JPH07252444A - サンドブラストレジストインキ - Google Patents
サンドブラストレジストインキInfo
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- JPH07252444A JPH07252444A JP6900894A JP6900894A JPH07252444A JP H07252444 A JPH07252444 A JP H07252444A JP 6900894 A JP6900894 A JP 6900894A JP 6900894 A JP6900894 A JP 6900894A JP H07252444 A JPH07252444 A JP H07252444A
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- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
- B24C1/04—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for treating only selected parts of a surface, e.g. for carving stone or glass
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/04—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed mechanically, e.g. by punching
Abstract
(57)【要約】
【目的】 有機溶剤を使用しないサンドブラストインキ
用水性組成物の提供。 【構成】 最低造膜温度が１０℃以下である重合体の水
分散体主成分に水溶性高分子を透膜性改善剤として混入
した組成物からなる、乾燥被膜の２０℃水における膨潤
度が 0.1〜1.5 の範囲であるサンドブラストレジストイ
ンキ。 【効果】 水溶性サンドブラストレジストインキである
から、有料溶剤型に比して処理性が格段に優れている。
用水性組成物の提供。 【構成】 最低造膜温度が１０℃以下である重合体の水
分散体主成分に水溶性高分子を透膜性改善剤として混入
した組成物からなる、乾燥被膜の２０℃水における膨潤
度が 0.1〜1.5 の範囲であるサンドブラストレジストイ
ンキ。 【効果】 水溶性サンドブラストレジストインキである
から、有料溶剤型に比して処理性が格段に優れている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、サンドブラストレジス
トインキに関する。本発明のサンドブラストレジストイ
ンキによると、ガラス、石材、陶磁器、金属、プラスチ
ックス、木質材などの加工材料の表面により写真画、模
様、文字などの画像を彫刻現出させるサンドブラスト加
工において、レジストマスクの形成工程およびレジスト
マスクの剥離工程などのすべての加工工程で有機溶剤を
必要としないでレジストマスクが形成できる。
トインキに関する。本発明のサンドブラストレジストイ
ンキによると、ガラス、石材、陶磁器、金属、プラスチ
ックス、木質材などの加工材料の表面により写真画、模
様、文字などの画像を彫刻現出させるサンドブラスト加
工において、レジストマスクの形成工程およびレジスト
マスクの剥離工程などのすべての加工工程で有機溶剤を
必要としないでレジストマスクが形成できる。
【０００２】
【従来の技術】機械的あるいは化学的な表面加工によっ
てガラス、石材、陶磁器、金属、プラスチックス、木質
材などの表面に写真画、模様、文字などの画像を彫刻現
出させたものは表示板、装飾用品、芸術作品などの各種
分野で利用されている。
てガラス、石材、陶磁器、金属、プラスチックス、木質
材などの表面に写真画、模様、文字などの画像を彫刻現
出させたものは表示板、装飾用品、芸術作品などの各種
分野で利用されている。
【０００３】これらの材料の表面に画像を彫刻現出させ
る表面加工で従来行なわれている方法はレジストマスク
を使用しない方法と使用する方法に大別される。前者の
レジストマスクを使用しない方法は刃物による手彫り、
切削機による機械彫りする方法である。また、後者のレ
ジストマスクを使用する方法は被加工表面上にレジスト
マスクを形成した後、酸化アルミニウムのような金属粉
を空気の圧力で吹き付けてレジストマスクのない部分の
被加工材料表面を研磨、彫刻して画像を現出させる方法
である。この方法はブラスト装置を必要とするが処理方
法は簡便であり、比較的短時間で画像の彫刻が得られる
利点があるため近年盛んに行われている。
る表面加工で従来行なわれている方法はレジストマスク
を使用しない方法と使用する方法に大別される。前者の
レジストマスクを使用しない方法は刃物による手彫り、
切削機による機械彫りする方法である。また、後者のレ
ジストマスクを使用する方法は被加工表面上にレジスト
マスクを形成した後、酸化アルミニウムのような金属粉
を空気の圧力で吹き付けてレジストマスクのない部分の
被加工材料表面を研磨、彫刻して画像を現出させる方法
である。この方法はブラスト装置を必要とするが処理方
法は簡便であり、比較的短時間で画像の彫刻が得られる
利点があるため近年盛んに行われている。
【０００４】後者の方法におけるサンドブラストのため
のレジストマスクを形成する方法は従来からスクリーン
印刷法が主に行われている。スクリーン印刷法は被加工
表面に直接、サンドブラストレジストインキを用いてス
クリーン印刷して目的の画像レジストマスクを形成する
方法や離型性のある基材上にスクリーン印刷したものを
マスクと称して被加工表面に転写して画像レジストマス
クを形成する方法である。このスクリーン印刷法は同一
画像のものを多量に加工する場合には能率的で経済的で
ある。
のレジストマスクを形成する方法は従来からスクリーン
印刷法が主に行われている。スクリーン印刷法は被加工
表面に直接、サンドブラストレジストインキを用いてス
クリーン印刷して目的の画像レジストマスクを形成する
方法や離型性のある基材上にスクリーン印刷したものを
マスクと称して被加工表面に転写して画像レジストマス
クを形成する方法である。このスクリーン印刷法は同一
画像のものを多量に加工する場合には能率的で経済的で
ある。
【０００５】従来のサンドブラストレジストマスク作製
のためのスクリーン印刷用レジストインキの主成分は、
ポリ塩化ビニル樹脂をトルエン、酢酸ブチル、ブチルセ
ロソルブなどの有機溶剤に溶解したものであり、このレ
ジストインキは印刷した後、室温で乾燥するだけでは膜
強度が不十分なため、高温で熱処理する工程が必要であ
る。
のためのスクリーン印刷用レジストインキの主成分は、
ポリ塩化ビニル樹脂をトルエン、酢酸ブチル、ブチルセ
ロソルブなどの有機溶剤に溶解したものであり、このレ
ジストインキは印刷した後、室温で乾燥するだけでは膜
強度が不十分なため、高温で熱処理する工程が必要であ
る。
【０００６】また、さらに接着強度や膜強度を改良する
ために硬化剤を使用する反応型インクにしたり、感光性
インクで印刷して活性光線で架橋させる光架橋性インク
なども利用されている。
ために硬化剤を使用する反応型インクにしたり、感光性
インクで印刷して活性光線で架橋させる光架橋性インク
なども利用されている。
【０００７】しかしながら、いずれのタイプのスクリー
ン印刷用レジストインクもトルエン、アセトン，酢酸ブ
チルなどの有機溶剤などに溶解したものであり、スクリ
ーン印刷版や使用器具の洗浄は専用の有機溶剤で処理し
なければならない。さらにはブラスト加工した後、被加
工材料表面からレジストマスクを取り除く時にもレジス
トマスクが強固に接着しているため簡単に剥がすことが
できず、有機溶剤を使用しなければならない。
ン印刷用レジストインクもトルエン、アセトン，酢酸ブ
チルなどの有機溶剤などに溶解したものであり、スクリ
ーン印刷版や使用器具の洗浄は専用の有機溶剤で処理し
なければならない。さらにはブラスト加工した後、被加
工材料表面からレジストマスクを取り除く時にもレジス
トマスクが強固に接着しているため簡単に剥がすことが
できず、有機溶剤を使用しなければならない。
【０００８】したがって、経済的にも不利であるばかり
でなく、作業環境の問題も抱えている。このような問題
点を解決するためにアルカリ水溶液可溶タイプのものも
提唱されているが、硬化させた後はアルカリ水溶液に不
溶化してしまうため、レジストマスクを除去するために
はどうしても有機溶剤を使用する必要があり、満足でき
るものではなかった。
でなく、作業環境の問題も抱えている。このような問題
点を解決するためにアルカリ水溶液可溶タイプのものも
提唱されているが、硬化させた後はアルカリ水溶液に不
溶化してしまうため、レジストマスクを除去するために
はどうしても有機溶剤を使用する必要があり、満足でき
るものではなかった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような状
況に鑑みなされたもので、ガラス、金属、プラスチック
スなどの適宜の被加工材料の表面にサンドブラストを施
す際に用いられるレジストマスクにおいて、被加工材料
との接着性が十分あり、サンドブラスト加工に耐える十
分な強度を有し、レジストマスクの形成から加工後のレ
ジストマスクの除去に至るまでのすべての加工工程で、
有機溶剤を使用する必要のないサンドブラストレジスト
マスク用水性インキ、特にスクリーン印刷に適するサン
ドブラストレジストインキを提供することにある。
況に鑑みなされたもので、ガラス、金属、プラスチック
スなどの適宜の被加工材料の表面にサンドブラストを施
す際に用いられるレジストマスクにおいて、被加工材料
との接着性が十分あり、サンドブラスト加工に耐える十
分な強度を有し、レジストマスクの形成から加工後のレ
ジストマスクの除去に至るまでのすべての加工工程で、
有機溶剤を使用する必要のないサンドブラストレジスト
マスク用水性インキ、特にスクリーン印刷に適するサン
ドブラストレジストインキを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の溶
剤使用のサンドブラスト加工におけるレジストマスク用
インキの欠点を解決すべく鋭意検討を重ね本発明をなす
に至った。本発明ではサンドブラストレジストマスクイ
ンキを作製するための水性組成物において、（Ａ）ポリ
酢酸ビニル系樹脂、エチレン・酢酸ビニル系共重合体、
酢酸ビニル・アクリル酸エステル系共重合体、アクリル
系共重合体及びポリウレタン系重合体よりなる群から選
ばれた少くとも１種の重合体の水分散体と、（Ｂ）アル
ギン酸ナトリウム、ナトリウムカルボキシメチルセルロ
ース、メチルセルロース、ポリビニルアルコール系樹脂
及びポリエチレンオキシドよりなる群から選ばれる少く
とも１種の水溶性高分子、とよりなる水性組成物に関す
る。さらに、（Ａ）の重合体の最低造膜温度は10℃以下
であり、この重合体の水分散体を主成分として、これに
（Ｂ）の水溶性高分子を混合した水性組成物が好まし
い。そして、得られた水性組成物の乾燥被膜の20℃水に
おける膨潤度が 0.1〜1.5の範囲であるものがよい。ま
た、本発明はこのような水性組成物にインキ成分を加え
たスクリーン印刷に適するサンドブラストレジストイン
キを提供するものである。
剤使用のサンドブラスト加工におけるレジストマスク用
インキの欠点を解決すべく鋭意検討を重ね本発明をなす
に至った。本発明ではサンドブラストレジストマスクイ
ンキを作製するための水性組成物において、（Ａ）ポリ
酢酸ビニル系樹脂、エチレン・酢酸ビニル系共重合体、
酢酸ビニル・アクリル酸エステル系共重合体、アクリル
系共重合体及びポリウレタン系重合体よりなる群から選
ばれた少くとも１種の重合体の水分散体と、（Ｂ）アル
ギン酸ナトリウム、ナトリウムカルボキシメチルセルロ
ース、メチルセルロース、ポリビニルアルコール系樹脂
及びポリエチレンオキシドよりなる群から選ばれる少く
とも１種の水溶性高分子、とよりなる水性組成物に関す
る。さらに、（Ａ）の重合体の最低造膜温度は10℃以下
であり、この重合体の水分散体を主成分として、これに
（Ｂ）の水溶性高分子を混合した水性組成物が好まし
い。そして、得られた水性組成物の乾燥被膜の20℃水に
おける膨潤度が 0.1〜1.5の範囲であるものがよい。ま
た、本発明はこのような水性組成物にインキ成分を加え
たスクリーン印刷に適するサンドブラストレジストイン
キを提供するものである。
【００１１】ここで最低造膜温度は『JIS K-6828の酢酸
ビニル樹脂エマルジョン試験方法』に記載されている
4.9項の造膜性温度測定方法により測定することができ
る。
ビニル樹脂エマルジョン試験方法』に記載されている
4.9項の造膜性温度測定方法により測定することができ
る。
【００１２】また本発明で用いる（Ａ）の水分散性重合
体の最低造膜温度は次のように調整する。例えばポリ酢
酸ビニル系重合体であれば、ポリビニルアルコール(PV
A) 系樹脂のような保護コロイドを使用して乳化重合し
たり、界面活性剤を使用して乳化重合した後で、ジブチ
ルフタレート、ジオクチルフタレート、ジメチルグリコ
ールセバケート、ジメチルグリコールフタレートなどの
可塑剤を添加することにより最低造膜温度を調整するこ
とができる。
体の最低造膜温度は次のように調整する。例えばポリ酢
酸ビニル系重合体であれば、ポリビニルアルコール(PV
A) 系樹脂のような保護コロイドを使用して乳化重合し
たり、界面活性剤を使用して乳化重合した後で、ジブチ
ルフタレート、ジオクチルフタレート、ジメチルグリコ
ールセバケート、ジメチルグリコールフタレートなどの
可塑剤を添加することにより最低造膜温度を調整するこ
とができる。
【００１３】このようなポリ酢酸ビニル系重合体とし
て、ヘキスト合成社製のモビニール 116, モビニール30
3,モビニール500 など、昭和高分子社製の「ポリゾール
S-5S,ポリゾールNS-2150,ポリゾールLX-105」など、東
亜ペイント社製の「トアボンド#1005,トアボンド#6000,
トアボンドXB-6S,トアボンドXB-2131 」などが挙げられ
る。
て、ヘキスト合成社製のモビニール 116, モビニール30
3,モビニール500 など、昭和高分子社製の「ポリゾール
S-5S,ポリゾールNS-2150,ポリゾールLX-105」など、東
亜ペイント社製の「トアボンド#1005,トアボンド#6000,
トアボンドXB-6S,トアボンドXB-2131 」などが挙げられ
る。
【００１４】エチレン・酢酸ビニル共重合体の場合は、
エチレンの含有量を調製することで得られ、エチレンの
含有量は５重量％から30重量％の範囲が好ましい。この
ようなエマルジョンとしてヘキスト合成社製の「モビニ
ール084E, モビニール180E,モビニール123E, モビニー
ル191E」など、大日本インキ化学社製の「エバディック
SFC-80, エバディックEV-15,エバディックEV-260」な
ど、大同化成工業社製の「ビニゾール420,ビニゾール14
12」など、昭和高分子社製の「ポリゾールEVA P-3,ポリ
ゾールEVA AD-2, ポリゾールEVA L-503,ポリゾールAD-4
00, ポリゾールEVA P-5E」などが挙げられる。
エチレンの含有量を調製することで得られ、エチレンの
含有量は５重量％から30重量％の範囲が好ましい。この
ようなエマルジョンとしてヘキスト合成社製の「モビニ
ール084E, モビニール180E,モビニール123E, モビニー
ル191E」など、大日本インキ化学社製の「エバディック
SFC-80, エバディックEV-15,エバディックEV-260」な
ど、大同化成工業社製の「ビニゾール420,ビニゾール14
12」など、昭和高分子社製の「ポリゾールEVA P-3,ポリ
ゾールEVA AD-2, ポリゾールEVA L-503,ポリゾールAD-4
00, ポリゾールEVA P-5E」などが挙げられる。
【００１５】酢酸ビニル・アクリル酸エステル共重合体
の場合は、酢酸ビニルとアクリル酸エチル、アクリル酸
ブチル又はアクリル酸2-エチルヘキシルなどのアクリル
酸エステル類との共重合によって得られる。このような
エマルジョンはヘキスト合成社製の「モビニール630,モ
ビニールDM-5P,モビニールDS-5」など、昭和高分子社製
の「ポリゾールHR-8E,ポリゾールHR-TGL, ポリゾールPS
-120, ポリゾールL-714 」など、カネボウ・エヌエヌシ
ー社製の「レジン125-1140, レジン125-3850,ヨドゾー
ル LD-4253, エックスリンク125-2899」などが挙げられ
る。
の場合は、酢酸ビニルとアクリル酸エチル、アクリル酸
ブチル又はアクリル酸2-エチルヘキシルなどのアクリル
酸エステル類との共重合によって得られる。このような
エマルジョンはヘキスト合成社製の「モビニール630,モ
ビニールDM-5P,モビニールDS-5」など、昭和高分子社製
の「ポリゾールHR-8E,ポリゾールHR-TGL, ポリゾールPS
-120, ポリゾールL-714 」など、カネボウ・エヌエヌシ
ー社製の「レジン125-1140, レジン125-3850,ヨドゾー
ル LD-4253, エックスリンク125-2899」などが挙げられ
る。
【００１６】アクリル系共重合樹脂は、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸オクチルなどのアク
リル酸アルキルエステル同志の共重合樹脂やスチレン、
塩化ビニルなどとの共重合によって得られる。このよう
なエマルジョンは日本カーバイト社の「ニカゾールRX-2
84S,ニカゾールRX-669A,ニカゾールKE-1078 」など、大
日本インキ化学社製の「ボンコートER-405, ボンコート
EC-706, ボンコート4001」など、日本アクリル社製の
「プライマルAC-32,プライマルAC-61,プライマルB-41,
プライマルHA-24,プライマルC-72」など、三菱油化バー
ディシュ社製の「アクロナール4D, アクロナール81DN,
アクロナールYJ-1650D, アクロナールYJ-8400D」などが
挙げられる。
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸オクチルなどのアク
リル酸アルキルエステル同志の共重合樹脂やスチレン、
塩化ビニルなどとの共重合によって得られる。このよう
なエマルジョンは日本カーバイト社の「ニカゾールRX-2
84S,ニカゾールRX-669A,ニカゾールKE-1078 」など、大
日本インキ化学社製の「ボンコートER-405, ボンコート
EC-706, ボンコート4001」など、日本アクリル社製の
「プライマルAC-32,プライマルAC-61,プライマルB-41,
プライマルHA-24,プライマルC-72」など、三菱油化バー
ディシュ社製の「アクロナール4D, アクロナール81DN,
アクロナールYJ-1650D, アクロナールYJ-8400D」などが
挙げられる。
【００１７】ポリウレタン系重合体は、 4-4′- ジフェ
ニルメタンジイソシアナート、2,4-トリレンジイソシア
ナート又はヘキサメチレンジッソシアナートなどのポリ
イソシアナート化合物とポリブチレンアジペート、ポリ
エチレンブチレンアジペート、ポリカプロラクトン又は
ポリオキシテトラメチレングリコールなどのポリオール
との反応によって得られ、三洋化成社製の「サンプレン
UX-1120A, サンプレンUXA 」など、第一工業製薬社製の
「スーパーフレックス190,スーパーフレックス300,スー
パーフレックス460,スーパーフレックス750,スーパーフ
レックスE-2000, スーパーフレックスE-4500」など、中
央理化工業社製の「リカボンドBA-26N,リカボンドAR-51
H」などが挙げられる。
ニルメタンジイソシアナート、2,4-トリレンジイソシア
ナート又はヘキサメチレンジッソシアナートなどのポリ
イソシアナート化合物とポリブチレンアジペート、ポリ
エチレンブチレンアジペート、ポリカプロラクトン又は
ポリオキシテトラメチレングリコールなどのポリオール
との反応によって得られ、三洋化成社製の「サンプレン
UX-1120A, サンプレンUXA 」など、第一工業製薬社製の
「スーパーフレックス190,スーパーフレックス300,スー
パーフレックス460,スーパーフレックス750,スーパーフ
レックスE-2000, スーパーフレックスE-4500」など、中
央理化工業社製の「リカボンドBA-26N,リカボンドAR-51
H」などが挙げられる。
【００１８】このように前述の方法で（Ａ）の重合体の
最低造膜温度を調節することができ、これらは市販の各
種水分散性重合体から適宜選択すればよく、それらの形
状は単量体から乳化重合によって得られるエマルジョ
ン、高分子量物の機械的乳化によって得られるディスパ
ージョンやコロイダルディスパージョンなどの形状のも
のが使用できる。これらの水分散性重合体は一種類で用
いても複数で用いてもよく、被加工材料との接着性が良
い配合を選択すれば良い。
最低造膜温度を調節することができ、これらは市販の各
種水分散性重合体から適宜選択すればよく、それらの形
状は単量体から乳化重合によって得られるエマルジョ
ン、高分子量物の機械的乳化によって得られるディスパ
ージョンやコロイダルディスパージョンなどの形状のも
のが使用できる。これらの水分散性重合体は一種類で用
いても複数で用いてもよく、被加工材料との接着性が良
い配合を選択すれば良い。
【００１９】また、他方の（Ｂ）成分の水溶性高分子
は、アルギン酸ナトリウム、ナトリウムカルボキシメチ
ルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルアルコー
ル系樹脂及びポリエチレンオキシドの群から一種類以上
より選択される。これらは、自体水溶性高分子であって
この水溶性高分子を混合する目的はレジストマスクを形
成する際に粘性を付与させ、造膜性を向上させ、水分散
性を向上させ、被加工材料との接着を向上させ、且つ、
レジストマスクの除去作業を簡単にするなどのためであ
る。
は、アルギン酸ナトリウム、ナトリウムカルボキシメチ
ルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルアルコー
ル系樹脂及びポリエチレンオキシドの群から一種類以上
より選択される。これらは、自体水溶性高分子であって
この水溶性高分子を混合する目的はレジストマスクを形
成する際に粘性を付与させ、造膜性を向上させ、水分散
性を向上させ、被加工材料との接着を向上させ、且つ、
レジストマスクの除去作業を簡単にするなどのためであ
る。
【００２０】本発明の上記組成物より作製さられたレジ
ストインキは、水性組成物であり、乾燥する前は水に良
く分散するが、形成したマスクは乾燥して造膜し、水に
不溶化するが、水溶性高分子を含有しているので、容易
に水で膨潤するためレジストマスクの除去は簡単に行え
る。
ストインキは、水性組成物であり、乾燥する前は水に良
く分散するが、形成したマスクは乾燥して造膜し、水に
不溶化するが、水溶性高分子を含有しているので、容易
に水で膨潤するためレジストマスクの除去は簡単に行え
る。
【００２１】また、除去したレジストマスクはフィルム
状になっているために排水中へ流出させることなく、フ
ィルターなどで容易に回収できるのも本発明の特徴であ
る。
状になっているために排水中へ流出させることなく、フ
ィルターなどで容易に回収できるのも本発明の特徴であ
る。
【００２２】本発明の組成物が上記の特性を発揮させる
ためには、レジストインキの乾燥被膜の20℃水における
水膨潤度を 0.1〜1.5 の範囲、好ましくは 0.2〜1.3 に
調整することも必要である。水膨潤度が 0.1未満では、
レジストマスクを被加工材料から剥離する作業が困難に
なり、上限が 1.5以上では被加工材料から剥離する作業
は簡単になるが、水で膨潤したレジストマスクは強度が
ないためにフィルムの形状を保持できず細かく分散して
しまい、排水中からレジストマスクをフィルターなどで
回収することが困難になる。
ためには、レジストインキの乾燥被膜の20℃水における
水膨潤度を 0.1〜1.5 の範囲、好ましくは 0.2〜1.3 に
調整することも必要である。水膨潤度が 0.1未満では、
レジストマスクを被加工材料から剥離する作業が困難に
なり、上限が 1.5以上では被加工材料から剥離する作業
は簡単になるが、水で膨潤したレジストマスクは強度が
ないためにフィルムの形状を保持できず細かく分散して
しまい、排水中からレジストマスクをフィルターなどで
回収することが困難になる。
【００２３】水膨潤度の測定方法は、常温で乾燥させた
レジストインキの被膜を20℃の水に48時間浸漬後、濾紙
を用いて被膜の付着水を取り除き、レジストインキの重
量（W1）を測定して 105℃で２時間乾燥する。次に乾燥
後の重量（W2）を測定し、(W1-W2)/W2の式で算出するこ
とができる。
レジストインキの被膜を20℃の水に48時間浸漬後、濾紙
を用いて被膜の付着水を取り除き、レジストインキの重
量（W1）を測定して 105℃で２時間乾燥する。次に乾燥
後の重量（W2）を測定し、(W1-W2)/W2の式で算出するこ
とができる。
【００２４】本発明によるサンドブラストレジストイン
キは、スクリーン印刷法により被加工材料表面に直接印
刷してレジストマスクを形成する方法や離型性のある基
材の上にスクリーン印刷したのを被加工材料に転写して
貼り付ける方法が有効ある。転写して貼り付ける方法で
用いるときの接着剤は水でよく、被加工材表面に水を塗
りマスクを押し付けるだけでマスクが水で膨潤して被加
工材表面に密着し、密着状態で乾燥させた後は強い接着
性を示す。
キは、スクリーン印刷法により被加工材料表面に直接印
刷してレジストマスクを形成する方法や離型性のある基
材の上にスクリーン印刷したのを被加工材料に転写して
貼り付ける方法が有効ある。転写して貼り付ける方法で
用いるときの接着剤は水でよく、被加工材表面に水を塗
りマスクを押し付けるだけでマスクが水で膨潤して被加
工材表面に密着し、密着状態で乾燥させた後は強い接着
性を示す。
【００２５】スクリーン印刷法以外にもパッド印刷、筆
書、スプレーコート、はけ塗り、ロール塗りなどの方法
も可能である。本発明のレジストインキは室温乾燥で十
分な接着性と耐レジスト性が発現するため、加熱による
強制乾燥をしなくともよいが、作業効率の点で加熱によ
る強制乾燥をしてもかまわない。
書、スプレーコート、はけ塗り、ロール塗りなどの方法
も可能である。本発明のレジストインキは室温乾燥で十
分な接着性と耐レジスト性が発現するため、加熱による
強制乾燥をしなくともよいが、作業効率の点で加熱によ
る強制乾燥をしてもかまわない。
【００２６】本発明のサンドブラストレジストインキ用
組成物に増粘剤やチクソ剤のような粘弾性調製剤、レベ
リング剤、消泡剤、顔料、染料なども必要に応じて添加
することもできる。
組成物に増粘剤やチクソ剤のような粘弾性調製剤、レベ
リング剤、消泡剤、顔料、染料なども必要に応じて添加
することもできる。
【００２７】
【発明の効果】最低造膜温度10℃以下の、水分散性重合
体と特定の水溶性高分子の組成物を使用し、水温20℃の
おける水膨潤度が 0.1〜1.5 の範囲に調製した水性組成
物より作製される本発明のサンドブラストレジストイン
キは、有機溶剤や界面活性剤を使用することなく水だけ
でできる上、形成されたレジストマスクは十分な被加工
材料との接着性や耐ブラスト性を有しているので、有機
溶剤などの使用による作業環境の悪化を招くことなく、
熱処理工程、光硬化工程などの二次処理工程も省略でき
る効果がある。
体と特定の水溶性高分子の組成物を使用し、水温20℃の
おける水膨潤度が 0.1〜1.5 の範囲に調製した水性組成
物より作製される本発明のサンドブラストレジストイン
キは、有機溶剤や界面活性剤を使用することなく水だけ
でできる上、形成されたレジストマスクは十分な被加工
材料との接着性や耐ブラスト性を有しているので、有機
溶剤などの使用による作業環境の悪化を招くことなく、
熱処理工程、光硬化工程などの二次処理工程も省略でき
る効果がある。
【００２８】さらに乾燥したレジストマスクは、水に膨
潤して加工材料からの剥離が容易になり、マスクは造膜
しているため細かく分散することがないので水で除去さ
れたレジストマスクは排水中に流出せずに金網などのフ
ィルターで回収処理できる。
潤して加工材料からの剥離が容易になり、マスクは造膜
しているため細かく分散することがないので水で除去さ
れたレジストマスクは排水中に流出せずに金網などのフ
ィルターで回収処理できる。
【００２９】以下に実施例を示して本発明の効果をさら
に詳細に説明する。なお、実施例に示す部数はすべて重
量部で示す。また％もすべて重量％を示す。
に詳細に説明する。なお、実施例に示す部数はすべて重
量部で示す。また％もすべて重量％を示す。
【実施例１】ポリ酢酸ビニルエマルジョン（ヘキスト合
成社製『モビニール 116』濃度50％、最低造膜温度０
℃)100部、部分けん化PVA （信越化学社製『PA−05』）
20％水溶液50部を混合撹拌した後、アルギン酸ナトリウ
ム（君津化学社製）20％水溶液15部、青顔料１部（山陽
色素工業社製『エマコールブルーHB』）を添加して混合
撹拌した。得られたレジストインキの20℃水における膨
潤度は 0.8であった。このレジストインキをピッチ２mm
間隔の画像を形成させた 250メッシュのテトロン紗、膜
厚30μのスクリーン版を使ってガラス板に印刷した。こ
れを室温で乾燥したところガラス板上に乾燥膜厚30μの
レジストマスクを形成した。次に空気圧３kg/cm2で金剛
砂#120を20cmの距離から２分間吹き付けてサンドブラス
ト加工した。ブラスト加工したガラス板に水道水をかけ
たところ、１分後に膜の状態で流れ落ちた。マスクの密
着性や耐ブラスト性は問題なく、ガラス板は１mmの幅で
１mmの深さに加工できた。さらに、使用したスクリーン
版、スキージは水できれいに洗浄することができ、ガラ
ス板から剥がしたレジストマスクは20メッシュの金網で
回収することができた。
成社製『モビニール 116』濃度50％、最低造膜温度０
℃)100部、部分けん化PVA （信越化学社製『PA−05』）
20％水溶液50部を混合撹拌した後、アルギン酸ナトリウ
ム（君津化学社製）20％水溶液15部、青顔料１部（山陽
色素工業社製『エマコールブルーHB』）を添加して混合
撹拌した。得られたレジストインキの20℃水における膨
潤度は 0.8であった。このレジストインキをピッチ２mm
間隔の画像を形成させた 250メッシュのテトロン紗、膜
厚30μのスクリーン版を使ってガラス板に印刷した。こ
れを室温で乾燥したところガラス板上に乾燥膜厚30μの
レジストマスクを形成した。次に空気圧３kg/cm2で金剛
砂#120を20cmの距離から２分間吹き付けてサンドブラス
ト加工した。ブラスト加工したガラス板に水道水をかけ
たところ、１分後に膜の状態で流れ落ちた。マスクの密
着性や耐ブラスト性は問題なく、ガラス板は１mmの幅で
１mmの深さに加工できた。さらに、使用したスクリーン
版、スキージは水できれいに洗浄することができ、ガラ
ス板から剥がしたレジストマスクは20メッシュの金網で
回収することができた。
【００３０】
【実施例２】エチレン・酢酸ビニル共重合エマルジョン
（大日本インキ化学社製『EV-260』固形分濃度50％、最
低造膜温度７℃)100部とメチルセルロース（信越化学工
業社製『メトローズ60SH-100）15％水溶液30部およびポ
リビニルメチルエーテル(BAS社製『ルトナールM-40』50
％水溶液）10部を撹拌混合し、さらに消泡剤（サンノプ
コ社製『SNデフォマー 485』)0.1部、青顔料（山陽色素
工業社製『エマコールブルーHB』１部および水10部を添
加して撹拌混合した。
（大日本インキ化学社製『EV-260』固形分濃度50％、最
低造膜温度７℃)100部とメチルセルロース（信越化学工
業社製『メトローズ60SH-100）15％水溶液30部およびポ
リビニルメチルエーテル(BAS社製『ルトナールM-40』50
％水溶液）10部を撹拌混合し、さらに消泡剤（サンノプ
コ社製『SNデフォマー 485』)0.1部、青顔料（山陽色素
工業社製『エマコールブルーHB』１部および水10部を添
加して撹拌混合した。
【００３１】得られたレジストインキの20℃水における
膨潤度は 0.4であった。このレジストインキをピッチ３
mm間隔の画像を形成させた 200メッシュのテトロン紗、
膜厚30μのスクリーン版を使ってアクリル板に印刷し
た。これを室温で乾燥したところガラス板上に乾燥膜厚
25μのレジストマスクが作製できた。次に空気圧４kg/c
m2で金剛砂#180を20cmの距離から３分間吹き付けてサン
ドブラスト加工した。
膨潤度は 0.4であった。このレジストインキをピッチ３
mm間隔の画像を形成させた 200メッシュのテトロン紗、
膜厚30μのスクリーン版を使ってアクリル板に印刷し
た。これを室温で乾燥したところガラス板上に乾燥膜厚
25μのレジストマスクが作製できた。次に空気圧４kg/c
m2で金剛砂#180を20cmの距離から３分間吹き付けてサン
ドブラスト加工した。
【００３２】ブラスト加工したアクリル板に水道水をか
けたところ30秒後に膜の状態が流れ落ちた。マスクの密
着性や耐ブラスト性は問題なく、アクリル板は 1.5mm幅
で 0.2mmの深さに加工できた。さらに、使用したスクリ
ーン版、スキージは水できれいに洗浄することができ、
アクリル版から剥がしたレジストマスクは20メッシュの
金網で回収することができた。
けたところ30秒後に膜の状態が流れ落ちた。マスクの密
着性や耐ブラスト性は問題なく、アクリル板は 1.5mm幅
で 0.2mmの深さに加工できた。さらに、使用したスクリ
ーン版、スキージは水できれいに洗浄することができ、
アクリル版から剥がしたレジストマスクは20メッシュの
金網で回収することができた。
【００３３】
【実施例３】酢酸ビニル・アクリル酸エステル共重合体
エマルジョン（昭和高分子社製『ポリゾールHR-TGL』固
形分濃度41％、最低造膜温度８℃)150部及び変性ポリビ
ニルアルコール（信越化学工業社製『COT P-1000』）10
％水溶液40部と粘度調整剤としてのアクリル酸系ポリマ
ー（日本純薬社製『ジュリマーAC-20L』40％水溶液)20
部を撹拌混合し、さらに消泡剤（サンノプコ社製『SNデ
フォマー 485』)0.1部、青顔料（山陽色素工業社製『エ
マコールブルーHB』）２部を添加して撹拌混合した。
エマルジョン（昭和高分子社製『ポリゾールHR-TGL』固
形分濃度41％、最低造膜温度８℃)150部及び変性ポリビ
ニルアルコール（信越化学工業社製『COT P-1000』）10
％水溶液40部と粘度調整剤としてのアクリル酸系ポリマ
ー（日本純薬社製『ジュリマーAC-20L』40％水溶液)20
部を撹拌混合し、さらに消泡剤（サンノプコ社製『SNデ
フォマー 485』)0.1部、青顔料（山陽色素工業社製『エ
マコールブルーHB』）２部を添加して撹拌混合した。
【００３４】得られたレジストインキの20℃水における
膨潤度は 0.9であった。このレジストインキを絵画用の
筆を使ってガラス製のコップに絵を書いた。乾燥して得
られたマスクは筆のかすれを再現して厚みに変化のある
ものだった。次にこれを空気圧３kg/cm2で金剛砂#180 A
20cmの距離から２分間吹き付けてサンドブラスト加工し
た。ブラスト加工したガラスコップに水道水をかけたと
ころ30秒後に膜の状態で流れ落ちた。マスクの密着性や
耐ブラスト性にも問題なく、ブラストしたガラスコップ
は筆のかすれをよく再現していた。一方、使用した絵筆
は水できれいに洗浄することができ、ガラスコップから
剥がしたレジストマスクは20メッシュの金網で回収する
ことができた。
膨潤度は 0.9であった。このレジストインキを絵画用の
筆を使ってガラス製のコップに絵を書いた。乾燥して得
られたマスクは筆のかすれを再現して厚みに変化のある
ものだった。次にこれを空気圧３kg/cm2で金剛砂#180 A
20cmの距離から２分間吹き付けてサンドブラスト加工し
た。ブラスト加工したガラスコップに水道水をかけたと
ころ30秒後に膜の状態で流れ落ちた。マスクの密着性や
耐ブラスト性にも問題なく、ブラストしたガラスコップ
は筆のかすれをよく再現していた。一方、使用した絵筆
は水できれいに洗浄することができ、ガラスコップから
剥がしたレジストマスクは20メッシュの金網で回収する
ことができた。
【００３５】
【実施例４】アクリル系共重合体エマルジョン（日本カ
ーバイト社製『ニカゾールRX−284S』固形分濃度38％、
最低造膜温度０℃）80部、酢酸ビニル・アクリル酸エス
テル共重合体エマルジョン（カネボウ・エヌエヌシー社
製『レジン125-1140』固形分濃度50％、最低造膜温度０
℃）40部およびポリエチレンオキシド（三洋化成工業社
製『PEG20000』) 10％、水溶液50部と粘度調製剤（サン
ノプコ社製『SNシックナー 612』固形分濃度40％) 10部
を撹拌混合し、消泡剤（共栄社油脂化学工業社製『アク
アレンSB-510』)0.5部、青顔料（山陽色素工業社製『エ
マコールブルーHB』）２部を添加して撹拌混合した。得
られたレジストインキの20℃水における膨潤度は 0.3で
あった。
ーバイト社製『ニカゾールRX−284S』固形分濃度38％、
最低造膜温度０℃）80部、酢酸ビニル・アクリル酸エス
テル共重合体エマルジョン（カネボウ・エヌエヌシー社
製『レジン125-1140』固形分濃度50％、最低造膜温度０
℃）40部およびポリエチレンオキシド（三洋化成工業社
製『PEG20000』) 10％、水溶液50部と粘度調製剤（サン
ノプコ社製『SNシックナー 612』固形分濃度40％) 10部
を撹拌混合し、消泡剤（共栄社油脂化学工業社製『アク
アレンSB-510』)0.5部、青顔料（山陽色素工業社製『エ
マコールブルーHB』）２部を添加して撹拌混合した。得
られたレジストインキの20℃水における膨潤度は 0.3で
あった。
【００３６】次にこのレジストインキが乾燥状態で10〜
30gf/50mm の剥離強度を有するように表面離型処理をし
たポリエステルフィルム上にスクリーン印刷（ 150メッ
シュのテトロン紗に版膜厚み60μでピッチ５mmの画像を
形成させた版）で印刷し、乾燥膜厚み60μのレジストマ
スクを形成した。
30gf/50mm の剥離強度を有するように表面離型処理をし
たポリエステルフィルム上にスクリーン印刷（ 150メッ
シュのテトロン紗に版膜厚み60μでピッチ５mmの画像を
形成させた版）で印刷し、乾燥膜厚み60μのレジストマ
スクを形成した。
【００３７】次にガラス板の表面を水で軽く濡らして形
成したレジストマスクを片端からゴムロールで押し付け
て貼り付け、ポリエステルフィルムを剥がして乾燥し
た。このとき、レジストマスクはすべてガラス板に転写
した。
成したレジストマスクを片端からゴムロールで押し付け
て貼り付け、ポリエステルフィルムを剥がして乾燥し
た。このとき、レジストマスクはすべてガラス板に転写
した。
【００３８】乾燥後、空気圧３kg/cm2で金剛砂#100を15
cmの距離から２分間吹き付けてサンドブラスト加工し
た。ブラスト加工したガラス板に水道水をかけたところ
１分後に膜の状態で流れ落ちた。マスクの密着性やブラ
スト性にも問題なく、ブラストしたガラス板は２mmの深
さに加工できた。一方、使用したスクリーン版、スキー
ジは水できれいに洗浄することができ、ガラス板から剥
がしたレジストマスクは20メッシュの金網で回収するこ
とができた。
cmの距離から２分間吹き付けてサンドブラスト加工し
た。ブラスト加工したガラス板に水道水をかけたところ
１分後に膜の状態で流れ落ちた。マスクの密着性やブラ
スト性にも問題なく、ブラストしたガラス板は２mmの深
さに加工できた。一方、使用したスクリーン版、スキー
ジは水できれいに洗浄することができ、ガラス板から剥
がしたレジストマスクは20メッシュの金網で回収するこ
とができた。
【００３９】
【実施例５】ポリウレタン系樹脂ディスパージョン（第
一工業製薬社製『スーパーフレックスE-4500』固形分濃
度45％、最低造膜温度０℃) 90部とナトリウムカルボキ
シメチルセルロース（第一工業製薬社製『セロゲンE
P』）３％水溶液 100部と増粘剤（サンノプコ社製『Ｓ
Ｎシックナー 612固形分濃度40％) 20部とを撹拌混合し
た。さらに白顔料（山陽色素工業社製『サンダイスーパ
ーホワイト U』３部、レベリング剤（ダイキン工業社製
『ダイフロンDS-102』)0.5部、消泡剤（サンノプコ社製
『SNデフォマー483 』)0.5部を添加して撹拌混合した。
一工業製薬社製『スーパーフレックスE-4500』固形分濃
度45％、最低造膜温度０℃) 90部とナトリウムカルボキ
シメチルセルロース（第一工業製薬社製『セロゲンE
P』）３％水溶液 100部と増粘剤（サンノプコ社製『Ｓ
Ｎシックナー 612固形分濃度40％) 20部とを撹拌混合し
た。さらに白顔料（山陽色素工業社製『サンダイスーパ
ーホワイト U』３部、レベリング剤（ダイキン工業社製
『ダイフロンDS-102』)0.5部、消泡剤（サンノプコ社製
『SNデフォマー483 』)0.5部を添加して撹拌混合した。
【００４０】得られたレジストインキの20℃水における
膨潤度は 1.1であった。このレジストインキをピッチ１
mm間隔の画像を形成させた 250メッシュのテトロン紗、
膜厚50μのスクリーン版を使って鏡面加工されたステン
レス板に印刷した。
膨潤度は 1.1であった。このレジストインキをピッチ１
mm間隔の画像を形成させた 250メッシュのテトロン紗、
膜厚50μのスクリーン版を使って鏡面加工されたステン
レス板に印刷した。
【００４１】これを室温で乾燥したところステンレス板
上に乾燥膜厚40μのレジストマスクが形成できた。次に
空気圧４kg/cm2で金剛砂#400 A20cmの距離から３分間吹
き付けてサンドブラスト加工した。ブラスト加工したス
テンレス板に水道水をかけたところ20秒後に膜の状態で
流れ落ちた。マスクの密着性や耐プラスト性にも問題な
く、ブラストしたステンレス板は 0.5mm幅で 0.2mmの深
さに加工できた。一方、使用したスクリーン版、スキー
ジは水できれいに洗浄することができ、ステンレス板か
ら剥がしたレジストマスクは20メッシュの金網で回収す
ることができた。
上に乾燥膜厚40μのレジストマスクが形成できた。次に
空気圧４kg/cm2で金剛砂#400 A20cmの距離から３分間吹
き付けてサンドブラスト加工した。ブラスト加工したス
テンレス板に水道水をかけたところ20秒後に膜の状態で
流れ落ちた。マスクの密着性や耐プラスト性にも問題な
く、ブラストしたステンレス板は 0.5mm幅で 0.2mmの深
さに加工できた。一方、使用したスクリーン版、スキー
ジは水できれいに洗浄することができ、ステンレス板か
ら剥がしたレジストマスクは20メッシュの金網で回収す
ることができた。
【００４２】
【実施例６】ポリ酢酸ビニル樹脂エマルジョン（東亜ペ
イント社製『トアボンド #6000』固形分濃度42％、最低
造膜温度３℃) 50部及びポリウレタン樹脂ディスパージ
ョン（第一工業製薬社製『スーパーフレックスE-4500』
固形分濃度45％、最低造膜温度０℃)100部と変性ポリビ
ニルアルコール（信越化学工業社製『COT P-2000』)10
％水溶液65部を撹拌混合した。さらにレベリング剤（ネ
オス社製『フタージェント 250』)0.1部、消泡剤（サン
ノプコ社製『SNデフォマー 483』)0.5部、青顔料（山陽
色素工業社製『エマコールブルーHB』）２部を添加して
撹拌混合した。得られたレジストインキの20℃水におけ
る膨潤度は 0.6であった。
イント社製『トアボンド #6000』固形分濃度42％、最低
造膜温度３℃) 50部及びポリウレタン樹脂ディスパージ
ョン（第一工業製薬社製『スーパーフレックスE-4500』
固形分濃度45％、最低造膜温度０℃)100部と変性ポリビ
ニルアルコール（信越化学工業社製『COT P-2000』)10
％水溶液65部を撹拌混合した。さらにレベリング剤（ネ
オス社製『フタージェント 250』)0.1部、消泡剤（サン
ノプコ社製『SNデフォマー 483』)0.5部、青顔料（山陽
色素工業社製『エマコールブルーHB』）２部を添加して
撹拌混合した。得られたレジストインキの20℃水におけ
る膨潤度は 0.6であった。
【００４３】このレジストインキを実施例１と同様に印
刷、乾燥を行って、サンドブラスト加工した。その結
果、マスクの密着性や耐ブラスト性にも問題なく加工で
き、マスクの剥離も水でできた。同様に使用したスクリ
ーン版、スキージは水できれいに洗浄することができ、
ステンレス版から剥がしたレジストマスクは20メッシュ
の金網で回収することができた。
刷、乾燥を行って、サンドブラスト加工した。その結
果、マスクの密着性や耐ブラスト性にも問題なく加工で
き、マスクの剥離も水でできた。同様に使用したスクリ
ーン版、スキージは水できれいに洗浄することができ、
ステンレス版から剥がしたレジストマスクは20メッシュ
の金網で回収することができた。
【００４４】
【比較例１】実施例１のポリ酢酸ビニルエマルジョンの
代わりにポリ酢酸ビニルエマルジョン（ヘキスト合成社
製『モビニール 350』濃度45％、最低造膜温度18℃) を
用いて実施例１と同様にレジストインキを作成した。得
られたレジストインキの20℃水における膨潤度は 0.6で
あった。このレジストインキを実施例１と同条件で評価
した。その結果、サンドブラスト加工中にマスクが削れ
てしまい、１mm幅のラインを加工することができなかっ
た。
代わりにポリ酢酸ビニルエマルジョン（ヘキスト合成社
製『モビニール 350』濃度45％、最低造膜温度18℃) を
用いて実施例１と同様にレジストインキを作成した。得
られたレジストインキの20℃水における膨潤度は 0.6で
あった。このレジストインキを実施例１と同条件で評価
した。その結果、サンドブラスト加工中にマスクが削れ
てしまい、１mm幅のラインを加工することができなかっ
た。
【００４５】
【比較例２】実施例３の酢酸ビニル・アクリル酸エステ
ル共重合体エマルジョンの代わりに酢酸ビニル・アクリ
ル酸エステル共重合体エマルジョン（昭和高分子社製
『ポリゾール AT-1000』固形分濃度50％、最低造膜温度
45℃) を用い、実施例３と同様にレジストインキを作成
した。得られたレジストインキの20℃水における膨潤度
を計るために乾燥被膜を水に浸漬したところ、乾燥被膜
は造膜してなかったために細かく分散してしまった。
ル共重合体エマルジョンの代わりに酢酸ビニル・アクリ
ル酸エステル共重合体エマルジョン（昭和高分子社製
『ポリゾール AT-1000』固形分濃度50％、最低造膜温度
45℃) を用い、実施例３と同様にレジストインキを作成
した。得られたレジストインキの20℃水における膨潤度
を計るために乾燥被膜を水に浸漬したところ、乾燥被膜
は造膜してなかったために細かく分散してしまった。
【００４６】
【比較例３】実施例１と同じ材料のポリ酢酸ビニルエマ
ルションを 100部、部分けん化ＰＶＡの20％水溶液を60
部、アルギン酸ナトリウムの20％水溶液を30部に組成を
変更した以外は実施例１と同様にしてレジストインキを
作成した。ポリ酢酸ビニルエマルジョンを 100部、部分
けん化 PVAの20％水溶液を60部、アルギン酸ナトリウム
の20％水溶液を30部にしてレジストインキを作成した。
得られたレジストインキの20℃水における膨潤度は 1.9
であった。実施例１と同様にブラスト加工した後、ガラ
ス板に水道水をかけたところ30秒後に膜の状態で流れ落
ちた。マスクの密着性や耐ブラスト性にも問題なく、ガ
ラス板は１mmの幅で１mmの深さに加工できた。一方、使
用したスクリーン版、スキージは水できれいに洗浄する
ことができたが、ガラス板から剥がしたレジストマスク
は20メッシュの金網を通り抜けてしまい回収することが
できなかった。この結果、同じ材料を使用しても、水分
散体（Ａ）と水溶性高分子（Ｂ）の組成比が異なれば、
水膨潤度が本発明の範囲から外れるので、本発明の所期
の目的が達成できないことが認められた。
ルションを 100部、部分けん化ＰＶＡの20％水溶液を60
部、アルギン酸ナトリウムの20％水溶液を30部に組成を
変更した以外は実施例１と同様にしてレジストインキを
作成した。ポリ酢酸ビニルエマルジョンを 100部、部分
けん化 PVAの20％水溶液を60部、アルギン酸ナトリウム
の20％水溶液を30部にしてレジストインキを作成した。
得られたレジストインキの20℃水における膨潤度は 1.9
であった。実施例１と同様にブラスト加工した後、ガラ
ス板に水道水をかけたところ30秒後に膜の状態で流れ落
ちた。マスクの密着性や耐ブラスト性にも問題なく、ガ
ラス板は１mmの幅で１mmの深さに加工できた。一方、使
用したスクリーン版、スキージは水できれいに洗浄する
ことができたが、ガラス板から剥がしたレジストマスク
は20メッシュの金網を通り抜けてしまい回収することが
できなかった。この結果、同じ材料を使用しても、水分
散体（Ａ）と水溶性高分子（Ｂ）の組成比が異なれば、
水膨潤度が本発明の範囲から外れるので、本発明の所期
の目的が達成できないことが認められた。
【００４７】
【比較例４】実施例１の部分けん化 PVAとアルギン酸ナ
トリウムを除きポリ酢酸ビニルエマルジョンを 200部に
変更したほかは実施例１と同様に調製してレジストイン
キを作成した。得られたレジストインキの20℃水におけ
る膨潤度は0.05であった。このレジストインキを用いて
実施例１と同様に評価した。その結果、マスクの密着性
や耐ブラスト性には問題なかったが、使用したスクリー
ン版に付着したインキの洗浄ができず、またガラス板に
５分間水道水をかけてもレジストマスクは剥離しなかっ
た。
トリウムを除きポリ酢酸ビニルエマルジョンを 200部に
変更したほかは実施例１と同様に調製してレジストイン
キを作成した。得られたレジストインキの20℃水におけ
る膨潤度は0.05であった。このレジストインキを用いて
実施例１と同様に評価した。その結果、マスクの密着性
や耐ブラスト性には問題なかったが、使用したスクリー
ン版に付着したインキの洗浄ができず、またガラス板に
５分間水道水をかけてもレジストマスクは剥離しなかっ
た。
Claims (3)
- 【請求項１】 サンドブラストレジストインキを作製す
るための、（Ａ）ポリ酢酸ビニル系樹脂、エチレン・酢
酸ビニル系共重合体、酢酸ビニル・アクリル酸エステル
系共重合体、アクリル系共重合体及びポリウレタン系重
合体よりなる群から選択される少くとも１種の重合体の
水分散体と、（Ｂ）アルギン酸ナトリウム、ナトリウム
カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ポリ
ビニルアルコール系樹脂及びポリエチレンオキシドより
なる群から選択される少くとも１種の水溶性高分子とよ
りなるスクリーン印刷法に用いられるサンドブラストレ
ジストインキ。 - 【請求項２】 最低造膜温度が１０℃以下である重合体
の水分散体を主成分とし、これに水溶性高分子を造膜性
改善剤として加えたものであることを特徴とする請求項
１のスクリーン印刷法に用いられるサンドブラストレジ
ストインキ。 - 【請求項３】 水性組成物より形成された乾燥被膜の２
０℃水における膨潤度が0.1 〜1.5 の範囲であることを
特徴とする請求項１または請求項２のスクリーン印刷法
に用いられるサンドブラストレジストインキ。
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