JPH07254111A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH07254111A JPH07254111A JP4249594A JP4249594A JPH07254111A JP H07254111 A JPH07254111 A JP H07254111A JP 4249594 A JP4249594 A JP 4249594A JP 4249594 A JP4249594 A JP 4249594A JP H07254111 A JPH07254111 A JP H07254111A
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- thin film
- film
- etching
- magnetic
- magnetic film
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 量産性のよいケミカルエッチングを用いてパ
ターン精度に優れた薄膜ヘッドの製造方法を提供するこ
とを目的とする。 【構成】 磁性膜上にエッチング液に対するエッチング
レートが磁性膜より十分小さい金属薄膜を形成し、フォ
トリソグラフィにより金属薄膜をパターン形成し、この
金属薄膜をマスクとして磁性膜をケミカルエッチングす
る。これによりエッチング時のサイドエッチ量を小さく
することができ、トラック幅精度及び量産性に優れた薄
膜磁気ヘッドの製造方法を実現することができる。
ターン精度に優れた薄膜ヘッドの製造方法を提供するこ
とを目的とする。 【構成】 磁性膜上にエッチング液に対するエッチング
レートが磁性膜より十分小さい金属薄膜を形成し、フォ
トリソグラフィにより金属薄膜をパターン形成し、この
金属薄膜をマスクとして磁性膜をケミカルエッチングす
る。これによりエッチング時のサイドエッチ量を小さく
することができ、トラック幅精度及び量産性に優れた薄
膜磁気ヘッドの製造方法を実現することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁性膜等のパターンをケ
ミカルエッチングによって形成する薄膜磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。
ミカルエッチングによって形成する薄膜磁気ヘッドの製
造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、薄膜磁気ヘッドは、ハードディス
クのみならずＤＣＣ等のオーディオ用としても用いられ
るようになってきた。その構造から、半導体回路と同様
の製造方法が用いられており、パターン形成にもフォト
リソグラフィ技術が用いられている。
クのみならずＤＣＣ等のオーディオ用としても用いられ
るようになってきた。その構造から、半導体回路と同様
の製造方法が用いられており、パターン形成にもフォト
リソグラフィ技術が用いられている。
【０００３】以下に従来の磁性膜等のパターン形成方法
について説明する。図２は従来のパターン形成の工程を
示すものである。（ａ）に示すように、下部層２１の上
に、真空蒸着またはスパッタなどにより、磁性膜２２を
形成する。次に、（ｂ）に示すように、通常のフォトリ
ソグラフィにより磁性膜２２の上にフォトレジスト２４
のパターンを形成する。
について説明する。図２は従来のパターン形成の工程を
示すものである。（ａ）に示すように、下部層２１の上
に、真空蒸着またはスパッタなどにより、磁性膜２２を
形成する。次に、（ｂ）に示すように、通常のフォトリ
ソグラフィにより磁性膜２２の上にフォトレジスト２４
のパターンを形成する。
【０００４】ここで、薄膜からパターンを形成するため
のエッチング方法として主なものに、イオンミリング等
によるドライエッチングと、薬液を用いたケミカルエッ
チングの２種類がある。（ｃ）はこれらの方法のうち、
ケミカルエッチングによって行った磁性膜のパターン形
成を示している。この２種類のエッチング方法におい
て、フォトレジストの形成条件は異なる場合もある。
のエッチング方法として主なものに、イオンミリング等
によるドライエッチングと、薬液を用いたケミカルエッ
チングの２種類がある。（ｃ）はこれらの方法のうち、
ケミカルエッチングによって行った磁性膜のパターン形
成を示している。この２種類のエッチング方法におい
て、フォトレジストの形成条件は異なる場合もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のエ
ッチング方法にはそれぞれ次のような問題点がある。
ッチング方法にはそれぞれ次のような問題点がある。
【０００６】まず、イオンミリング等によるドライエッ
チングでは、あらゆる薄膜を精度よくエッチングできる
反面、選択性が小さく下部層との境界面で正確にエッチ
ングを止めることは不可能である。また、エッチングす
る材料とフォトレジストのエッチングレートに大きな差
がないため、厚い膜をエッチングするときには、フォト
レジストも厚くせねばならず、パターン精度が低下し、
長時間のエッチングによりレジストの変質を招き、レジ
ストの除去が困難となる。さらに、エッチングレートが
小さく、装置が高価であるため量産性において劣る。
チングでは、あらゆる薄膜を精度よくエッチングできる
反面、選択性が小さく下部層との境界面で正確にエッチ
ングを止めることは不可能である。また、エッチングす
る材料とフォトレジストのエッチングレートに大きな差
がないため、厚い膜をエッチングするときには、フォト
レジストも厚くせねばならず、パターン精度が低下し、
長時間のエッチングによりレジストの変質を招き、レジ
ストの除去が困難となる。さらに、エッチングレートが
小さく、装置が高価であるため量産性において劣る。
【０００７】次に、ケミカルエッチングでは、材料によ
っては非常に選択性がよく、エッチングレートもドライ
エッチングに比べて大きく、また、設備費も非常に安価
ですむ。その反面、図２（ｃ）に示すようにエッチング
時のサイドエッチ量が大きく、パターン精度が悪いとい
うことが大きな問題となっている。
っては非常に選択性がよく、エッチングレートもドライ
エッチングに比べて大きく、また、設備費も非常に安価
ですむ。その反面、図２（ｃ）に示すようにエッチング
時のサイドエッチ量が大きく、パターン精度が悪いとい
うことが大きな問題となっている。
【０００８】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、量産性のよいケミカルエッチングを用いてパターン
精度に優れた薄膜ヘッドの製造方法を提供することを目
的とする。
で、量産性のよいケミカルエッチングを用いてパターン
精度に優れた薄膜ヘッドの製造方法を提供することを目
的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の磁性膜は、パターン形成時において、フォト
レジストとの間にエッチング液に対するエッチングレー
トが磁性膜より十分小さい金属薄膜を形成し、これをメ
タルマスクとして用いる構成を有している。
に本発明の磁性膜は、パターン形成時において、フォト
レジストとの間にエッチング液に対するエッチングレー
トが磁性膜より十分小さい金属薄膜を形成し、これをメ
タルマスクとして用いる構成を有している。
【００１０】
【作用】この構成によって、フォトレジストのみのとき
には弱かった磁性膜との密着力が向上し、その結果エッ
チング時のサイドエッチ量を小さくすることができ、ト
ラック幅精度及び量産性に優れた薄膜磁気ヘッドの製造
方法を実現することができる。
には弱かった磁性膜との密着力が向上し、その結果エッ
チング時のサイドエッチ量を小さくすることができ、ト
ラック幅精度及び量産性に優れた薄膜磁気ヘッドの製造
方法を実現することができる。
【００１１】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【００１２】図１は本発明による磁極等のパターン形成
の工程を示す。（ａ）に示すように、下部層１１の上
に、真空蒸着またはスパッタなどにより、ＣｏＴａＺｒ
からなる磁性膜１２、Ｔｉからなる金属薄膜１３を順に
形成する。
の工程を示す。（ａ）に示すように、下部層１１の上
に、真空蒸着またはスパッタなどにより、ＣｏＴａＺｒ
からなる磁性膜１２、Ｔｉからなる金属薄膜１３を順に
形成する。
【００１３】次に、（ｂ）に示すように、通常のフォト
リソグラフィにより金属薄膜１３の上にフォトレジスト
１４のパターンを形成する。
リソグラフィにより金属薄膜１３の上にフォトレジスト
１４のパターンを形成する。
【００１４】そして、上記パターンを形成後に、希弗酸
を用いたケミカルエッチングにより、（ｃ）に示すよう
な金属薄膜１３のパターンを形成する。
を用いたケミカルエッチングにより、（ｃ）に示すよう
な金属薄膜１３のパターンを形成する。
【００１５】上記金属薄膜１３をメタルマスクとして、
（ｄ）に示すように磁性膜１２を希硝酸によりケミカル
エッチングする。その後フォトレジスト１４を除去、必
要があれば金属薄膜１３も除去する。
（ｄ）に示すように磁性膜１２を希硝酸によりケミカル
エッチングする。その後フォトレジスト１４を除去、必
要があれば金属薄膜１３も除去する。
【００１６】本実施例によるサイドエッチ量および寸法
ばらつきと、従来のフォトレジストのみのエッチングの
それとを（表１）に比較して示している。
ばらつきと、従来のフォトレジストのみのエッチングの
それとを（表１）に比較して示している。
【００１７】
【表１】 この（表１）から明らかなように、本実施例によるパタ
ーン形成法は、トラック幅精度向上の点で優れた効果が
得られる。
ーン形成法は、トラック幅精度向上の点で優れた効果が
得られる。
【００１８】以上のように本実施例によれば、磁性膜上
にエッチング液に対するエッチングレートが磁性膜より
十分小さい金属薄膜を形成し、この金属薄膜をマスクと
して磁性膜をケミカルエッチングすることにより、トラ
ック幅精度に優れた磁気ヘッドを製造することができ
る。また、先に述べたように、イオンミリングからケミ
カルエッチングへの移行により、量産性に優れた製造方
法を提供することができる。
にエッチング液に対するエッチングレートが磁性膜より
十分小さい金属薄膜を形成し、この金属薄膜をマスクと
して磁性膜をケミカルエッチングすることにより、トラ
ック幅精度に優れた磁気ヘッドを製造することができ
る。また、先に述べたように、イオンミリングからケミ
カルエッチングへの移行により、量産性に優れた製造方
法を提供することができる。
【００１９】
【発明の効果】以上のように本発明は、磁性膜上に、エ
ッチング液に対するエッチングレートが磁性膜より十分
小さい金属薄膜をメタルマスクとして設けることによ
り、トラック幅精度および量産性に優れた薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法を実現できるものである。尚、エッチング
材料は、磁性膜に制限されるものではなく、サイドエッ
チが問題となるあらゆる薄膜磁気ヘッドの材料に対して
有効であることは言うまでもない。
ッチング液に対するエッチングレートが磁性膜より十分
小さい金属薄膜をメタルマスクとして設けることによ
り、トラック幅精度および量産性に優れた薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法を実現できるものである。尚、エッチング
材料は、磁性膜に制限されるものではなく、サイドエッ
チが問題となるあらゆる薄膜磁気ヘッドの材料に対して
有効であることは言うまでもない。
【図１】本発明の実施例におけるパターン形成の工程流
れ図
れ図
【図２】従来のパターン形成の工程流れ図
１１ 下部層 １２ 磁性膜 １３ 金属薄膜 １４ フォトレジスト ２１ 下部層 ２２ 磁性膜 ２４ フォトレジスト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 辻 弘恭 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 磁性膜から磁極等を形成する際、エッチ
ング液に対するエッチングレートが磁性膜より十分小さ
い金属薄膜を磁性膜上に形成し、フォトリソグラフィに
より金属薄膜をパターン形成し、この金属薄膜をマスク
として磁性膜をケミカルエッチングする工程を備えた薄
膜磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 磁性膜としてＣｏＴａＺｒ、金属薄膜と
してＴｉ、エッチング液として希硝酸を用いる請求項１
記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4249594A JPH07254111A (ja) | 1994-03-14 | 1994-03-14 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4249594A JPH07254111A (ja) | 1994-03-14 | 1994-03-14 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07254111A true JPH07254111A (ja) | 1995-10-03 |
Family
ID=12637647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4249594A Pending JPH07254111A (ja) | 1994-03-14 | 1994-03-14 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07254111A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7378028B2 (en) * | 2004-06-03 | 2008-05-27 | Seagate Technology Llc | Method for fabricating patterned magnetic recording media |
-
1994
- 1994-03-14 JP JP4249594A patent/JPH07254111A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7378028B2 (en) * | 2004-06-03 | 2008-05-27 | Seagate Technology Llc | Method for fabricating patterned magnetic recording media |
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