JPH07242648A - 腐蝕抑制剤としての、モルホリン誘導体のケト酸との錯塩 - Google Patents
腐蝕抑制剤としての、モルホリン誘導体のケト酸との錯塩Info
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- JPH07242648A JPH07242648A JP7023547A JP2354795A JPH07242648A JP H07242648 A JPH07242648 A JP H07242648A JP 7023547 A JP7023547 A JP 7023547A JP 2354795 A JP2354795 A JP 2354795A JP H07242648 A JPH07242648 A JP H07242648A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】金属表面を保護するための塗料組成物中の新規
の腐蝕抑制剤の提供 【構成】式Ｉ： 【化１】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ4 とＲ5 は水素原子を表し、Ｒ
3 はＨ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、フェニル
基又は塩素原子を表し、Ｒ10は炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表し、ｍは２を表す。）の結晶錯塩化合
物、その製造方法及びそれを腐蝕抑制剤として含有する
金属表面保護のための塗料組成物。
の腐蝕抑制剤の提供 【構成】式Ｉ： 【化１】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ4 とＲ5 は水素原子を表し、Ｒ
3 はＨ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、フェニル
基又は塩素原子を表し、Ｒ10は炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表し、ｍは２を表す。）の結晶錯塩化合
物、その製造方法及びそれを腐蝕抑制剤として含有する
金属表面保護のための塗料組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ケト酸とのモルホリン
誘導体の錯体、有機膜形成結合剤と新規の腐蝕抑制剤か
らなる塗料組成物、好ましくはペイント系、並びにその
腐蝕抑制剤を金属表面を保護するための塗料組成物に使
用する方法に関する。
誘導体の錯体、有機膜形成結合剤と新規の腐蝕抑制剤か
らなる塗料組成物、好ましくはペイント系、並びにその
腐蝕抑制剤を金属表面を保護するための塗料組成物に使
用する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】ケト酸の
アルカリ金属塩、アンモニウム塩又はアミン塩を腐蝕抑
制剤として水系で使用することは、既知でありそして特
に、米国特許（ＵＳ−Ａ−）第４，９０９，９８７号、
同第５，１２８，３９６号又は欧州特許公開公報（ＥＰ
−Ａ−）第４９６，５５５号に開示されている。
アルカリ金属塩、アンモニウム塩又はアミン塩を腐蝕抑
制剤として水系で使用することは、既知でありそして特
に、米国特許（ＵＳ−Ａ−）第４，９０９，９８７号、
同第５，１２８，３９６号又は欧州特許公開公報（ＥＰ
−Ａ−）第４９６，５５５号に開示されている。
【０００３】欧州特許公開公報（ＥＰ−Ａ−）第３０
０，３２５号の実施例７には、１当量の３−ベンゾイル
プロピオン酸を１当量のモルホリンとエタノール中で反
応させると、期待された通りの酸１部と塩基１部の結晶
塩が生成することが教示されている。
０，３２５号の実施例７には、１当量の３−ベンゾイル
プロピオン酸を１当量のモルホリンとエタノール中で反
応させると、期待された通りの酸１部と塩基１部の結晶
塩が生成することが教示されている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】今や、モルホリン誘導体
とのケト酸との、溶媒無しの又は非プロトン性溶媒の存
在下の反応は、酸２部と塩１部だけからなる結晶錯塩を
生成することが、見出されている。これらの結晶錯塩化
合物は、金属表面を保護するためのそしてまた金属基体
を前処理するための塗料組成物中の腐蝕抑制剤として使
用するのに非常に特に適している。その結晶錯塩化合物
は、ペイント系、特に水性ペイント系とは反応しないの
で、塗料組成物の優れた貯蔵安定性に特徴がある。それ
らは同様にして、一時的並びに永久的な銹防護の両方に
適している。これらのペイント系は優れた湿潤結合強度
も発揮する。
とのケト酸との、溶媒無しの又は非プロトン性溶媒の存
在下の反応は、酸２部と塩１部だけからなる結晶錯塩を
生成することが、見出されている。これらの結晶錯塩化
合物は、金属表面を保護するためのそしてまた金属基体
を前処理するための塗料組成物中の腐蝕抑制剤として使
用するのに非常に特に適している。その結晶錯塩化合物
は、ペイント系、特に水性ペイント系とは反応しないの
で、塗料組成物の優れた貯蔵安定性に特徴がある。それ
らは同様にして、一時的並びに永久的な銹防護の両方に
適している。これらのペイント系は優れた湿潤結合強度
も発揮する。
【０００５】従って、本発明は、式Ｉ：
【化６】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は各々他と独
立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１５のアルキル基、炭
素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数
２ないし１５のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２
のハロアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキ
シ基、炭素原子数１ないし１２のアルキルチオ基、未置
換の又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換され
ている炭素原子数６ないし１０のアリール基；未置換の
又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されてい
る炭素原子数６ないし１０のアリールオキシ基；未置換
の炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基又はア
リール基部分が１ないし３個の炭素原子数１ないし４の
アルキル基により置換されている炭素原子数７ないし１
２のアリールアルキル基；−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又
は−Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し；但し、Ｒ1 ないし
Ｒ5 の少なくとも一つは水素原子、ハロゲン原子又は炭
素原子数１ないし１５のアルキル基を表し；そして置換
基Ｒ1 とＲ2 、Ｒ2 とＲ3 、Ｒ3 とＲ4 、又はＲ4 とＲ
5 の各々の対は、結合している炭素原子と一緒になっ
て、ベンゼン又はシクロヘキセニル環を形成し；Ｒ6 は
炭素原子数１ないし２０のアルキル基、酸素原子、硫黄
原子又は＞Ｎ−Ｒ9 により中断されている炭素原子数２
ないし２０のアルキル基、未置換の炭素原子数７ないし
１２のアリールアルキル基又はアリール基部分が１ない
し３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換
されている炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル
基を表し；Ｒ7 及びＲ8 は各々他と独立して、水素原
子、炭素原子数１ないし２４のアルキル基又は酸素原
子、硫黄原子又は＞Ｎ−Ｒ9 により中断されている炭素
原子数２ないし２４のアルキル基を表し；Ｒ9 は水素原
子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；Ｒ10
は炭素原子数１ないし１５のアルキル基、酸素原子、硫
黄原子又は＞Ｎ−Ｒ9 により中断されている炭素原子数
２ないし２０のアルキル基；炭素原子数５ないし１２の
シクロアルキル基、炭素原子数２ないし１５のアルケニ
ル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原
子数１ないし１２のアルキルチオ基、未置換の又は炭素
原子数１ないし４のアルキル基により置換されている炭
素原子数６ないし１０のアリール基；未置換の又は炭素
原子数１ないし４のアルキル基により置換されている炭
素原子数６ないし１０のアリールオキシ基；未置換の又
は炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基又はア
リール基部分が１ないし３個の炭素原子数１ないし４の
アルキル基により置換されている炭素原子数７ないし１
２のアリールアルキル基を表し；そしてｍが２ないし５
の整数を表す。）の結晶錯塩化合物に関する。
立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１５のアルキル基、炭
素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数
２ないし１５のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２
のハロアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキ
シ基、炭素原子数１ないし１２のアルキルチオ基、未置
換の又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換され
ている炭素原子数６ないし１０のアリール基；未置換の
又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されてい
る炭素原子数６ないし１０のアリールオキシ基；未置換
の炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基又はア
リール基部分が１ないし３個の炭素原子数１ないし４の
アルキル基により置換されている炭素原子数７ないし１
２のアリールアルキル基；−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又
は−Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し；但し、Ｒ1 ないし
Ｒ5 の少なくとも一つは水素原子、ハロゲン原子又は炭
素原子数１ないし１５のアルキル基を表し；そして置換
基Ｒ1 とＲ2 、Ｒ2 とＲ3 、Ｒ3 とＲ4 、又はＲ4 とＲ
5 の各々の対は、結合している炭素原子と一緒になっ
て、ベンゼン又はシクロヘキセニル環を形成し；Ｒ6 は
炭素原子数１ないし２０のアルキル基、酸素原子、硫黄
原子又は＞Ｎ−Ｒ9 により中断されている炭素原子数２
ないし２０のアルキル基、未置換の炭素原子数７ないし
１２のアリールアルキル基又はアリール基部分が１ない
し３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換
されている炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル
基を表し；Ｒ7 及びＲ8 は各々他と独立して、水素原
子、炭素原子数１ないし２４のアルキル基又は酸素原
子、硫黄原子又は＞Ｎ−Ｒ9 により中断されている炭素
原子数２ないし２４のアルキル基を表し；Ｒ9 は水素原
子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；Ｒ10
は炭素原子数１ないし１５のアルキル基、酸素原子、硫
黄原子又は＞Ｎ−Ｒ9 により中断されている炭素原子数
２ないし２０のアルキル基；炭素原子数５ないし１２の
シクロアルキル基、炭素原子数２ないし１５のアルケニ
ル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原
子数１ないし１２のアルキルチオ基、未置換の又は炭素
原子数１ないし４のアルキル基により置換されている炭
素原子数６ないし１０のアリール基；未置換の又は炭素
原子数１ないし４のアルキル基により置換されている炭
素原子数６ないし１０のアリールオキシ基；未置換の又
は炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基又はア
リール基部分が１ないし３個の炭素原子数１ないし４の
アルキル基により置換されている炭素原子数７ないし１
２のアリールアルキル基を表し；そしてｍが２ないし５
の整数を表す。）の結晶錯塩化合物に関する。
【０００６】ハロゲン原子は、典型的にはフッ素原子、
塩素原子、臭素原子又は沃素原子を意味するものとす
る。好ましくはハロゲン原子置換基は、フッ素原子、塩
素原子又は臭素原子である。塩素原子と臭素原子が特に
好ましい。
塩素原子、臭素原子又は沃素原子を意味するものとす
る。好ましくはハロゲン原子置換基は、フッ素原子、塩
素原子又は臭素原子である。塩素原子と臭素原子が特に
好ましい。
【０００７】炭素原子数２４までのアルキル基は分枝し
た又は分枝してない基であって、典型的には、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ
−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イ
ソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチ
ルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、
ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テ
トラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシ
ル基、１−メチルウンデシル基、ドテシル基、１，１，
３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル
基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基又
はドデシル基を包含する。好ましいアルキル基は、１な
いし１２個の炭素原子を、更に好ましくは１ないし８の
炭素原子を含有する。Ｒ3 の好ましい意味は、炭素原子
数１ないし４のアルキル基、更に好ましくはメチル基で
ある。Ｒ10の好ましい意味は、炭素原子数１ないし４の
アルキル基、更に好ましくはエチル基である。炭素原子
数５ないし１２のシクロアルキル基は典型的には、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、
シクロオクチル基、シクロデシル基又はシクロドデシル
基である。シクロヘキシル基が好ましい。
た又は分枝してない基であって、典型的には、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ
−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イ
ソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチ
ルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、
ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テ
トラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシ
ル基、１−メチルウンデシル基、ドテシル基、１，１，
３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル
基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基又
はドデシル基を包含する。好ましいアルキル基は、１な
いし１２個の炭素原子を、更に好ましくは１ないし８の
炭素原子を含有する。Ｒ3 の好ましい意味は、炭素原子
数１ないし４のアルキル基、更に好ましくはメチル基で
ある。Ｒ10の好ましい意味は、炭素原子数１ないし４の
アルキル基、更に好ましくはエチル基である。炭素原子
数５ないし１２のシクロアルキル基は典型的には、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、
シクロオクチル基、シクロデシル基又はシクロドデシル
基である。シクロヘキシル基が好ましい。
【０００８】炭素原子数２ないし１５のアルケニル基
は、分枝した又は分枝してない基であって、例えばビニ
ル基、２−プロペニル基（アリル基）、２−ブテニル
基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−２，４−ペ
ンタジエニル基、３−メチル−２−ブテニル基、ｎ−２
−オクテニル基、ｎ−２−ドデセニル基又はイソドデセ
ニル基である。好ましいアルケニル基は、３ないし１２
個の、更に好ましくは３ないし８個の、例えば３ないし
６個の、最も好ましくは３ないし４個の炭素原子を含有
する。
は、分枝した又は分枝してない基であって、例えばビニ
ル基、２−プロペニル基（アリル基）、２−ブテニル
基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−２，４−ペ
ンタジエニル基、３−メチル−２−ブテニル基、ｎ−２
−オクテニル基、ｎ−２−ドデセニル基又はイソドデセ
ニル基である。好ましいアルケニル基は、３ないし１２
個の、更に好ましくは３ないし８個の、例えば３ないし
６個の、最も好ましくは３ないし４個の炭素原子を含有
する。
【０００９】炭素原子数１２までのハロアルキル基は、
分枝した又は分枝してない基であって、例えばクロロメ
チル基、ブロモエチル基、フルオロプロピル基、クロロ
ペンチル基、クロロヘキシル基、クロロオクチル基、ク
ロロデシル基又はクロロドデシル基である。ハロアルキ
ル基は好ましくは３ないし８個の、更に好ましくは３な
いし６個の炭素原子を含有する。
分枝した又は分枝してない基であって、例えばクロロメ
チル基、ブロモエチル基、フルオロプロピル基、クロロ
ペンチル基、クロロヘキシル基、クロロオクチル基、ク
ロロデシル基又はクロロドデシル基である。ハロアルキ
ル基は好ましくは３ないし８個の、更に好ましくは３な
いし６個の炭素原子を含有する。
【００１０】炭素原子数１２までのアルコキシ基は、分
枝した又は分枝してない基であって、例えばメトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ
−ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペ
ントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ
基又はデシルオキシ基である。好ましくは、アルコキシ
基は１ないし８個の、更に好ましくは１ないし４個の炭
素原子を含有する。
枝した又は分枝してない基であって、例えばメトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ
−ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペ
ントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ
基又はデシルオキシ基である。好ましくは、アルコキシ
基は１ないし８個の、更に好ましくは１ないし４個の炭
素原子を含有する。
【００１１】炭素原子数１２までのアルキルチオ基は、
分枝した又は分枝してない基であって、例えばメチルチ
オ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチ
オ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ペンチル
チオ基、イソペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチ
ルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基又はドデシル
チオ基である。好ましくはアルキルチオ基は、１ないし
８個の、更に好ましくは１ないし４個の炭素原子を含有
する。
分枝した又は分枝してない基であって、例えばメチルチ
オ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチ
オ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ペンチル
チオ基、イソペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチ
ルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基又はドデシル
チオ基である。好ましくはアルキルチオ基は、１ないし
８個の、更に好ましくは１ないし４個の炭素原子を含有
する。
【００１２】未置換の又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基で置換されている炭素原子数６ないし１０のアリ
ール基であって、好ましくは１ないし３個の、更に好ま
しくは１又は２個のアルキル基を持つそれは、典型的に
は、フェニル基、ナフチル基、ｏ−、ｍ−又はｐ−メチ
ルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−
ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、
２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニ
ル基、３，５−ジメチルフェニル基、２−メチル−６−
エチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、
２−エチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、
２−メチルナフチル基、１−メチルナフチル基、４−メ
チルナフチル基、２−エチルナフチル基又は２，６−ジ
エチルナフチル基である。
キル基で置換されている炭素原子数６ないし１０のアリ
ール基であって、好ましくは１ないし３個の、更に好ま
しくは１又は２個のアルキル基を持つそれは、典型的に
は、フェニル基、ナフチル基、ｏ−、ｍ−又はｐ−メチ
ルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−
ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、
２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニ
ル基、３，５−ジメチルフェニル基、２−メチル−６−
エチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、
２−エチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、
２−メチルナフチル基、１−メチルナフチル基、４−メ
チルナフチル基、２−エチルナフチル基又は２，６−ジ
エチルナフチル基である。
【００１３】未置換の又は炭素原子数１ないし４のアル
キル基で置換されている炭素原子数６ないし１０のアリ
ールオキシ基であって、好ましくは１ないし３個の、更
に好ましくは１又は２個のアルキル基を持つそれは、典
型的には、フェノキシ基、ナフトキシ基、ｏ−、ｍ−又
はｐ−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキ
シ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチ
ルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，
４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキ
シ基、２−メチル−６−エチルフェノキシ基、４−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェノキシ基、２−エチルフェノキシ基、
２，６−ジエチルフェノキシ基、２−メチルナフトキシ
基、１−メチルナフトキシ基、４−メチルナフトキシ
基、２−エチルナフトキシ基又は２，６−ジエチルナフ
トキシ基である。
キル基で置換されている炭素原子数６ないし１０のアリ
ールオキシ基であって、好ましくは１ないし３個の、更
に好ましくは１又は２個のアルキル基を持つそれは、典
型的には、フェノキシ基、ナフトキシ基、ｏ−、ｍ−又
はｐ−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキ
シ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチ
ルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，
４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキ
シ基、２−メチル−６−エチルフェノキシ基、４−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェノキシ基、２−エチルフェノキシ基、
２，６−ジエチルフェノキシ基、２−メチルナフトキシ
基、１−メチルナフトキシ基、４−メチルナフトキシ
基、２−エチルナフトキシ基又は２，６−ジエチルナフ
トキシ基である。
【００１４】未置換の又はアリール基部分が１ないし３
個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換され
ている炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基
は、典型的には、フェニル−炭素原子数１ないし６のア
ルキル基又はナフチル−炭素原子数１ないし２のアルキ
ル基、例えばベンジル基、４−メチルベンジル基、４−
ｔｅｒｔ−ブチルベンジル基、２，４−ジメチルベンジ
ル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジ
ル基、２−フェニルエチル基、２−ナフチルメチル基、
１−ナフチルメチル基、１−ナフチルエチル基又は２−
ナフチルエチル基である。
個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換され
ている炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基
は、典型的には、フェニル−炭素原子数１ないし６のア
ルキル基又はナフチル−炭素原子数１ないし２のアルキ
ル基、例えばベンジル基、４−メチルベンジル基、４−
ｔｅｒｔ−ブチルベンジル基、２，４−ジメチルベンジ
ル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジ
ル基、２−フェニルエチル基、２−ナフチルメチル基、
１−ナフチルメチル基、１−ナフチルエチル基又は２−
ナフチルエチル基である。
【００１５】酸素原子、硫黄原子又は＞Ｎ−Ｒ9 により
中断されているに中断されている炭素原子数２ないし２
４のアルキル基は、典型的には、ＣＨ3 −Ｏ−ＣＨ
2 −、ＣＨ3 −Ｓ−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −ＮＨ−ＣＨ
2 −、ＣＨ3 −Ｎ（ＣＨ3 ）−ＣＨ2−、ＣＨ3 −Ｏ−
ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 −）2 Ｏ−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2
−）3 Ｏ−ＣＨ2 −又はＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ
2 −）4 Ｏ−ＣＨ2 −であってよい。
中断されているに中断されている炭素原子数２ないし２
４のアルキル基は、典型的には、ＣＨ3 −Ｏ−ＣＨ
2 −、ＣＨ3 −Ｓ−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −ＮＨ−ＣＨ
2 −、ＣＨ3 −Ｎ（ＣＨ3 ）−ＣＨ2−、ＣＨ3 −Ｏ−
ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 −）2 Ｏ−ＣＨ2 −、ＣＨ3 −（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2
−）3 Ｏ−ＣＨ2 −又はＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ
2 −）4 Ｏ−ＣＨ2 −であってよい。
【００１６】式中、Ｒ1 ないしＲ5 の少なくとも二つが
水素原子である式Ｉの結晶錯塩化合物は好ましい。
水素原子である式Ｉの結晶錯塩化合物は好ましい。
【００１７】式Ｉのｍは、好ましくは２ないし４、最も
好ましくは２である。
好ましくは２である。
【００１８】式Ｉの最も好ましい結晶錯塩化合物は、式
中、Ｒ1 が水素原子を表し；Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5
が各々他と独立して、水素原子、塩素原子、臭素原子、
ニトロ基、シアノ基、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし８の
アルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル
基、炭素原子数３ないし８のアルケニル基、炭素原子数
１ないし８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし８のア
ルキルチオ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル
基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−Ｎ（−Ｒ7 ）（−
Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル基、酸素原子により中断されている炭素原子数２ない
し１２のアルキル基；又はベンジル基を表し；そしてＲ
7 及びＲ8 が各々他と独立して、水素原子、炭素原子数
１ないし８のアルキル基又は酸素原子により中断されて
いる炭素原子数２ないし１２のアルキル基を表すそれら
である。
中、Ｒ1 が水素原子を表し；Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5
が各々他と独立して、水素原子、塩素原子、臭素原子、
ニトロ基、シアノ基、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし８の
アルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル
基、炭素原子数３ないし８のアルケニル基、炭素原子数
１ないし８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし８のア
ルキルチオ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル
基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−Ｎ（−Ｒ7 ）（−
Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル基、酸素原子により中断されている炭素原子数２ない
し１２のアルキル基；又はベンジル基を表し；そしてＲ
7 及びＲ8 が各々他と独立して、水素原子、炭素原子数
１ないし８のアルキル基又は酸素原子により中断されて
いる炭素原子数２ないし１２のアルキル基を表すそれら
である。
【００１９】式中、Ｒ10が炭素原子数１ないし８のアル
キル基、酸素原子又は硫黄原子により中断されている炭
素原子数３ないし１２のアルキル基；炭素原子数５ない
し７のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし８のアル
ケニル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素
原子数１ないし８のアルキルチオ基、フェニル基、フェ
ノキシ基又はベンジル基を表す式Ｉの結晶錯塩化合物も
特に好ましい。
キル基、酸素原子又は硫黄原子により中断されている炭
素原子数３ないし１２のアルキル基；炭素原子数５ない
し７のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし８のアル
ケニル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素
原子数１ないし８のアルキルチオ基、フェニル基、フェ
ノキシ基又はベンジル基を表す式Ｉの結晶錯塩化合物も
特に好ましい。
【００２０】別の特に好ましい式Ｉの結晶錯塩化合物
は、式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ4 が水素原子を表し；Ｒ3
及びＲ5 が各々他と独立して、水素原子、塩素原子、臭
素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ
基、フェニル基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−Ｎ
（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１ない
し８のアルキル基を表し；Ｒ7 及びＲ8 が各々他と独立
して、水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基
を表し；Ｒ10が炭素原子数１ないし８のアルキル基、シ
クロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基を表し；そ
してｍが２ないし４の整数を表すそれらである。
は、式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ4 が水素原子を表し；Ｒ3
及びＲ5 が各々他と独立して、水素原子、塩素原子、臭
素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし８のアルキル基、
シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ
基、フェニル基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−Ｎ
（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１ない
し８のアルキル基を表し；Ｒ7 及びＲ8 が各々他と独立
して、水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基
を表し；Ｒ10が炭素原子数１ないし８のアルキル基、シ
クロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基を表し；そ
してｍが２ないし４の整数を表すそれらである。
【００２１】特に興味のある式Ｉの結晶錯塩化合物は、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ5 が水素原子を表し；そしてｍ
が２を表すそれらである。
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ5 が水素原子を表し；そしてｍ
が２を表すそれらである。
【００２２】式中、Ｒ10が炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表す式Ｉの結晶錯塩化合物は、特別な興味を持
つのに値する。
キル基を表す式Ｉの結晶錯塩化合物は、特別な興味を持
つのに値する。
【００２３】式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ5 が水素原
子を表し；Ｒ3 が水素原子、炭素原子数１ないし４のア
ルキル基、フェニル基又は塩素原子を表し；Ｒ10が炭素
原子数１ないし４のアルキル基を表し；そしてｍが２を
表す式Ｉの結晶錯塩化合物も興味を持つのに値する。
子を表し；Ｒ3 が水素原子、炭素原子数１ないし４のア
ルキル基、フェニル基又は塩素原子を表し；Ｒ10が炭素
原子数１ないし４のアルキル基を表し；そしてｍが２を
表す式Ｉの結晶錯塩化合物も興味を持つのに値する。
【００２４】３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸のＮ−メチルモルホリンとの結晶２：１錯体［化合物
（１０１）］は、非常に特に好ましい：
酸のＮ−メチルモルホリンとの結晶２：１錯体［化合物
（１０１）］は、非常に特に好ましい：
【化７】
【００２５】この錯塩化合物（１０１）（実施例１）の
Ｘ−線構造解析がなされている。図１は結晶充填を示
し、そして図２は錯塩化合物（１０１）中の原子の番号
付けを示す。結晶の実験値は、実施例１に示してある。
Ｘ−線構造解析がなされている。図１は結晶充填を示
し、そして図２は錯塩化合物（１０１）中の原子の番号
付けを示す。結晶の実験値は、実施例１に示してある。
【００２６】第１表にオングストローム単位の平均結合
距離を示す。
距離を示す。
【表１】
【００２７】式Ｉの新規結晶錯塩化合物を製造するため
の本発明と同様の方法は、文献に記載されていない。
の本発明と同様の方法は、文献に記載されていない。
【００２８】従って、本発明は、式Ｉの結晶化合物の新
規の製造方法であって；式II：
規の製造方法であって；式II：
【化８】 （式中、一般記号は請求項１で定義されたとおりであ
る。）のケト酸を、式III：
る。）のケト酸を、式III：
【化９】 （式中、Ｒ10は請求項１で定義されたとおりである。）
のモルホリン誘導体と、溶媒無しで又は非プロトン性溶
媒の存在下、反応させることからなる方法に関する。
のモルホリン誘導体と、溶媒無しで又は非プロトン性溶
媒の存在下、反応させることからなる方法に関する。
【００２９】この方法のために、プロトン性溶媒、例え
ばアルコール、典型的にはメタノール又はエタノールは
適当でない。
ばアルコール、典型的にはメタノール又はエタノールは
適当でない。
【００３０】この新規の方法のための好ましい反応条件
を下記する：
を下記する：
【００３１】式III のモルホリン誘導体と式IIのケト酸
の混合物を加熱して均一な透明な溶融物にすることが好
ましい。溶融物を室温まで冷却した後、式Ｉの錯塩化合
物が晶出する。その後、結晶をろ過により単離し、適当
な溶媒で洗浄する。次いで、ろ過残を乾燥して、分析的
に純品である式Ｉの結晶錯塩化合物を得る。
の混合物を加熱して均一な透明な溶融物にすることが好
ましい。溶融物を室温まで冷却した後、式Ｉの錯塩化合
物が晶出する。その後、結晶をろ過により単離し、適当
な溶媒で洗浄する。次いで、ろ過残を乾燥して、分析的
に純品である式Ｉの結晶錯塩化合物を得る。
【００３２】実施例１、２と３から推測され得るよう
に、式III のモルホリン誘導体に対してどのようなモル
比率の式IIのケト酸が使用されようとこの方法では重要
ではないということは、驚異に値する。各々の場合にお
いて、式Ｉの同じ結晶２：１錯塩が単離される。
に、式III のモルホリン誘導体に対してどのようなモル
比率の式IIのケト酸が使用されようとこの方法では重要
ではないということは、驚異に値する。各々の場合にお
いて、式Ｉの同じ結晶２：１錯塩が単離される。
【００３３】とは言うものの、好ましい方法では、式II
のケト酸の、式III のモルホリン誘導体に対するモル比
は、４：１ないし１：４、好ましくは２：１ないし１：
２例えば１：１である。
のケト酸の、式III のモルホリン誘導体に対するモル比
は、４：１ないし１：４、好ましくは２：１ないし１：
２例えば１：１である。
【００３４】両方の成分の反応は、不活性ガス雰囲気で
実施するのが好ましく、窒素又はアルゴン中が便利であ
る。
実施するのが好ましく、窒素又はアルゴン中が便利であ
る。
【００３５】新規方法での反応又は溶融温度は、使用さ
れる式IIのケト酸の物理的性質と式III のモルホリン誘
導体に依存する。４０ないし１３０℃の溶融温度が好ま
しく、更に特に好ましい温度範囲は５０ないし１２０℃
である。式Ｉの特に好ましい結晶錯塩化合物の製造のた
めの好ましい溶融温度範囲は６０ないし８０℃である。
れる式IIのケト酸の物理的性質と式III のモルホリン誘
導体に依存する。４０ないし１３０℃の溶融温度が好ま
しく、更に特に好ましい温度範囲は５０ないし１２０℃
である。式Ｉの特に好ましい結晶錯塩化合物の製造のた
めの好ましい溶融温度範囲は６０ないし８０℃である。
【００３６】反応混合物が溶融温度に到達すると直ちに
溶融物は均一且つ透明であり、冷却する前に、攪拌をこ
の温度で１ないし２０分間にわたり、好ましくは１ない
し１０分間にわたり継続する。
溶融物は均一且つ透明であり、冷却する前に、攪拌をこ
の温度で１ないし２０分間にわたり、好ましくは１ない
し１０分間にわたり継続する。
【００３７】式Ｉの析出結晶錯塩化合物は、炭化水素系
の容易に揮発する非プロトン性溶媒、典型的にはリグロ
イン、ペンタン、ヘキサン、ヘキサン留分又は石油留分
で、ろ過の間洗浄するのが好ましい。ヘキサンが特に好
ましい。
の容易に揮発する非プロトン性溶媒、典型的にはリグロ
イン、ペンタン、ヘキサン、ヘキサン留分又は石油留分
で、ろ過の間洗浄するのが好ましい。ヘキサンが特に好
ましい。
【００３８】式Ｉの新規の化合物は室温で安定であっ
て、大気圧又は高真空下で乾燥できる。式Ｉの結晶錯塩
化合物を２０ないし３０℃の温度範囲における水ジェッ
ト真空下、乾燥炉中で乾燥するのが好ましい。
て、大気圧又は高真空下で乾燥できる。式Ｉの結晶錯塩
化合物を２０ないし３０℃の温度範囲における水ジェッ
ト真空下、乾燥炉中で乾燥するのが好ましい。
【００３９】新規の結晶錯塩化合物を更に苛酷な条件
下、例えば高温で乾燥すると、式IIIのモルホリン誘導
体が部分的に蒸発し、新規の２：１錯塩が部分的に破壊
される。乾燥した生成物は式Ｉの新規の結晶錯塩化合物
のままで存在するが、式IIの遊離ケト酸で強く汚染され
る。
下、例えば高温で乾燥すると、式IIIのモルホリン誘導
体が部分的に蒸発し、新規の２：１錯塩が部分的に破壊
される。乾燥した生成物は式Ｉの新規の結晶錯塩化合物
のままで存在するが、式IIの遊離ケト酸で強く汚染され
る。
【００４０】式III のモルホリン誘導体との式IIのケト
酸の反応は、非プロトン性溶媒の存在下でも実施し得
る。
酸の反応は、非プロトン性溶媒の存在下でも実施し得
る。
【００４１】適当な非プロトン性溶媒は、生成物を洗浄
するために使用する溶媒と同じである。好ましい溶媒は
炭化水素、典型的にはベンゼン、トルエン、キシレン、
リグロイン、ペンタン、ヘキサン、ヘキサン留分又はホ
ワイト・スピリットである。特に好ましい非プロトン性
溶媒は、脂肪族炭化水素、例えばヘキサンである。式II
I の化合物の過剰分も非プロトン性溶媒として使用でき
る。
するために使用する溶媒と同じである。好ましい溶媒は
炭化水素、典型的にはベンゼン、トルエン、キシレン、
リグロイン、ペンタン、ヘキサン、ヘキサン留分又はホ
ワイト・スピリットである。特に好ましい非プロトン性
溶媒は、脂肪族炭化水素、例えばヘキサンである。式II
I の化合物の過剰分も非プロトン性溶媒として使用でき
る。
【００４２】溶媒、例えば炭化水素シリーズの溶媒を使
用する本発明の方法における好ましい反応温度は、溶媒
の沸点温度である。
用する本発明の方法における好ましい反応温度は、溶媒
の沸点温度である。
【００４３】従って本発明は、式IIのケト酸を式III の
モルホリン誘導体と、溶媒なしに又は非プロトン性溶媒
の存在下、反応させることにより得られる生成物にも関
する。
モルホリン誘導体と、溶媒なしに又は非プロトン性溶媒
の存在下、反応させることにより得られる生成物にも関
する。
【００４４】式IIのケト酸は、既知であって、或るもの
は市販品であるか又は Houben-Weyl, Methoden der Org
anischen Chemie ，Vol.VIII，pp.381-382(1952)とVol.
E5,pp.398-399(1985) に従って製造できる。かくして、
例えば、置換芳香族炭化水素（ベンゼンとナフタレン誘
導体）の環状酸無水物によるフリーデルクラフト型アシ
ル化は、式IIの化合物を優れた収率で与える。
は市販品であるか又は Houben-Weyl, Methoden der Org
anischen Chemie ，Vol.VIII，pp.381-382(1952)とVol.
E5,pp.398-399(1985) に従って製造できる。かくして、
例えば、置換芳香族炭化水素（ベンゼンとナフタレン誘
導体）の環状酸無水物によるフリーデルクラフト型アシ
ル化は、式IIの化合物を優れた収率で与える。
【００４５】式III のモルホリン誘導体は、既知であっ
て、或るものは市販品であるか又はHouben-Weyl, Metho
den der Organischen Chemie ，Vol.XI/1，pp.815(195
7)に従って製造できる。
て、或るものは市販品であるか又はHouben-Weyl, Metho
den der Organischen Chemie ，Vol.XI/1，pp.815(195
7)に従って製造できる。
【００４６】式Ｉの結晶錯塩化合物は、金属表面を保護
するための塗料組成物中の適当な腐蝕抑制剤である。そ
のようにしてそれらは全ての液状の又は固形状の材料に
添加できる。
するための塗料組成物中の適当な腐蝕抑制剤である。そ
のようにしてそれらは全ての液状の又は固形状の材料に
添加できる。
【００４７】かくして、本発明は、ａ）有機膜形成結合
剤、及び ｂ）腐蝕抑制剤としての、式Ｉの結晶錯塩化合物 からなる塗料組成物にも関する。
剤、及び ｂ）腐蝕抑制剤としての、式Ｉの結晶錯塩化合物 からなる塗料組成物にも関する。
【００４８】塗料組成物は、好ましくはペイント系であ
る。水性ペイント系は特に好ましい。
る。水性ペイント系は特に好ましい。
【００４９】ペイント系は典型的にはラッカー、ペイン
ト又はワニスである。これらの系は常に他の所望の成分
と共に有機膜形成結合剤を含有する。
ト又はワニスである。これらの系は常に他の所望の成分
と共に有機膜形成結合剤を含有する。
【００５０】塗料組成物のための適当な膜形成結合剤
は、溶媒を基材にした又は溶媒なしの全ての常用の膜形
成剤であるが、好ましくは水性ペイント系である。その
ような膜形成剤の具体例は、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、アミノプラスト樹脂又は樹脂混合物；塩基性水
性分散液又は酸性樹脂の溶液である。
は、溶媒を基材にした又は溶媒なしの全ての常用の膜形
成剤であるが、好ましくは水性ペイント系である。その
ような膜形成剤の具体例は、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、アミノプラスト樹脂又は樹脂混合物；塩基性水
性分散液又は酸性樹脂の溶液である。
【００５１】好ましい有機膜形成結合剤は、エポキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂又はそれらのコポリマー樹脂、ポリビニル樹脂、フェ
ノール樹脂、アルキド樹脂、又はそのような樹脂の混合
物である。
脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂又はそれらのコポリマー樹脂、ポリビニル樹脂、フェ
ノール樹脂、アルキド樹脂、又はそのような樹脂の混合
物である。
【００５２】水性塗料組成物のための特に興味のある有
機膜形成結合剤は、例えばアルキド樹脂、２成分エポキ
シ樹脂、ポリウレタン樹脂、通常は飽和であるポリエス
テル樹脂、水希釈性フェノール樹脂又は誘導された分散
液；水希釈性尿素樹脂；ビニル／アクリルコポリマー樹
脂を基材にした樹脂である。
機膜形成結合剤は、例えばアルキド樹脂、２成分エポキ
シ樹脂、ポリウレタン樹脂、通常は飽和であるポリエス
テル樹脂、水希釈性フェノール樹脂又は誘導された分散
液；水希釈性尿素樹脂；ビニル／アクリルコポリマー樹
脂を基材にした樹脂である。
【００５３】更に特別には、アルキド樹脂は風乾系とし
て、又は所望により水希釈性メラミン樹脂と組み合わせ
る焼付系の形式で使用できる水希釈性アルキド樹脂系で
あってもよい。それらは、アクリル樹脂又はそれらの酢
酸ビニル等とのコポリマーを基材にした水性分散液と組
み合わせて使用される、酸化的乾燥、風乾又は焼付系で
あってもよい。
て、又は所望により水希釈性メラミン樹脂と組み合わせ
る焼付系の形式で使用できる水希釈性アルキド樹脂系で
あってもよい。それらは、アクリル樹脂又はそれらの酢
酸ビニル等とのコポリマーを基材にした水性分散液と組
み合わせて使用される、酸化的乾燥、風乾又は焼付系で
あってもよい。
【００５４】アクリル樹脂は純粋なアクリル樹脂、ビニ
ル樹脂と組み合わせたアクリレートコポリマー又はビニ
ルモノマー例えば酢酸ビニル、スチレン又はブタジエン
のようなものとのコポリマーであってもよい。これらの
系は、風乾系又は焼付系になり得る。
ル樹脂と組み合わせたアクリレートコポリマー又はビニ
ルモノマー例えば酢酸ビニル、スチレン又はブタジエン
のようなものとのコポリマーであってもよい。これらの
系は、風乾系又は焼付系になり得る。
【００５５】適当なポリアミン系架橋剤と組み合わせた
水希釈性エポキシ樹脂は、優れた機械的且つ化学的抵抗
性を発揮する。液状エポキシ樹脂を使用する時は、水性
系への有機溶媒の添加をなしに済ますことができる。固
体分散液又は固体樹脂分散液の使用は、通常は膜形成を
促進するために少量の溶媒の添加を必要とする。
水希釈性エポキシ樹脂は、優れた機械的且つ化学的抵抗
性を発揮する。液状エポキシ樹脂を使用する時は、水性
系への有機溶媒の添加をなしに済ますことができる。固
体分散液又は固体樹脂分散液の使用は、通常は膜形成を
促進するために少量の溶媒の添加を必要とする。
【００５６】好ましいエポキシ樹脂は、芳香族フェノー
ルから、特にビスフェノールから誘導されたそれらであ
る。エポキシ樹脂は架橋剤類と組み合わせて使用され
る。これらの後者は好ましくはアミノ−又はヒドロキシ
−官能化合物、酸、酸無水物又はルイス酸である。典型
的な例は、ポリアミン、ポリアミノアミド；ポリスルフ
ィドを基材にしたポリマー；ポリフェノール、フッ化ホ
ウ素とそれらの錯化合物、ポリカルボン酸、１，２−ジ
カルボン酸無水物又はピロメリト酸−二酸無水物であ
る。
ルから、特にビスフェノールから誘導されたそれらであ
る。エポキシ樹脂は架橋剤類と組み合わせて使用され
る。これらの後者は好ましくはアミノ−又はヒドロキシ
−官能化合物、酸、酸無水物又はルイス酸である。典型
的な例は、ポリアミン、ポリアミノアミド；ポリスルフ
ィドを基材にしたポリマー；ポリフェノール、フッ化ホ
ウ素とそれらの錯化合物、ポリカルボン酸、１，２−ジ
カルボン酸無水物又はピロメリト酸−二酸無水物であ
る。
【００５７】ポリウレタン樹脂は、一方の末端にヒドロ
キシル基を持ちそして他方に脂肪族又は芳香族ポリイソ
シアナート基を持つ、ポリエーテル、ポリエステル及び
ポリブタジエンから誘導される。
キシル基を持ちそして他方に脂肪族又は芳香族ポリイソ
シアナート基を持つ、ポリエーテル、ポリエステル及び
ポリブタジエンから誘導される。
【００５８】適当なポリビニル樹脂は、典型的にはポリ
ビニルブチラル、酢酸ポリビニル又はそれらのコポリマ
ーである。
ビニルブチラル、酢酸ポリビニル又はそれらのコポリマ
ーである。
【００５９】適当な樹脂は、フェノールが主成分を形成
する合成樹脂であって、換言すれば、特に、フェノール
−、クレゾール、キシレノール−及びレゾルシノール−
ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフェノール樹脂並びに
アセトアルデヒド、フルフラール、アクロレイン又は他
のアルデヒドとのフェノールの縮合物である。改質され
たフェノール樹脂も興味がある。
する合成樹脂であって、換言すれば、特に、フェノール
−、クレゾール、キシレノール−及びレゾルシノール−
ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフェノール樹脂並びに
アセトアルデヒド、フルフラール、アクロレイン又は他
のアルデヒドとのフェノールの縮合物である。改質され
たフェノール樹脂も興味がある。
【００６０】塗料組成物は、顔料、染料、充填剤、流れ
調節剤、分散剤、チキソトロープ剤、定着剤、抗酸化
剤、光安定剤及び硬化触媒からなる群から選ばれた１種
又は１種以上の成分を追加して含有していてよい。それ
ら組成物は、他の既知の腐蝕抑制剤、例えば腐蝕抑制顔
料例えばホスヘート又はボレート(borate)含有顔料又は
金属酸化物顔料他の有機又は無機の腐蝕抑制剤、例えば
ニトロイソフタル酸、亜リン酸エステル類、工業アミン
類又はベンゾトリアゾール類の塩を更に含有してもよ
い。
調節剤、分散剤、チキソトロープ剤、定着剤、抗酸化
剤、光安定剤及び硬化触媒からなる群から選ばれた１種
又は１種以上の成分を追加して含有していてよい。それ
ら組成物は、他の既知の腐蝕抑制剤、例えば腐蝕抑制顔
料例えばホスヘート又はボレート(borate)含有顔料又は
金属酸化物顔料他の有機又は無機の腐蝕抑制剤、例えば
ニトロイソフタル酸、亜リン酸エステル類、工業アミン
類又はベンゾトリアゾール類の塩を更に含有してもよ
い。
【００６１】追加の顔料の具体例は、二酸化チタン、酸
化鉄、アルミニウム青銅又はフタロシアニン青である。
化鉄、アルミニウム青銅又はフタロシアニン青である。
【００６２】追加の充填剤の具体例は、タルク、アルミ
ナ、ケイ酸アルミニウム、重晶石、雲母及びシリカであ
る。
ナ、ケイ酸アルミニウム、重晶石、雲母及びシリカであ
る。
【００６３】流れ調節剤とチキソトロープ剤は、改質ベ
ントナイトを基材にしたものであってもよい。
ントナイトを基材にしたものであってもよい。
【００６４】定着剤は改質シランを基材にしている。
【００６５】特定の結合系で、腐蝕抑制に相乗効果を与
える基本(basic) 充填剤又は顔料を添加することも有利
である。そのような基材的充填剤と顔料の具体例は、炭
酸カルシウム又は炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、炭酸亜
鉛、リン酸亜鉛、酸化マグネシウム、アルミナ、リン酸
アルミニウム又はそれらの混合物である。基本(basic)
有機顔料の例は、アミノアントラキノンを基材にしたそ
れらである。
える基本(basic) 充填剤又は顔料を添加することも有利
である。そのような基材的充填剤と顔料の具体例は、炭
酸カルシウム又は炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、炭酸亜
鉛、リン酸亜鉛、酸化マグネシウム、アルミナ、リン酸
アルミニウム又はそれらの混合物である。基本(basic)
有機顔料の例は、アミノアントラキノンを基材にしたそ
れらである。
【００６６】新規の腐蝕抑制剤は、ペイント系の製造の
間にそれに添加してもよく、微粉砕による顔料分布の間
であると便利であり、又は粉末塗料組成物の場合の押出
工程の間であってもよい。又は、腐蝕抑制剤は溶媒中に
溶解されそして溶液は塗料組成物中へ混和される。
間にそれに添加してもよく、微粉砕による顔料分布の間
であると便利であり、又は粉末塗料組成物の場合の押出
工程の間であってもよい。又は、腐蝕抑制剤は溶媒中に
溶解されそして溶液は塗料組成物中へ混和される。
【００６７】式Ｉの新規結晶錯塩化合物は、塗料組成物
の全固形分含量を基準にして０．０２ないし２０重量
％、好ましくは０．１ないし１０重量％の量で使用され
ると便利である。
の全固形分含量を基準にして０．０２ないし２０重量
％、好ましくは０．１ないし１０重量％の量で使用され
ると便利である。
【００６８】ペイント製剤は、基材へ常用の方法により
適用でき、散布、浸漬、刷毛塗り、静電散布又は電着に
よると便利である。多層が頻繁に適用される。腐蝕抑制
剤は下塗剤に添加されるのが好ましい：というのはそれ
らが特に金属／塗膜の界面において作用するからであ
る。しかし、それらは中間又は上層の塗膜に添加されて
もよい。結合剤が、物理的、化学的又は酸化的な乾燥樹
脂又は熱硬化性又は放射硬化性樹脂であるかによって、
塗膜の硬化は室温で又は加熱（焼付）により又は放射に
より実施され得る。
適用でき、散布、浸漬、刷毛塗り、静電散布又は電着に
よると便利である。多層が頻繁に適用される。腐蝕抑制
剤は下塗剤に添加されるのが好ましい：というのはそれ
らが特に金属／塗膜の界面において作用するからであ
る。しかし、それらは中間又は上層の塗膜に添加されて
もよい。結合剤が、物理的、化学的又は酸化的な乾燥樹
脂又は熱硬化性又は放射硬化性樹脂であるかによって、
塗膜の硬化は室温で又は加熱（焼付）により又は放射に
より実施され得る。
【００６９】ペイント系は、好ましくは鉄、鋼鉄、銅、
亜鉛又はアルミニウム、並びにそれらの合金のような金
属性の基材である。
亜鉛又はアルミニウム、並びにそれらの合金のような金
属性の基材である。
【００７０】耐蝕性作用に加えて、式Ｉの結晶錯塩化合
物は、金属基体に対する塗膜の接着性を増進しそして新
規塗料組成物の貯蔵安定性に悪影響を与えないという利
点を持つ。
物は、金属基体に対する塗膜の接着性を増進しそして新
規塗料組成物の貯蔵安定性に悪影響を与えないという利
点を持つ。
【００７１】従って、本発明の好ましい実施態様は、金
属表面のための塗料組成物中の腐蝕抑制剤として式Ｉの
結晶錯塩化合物を使用することである。
属表面のための塗料組成物中の腐蝕抑制剤として式Ｉの
結晶錯塩化合物を使用することである。
【００７２】本発明は更に、腐蝕性金属基体を防護する
ための方法であって、 ａ）有機膜形成結合剤、及び ｂ）腐蝕抑制剤としての、少なくとも１種の式Ｉの結晶
錯塩化合物 からなる塗料組成物を上記基体に塗布し、そして続いて
塗布した基体を乾燥及び／又は硬化することからなる方
法に関する。
ための方法であって、 ａ）有機膜形成結合剤、及び ｂ）腐蝕抑制剤としての、少なくとも１種の式Ｉの結晶
錯塩化合物 からなる塗料組成物を上記基体に塗布し、そして続いて
塗布した基体を乾燥及び／又は硬化することからなる方
法に関する。
【００７３】
【実施例】本発明を下記の実施例により更に詳細に説明
する。記載中、部とパーセントは重量による。
する。記載中、部とパーセントは重量による。
【００７４】実施例１：過剰のＮ−エチルモルホリンに
よる３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶
錯塩［化合物（１０１）］の製造
よる３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶
錯塩［化合物（１０１）］の製造
【化１０】 Ｎ−エチルモルホリン１１．５ｇ（０．１０モル）と３
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸９．６０ｇ
（０．０５モル）を窒素雰囲気中で６０℃で加熱する。
均一、透明の反応溶液を、１０分間にわたり６０℃に加
熱し、次いで攪拌しながら室温に冷却する。沈澱物をろ
過により単離し、ヘキサンで繰り返しよく洗浄しそして
真空乾燥炉中３０℃で乾燥して、白色結晶の化合物（１
０１）１１．８ｇを得る：ｍ．ｐ．６６−６８℃。元素
分析値は、組成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ6 Ｈ13ＮＯに
合致している。計算値：Ｃ６７．３１；Ｈ７．４７；Ｎ
２．８０％；分析値：Ｃ６７．５７；Ｈ７．３９；Ｎ
２．５５％。
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸９．６０ｇ
（０．０５モル）を窒素雰囲気中で６０℃で加熱する。
均一、透明の反応溶液を、１０分間にわたり６０℃に加
熱し、次いで攪拌しながら室温に冷却する。沈澱物をろ
過により単離し、ヘキサンで繰り返しよく洗浄しそして
真空乾燥炉中３０℃で乾燥して、白色結晶の化合物（１
０１）１１．８ｇを得る：ｍ．ｐ．６６−６８℃。元素
分析値は、組成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ6 Ｈ13ＮＯに
合致している。計算値：Ｃ６７．３１；Ｈ７．４７；Ｎ
２．８０％；分析値：Ｃ６７．５７；Ｈ７．３９；Ｎ
２．５５％。
【００７５】この化合物（１０１）を、Ｘ線構造解析し
た。結晶錯塩化合物（１０１）は、６６−６８℃で融解
する。結晶は、大きくそして頻繁に内部成長したもので
ある。それらは「乳濁ガラス」に着色した薄片で得られ
る。標本が薄い程透明度が高い。大きい結晶を測定する
ために、所望の完全片をレーザブレードで切出しそして
（登録商標）アラルジト・ラピド(Araldit Rapid) でマ
ーク(Mark)ガラスキャピラリに接着する。結晶片を同じ
接着剤で塗布する。歳差角度計上に撮影した方位マイク
ログラフ（ポラロイド）は（そのような低融点の結晶に
とっては）高反射性と通常の拡散係数を示す。単位格
子、結晶系と空間群は、回折計中で測定される。結晶
は、９日間にわたる実験の最後まで非常に安定のままで
ある。
た。結晶錯塩化合物（１０１）は、６６−６８℃で融解
する。結晶は、大きくそして頻繁に内部成長したもので
ある。それらは「乳濁ガラス」に着色した薄片で得られ
る。標本が薄い程透明度が高い。大きい結晶を測定する
ために、所望の完全片をレーザブレードで切出しそして
（登録商標）アラルジト・ラピド(Araldit Rapid) でマ
ーク(Mark)ガラスキャピラリに接着する。結晶片を同じ
接着剤で塗布する。歳差角度計上に撮影した方位マイク
ログラフ（ポラロイド）は（そのような低融点の結晶に
とっては）高反射性と通常の拡散係数を示す。単位格
子、結晶系と空間群は、回折計中で測定される。結晶
は、９日間にわたる実験の最後まで非常に安定のままで
ある。
【００７６】
【表２】
【００７７】測定は、ＭｏＫα1 照射（＝０．７０９２
６Å）により、フィリップスＰＷ１１００回折計上で実
施した。
６Å）により、フィリップスＰＷ１１００回折計上で実
施した。
【表３】
【００７８】実施例２：当量より少ないＮ−エチルモル
ホリンによる３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸の結晶錯塩［化合物（１０１）］の製造 Ｎ−エチルモルホリン２．８８ｇ（０．０２５モル）と
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸９．６０ｇ
（０．０５モル）を窒素雰囲気中で７０−７５℃に加熱
する。透明の溶融物が得られたら直ぐ、溶融物を室温に
冷却する。固形反応塊をヘキサンと共に攪拌し、沈澱し
た結晶をろ過により単離し、ヘキサンで洗浄しそして真
空乾燥炉中３０℃で乾燥して、淡褐色結晶の化合物（１
０１）１２．２ｇを得る：ｍ．ｐ．６５−６７℃。元素
分析値は、組成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ6 Ｈ13ＮＯに
合致している。計算値：Ｃ６７．３１；Ｈ７．４７；Ｎ
２．８０％；分析値：Ｃ６７．３５；Ｈ７．３８；Ｎ
２．４７％。
ホリンによる３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸の結晶錯塩［化合物（１０１）］の製造 Ｎ−エチルモルホリン２．８８ｇ（０．０２５モル）と
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸９．６０ｇ
（０．０５モル）を窒素雰囲気中で７０−７５℃に加熱
する。透明の溶融物が得られたら直ぐ、溶融物を室温に
冷却する。固形反応塊をヘキサンと共に攪拌し、沈澱し
た結晶をろ過により単離し、ヘキサンで洗浄しそして真
空乾燥炉中３０℃で乾燥して、淡褐色結晶の化合物（１
０１）１２．２ｇを得る：ｍ．ｐ．６５−６７℃。元素
分析値は、組成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ6 Ｈ13ＮＯに
合致している。計算値：Ｃ６７．３１；Ｈ７．４７；Ｎ
２．８０％；分析値：Ｃ６７．３５；Ｈ７．３８；Ｎ
２．４７％。
【００７９】実施例３：溶媒としてのヘキサンの存在下
での過剰のＮ−エチルモルホリンによる３−（４−メチ
ルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯塩［化合物（１０
１）］の製造 Ｎ−エチルモルホリン５．７６ｇ（０．０５モル）と３
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸４．８ｇ
（０．０２５モル）を窒素雰囲気中でヘキサン２０ｍｌ
に添加し次いで混合物を還流温度まで加熱する。約３０
分後に混合物を攪拌しながら室温に冷却する。沈澱物を
ろ過により単離し、ヘキサンで洗浄しそして真空乾燥炉
中３０℃で乾燥して、白色結晶の化合物（１０１）５．
９ｇを得る：ｍ．ｐ．６６−６８℃。元素分析値は、組
成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ6 Ｈ13ＮＯに合致してい
る。計算値：Ｃ６７．３１；Ｈ７．４７；Ｎ２．８０
％；分析値：Ｃ６７．４５；Ｈ７．４２；Ｎ２．５８
％。
での過剰のＮ−エチルモルホリンによる３−（４−メチ
ルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯塩［化合物（１０
１）］の製造 Ｎ−エチルモルホリン５．７６ｇ（０．０５モル）と３
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸４．８ｇ
（０．０２５モル）を窒素雰囲気中でヘキサン２０ｍｌ
に添加し次いで混合物を還流温度まで加熱する。約３０
分後に混合物を攪拌しながら室温に冷却する。沈澱物を
ろ過により単離し、ヘキサンで洗浄しそして真空乾燥炉
中３０℃で乾燥して、白色結晶の化合物（１０１）５．
９ｇを得る：ｍ．ｐ．６６−６８℃。元素分析値は、組
成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ6 Ｈ13ＮＯに合致してい
る。計算値：Ｃ６７．３１；Ｈ７．４７；Ｎ２．８０
％；分析値：Ｃ６７．４５；Ｈ７．４２；Ｎ２．５８
％。
【００８０】実施例４：Ｎ−メチルモルホリンによる３
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯塩
［化合物（１０２）］の製造
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯塩
［化合物（１０２）］の製造
【化１１】 Ｎ−メチルモルホリン５．０５ｇ（０．０５モル）と３
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸９．６０ｇ
（０．０５モル）を窒素雰囲気中で７０℃まで加熱す
る。透明な溶融物が得られたら直ちに、溶融物を室温に
まで冷却する。反応塊をヘキサンと共に攪拌し、沈澱し
た結晶をろ過により単離し、ヘキサンで洗浄しそして真
空乾燥炉中２０℃で乾燥して、うすいとび色の結晶化合
物（１０２）８．５ｇを得る：ｍ．ｐ．６７−６８℃。
元素分析値は、組成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ5 Ｈ11Ｎ
Ｏに合致している。計算値：Ｃ６６．７９；Ｈ７．２
７；Ｎ２．８８％；分析値：Ｃ６６．５４；Ｈ７．３
０；Ｎ２．８８％。
−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸９．６０ｇ
（０．０５モル）を窒素雰囲気中で７０℃まで加熱す
る。透明な溶融物が得られたら直ちに、溶融物を室温に
まで冷却する。反応塊をヘキサンと共に攪拌し、沈澱し
た結晶をろ過により単離し、ヘキサンで洗浄しそして真
空乾燥炉中２０℃で乾燥して、うすいとび色の結晶化合
物（１０２）８．５ｇを得る：ｍ．ｐ．６７−６８℃。
元素分析値は、組成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ5 Ｈ11Ｎ
Ｏに合致している。計算値：Ｃ６６．７９；Ｈ７．２
７；Ｎ２．８８％；分析値：Ｃ６６．５４；Ｈ７．３
０；Ｎ２．８８％。
【００８１】実施例５：Ｎ−イソブチルモルホリンによ
る３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯
塩［化合物（１０３）］の製造
る３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯
塩［化合物（１０３）］の製造
【化１２】 Ｎ−イソブチルモルホリン７．１６ｇ（０．０５モル）
と３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸９．６０
ｇ（０．０５モル）を窒素雰囲気中で６０℃まで加熱す
る。均一、透明な反応溶液を１０分間にわたり６０℃で
攪拌し、次いで攪拌しながら室温にまで冷却する。沈澱
物をろ過により単離し、ヘキサンで繰り返しよく洗浄
し、そして真空乾燥炉中２０℃で乾燥して、橙黄色結晶
の化合物（１０３）１２．８ｇを得る：ｍ．ｐ．６９−
７１℃。元素分析値は、組成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ
8 Ｈ17ＮＯに合致している。計算値：Ｃ６８．２９；Ｈ
７．８３；Ｎ２．６５％；分析値：Ｃ６８．２８；Ｈ
７．８１；Ｎ２．５５％。
と３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸９．６０
ｇ（０．０５モル）を窒素雰囲気中で６０℃まで加熱す
る。均一、透明な反応溶液を１０分間にわたり６０℃で
攪拌し、次いで攪拌しながら室温にまで冷却する。沈澱
物をろ過により単離し、ヘキサンで繰り返しよく洗浄
し、そして真空乾燥炉中２０℃で乾燥して、橙黄色結晶
の化合物（１０３）１２．８ｇを得る：ｍ．ｐ．６９−
７１℃。元素分析値は、組成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ
8 Ｈ17ＮＯに合致している。計算値：Ｃ６８．２９；Ｈ
７．８３；Ｎ２．６５％；分析値：Ｃ６８．２８；Ｈ
７．８１；Ｎ２．５５％。
【００８２】実施例６：Ｎ−ｎ−ブチルモルホリンによ
る３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯
塩［化合物（１０４）］の製造
る３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯
塩［化合物（１０４）］の製造
【化１３】 Ｎ−ｎ−ブチルモルホリン７．１６ｇ（０．０５モル）
と３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸４．８０
ｇ（０．０２５モル）を窒素雰囲気中で６０℃まで加熱
する。均一、透明な反応溶液を３０分間にわたり６０℃
で攪拌し、次いで攪拌しながら室温にまで冷却する。沈
澱物をろ過によ除き、ヘキサンで繰り返しよく洗浄し、
そして真空乾燥炉中２０℃で乾燥して、うすとび色結晶
の化合物（１０４）５．６ｇを得る：ｍ．ｐ．５８−６
０℃。元素分析値は、組成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ8
Ｈ17ＮＯに合致している。計算値：Ｃ６８．２９；Ｈ
７．８３；Ｎ２．６５％；分析値：Ｃ６７．５８；Ｈ
７．８２；Ｎ２．７８％。
と３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸４．８０
ｇ（０．０２５モル）を窒素雰囲気中で６０℃まで加熱
する。均一、透明な反応溶液を３０分間にわたり６０℃
で攪拌し、次いで攪拌しながら室温にまで冷却する。沈
澱物をろ過によ除き、ヘキサンで繰り返しよく洗浄し、
そして真空乾燥炉中２０℃で乾燥して、うすとび色結晶
の化合物（１０４）５．６ｇを得る：ｍ．ｐ．５８−６
０℃。元素分析値は、組成 Ｃ11Ｈ12Ｏ3 ・０．５Ｃ8
Ｈ17ＮＯに合致している。計算値：Ｃ６８．２９；Ｈ
７．８３；Ｎ２．６５％；分析値：Ｃ６７．５８；Ｈ
７．８２；Ｎ２．７８％。
【００８３】実施例７：Ｎ−エチルモルホリンによる３
−（４−クロロベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯塩
［化合物（１０５）］の製造
−（４−クロロベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯塩
［化合物（１０５）］の製造
【化１４】 Ｎ−エチルモルホリン２．９０ｇ（０．０２５モル）と
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸５．３０ｇ
（０．０２５モル）を窒素雰囲気中で７０℃まで加熱す
る。均一、透明な反応溶液を１０分間にわたり６０℃で
攪拌し、次いで攪拌しながら室温にまで冷却する。沈澱
物をろ過により単離し、ヘキサンで繰り返しよく洗浄
し、そして真空乾燥炉中２０℃で乾燥して、白色結晶の
化合物（１０５）６．０ｇを得る：ｍ．ｐ．７７−７９
℃。元素分析値は、組成 Ｃ10Ｈ9Ｏ3 Ｃｌ・０．５Ｃ
6 Ｈ13ＮＯに合致している。計算値：Ｃ５７．７８；Ｈ
５．７８；Ｎ２．５９；Ｃｌ１３．１２％；分析値：Ｃ
５７．８８；Ｈ５．７５；Ｎ２．５１，Ｃｌ１３．２２
％。
３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸５．３０ｇ
（０．０２５モル）を窒素雰囲気中で７０℃まで加熱す
る。均一、透明な反応溶液を１０分間にわたり６０℃で
攪拌し、次いで攪拌しながら室温にまで冷却する。沈澱
物をろ過により単離し、ヘキサンで繰り返しよく洗浄
し、そして真空乾燥炉中２０℃で乾燥して、白色結晶の
化合物（１０５）６．０ｇを得る：ｍ．ｐ．７７−７９
℃。元素分析値は、組成 Ｃ10Ｈ9Ｏ3 Ｃｌ・０．５Ｃ
6 Ｈ13ＮＯに合致している。計算値：Ｃ５７．７８；Ｈ
５．７８；Ｎ２．５９；Ｃｌ１３．１２％；分析値：Ｃ
５７．８８；Ｈ５．７５；Ｎ２．５１，Ｃｌ１３．２２
％。
【００８４】実施例８：Ｎ−エチルモルホリンによる３
−（４−フェニルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯塩
［化合物（１０６）］の製造
−（４−フェニルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯塩
［化合物（１０６）］の製造
【化１５】 Ｎ−エチルモルホリン２．９０ｇ（０．０２５モル）と
３−（４−フェニルベンゾイル）プロピオン酸３．２０
ｇ（０．０２５モル）を窒素雰囲気中で１２０℃まで加
熱する。均一、透明な反応溶液を１０分間にわたり１２
０℃で攪拌し、次いで攪拌しながら室温にまで冷却す
る。沈澱物をろ過により単離し、ヘキサンで繰り返しよ
く洗浄し、そして真空乾燥炉中２０℃で乾燥して、白色
結晶の化合物（１０６）３．８ｇを得る：ｍ．ｐ．１０
５−１０７℃。元素分析値は、組成Ｃ16Ｈ14Ｏ3 ・０．
５Ｃ6 Ｈ13ＮＯに合致している。計算値：Ｃ７３．１
７；Ｈ６．６３；Ｎ２．２５％；分析値：Ｃ７３．０
０；Ｈ６．６８；Ｎ２．２４％。
３−（４−フェニルベンゾイル）プロピオン酸３．２０
ｇ（０．０２５モル）を窒素雰囲気中で１２０℃まで加
熱する。均一、透明な反応溶液を１０分間にわたり１２
０℃で攪拌し、次いで攪拌しながら室温にまで冷却す
る。沈澱物をろ過により単離し、ヘキサンで繰り返しよ
く洗浄し、そして真空乾燥炉中２０℃で乾燥して、白色
結晶の化合物（１０６）３．８ｇを得る：ｍ．ｐ．１０
５−１０７℃。元素分析値は、組成Ｃ16Ｈ14Ｏ3 ・０．
５Ｃ6 Ｈ13ＮＯに合致している。計算値：Ｃ７３．１
７；Ｈ６．６３；Ｎ２．２５％；分析値：Ｃ７３．０
０；Ｈ６．６８；Ｎ２．２４％。
【００８５】実施例９：ベコックスＥＰ３８４Ｗ／ベコ
ックスＥＰ０７５／ベコックスＥＨ６２３Ｗ(Beckopox
EP 384 W/Beckopox EP 075/Beckopox EH 623W ) を基材
とした水希釈性２Ｋ−エポキシ樹脂抗腐蝕プライマー中
の、Ｎ−エチルモルホリンとの３−（４−メチルベンゾ
イル）プロピオン酸の結晶錯塩化合物［化合物（１０
１）］の、腐蝕抑制剤としての検定 ベコポックスＥＰ３８４Ｗ／ベコポックスＥＰ０７５／
ベコポックスＥＨ６２３Ｗ(Beckopox EP 384 W/Beckopo
x EP 075/Beckopox EH 623W ) を基材とした塗料組成物
を製造するために、成分１ないし８（添加物未添加製
剤）と成分１ないし９（添加物添加製剤）を下表に示し
た順序で使用する（第２表、成分Ａを参照）。
ックスＥＰ０７５／ベコックスＥＨ６２３Ｗ(Beckopox
EP 384 W/Beckopox EP 075/Beckopox EH 623W ) を基材
とした水希釈性２Ｋ−エポキシ樹脂抗腐蝕プライマー中
の、Ｎ−エチルモルホリンとの３−（４−メチルベンゾ
イル）プロピオン酸の結晶錯塩化合物［化合物（１０
１）］の、腐蝕抑制剤としての検定 ベコポックスＥＰ３８４Ｗ／ベコポックスＥＰ０７５／
ベコポックスＥＨ６２３Ｗ(Beckopox EP 384 W/Beckopo
x EP 075/Beckopox EH 623W ) を基材とした塗料組成物
を製造するために、成分１ないし８（添加物未添加製
剤）と成分１ないし９（添加物添加製剤）を下表に示し
た順序で使用する（第２表、成分Ａを参照）。
【００８６】
【表４】
【００８７】ａ）（登録商標）ベコポックス EH 623 W
：ポリアミン系硬化剤（ヘキストＡＧ）；ｂ）（登録
商標）タルク(talcum) AT Extra ：ノルウェー産；ｃ）
バイフェロックス(Bayferrox) 130M：赤色酸化鉄（バイ
エルＡＧ）；ｄ）（登録商標）ミリカルブ(Millicarb)
：炭酸カルシウム（オムヤ(Omya)) ；ｅ）（登録商
標）ベントン(Bentone) SD 2：沈澱防止剤（クロノス・
チタンＧｍｂＨ）：ｆ）ボーチゲル(Borchigel)L75：増
粘剤／レオロジー促進剤(Gebr.Borchers AG)；ｇ）アジ
トール(Additol) XL 270：浮き色防止剤／分散剤（ヘキ
ストＡＧ）；ｈ）ベコポックス EP 384 W ：エポキシ樹
脂（ヘキストＡＧ）；ｉ）ベコポックス EP 075：反応
性希釈剤（ポリプロピレングリコールジグリシジルエー
テル（ヘキストＡＧ））。
：ポリアミン系硬化剤（ヘキストＡＧ）；ｂ）（登録
商標）タルク(talcum) AT Extra ：ノルウェー産；ｃ）
バイフェロックス(Bayferrox) 130M：赤色酸化鉄（バイ
エルＡＧ）；ｄ）（登録商標）ミリカルブ(Millicarb)
：炭酸カルシウム（オムヤ(Omya)) ；ｅ）（登録商
標）ベントン(Bentone) SD 2：沈澱防止剤（クロノス・
チタンＧｍｂＨ）：ｆ）ボーチゲル(Borchigel)L75：増
粘剤／レオロジー促進剤(Gebr.Borchers AG)；ｇ）アジ
トール(Additol) XL 270：浮き色防止剤／分散剤（ヘキ
ストＡＧ）；ｈ）ベコポックス EP 384 W ：エポキシ樹
脂（ヘキストＡＧ）；ｉ）ベコポックス EP 075：反応
性希釈剤（ポリプロピレングリコールジグリシジルエー
テル（ヘキストＡＧ））。
【００８８】得られた成分Ａ（腐蝕抑制剤未添加または
添加の製剤）を、粒径＜１５μｍ以下になるまで水平ボ
ールミル中で分散する。分散結果を、グラインドメータ
値（ＩＳＯ １５２４）を測定することにより評価す
る。
添加の製剤）を、粒径＜１５μｍ以下になるまで水平ボ
ールミル中で分散する。分散結果を、グラインドメータ
値（ＩＳＯ １５２４）を測定することにより評価す
る。
【００８９】適用のために、（腐蝕抑制剤未添加の製
剤，９ａ）１００ｇと（腐蝕抑制剤未添加の製剤，９
ｂ）１０３．１ｇを、成分Ｂ６６．７ｇと混合する。所
望の散布粘度に調節するために、ペイント製剤を脱イオ
ン水で希釈する。ペイント試料を、ボンダー（Bonder)
型〔冷間圧延、脱脂鉄鋼；製造：ドイツ国／マイン，フ
ランクフルト在，ヒェメタール(Chemetall) 〕の圧延鉄
鋼板（１９×１０．５ｃｍ）に、乾燥後の層厚が６０μ
ｍになるように適用する（乾燥条件：室温で１０日
間）。
剤，９ａ）１００ｇと（腐蝕抑制剤未添加の製剤，９
ｂ）１０３．１ｇを、成分Ｂ６６．７ｇと混合する。所
望の散布粘度に調節するために、ペイント製剤を脱イオ
ン水で希釈する。ペイント試料を、ボンダー（Bonder)
型〔冷間圧延、脱脂鉄鋼；製造：ドイツ国／マイン，フ
ランクフルト在，ヒェメタール(Chemetall) 〕の圧延鉄
鋼板（１９×１０．５ｃｍ）に、乾燥後の層厚が６０μ
ｍになるように適用する（乾燥条件：室温で１０日
間）。
【００９０】耐候試験の前に、平行な切り傷（換言すれ
ば、鋼鉄板の長辺に平行）を、ボンダークロスカット装
置〔２０５型；供給者；ドイツ国／ヘメル，ラウ(Lau)
〕を使用して、塗膜の一定損傷として、付ける。鉄鋼
板の端部は、端保護剤〔登録商標）イコシト(Icosit)２
５５；供給者：スイス国，ウィンターツル，イネルトル
(Inertol) ＡＧ〕を適用することにより保護される。
ば、鋼鉄板の長辺に平行）を、ボンダークロスカット装
置〔２０５型；供給者；ドイツ国／ヘメル，ラウ(Lau)
〕を使用して、塗膜の一定損傷として、付ける。鉄鋼
板の端部は、端保護剤〔登録商標）イコシト(Icosit)２
５５；供給者：スイス国，ウィンターツル，イネルトル
(Inertol) ＡＧ〕を適用することにより保護される。
【００９１】次いで、試料を１９０時間にわたる塩水散
布試験法による迅速耐候試験（ＤＩＮ ５０ ０２１
ＳＳ）に及び１６８時間にわたる湿潤試験（ＡＳＴＭ
Ｄ４５８５−８７）に処する。結果は第３表と第４表に
記載されている。結果の評価は、ＣＰＦ〔腐蝕保護因子
（Ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆａｃ
ｔｏｒ）〕を示すことによる比例スキームに従った適切
なＤＩＮ標準に基づいて作製される。ＣＰＦは塗膜と鋼
鉄の評価の総和により求められ、多くて１２点である。
塗膜と鋼鉄についての個々の最大値は６点である。この
値が大きい程、腐蝕抑制が優れている。
布試験法による迅速耐候試験（ＤＩＮ ５０ ０２１
ＳＳ）に及び１６８時間にわたる湿潤試験（ＡＳＴＭ
Ｄ４５８５−８７）に処する。結果は第３表と第４表に
記載されている。結果の評価は、ＣＰＦ〔腐蝕保護因子
（Ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆａｃ
ｔｏｒ）〕を示すことによる比例スキームに従った適切
なＤＩＮ標準に基づいて作製される。ＣＰＦは塗膜と鋼
鉄の評価の総和により求められ、多くて１２点である。
塗膜と鋼鉄についての個々の最大値は６点である。この
値が大きい程、腐蝕抑制が優れている。
【００９２】
【表５】
【００９３】
【表６】
【００９４】実施例１０：アクリレート／スチレン・コ
ポリマー（アクロナール(Acronal)S 760) を基材とした
水希釈性分散剤中の、Ｎ−エチルモルホリンとの３−
（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯塩化合
物［化合物（１０１）］の、腐蝕抑制剤としての検定 アクロナール(Acronal)S 760を基材とした塗料組成物を
製造するために、成分１ないし５を１番目に前混合し、
次いで成分６と７（腐蝕抑制剤未添加の製剤）と成分６
ないし８（腐蝕抑制剤，化合物（１０１）を添加の製
剤）を、示した順序で添加する（第５表を参照）。
ポリマー（アクロナール(Acronal)S 760) を基材とした
水希釈性分散剤中の、Ｎ−エチルモルホリンとの３−
（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶錯塩化合
物［化合物（１０１）］の、腐蝕抑制剤としての検定 アクロナール(Acronal)S 760を基材とした塗料組成物を
製造するために、成分１ないし５を１番目に前混合し、
次いで成分６と７（腐蝕抑制剤未添加の製剤）と成分６
ないし８（腐蝕抑制剤，化合物（１０１）を添加の製
剤）を、示した順序で添加する（第５表を参照）。
【００９５】
【表７】
【００９６】ａ）（登録商標）顔料分散剤NL: バスフ
（ＢＡＳＦ）ＡＧ；ｂ）（登録商標）アクロナール(Acr
onal)S 760：アクリレート−スチレン・コポリマー（水
性分散剤，バスフＡＧ；ｃ）（登録商標）シェルゾル(S
hellsol)D 60：ホワイトスピリット（シェル）；ｄ）
（登録商標）アジタン(Agitan)280 ：消泡剤（ミュンツ
ィング・ヒェミーＧｍｂＨ）；ｅ）（登録商標）ミリカ
ルブ(Millicarb) ：炭酸カルシウム（ファーマ・オムヤ
(Firma Omya)) ；ｆ）バイフェロックス(Bayferrox) 13
0M：赤色酸化鉄（バイエルＡＧ）；ｇ）コラクラール(C
ollacral)PU 85：増粘剤（バスフＡＧ）。
（ＢＡＳＦ）ＡＧ；ｂ）（登録商標）アクロナール(Acr
onal)S 760：アクリレート−スチレン・コポリマー（水
性分散剤，バスフＡＧ；ｃ）（登録商標）シェルゾル(S
hellsol)D 60：ホワイトスピリット（シェル）；ｄ）
（登録商標）アジタン(Agitan)280 ：消泡剤（ミュンツ
ィング・ヒェミーＧｍｂＨ）；ｅ）（登録商標）ミリカ
ルブ(Millicarb) ：炭酸カルシウム（ファーマ・オムヤ
(Firma Omya)) ；ｆ）バイフェロックス(Bayferrox) 13
0M：赤色酸化鉄（バイエルＡＧ）；ｇ）コラクラール(C
ollacral)PU 85：増粘剤（バスフＡＧ）。
【００９７】得られた顔料ペーストを、粒径＜１５μｍ
以下になるまで水平ボールミル又は同様のものの中で分
散する。粒径を、グラインドメータ値（ＩＳＯ １５２
４）から評価する。
以下になるまで水平ボールミル又は同様のものの中で分
散する。粒径を、グラインドメータ値（ＩＳＯ １５２
４）から評価する。
【００９８】ペイント製剤を仕上げるために、成分９な
いし１２を示した順序（第５表）で添加する。ペイント
製剤を通常散布により適用する。所望の粘度によって
は、仕上げペイント製剤をブチルジグリコール／脱イオ
ン水（１：１ ｇ／ｇ）により希釈できる。
いし１２を示した順序（第５表）で添加する。ペイント
製剤を通常散布により適用する。所望の粘度によって
は、仕上げペイント製剤をブチルジグリコール／脱イオ
ン水（１：１ ｇ／ｇ）により希釈できる。
【００９９】ペイント試料を、実施例９と同様にして、
ボンダー（Bonder) 型の圧延鉄鋼板に、乾燥後の層厚が
１００μｍになるように適用する（乾燥条件：室温で１
４日間）。
ボンダー（Bonder) 型の圧延鉄鋼板に、乾燥後の層厚が
１００μｍになるように適用する（乾燥条件：室温で１
４日間）。
【０１００】耐候試験の前に、平行な切り傷（換言すれ
ば、鋼鉄板の長辺に平行）を、ボンダークロスカット装
置〔２０５型；供給者；ドイツ国／ヘメル，ラウ(Lau)
〕を使用して、塗膜の一定損傷として、付ける。鉄鋼
板の端部は、端保護剤〔登録商標）イコシト(Icosit)２
５５；供給者：スイス国，ウィンターツル，イネルトル
(Inertol) ＡＧ〕を適用することにより保護される。
ば、鋼鉄板の長辺に平行）を、ボンダークロスカット装
置〔２０５型；供給者；ドイツ国／ヘメル，ラウ(Lau)
〕を使用して、塗膜の一定損傷として、付ける。鉄鋼
板の端部は、端保護剤〔登録商標）イコシト(Icosit)２
５５；供給者：スイス国，ウィンターツル，イネルトル
(Inertol) ＡＧ〕を適用することにより保護される。
【０１０１】次いで、試料を１６８時間にわたる塩水散
布試験法による迅速耐候試験（ＤＩＮ ５０ ０２１
ＳＳ）に処する。結果は第６表に記載されている。結果
の評価は、ＣＰＦ〔腐蝕保護因子（Ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ
Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆａｃｔｏｒ）〕を示すこと
による比例スキームに従った適切なＤＩＮ標準に基づい
て作製される。ＣＰＦは塗膜と鋼鉄の評価の総和により
求められ、多くて１２点である。塗膜と鋼鉄についての
個々の最大値は６点である。この値が大きい程、腐蝕抑
制が優れている。
布試験法による迅速耐候試験（ＤＩＮ ５０ ０２１
ＳＳ）に処する。結果は第６表に記載されている。結果
の評価は、ＣＰＦ〔腐蝕保護因子（Ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ
Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆａｃｔｏｒ）〕を示すこと
による比例スキームに従った適切なＤＩＮ標準に基づい
て作製される。ＣＰＦは塗膜と鋼鉄の評価の総和により
求められ、多くて１２点である。塗膜と鋼鉄についての
個々の最大値は６点である。この値が大きい程、腐蝕抑
制が優れている。
【０１０２】
【表８】
【０１０３】実施例１１：水性アクリル分散液〔メイン
コート(Maincote)HG-54 〕中の、Ｎ−エチルモルホリン
との３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶
錯塩化合物［化合物（１０１）］の、腐蝕抑制剤として
の検定 メインコート(Maincote)HG-54 を基材とする塗料組成物
を製造するために、成分１ないし８（腐蝕抑制剤未添加
の製剤）と１ないし９（腐蝕抑制剤を添加した製剤）を
示した順序に従って使用する（第７表を参照）。
コート(Maincote)HG-54 〕中の、Ｎ−エチルモルホリン
との３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン酸の結晶
錯塩化合物［化合物（１０１）］の、腐蝕抑制剤として
の検定 メインコート(Maincote)HG-54 を基材とする塗料組成物
を製造するために、成分１ないし８（腐蝕抑制剤未添加
の製剤）と１ないし９（腐蝕抑制剤を添加した製剤）を
示した順序に従って使用する（第７表を参照）。
【０１０４】
【表９】
【０１０５】全固形分含量：４７％；ｐＨ；８ないし
８．５；ａ）（登録商標）メチルカルビノール：ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル（ユニオンカーバイ
ド）；ｂ）（登録商標）オロタン(Orotan) 165：分散剤
（ロームアンドハース）；ｃ）（登録商標）トリトン(T
riton)CF 10 ：非イオン湿潤剤（ロームアンドハー
ス）；ｄ）（登録商標）ドループラス(Drew Plus)TS 43
80：消泡剤（Drew Chem.Corp.)；ｅ）（登録商標）アク
リゾール(Acrysol)RM 8 ：非イオン増粘剤（ロームアン
ドハース）；ｆ）バイフェロックス(Bayferrox) 130M：
赤色酸化鉄（バイエルＡＧ）；ｇ）（登録商標）ミリカ
ルブ(Millicarb) ：炭酸カルシウム（オムヤ(Omya)) ；
ｈ）メインコート(Maincote)HG-54 ：アクリル分散液，
脱イオン水中４１．５％（ロームアンドハース）；ｉ）
テキサノール(Texanol) ：融合助剤(Eastman Chem. Pro
d.,Inc.)；k)ジブチルフタレート：可塑剤(Eastman Che
m. Prod.,Inc.)；ｌ）亜硝酸ナトリウム：銹抑制(Fluk
a) ；ｍ）（登録商標）ドルー(Drew)T 4310 ：非イオン
消泡剤（Drew Chem.Corp.)。
８．５；ａ）（登録商標）メチルカルビノール：ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル（ユニオンカーバイ
ド）；ｂ）（登録商標）オロタン(Orotan) 165：分散剤
（ロームアンドハース）；ｃ）（登録商標）トリトン(T
riton)CF 10 ：非イオン湿潤剤（ロームアンドハー
ス）；ｄ）（登録商標）ドループラス(Drew Plus)TS 43
80：消泡剤（Drew Chem.Corp.)；ｅ）（登録商標）アク
リゾール(Acrysol)RM 8 ：非イオン増粘剤（ロームアン
ドハース）；ｆ）バイフェロックス(Bayferrox) 130M：
赤色酸化鉄（バイエルＡＧ）；ｇ）（登録商標）ミリカ
ルブ(Millicarb) ：炭酸カルシウム（オムヤ(Omya)) ；
ｈ）メインコート(Maincote)HG-54 ：アクリル分散液，
脱イオン水中４１．５％（ロームアンドハース）；ｉ）
テキサノール(Texanol) ：融合助剤(Eastman Chem. Pro
d.,Inc.)；k)ジブチルフタレート：可塑剤(Eastman Che
m. Prod.,Inc.)；ｌ）亜硝酸ナトリウム：銹抑制(Fluk
a) ；ｍ）（登録商標）ドルー(Drew)T 4310 ：非イオン
消泡剤（Drew Chem.Corp.)。
【０１０６】成分１ないし８及び１ないし９を、３００
０ｒｐｍにおける羽根車で＜１５μｍの粒径になるまで
分散する。顔料ペーストの粒径は、グランドメータ値
（ＩＳＯ １５２４）から決定する。新規の腐蝕抑制剤
の量は、添加物を添加してない製剤の全固形分含量を基
準にする（全固形分含量：４７％）。従って、分散液１
００ｇ中の腐蝕抑制剤１％の添加は、０．４７ｇに相当
する。塗料組成物を、第７表に示したとおりの成分１０
ないし１６を示した順序で減速攪拌速度（１０００ｒｐ
ｍ）で添加することにより仕上げる。製剤のｐＨを、チ
ェックしそして、適用前に、必要ならばアンモニア溶液
（２５％）でｐＨ８−８．５に調節する。
０ｒｐｍにおける羽根車で＜１５μｍの粒径になるまで
分散する。顔料ペーストの粒径は、グランドメータ値
（ＩＳＯ １５２４）から決定する。新規の腐蝕抑制剤
の量は、添加物を添加してない製剤の全固形分含量を基
準にする（全固形分含量：４７％）。従って、分散液１
００ｇ中の腐蝕抑制剤１％の添加は、０．４７ｇに相当
する。塗料組成物を、第７表に示したとおりの成分１０
ないし１６を示した順序で減速攪拌速度（１０００ｒｐ
ｍ）で添加することにより仕上げる。製剤のｐＨを、チ
ェックしそして、適用前に、必要ならばアンモニア溶液
（２５％）でｐＨ８−８．５に調節する。
【０１０７】塗料組成物を、無気散布、刷毛塗り、ロー
ラー塗り又は、希釈後、常用の散布により、適用でき
る。所望の散布粘度への希釈は、ブチルグリコール／水
（１：１ ｇ／ｇ）の添加により実施される。次の実施
例では、塗料組成物は通常の散布により実施例９ないし
１１に従って適用される。
ラー塗り又は、希釈後、常用の散布により、適用でき
る。所望の散布粘度への希釈は、ブチルグリコール／水
（１：１ ｇ／ｇ）の添加により実施される。次の実施
例では、塗料組成物は通常の散布により実施例９ないし
１１に従って適用される。
【０１０８】製剤は、ボンダー（Bonder) 型〔冷間圧
延、脱脂鉄鋼；製造：ドイツ国／マイン，フランクフル
ト在，ヒェメタール(Chemetall) 〕の圧延鉄鋼板（１９
×１０．５ｃｍ）に、乾燥後の層厚が５０−５５μｍに
なるように適用する（乾燥条件：室温で１０日間）。
延、脱脂鉄鋼；製造：ドイツ国／マイン，フランクフル
ト在，ヒェメタール(Chemetall) 〕の圧延鉄鋼板（１９
×１０．５ｃｍ）に、乾燥後の層厚が５０−５５μｍに
なるように適用する（乾燥条件：室温で１０日間）。
【０１０９】耐候試験の前に、平行な切り傷（換言すれ
ば、鋼鉄板の長辺に平行）を、ボンダークロスカット装
置〔２０５型；供給者；ドイツ国／ヘメル，ラウ(Lau)
〕を使用して、塗膜の一定損傷として、付ける。鉄鋼
板の端部は、端保護剤〔登録商標）イコシト(Icosit)２
５５；供給者：スイス国，ウィンターツル，イネルトル
(Inertol) ＡＧ〕を適用することにより保護される。
ば、鋼鉄板の長辺に平行）を、ボンダークロスカット装
置〔２０５型；供給者；ドイツ国／ヘメル，ラウ(Lau)
〕を使用して、塗膜の一定損傷として、付ける。鉄鋼
板の端部は、端保護剤〔登録商標）イコシト(Icosit)２
５５；供給者：スイス国，ウィンターツル，イネルトル
(Inertol) ＡＧ〕を適用することにより保護される。
【０１１０】次いで、試料を１６８時間にわたる塩水散
布試験法による迅速耐候試験（ＤＩＮ ５０ ０２１
ＳＳ）に及び３３０時間にわたる湿潤試験（ＡＳＴＭ
Ｄ４５８５−８７）に処する。結果は第８表と第９表に
記載されている。結果の評価は、ＣＰＦ〔腐蝕保護因子
（Ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆａｃ
ｔｏｒ）〕を示すことによる比例スキームに従った適切
なＤＩＮ標準に基づいて作製される。ＣＰＦは塗膜と鋼
鉄の評価の総和により求められ、多くて１２点である。
塗膜と鋼鉄についての個々の最大値は６点である。この
値が大きい程、腐蝕抑制が優れている。
布試験法による迅速耐候試験（ＤＩＮ ５０ ０２１
ＳＳ）に及び３３０時間にわたる湿潤試験（ＡＳＴＭ
Ｄ４５８５−８７）に処する。結果は第８表と第９表に
記載されている。結果の評価は、ＣＰＦ〔腐蝕保護因子
（Ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｆａｃ
ｔｏｒ）〕を示すことによる比例スキームに従った適切
なＤＩＮ標準に基づいて作製される。ＣＰＦは塗膜と鋼
鉄の評価の総和により求められ、多くて１２点である。
塗膜と鋼鉄についての個々の最大値は６点である。この
値が大きい程、腐蝕抑制が優れている。
【０１１１】
【表１０】
【０１１２】
【表１１】
【０１１３】実施例１２：レジドロール(Resydrol) AZ
436W/ ダオタン(Daotan) VTW 1237 を基材とした水希釈
性アルキド／ウレタン・プライマー中の、Ｎ−エチルモ
ルホリンとの３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸の結晶錯塩化合物［化合物（１０１）］の、腐蝕抑制
剤としての検定 レジドロール(Resydrol) AZ 436W/ ダオタン(Daotan) V
TW 1237 を基材とした塗料組成物を製造するために、成
分１ないし１２を示した順序に従って使用する（第１０
表を参照）。
436W/ ダオタン(Daotan) VTW 1237 を基材とした水希釈
性アルキド／ウレタン・プライマー中の、Ｎ−エチルモ
ルホリンとの３−（４−メチルベンゾイル）プロピオン
酸の結晶錯塩化合物［化合物（１０１）］の、腐蝕抑制
剤としての検定 レジドロール(Resydrol) AZ 436W/ ダオタン(Daotan) V
TW 1237 を基材とした塗料組成物を製造するために、成
分１ないし１２を示した順序に従って使用する（第１０
表を参照）。
【０１１４】
【表１２】
【０１１５】ａ）（登録商標）レジドロール(Resydrol)
AZ 436W：アルキド樹脂けん濁液（ヘキストＡＧ）；
ｂ）（登録商標）アジトール(Additol) VXW 4940：固形
物（Ｃｏ，Ｚｒ，Ｂａを基材にした金属乾燥剤）（ヘキ
ストＡＧ）；ｃ）ダオタン(Daotan) VTW 1237 ：ポリウ
レタンけん濁液（ヘキストＡＧ）：ｄ）（登録商標）ス
ルフィノール(Sulfinol)SE：非イオン湿潤剤(Air Produ
cts and Chemicals)；ｅ）（登録商標）アジトール(Add
itol) VXW 4973：消泡剤（ヘキストＡＧ）；ｆ）ボーチ
ゲル(Borchigel)L75：増粘剤 (ゲブリュデル・ボーチェ
ルスＡＧ）；ｇ）（登録商標）ミクロトルク(Mikrotal
k) AT Extra：微粉化タルク（ノルウェー産）；ｈ）バ
イフェロックス(Bayferrox) 130M：赤色酸化鉄（バイエ
ルＡＧ）；ｉ）（登録商標）ミリカルブ(Millicarb) ：
炭酸カルシウム（ファーマ・オムヤ(Firma Omya)) 。
AZ 436W：アルキド樹脂けん濁液（ヘキストＡＧ）；
ｂ）（登録商標）アジトール(Additol) VXW 4940：固形
物（Ｃｏ，Ｚｒ，Ｂａを基材にした金属乾燥剤）（ヘキ
ストＡＧ）；ｃ）ダオタン(Daotan) VTW 1237 ：ポリウ
レタンけん濁液（ヘキストＡＧ）：ｄ）（登録商標）ス
ルフィノール(Sulfinol)SE：非イオン湿潤剤(Air Produ
cts and Chemicals)；ｅ）（登録商標）アジトール(Add
itol) VXW 4973：消泡剤（ヘキストＡＧ）；ｆ）ボーチ
ゲル(Borchigel)L75：増粘剤 (ゲブリュデル・ボーチェ
ルスＡＧ）；ｇ）（登録商標）ミクロトルク(Mikrotal
k) AT Extra：微粉化タルク（ノルウェー産）；ｈ）バ
イフェロックス(Bayferrox) 130M：赤色酸化鉄（バイエ
ルＡＧ）；ｉ）（登録商標）ミリカルブ(Millicarb) ：
炭酸カルシウム（ファーマ・オムヤ(Firma Omya)) 。
【０１１６】レジドロール(Resydrol) AZ 436W／ダオタ
ン(Daotan) VTW 1237 を基材にした塗料組成物を製造す
るために、初めにレジドロール(Resydrol) AZ 436W（成
分１）をアンモニア溶液（成分２）でｐＨ＝８．５に調
節する。次いで成分３を混合物中に十分に分散する。ダ
オタン(Daotan) VTW 1237 （成分４）を成分１ないし３
の後に添加し、ｐＨを検査しそして、必要ならば、アン
モニア溶液でｐＨ＝８．５に調節する。次いで、成分５
ないし１２を示した順序に従って添加し、そしてバッチ
を前分散だけする。１夜放置後、組成物を＜１５μｍ以
下の粒径まで分散する。粒径をグラインドメータ値（Ｉ
ＳＯ １５２４）から決定する。本発明の腐蝕抑制剤の
量は、腐蝕抑制剤を添加してない製剤の全固形分含量を
基準にしている（全固形分含量：５１％）。従って、プ
ライマー１００ｇに対する腐蝕抑制剤１％の添加は、量
０．５１ｇを意味する。
ン(Daotan) VTW 1237 を基材にした塗料組成物を製造す
るために、初めにレジドロール(Resydrol) AZ 436W（成
分１）をアンモニア溶液（成分２）でｐＨ＝８．５に調
節する。次いで成分３を混合物中に十分に分散する。ダ
オタン(Daotan) VTW 1237 （成分４）を成分１ないし３
の後に添加し、ｐＨを検査しそして、必要ならば、アン
モニア溶液でｐＨ＝８．５に調節する。次いで、成分５
ないし１２を示した順序に従って添加し、そしてバッチ
を前分散だけする。１夜放置後、組成物を＜１５μｍ以
下の粒径まで分散する。粒径をグラインドメータ値（Ｉ
ＳＯ １５２４）から決定する。本発明の腐蝕抑制剤の
量は、腐蝕抑制剤を添加してない製剤の全固形分含量を
基準にしている（全固形分含量：５１％）。従って、プ
ライマー１００ｇに対する腐蝕抑制剤１％の添加は、量
０．５１ｇを意味する。
【０１１７】通常の散布のために、ペイント製剤を所望
の散布粘度まで脱イオン水で調節する。
の散布粘度まで脱イオン水で調節する。
【０１１８】ペイント製剤は、ボンダー（Bonder) 型
〔冷間圧延、脱脂鉄鋼；製造：ドイツ国／マイン，フラ
ンクフルト在，ヒェメタール(Chemetall) 〕の圧延鉄鋼
板（１９×１０．５ｃｍ）に、乾燥後の層厚が５０−５
５μｍになるように適用する（乾燥条件：室温で１４日
間）。
〔冷間圧延、脱脂鉄鋼；製造：ドイツ国／マイン，フラ
ンクフルト在，ヒェメタール(Chemetall) 〕の圧延鉄鋼
板（１９×１０．５ｃｍ）に、乾燥後の層厚が５０−５
５μｍになるように適用する（乾燥条件：室温で１４日
間）。
【０１１９】耐候試験の前に、平行な切り傷（換言すれ
ば、鋼鉄板の長辺に平行）を、ボンダークロスカット装
置〔２０５型；供給者；ドイツ国／ヘメル，ラウ(Lau)
〕を使用して、塗膜の一定損傷として、付ける。鉄鋼
板の端部は、端保護剤〔登録商標）イコシト(Icosit)２
５５；供給者：スイス国，ウィンターツル，イネルトル
(Inertol) ＡＧ〕を適用することにより保護される。
ば、鋼鉄板の長辺に平行）を、ボンダークロスカット装
置〔２０５型；供給者；ドイツ国／ヘメル，ラウ(Lau)
〕を使用して、塗膜の一定損傷として、付ける。鉄鋼
板の端部は、端保護剤〔登録商標）イコシト(Icosit)２
５５；供給者：スイス国，ウィンターツル，イネルトル
(Inertol) ＡＧ〕を適用することにより保護される。
【０１２０】次いで、試料を１２０時間にわたる塩水散
布試験法による迅速耐候試験（ＤＩＮ ５０ ０２１
ＳＳ）に処する。腐蝕抑制 ＣＰＦの評価は、実施例１
１に従ってされる。結果を第１１表に記載する。この値
が大きい程、腐蝕抑制が優れている。
布試験法による迅速耐候試験（ＤＩＮ ５０ ０２１
ＳＳ）に処する。腐蝕抑制 ＣＰＦの評価は、実施例１
１に従ってされる。結果を第１１表に記載する。この値
が大きい程、腐蝕抑制が優れている。
【０１２１】
【表１３】
【図１】錯塩化合物（１０１）の結晶充填を示す。
【図２】錯塩化合物（１０１）中の原子の番号付を示
す。
す。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｆ 11/00 Ｃ 8414−4Ｋ
Claims (17)
- 【請求項１】式Ｉ： 【化１】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は各々他と独
立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし１５のアルキル基、炭
素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数
２ないし１５のアルケニル基、炭素原子数１ないし１２
のハロアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキ
シ基、炭素原子数１ないし１２のアルキルチオ基、未置
換の又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換され
ている炭素原子数６ないし１０のアリール基；未置換の
又は炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されてい
る炭素原子数６ないし１０のアリールオキシ基；未置換
の炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基又はア
リール基部分が１ないし３個の炭素原子数１ないし４の
アルキル基により置換されている炭素原子数７ないし１
２のアリールアルキル基；−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又
は−Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し；但し、Ｒ1 ないし
Ｒ5 の少なくとも一つは水素原子、ハロゲン原子又は炭
素原子数１ないし１５のアルキル基を表し；そして置換
基Ｒ1 とＲ2 、Ｒ2 とＲ3 、Ｒ3 とＲ4 、又はＲ4 とＲ
5 の各々の対は、結合している炭素原子と一緒になっ
て、ベンゼン又はシクロヘキセニル環を形成し；Ｒ6 は
炭素原子数１ないし２０のアルキル基、酸素原子、硫黄
原子又は＞Ｎ−Ｒ9 により中断されている炭素原子数２
ないし２０のアルキル基、未置換の炭素原子数７ないし
１２のアリールアルキル基又はアリール基部分が１ない
し３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換
されている炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル
基を表し；Ｒ7 及びＲ8 は各々他と独立して、水素原
子、炭素原子数１ないし２４のアルキル基又は酸素原
子、硫黄原子又は＞Ｎ−Ｒ9 により中断されている炭素
原子数２ないし２４のアルキル基を表し；Ｒ9 は水素原
子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；Ｒ10
は炭素原子数１ないし１５のアルキル基、酸素原子、硫
黄原子又は＞Ｎ−Ｒ9 により中断されている炭素原子数
２ないし２０のアルキル基；炭素原子数５ないし１２の
シクロアルキル基、炭素原子数２ないし１５のアルケニ
ル基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原
子数１ないし１２のアルキルチオ基、未置換の又は炭素
原子数１ないし４のアルキル基により置換されている炭
素原子数６ないし１０のアリール基；未置換の又は炭素
原子数１ないし４のアルキル基により置換されている炭
素原子数６ないし１０のアリールオキシ基；未置換の又
は炭素原子数７ないし１２のアリールアルキル基又はア
リール基部分が１ないし３個の炭素原子数１ないし４の
アルキル基により置換されている炭素原子数７ないし１
２のアリールアルキル基を表し；そしてｍが２ないし５
の整数を表す。）の結晶錯塩化合物。 - 【請求項２】Ｒ1 ないしＲ5 の少なくとも二つが水素原
子である請求項１記載の結晶錯塩化合物。 - 【請求項３】Ｒ1 が水素原子を表し；Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4
及びＲ5 が各々他と独立して、水素原子、塩素原子、臭
素原子、ニトロ基、シアノ基、ＣＦ3 、炭素原子数１な
いし８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロア
ルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケニル基、炭素
原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし
８のアルキルチオ基、フェニル基、フェノキシ基、ベン
ジル基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−Ｎ（−Ｒ7 ）
（−Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、酸素原子により中断されている炭素原子数２
ないし１２のアルキル基；又はベンジル基を表し；そし
てＲ7 及びＲ8 が各々他と独立して、水素原子、炭素原
子数１ないし８のアルキル基又は酸素原子により中断さ
れている炭素原子数２ないし１２のアルキル基を表す請
求項１記載の結晶錯塩化合物。 - 【請求項４】Ｒ10が炭素原子数１ないし８のアルキル
基、酸素原子又は硫黄原子により中断されている炭素原
子数３ないし１２のアルキル基；炭素原子数５ないし７
のシクロアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケニ
ル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素原子
数１ないし８のアルキルチオ基、フェニル基、フェノキ
シ基又はベンジル基を表す請求項１記載の結晶錯塩化合
物。 - 【請求項５】Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ4 が水素原子を表し；Ｒ
3 及びＲ5 が各々他と独立して、水素原子、塩素原子、
臭素原子、ＣＦ3 、炭素原子数１ないし８のアルキル
基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし８のアルコ
キシ基、フェニル基、−ＣＯ2 Ｒ6 、−ＣＯＲ6 又は−
Ｎ（−Ｒ7 ）（−Ｒ8 ）を表し；Ｒ6 が炭素原子数１な
いし８のアルキル基を表し；Ｒ7 及びＲ8 が各々他と独
立して、水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル
基を表し；Ｒ10が炭素原子数１ないし８のアルキル基、
シクロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基を表し；
そしてｍが２ないし４の整数を表す請求項１記載の結晶
錯塩化合物。 - 【請求項６】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ5 が水素原子を表
し；そしてｍが２を表す請求項１記載の結晶錯塩化合
物。 - 【請求項７】Ｒ10が炭素原子数１ないし４のアルキル基
を表す請求項１記載の結晶錯塩化合物。 - 【請求項８】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ5 が水素原子を表
し；Ｒ3 が水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル
基、フェニル基又は塩素原子を表し；Ｒ10が炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表し；そしてｍが２を表す請
求項１記載の結晶錯塩化合物。 - 【請求項９】ａ）有機膜形成結合剤、及び ｂ）腐蝕抑制剤としての、少なくとも１種の請求項１記
載の式Ｉの結晶錯塩化合物 からなる塗料組成物。 - 【請求項１０】塗料組成物がペイント系である請求項９
記載の塗料組成物。 - 【請求項１１】塗料組成物が水性ペイント系である請求
項９記載の塗料組成物。 - 【請求項１２】成分ａ）が、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アクリルコ
ポリマー樹脂、ポリビニル樹脂、フェノール樹脂、アル
キド樹脂又はそのような樹脂の混合物からなる群から選
ばれている請求項９記載の塗料組成物。 - 【請求項１３】顔料、染料、充填剤、流れ調節剤、分散
剤、チキソトロープ剤、定着剤、抗酸化剤、光安定剤及
び硬化触媒からなる群から選ばれた１種又は１種以上の
成分を追加して含有する請求項９記載の塗料組成物。 - 【請求項１４】下記塗料組成物の全固形物含有量の重量
を基準にして、成分０．０２ないし２０％を含有する請
求項９記載の塗料組成物。 - 【請求項１５】請求項１で請求した式Ｉの結晶化合物の
製造方法であって；式II： 【化２】 （式中、一般記号は請求項１で定義されたとおりであ
る。）のケト酸を、式III： 【化３】 （式中、Ｒ10は請求項１で定義されたとおりである。）
のモルホリン誘導体と、溶媒無しで又は非プロトン性溶
媒の存在下、反応させることからなる方法。 - 【請求項１６】式IIのケト酸の、式III のモルホリン誘
導体に対するモル比が、４：１ないし１：４である請求
項１５記載の方法。 - 【請求項１７】式II： 【化４】 （式中、一般記号は請求項１で定義されたとおりであ
る。）のケト酸を、式III： 【化５】 （式中、Ｒ10は請求項１で定義されたとおりである。）
のモルホリン誘導体と、溶媒無しで又は非プロトン性溶
媒の存在下、反応させることにより得られる生成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH14994 | 1994-01-18 | ||
| CH149/94-3 | 1994-01-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07242648A true JPH07242648A (ja) | 1995-09-19 |
| JP3297832B2 JP3297832B2 (ja) | 2002-07-02 |
Family
ID=4180369
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02354795A Expired - Fee Related JP3297832B2 (ja) | 1994-01-18 | 1995-01-18 | 腐蝕抑制剤としての、モルホリン誘導体のケト酸との錯塩 |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5519074A (ja) |
| EP (1) | EP0669328B1 (ja) |
| JP (1) | JP3297832B2 (ja) |
| KR (1) | KR100355315B1 (ja) |
| CN (1) | CN1062862C (ja) |
| AT (1) | ATE171701T1 (ja) |
| AU (1) | AU684855B2 (ja) |
| BR (1) | BR9500233A (ja) |
| CA (1) | CA2140313A1 (ja) |
| DE (1) | DE59503741D1 (ja) |
| ES (1) | ES2122494T3 (ja) |
| HK (1) | HK1005688A1 (ja) |
| RU (1) | RU2136671C1 (ja) |
| SG (1) | SG63623A1 (ja) |
| TW (1) | TW327189B (ja) |
| ZA (1) | ZA95346B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015129377A1 (ja) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | ナミックス株式会社 | 導電性接着剤および半導体装置 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW428018B (en) * | 1995-06-29 | 2001-04-01 | Ciba Sc Holding Ag | Aminosilane salts and silanamides of carboxylic acids as corrosion inhibitors |
| KR20020068683A (ko) * | 2001-02-22 | 2002-08-28 | 길기근 | 액체 가열용 전기 히터봉 |
| US7306663B2 (en) * | 2003-08-05 | 2007-12-11 | Halox, Division Of Hammond Group, Inc. | Corrosion inhibitor |
| CN102766873A (zh) * | 2012-07-12 | 2012-11-07 | 广州洛德化工科贸有限公司 | 一种适用于无氟制冷行业的水性防锈剂 |
| US10793724B2 (en) | 2017-11-08 | 2020-10-06 | Winimac Coil Spring, Inc. | Formulation and methods for coating metal surfaces |
| CN112811614A (zh) * | 2020-12-03 | 2021-05-18 | 嘉兴沃特泰科环保科技股份有限公司 | 一种循环水无磷阻垢剂及其制备方法 |
| AU2022229530A1 (en) * | 2021-03-05 | 2023-10-12 | Prc-Desoto International, Inc. | Corrosion inhibiting coating compositions |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4366076A (en) * | 1980-06-11 | 1982-12-28 | Ciba-Geigy Corporation | Corrosion inhibited compositions |
| DE3338953A1 (de) * | 1983-10-27 | 1985-05-09 | Henkel KGaA, 4000 Düsseldorf | Verwendung von korrosionsinhibitoren in waessrigen systemen |
| DE3881770T2 (de) * | 1987-07-20 | 1993-10-07 | Cometec Srl | Zusammensetzungen zum Fördern der Tierwachstums. |
| GB8918086D0 (en) * | 1989-08-08 | 1989-09-20 | Ciba Geigy | Coating compositions |
| GB9101468D0 (en) * | 1991-01-23 | 1991-03-06 | Ciba Geigy | Coating compositions |
-
1994
- 1994-12-09 TW TW083111466A patent/TW327189B/zh active
- 1994-12-22 AU AU81668/94A patent/AU684855B2/en not_active Ceased
-
1995
- 1995-01-10 DE DE59503741T patent/DE59503741D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-01-10 AT AT95810018T patent/ATE171701T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-01-10 EP EP95810018A patent/EP0669328B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-01-10 RU RU95100177/04A patent/RU2136671C1/ru not_active IP Right Cessation
- 1995-01-10 ES ES95810018T patent/ES2122494T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-01-10 SG SG1996007804A patent/SG63623A1/en unknown
- 1995-01-12 US US08/371,632 patent/US5519074A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-01-13 KR KR1019950000628A patent/KR100355315B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-01-16 CN CN95101410A patent/CN1062862C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-01-16 CA CA002140313A patent/CA2140313A1/en not_active Abandoned
- 1995-01-17 BR BR9500233A patent/BR9500233A/pt not_active IP Right Cessation
- 1995-01-17 ZA ZA95346A patent/ZA95346B/xx unknown
- 1995-01-18 JP JP02354795A patent/JP3297832B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-06-04 HK HK98104893A patent/HK1005688A1/xx not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015129377A1 (ja) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | ナミックス株式会社 | 導電性接着剤および半導体装置 |
| JPWO2015129377A1 (ja) * | 2014-02-25 | 2017-03-30 | ナミックス株式会社 | 導電性接着剤および半導体装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1116196A (zh) | 1996-02-07 |
| BR9500233A (pt) | 1995-10-17 |
| EP0669328B1 (de) | 1998-09-30 |
| DE59503741D1 (de) | 1998-11-05 |
| AU8166894A (en) | 1995-07-27 |
| CN1062862C (zh) | 2001-03-07 |
| EP0669328A1 (de) | 1995-08-30 |
| RU2136671C1 (ru) | 1999-09-10 |
| TW327189B (en) | 1998-02-21 |
| US5519074A (en) | 1996-05-21 |
| HK1005688A1 (en) | 1999-01-22 |
| ATE171701T1 (de) | 1998-10-15 |
| JP3297832B2 (ja) | 2002-07-02 |
| ES2122494T3 (es) | 1998-12-16 |
| CA2140313A1 (en) | 1995-07-19 |
| ZA95346B (en) | 1995-07-18 |
| RU95100177A (ru) | 1996-10-27 |
| KR100355315B1 (ko) | 2002-12-26 |
| AU684855B2 (en) | 1998-01-08 |
| KR950032153A (ko) | 1995-12-20 |
| SG63623A1 (en) | 1999-03-30 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |