル
コールを用いることもできる。
【０００６】２−メチルグルタロニトリルが精製するべ
きニトリルである場合、蒸留の前にホウ素化合物と反応
させるためにエチレンジアミンなどのジアミンを用いる
ことができる。メチル及びエチル置換エチレンジアミン
も用いることができる。
きニトリルである場合、蒸留の前にホウ素化合物と反応
させるためにエチレンジアミンなどのジアミンを用いる
ことができる。メチル及びエチル置換エチレンジアミン
も用いることができる。
【０００７】
【発明の具体的な態様】ニッケル触媒及びホウ素促進剤
を用いたブタジエンのシアン化水素化の生成物は２−メ
チルグルタロニトリル、アジポニトリル、ｔ−ブチルカ
テコールボロン酸フェニル及び他の有機ホウ素化合物、
例えばトリフェニルホウ素、フェニルボロン酸、その無
水物及びそのフェノールならびにクレゾールエステルを
含む。（ｔ−ブチルカテコールボロン酸塩はｔ−ブチル
カテコールとホウ素化合物の反応により形成される。ｔ
−ブチルカテコールはブタジエンの重合を阻害するため
に用いられる添加剤である。）この混合物をアルコール
（例えばエチレングリコール）と、少なくともホウ素に
関して化学量論的量で合わせ、混合物を十分な段を有す
るカラムを用いて蒸留し、残液として精製アジポニトリ
ル、塔頂留出物として２−メチルグルタロニトリル、過
剰のアルコール（例えばエチレングリコール）、フェノ
ール、クレゾール及び新しく生成されたホウ素錯体（例
えばエチレングリコールボロン酸フェニル）の混合物を
分離する。（アジポニトリル残液はこの時点で、カラム
の効率に依存していくらかのｔ−ブチルカテコールを含
み得る。）続いて塔頂留出物を第２のカラムでさらに蒸
留し、過剰のエチレングリコール、フェノール、クレゾ
ール及びエチレングリコールボロン酸フェニルから成る
低沸点化合物を除去する。２−メチルグルタロニトリル
を残液として取り出し、続いてそれを第３のカラムに送
り、そこで純粋な２−メチルグルタロニトリルを塔頂で
採取する。この最後のカラムからの残液はｔ−ブチルカ
テコール及び少量のアジポニトリルを含む。
を用いたブタジエンのシアン化水素化の生成物は２−メ
チルグルタロニトリル、アジポニトリル、ｔ−ブチルカ
テコールボロン酸フェニル及び他の有機ホウ素化合物、
例えばトリフェニルホウ素、フェニルボロン酸、その無
水物及びそのフェノールならびにクレゾールエステルを
含む。（ｔ−ブチルカテコールボロン酸塩はｔ−ブチル
カテコールとホウ素化合物の反応により形成される。ｔ
−ブチルカテコールはブタジエンの重合を阻害するため
に用いられる添加剤である。）この混合物をアルコール
（例えばエチレングリコール）と、少なくともホウ素に
関して化学量論的量で合わせ、混合物を十分な段を有す
るカラムを用いて蒸留し、残液として精製アジポニトリ
ル、塔頂留出物として２−メチルグルタロニトリル、過
剰のアルコール（例えばエチレングリコール）、フェノ
ール、クレゾール及び新しく生成されたホウ素錯体（例
えばエチレングリコールボロン酸フェニル）の混合物を
分離する。（アジポニトリル残液はこの時点で、カラム
の効率に依存していくらかのｔ−ブチルカテコールを含
み得る。）続いて塔頂留出物を第２のカラムでさらに蒸
留し、過剰のエチレングリコール、フェノール、クレゾ
ール及びエチレングリコールボロン酸フェニルから成る
低沸点化合物を除去する。２−メチルグルタロニトリル
を残液として取り出し、続いてそれを第３のカラムに送
り、そこで純粋な２−メチルグルタロニトリルを塔頂で
採取する。この最後のカラムからの残液はｔ−ブチルカ
テコール及び少量のアジポニトリルを含む。
【０００８】２−メチルグルタロニトリルを精製する場
合、蒸留カラムは通常約１０ｍｍＨｇ〜約３００ｍｍＨ
ｇの範囲の圧力、及び約７０〜１６０℃の範囲の温度で
操作する。
合、蒸留カラムは通常約１０ｍｍＨｇ〜約３００ｍｍＨ
ｇの範囲の圧力、及び約７０〜１６０℃の範囲の温度で
操作する。
【０００９】アジポニトリルを精製する場合、蒸留カラ
ムは通常約１０ｍｍＨｇ〜約３００ｍｍＨｇの範囲の圧
力、及び約２１０℃の塔頂の最高温度で操作する。
ムは通常約１０ｍｍＨｇ〜約３００ｍｍＨｇの範囲の圧
力、及び約２１０℃の塔頂の最高温度で操作する。
【００１０】精製するニトリルに対してちょうど化学量
論的である量より多量のアルコールを加えるのが通常望
ましい。化学量論量の２又は３倍の量が十分である。
論的である量より多量のアルコールを加えるのが通常望
ましい。化学量論量の２又は３倍の量が十分である。
【００１１】こうして製造された精製アジポニトリルは
いくらかのｔ−ブチルカテコールを含むかも知れず、そ
の量は用いたカラムの効率に依存する。ｔ−ブチルカテ
コールは以下の別の方法により除去することができる。
ニッケル触媒及びホウ素促進剤を用いたブタジエンのシ
アン化水素化の生成物は２−メチルグルタロニトリル、
アジポニトリル、ｔ−ブチルカテコールボロン酸フェニ
ル及び他の有機ホウ素化合物、例えばトリフェニルホウ
素、フェニルボロン酸、その無水物及びそのフェノール
ならびにクレゾールエステルを含む。この混合物を第１
のカラムで蒸留して２−メチルグルタロニトリル、フェ
ノール、クレゾール及びｔ−ブチルカテコールボロン酸
フェニルの混合物を塔頂で除去し、アジポニトリル及び
他のホウ素含有化合物、例えばフェニルボロン酸及びそ
の無水物ならびにそのエステルの残流（ｔａｉｌ ｓｔ
ｒｅａｍ）を残す。ｔ−ブチルカテコールはこの時点で
ｔ−ブチルカテコールボロン酸フェニルとして有効にア
ジポニトリルから除去される。続いてアジポニトリル残
部を（ホウ素化合物に対して）過剰のアルコール（例え
ばエチレングリコール）と混合し、それによりアジポニ
トリル中のホウ素化合物をホウ素錯体（例えばエチレン
グリコールボロン酸フェニル）に変換する。この流れを
第２のカラムに供給し、フェノール、クレゾール、過剰
のエチレングリコール及びホウ素錯体（例えばエチレン
グリコールボロン酸フェニル）を塔頂で除去し、ホウ素
化合物及びｔ−ブチルカテコールを含まない純粋なアジ
ポニトリル残流を得る。この第２のカラムからの塔頂留
出物を第１のカラムからの塔頂留出物と混合し、それに
よりこの流れに含まれるホウ素化合物をホウ素錯体（例
えばエチレングリコールボロン酸フェニル）に変換す
る。この混合物を第３のカラムに供給し、そこで過剰の
エチレングリコール、フェノール、クレゾール及びホウ
素錯体（例えばエチレングリコールボロン酸フェニル）
を塔頂で除去する。残流は２−メチルグルタロニトリ
ル、ｔ−ブチルカテコール及び少量のアジポニトリルを
含む。この流れを第３のカラムに供給し、それが塔頂留
出物として純粋な２−メチルグルタロニトリル及び残流
としてアジポニトリル及びｔ−ブチルカテコールを与え
る。
いくらかのｔ−ブチルカテコールを含むかも知れず、そ
の量は用いたカラムの効率に依存する。ｔ−ブチルカテ
コールは以下の別の方法により除去することができる。
ニッケル触媒及びホウ素促進剤を用いたブタジエンのシ
アン化水素化の生成物は２−メチルグルタロニトリル、
アジポニトリル、ｔ−ブチルカテコールボロン酸フェニ
ル及び他の有機ホウ素化合物、例えばトリフェニルホウ
素、フェニルボロン酸、その無水物及びそのフェノール
ならびにクレゾールエステルを含む。この混合物を第１
のカラムで蒸留して２−メチルグルタロニトリル、フェ
ノール、クレゾール及びｔ−ブチルカテコールボロン酸
フェニルの混合物を塔頂で除去し、アジポニトリル及び
他のホウ素含有化合物、例えばフェニルボロン酸及びそ
の無水物ならびにそのエステルの残流（ｔａｉｌ ｓｔ
ｒｅａｍ）を残す。ｔ−ブチルカテコールはこの時点で
ｔ−ブチルカテコールボロン酸フェニルとして有効にア
ジポニトリルから除去される。続いてアジポニトリル残
部を（ホウ素化合物に対して）過剰のアルコール（例え
ばエチレングリコール）と混合し、それによりアジポニ
トリル中のホウ素化合物をホウ素錯体（例えばエチレン
グリコールボロン酸フェニル）に変換する。この流れを
第２のカラムに供給し、フェノール、クレゾール、過剰
のエチレングリコール及びホウ素錯体（例えばエチレン
グリコールボロン酸フェニル）を塔頂で除去し、ホウ素
化合物及びｔ−ブチルカテコールを含まない純粋なアジ
ポニトリル残流を得る。この第２のカラムからの塔頂留
出物を第１のカラムからの塔頂留出物と混合し、それに
よりこの流れに含まれるホウ素化合物をホウ素錯体（例
えばエチレングリコールボロン酸フェニル）に変換す
る。この混合物を第３のカラムに供給し、そこで過剰の
エチレングリコール、フェノール、クレゾール及びホウ
素錯体（例えばエチレングリコールボロン酸フェニル）
を塔頂で除去する。残流は２−メチルグルタロニトリ
ル、ｔ−ブチルカテコール及び少量のアジポニトリルを
含む。この流れを第３のカラムに供給し、それが塔頂留
出物として純粋な２−メチルグルタロニトリル及び残流
としてアジポニトリル及びｔ−ブチルカテコールを与え
る。
【００１２】
【実施例】実施例１ アジポニトリル蒸留カラムの供給材料に、供給材料中の
グリコール濃度が３００ｐｐｍとなる速度でプロピレン
グリコールを加えた。結果を下記に示し、グリコールを
添加せずに同一の蒸留法により得た生成物と比較する。
グリコール濃度が３００ｐｐｍとなる速度でプロピレン
グリコールを加えた。結果を下記に示し、グリコールを
添加せずに同一の蒸留法により得た生成物と比較する。
【００１３】 グリコール使用 グリコール使用せず ハーゼンカラー ５０ ５２０ （ｈａｚｅｎ ｃｏｌｏｒ） クレゾール（ｐｐｍ） ＮＤ ３０ ベンゼン（ｐｐｍ） ＮＤ ２５０ ホウ素（ｐｐｍ） ２ １０ ＮＤ：検出不可能（＜２ｐｐｍ） 続いてグリコールの添加位置を、精製装置の供給槽の上
流の位置に移動し、カラムに供給する前にグリコールと
ホウ素化合物の間の反応時間を追加した。この変更によ
り精製アジポニトリルからホウ素が完全に除去された。
流の位置に移動し、カラムに供給する前にグリコールと
ホウ素化合物の間の反応時間を追加した。この変更によ
り精製アジポニトリルからホウ素が完全に除去された。
【００１４】カラムの塔頂から留出する低沸点化合物は
大部分が２−メチルグルタロニトリルであり、いくらか
のクレゾール、ベンゼン及び未反応のプロピレングリコ
ールを含んだ。この流れに存在するホウ素化合物は完全
にプロピレングリコールボロン酸塩から成り、ホウ素含
有化合物のすべてがその高い揮発性のために容易に２−
メチルグルタロニトリルから蒸留することができる低沸
点エステルの形態に変換されたことを示す。
大部分が２−メチルグルタロニトリルであり、いくらか
のクレゾール、ベンゼン及び未反応のプロピレングリコ
ールを含んだ。この流れに存在するホウ素化合物は完全
にプロピレングリコールボロン酸塩から成り、ホウ素含
有化合物のすべてがその高い揮発性のために容易に２−
メチルグルタロニトリルから蒸留することができる低沸
点エステルの形態に変換されたことを示す。
【００１５】実施例２ １４３０ｐｐｍのｔ−ブチルカテコールボロン酸フェニ
ルを含む９７ｇの２−メチルグルタロニトリルを３ｇの
トリエタノールアミンと混合し、５０ｍｍＨｇにおいて
１５インチのスピニングバンドカラムを通して蒸留し
た。５留分及び１１．３ｇの残部（ｈｅｅｌ）を採取し
た。留分のいずれにおいてもｔ−ブチルカテコールボロ
ン酸フェニルは検出されなかった。
ルを含む９７ｇの２−メチルグルタロニトリルを３ｇの
トリエタノールアミンと混合し、５０ｍｍＨｇにおいて
１５インチのスピニングバンドカラムを通して蒸留し
た。５留分及び１１．３ｇの残部（ｈｅｅｌ）を採取し
た。留分のいずれにおいてもｔ−ブチルカテコールボロ
ン酸フェニルは検出されなかった。
【００１６】同一の実験をトリエタノールアミンを用い
ずに行った場合、５留分及び１３ｇの残部が採取され、
各留分に以下の量でｔ−ブチルカテコールボロン酸フェ
ニルが見いだされた：３００、５３０、５９０、７９０
及び１２００ｐｐｍ。
ずに行った場合、５留分及び１３ｇの残部が採取され、
各留分に以下の量でｔ−ブチルカテコールボロン酸フェ
ニルが見いだされた：３００、５３０、５９０、７９０
及び１２００ｐｐｍ。
【００１７】実施例３ １４３０部のｔ−ブチルカテコールボロン酸フェニルを
含む２７７ｇの２−メチルグルタロニトリルを２．８８
ｇのペンタエリスリトールと混合し、混合物を５０ｍｍ
Ｈｇにおいて１５プレートのＯｌｄｅｒｓｈａｗカラム
で蒸留した。６留分及び３６ｇの残部を採取した。留分
の重量は１７．３、１６．９、４１．４、４２．８、７
５．９及び４２．３ｇであった。留分のいずれにおいて
もｔ−ブチルカテコールボロン酸フェニルは検出されな
かった。
含む２７７ｇの２−メチルグルタロニトリルを２．８８
ｇのペンタエリスリトールと混合し、混合物を５０ｍｍ
Ｈｇにおいて１５プレートのＯｌｄｅｒｓｈａｗカラム
で蒸留した。６留分及び３６ｇの残部を採取した。留分
の重量は１７．３、１６．９、４１．４、４２．８、７
５．９及び４２．３ｇであった。留分のいずれにおいて
もｔ−ブチルカテコールボロン酸フェニルは検出されな
かった。
【００１８】実施例４ １４３０ｐｐｍのｔ−ブチルカテコールボロン酸フェニ
ルを含む３４２ｇの２−メチルグルタロニトリルを３．
６ｇのエチレングリコールと混合し、混合物を１００ｍ
ｍＨｇにおいて１５プレートのＯｌｄｅｒｓｈａｗカラ
ムで蒸留した。７留分及び２７ｇの残部を採取した。留
分の重量は５、１７、１５、８５、６４、９１及び３６
ｇであった。留分１及び２は過剰のエチレングリコー
ル、フェノール及びエチレングリコールボロン酸フェニ
ル（新しく生成されたホウ素錯体）を大量に含んだ。留
分３は微量のエチレングリコールを含んだがエチレング
リコールボロン酸フェニルは含まなかった。留分４−７
はエチレングリコール、フェノール又はエチレングリコ
ールボロン酸フェニルを含まなかった。留分のいずれも
ｔ−ブチルカテコールボロン酸フェニルは含まなかっ
た。
ルを含む３４２ｇの２−メチルグルタロニトリルを３．
６ｇのエチレングリコールと混合し、混合物を１００ｍ
ｍＨｇにおいて１５プレートのＯｌｄｅｒｓｈａｗカラ
ムで蒸留した。７留分及び２７ｇの残部を採取した。留
分の重量は５、１７、１５、８５、６４、９１及び３６
ｇであった。留分１及び２は過剰のエチレングリコー
ル、フェノール及びエチレングリコールボロン酸フェニ
ル（新しく生成されたホウ素錯体）を大量に含んだ。留
分３は微量のエチレングリコールを含んだがエチレング
リコールボロン酸フェニルは含まなかった。留分４−７
はエチレングリコール、フェノール又はエチレングリコ
ールボロン酸フェニルを含まなかった。留分のいずれも
ｔ−ブチルカテコールボロン酸フェニルは含まなかっ
た。
【００１９】実施例５ いくらかの２−メチルグルタロニトリル及び２０ｐｐｍ
のホウ素と当量のホウ素化合物を含む３５０ｍｌのアジ
ポニトリルを３２ｍｌのエチレングリコールと混合し、
混合物を１２プレートのＯｌｄｅｒｓｈａｗカラムで１
００ｍｍＨｇにおいて蒸留した。１２留分を採取した。
留分６は５０ｍｍで採取し、留分７−１２は１０ｍｍで
採取した。留分の重量は１０、１６、５、１、２４、１
７、４４、４６、４０、３９及び９６ｇであった。留分
１−６は過剰のエチレングリコールのほとんど、エチレ
ングリコールボロン酸フェニル及び２−メチルグルタロ
ニトリルを含んでいた。留分８−１０は純度が９９．９
９％のアジポニトリルであり、１ｐｐｍ以下のホウ素を
含んでいた。
のホウ素と当量のホウ素化合物を含む３５０ｍｌのアジ
ポニトリルを３２ｍｌのエチレングリコールと混合し、
混合物を１２プレートのＯｌｄｅｒｓｈａｗカラムで１
００ｍｍＨｇにおいて蒸留した。１２留分を採取した。
留分６は５０ｍｍで採取し、留分７−１２は１０ｍｍで
採取した。留分の重量は１０、１６、５、１、２４、１
７、４４、４６、４０、３９及び９６ｇであった。留分
１−６は過剰のエチレングリコールのほとんど、エチレ
ングリコールボロン酸フェニル及び２−メチルグルタロ
ニトリルを含んでいた。留分８−１０は純度が９９．９
９％のアジポニトリルであり、１ｐｐｍ以下のホウ素を
含んでいた。
【００２０】本発明の主たる特徴及び態様は以下の通り
である。
である。
【００２１】１．（ａ）少なくとも２つのＯＨ基を有す
るかあるいは（ｂ）ＮＨ2又はＲがメチルもしくはエチ
ルであるＮＨＲ又はＮＲ2基と１つのＯＨ基を有するア
ミノアルコール及びグリコールから成る群より選ばれる
アルコールを加え、次いで蒸留によりニトリルを回収す
る段階を含んでなる、（１）アジポニトリル及び２−メ
チルグルタロニトリルから成る群より選ばれるニトリ
ル、ならびに（２）有機ホウ素化合物を含有する混合物
の精製法。
るかあるいは（ｂ）ＮＨ2又はＲがメチルもしくはエチ
ルであるＮＨＲ又はＮＲ2基と１つのＯＨ基を有するア
ミノアルコール及びグリコールから成る群より選ばれる
アルコールを加え、次いで蒸留によりニトリルを回収す
る段階を含んでなる、（１）アジポニトリル及び２−メ
チルグルタロニトリルから成る群より選ばれるニトリ
ル、ならびに（２）有機ホウ素化合物を含有する混合物
の精製法。
【００２２】２．（ａ）少なくとも２つのＯＨ基を有す
るかあるいは（ｂ）ＮＨ2又はＲがメチルもしくはエチ
ルであるＮＨＲ又はＮＲ2基と１つのＯＨ基を有するア
ミノアルコール及びグリコールから成る群より選ばれる
アルコールを、トリフェニルホウ素、ｔ−ブチルカテコ
ールボロン酸フェニル、又はフェニルボロン酸、その無
水物又はそのエステルの量に対して少なくとも化学量論
的当量な量で加え、次いで蒸留によりニトリルを回収す
る段階を含んでなる、トリフェニルホウ素、ｔ−ブチル
カテコールボロン酸フェニル、又はフェニルボロン酸、
その無水物又はそのエステルを含有するアジポニトリル
及び２−メチルグルタロニトリルから成る群より選ばれ
るニトリルの精製法。
るかあるいは（ｂ）ＮＨ2又はＲがメチルもしくはエチ
ルであるＮＨＲ又はＮＲ2基と１つのＯＨ基を有するア
ミノアルコール及びグリコールから成る群より選ばれる
アルコールを、トリフェニルホウ素、ｔ−ブチルカテコ
ールボロン酸フェニル、又はフェニルボロン酸、その無
水物又はそのエステルの量に対して少なくとも化学量論
的当量な量で加え、次いで蒸留によりニトリルを回収す
る段階を含んでなる、トリフェニルホウ素、ｔ−ブチル
カテコールボロン酸フェニル、又はフェニルボロン酸、
その無水物又はそのエステルを含有するアジポニトリル
及び２−メチルグルタロニトリルから成る群より選ばれ
るニトリルの精製法。
【００２３】３．アルコールがトリエタノールアミン、
ペンタエリスリトール、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ソルビトール、１，３−プロパンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、１，２，６−ヘキサント
リオール又はアルコール官能基が１，２−、１，３−あ
るいは１，４−関係で位置する他のグリコール又はアミ
ノアルコールから成る群より選ばれる、上記１項に記載
の方法。
ペンタエリスリトール、エチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ソルビトール、１，３−プロパンジオー
ル、１，４−ブタンジオール、１，２，６−ヘキサント
リオール又はアルコール官能基が１，２−、１，３−あ
るいは１，４−関係で位置する他のグリコール又はアミ
ノアルコールから成る群より選ばれる、上記１項に記載
の方法。
【００２４】４．エレチンジアミン又はメチルもしくは
エチル置換エチレンジアミンを混合物に加え、次いで蒸
留により２−メチルグルタロニトリルを分離する段階を
含んでなる、ホウ素化合物を含有する２−メチルグルタ
ロニトリルの精製法。
エチル置換エチレンジアミンを混合物に加え、次いで蒸
留により２−メチルグルタロニトリルを分離する段階を
含んでなる、ホウ素化合物を含有する２−メチルグルタ
ロニトリルの精製法。
Claims (3)
- 【請求項１】 （ａ）少なくとも２つのＯＨ基を有する
かあるいは（ｂ）ＮＨ2又はＲがメチルもしくはエチル
であるＮＨＲ又はＮＲ2基と１つのＯＨ基を有するアミ
ノアルコール及びグリコールから成る群より選ばれるア
ルコールを加え、次いで蒸留によりニトリルを回収する
段階を含んでなる、（１）アジポニトリル及び２−メチ
ルグルタロニトリルから成る群より選ばれるニトリル、
ならびに（２）有機ホウ素化合物を含有する混合物の精
製法。 - 【請求項２】 （ａ）少なくとも２つのＯＨ基を有する
かあるいは（ｂ）ＮＨ2又はＲがメチルもしくはエチル
であるＮＨＲ又はＮＲ2基と１つのＯＨ基を有するアミ
ノアルコール及びグリコールから成る群より選ばれるア
ルコールを、トリフェニルホウ素、ｔ−ブチルカテコー
ルボロン酸フェニル、又はフェニルボロン酸、その無水
物又はそのエステルの量に対して少なくとも化学量論的
当量な量で加え、次いで蒸留によりニトリルを回収する
段階を含んでなる、トリフェニルホウ素、ｔ−ブチルカ
テコールボロン酸フェニル、又はフェニルボロン酸、そ
の無水物又はそのエステルを含有するアジポニトリル及
び２−メチルグルタロニトリルから成る群より選ばれる
ニトリルの精製法。 - 【請求項３】 エレチンジアミン又はメチルもしくはエ
チル置換エチレンジアミンを混合物に加え、次いで蒸留
により２−メチルグルタロニトリルを分離する段階を含
んでなる、ホウ素化合物を含有する２−メチルグルタロ
ニトリルの精製法。
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1994
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