JPH07238046A - フェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類、ペンタノン類及びフェニル置換プロスタグランジンｉ２類中間体並びにその製造法及び光学分割法 - Google Patents
フェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類、ペンタノン類及びフェニル置換プロスタグランジンｉ２類中間体並びにその製造法及び光学分割法Info
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- JPH07238046A JPH07238046A JP6051216A JP5121694A JPH07238046A JP H07238046 A JPH07238046 A JP H07238046A JP 6051216 A JP6051216 A JP 6051216A JP 5121694 A JP5121694 A JP 5121694A JP H07238046 A JPH07238046 A JP H07238046A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 一般式Ｉのフェニル置換ヒドロキシシクロペ
ンテノン類。 ［Ｚ１はＨまたはＯＨの保護基を、Ｘ１はハロゲン原
子、ＯＨ、ＳＨ、アミノ基、あるいは「Ｃ１〜６のアル
キル基、またはＣ１〜８のアラルキル基」で置換された
アミノ基等を、Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （Ｙ１とＹ２はそれぞれＯまたはＳを、Ａはビニレン
基、エチニレン基、またはアレンの両端のＣから１個ず
つＨを除いた２価の基を、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は
Ｈ、Ｃ１〜４のアルキル基、またはＣ１〜４のアルコキ
シ基を、ＱはＨ、−ＣＯＯＨ、シアノ基、ＯＨ等の基ま
たはフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を
示し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。］ 【効果】 化合物はフェニル置換ＰＧＩ2類の合成中間
体として有用である。
ンテノン類。 ［Ｚ１はＨまたはＯＨの保護基を、Ｘ１はハロゲン原
子、ＯＨ、ＳＨ、アミノ基、あるいは「Ｃ１〜６のアル
キル基、またはＣ１〜８のアラルキル基」で置換された
アミノ基等を、Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （Ｙ１とＹ２はそれぞれＯまたはＳを、Ａはビニレン
基、エチニレン基、またはアレンの両端のＣから１個ず
つＨを除いた２価の基を、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は
Ｈ、Ｃ１〜４のアルキル基、またはＣ１〜４のアルコキ
シ基を、ＱはＨ、−ＣＯＯＨ、シアノ基、ＯＨ等の基ま
たはフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を
示し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。］ 【効果】 化合物はフェニル置換ＰＧＩ2類の合成中間
体として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、種々の医薬品として有
用なフェニル置換プロスタグランジンＩ２（以下フェニ
ル置換ＰＧＩ２と略称する）類の新規な製造方法及びそ
れに対して有用な新規な中間体に関する。
用なフェニル置換プロスタグランジンＩ２（以下フェニ
ル置換ＰＧＩ２と略称する）類の新規な製造方法及びそ
れに対して有用な新規な中間体に関する。
【０００２】
【従来の技術】プロスタグランジン（以下、ＰＧと略称
する）は微量で種々の重要な生理作用を示すことから、
医薬への応用を意図した検討が活発に行なわれている。
中でもプロスタグランジンＩ２（以下、ＰＧＩ２と略称
する）類は、天然ＰＧＩ２であるプロスタサイクリンの
みならず多くの類縁体が合成されその生物活性が検討さ
れ、いくつかの化合物が医薬品として実用化されてい
る。
する）は微量で種々の重要な生理作用を示すことから、
医薬への応用を意図した検討が活発に行なわれている。
中でもプロスタグランジンＩ２（以下、ＰＧＩ２と略称
する）類は、天然ＰＧＩ２であるプロスタサイクリンの
みならず多くの類縁体が合成されその生物活性が検討さ
れ、いくつかの化合物が医薬品として実用化されてい
る。
【０００３】特にフラン環部をベンゾフラン環としたフ
ェニル置換ＰＧＩ２誘導体であるベラプロスト（東レ、
科研製薬）は、経口投与可能なプロスタサイクリン誘導
体として市販されている。
ェニル置換ＰＧＩ２誘導体であるベラプロスト（東レ、
科研製薬）は、経口投与可能なプロスタサイクリン誘導
体として市販されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする問題点】従来報告されている
フェニル置換ＰＧＩ２誘導体の合成法としては、ベラプ
ロストのラセミ体の合成法［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔ．、１９９０年、４４８９頁］（スキ−ム
１）、及び光学活性体の合成法［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔ．、１９９０年、４４９３頁］（スキ−ム
２）が知られている。
フェニル置換ＰＧＩ２誘導体の合成法としては、ベラプ
ロストのラセミ体の合成法［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔ．、１９９０年、４４８９頁］（スキ−ム
１）、及び光学活性体の合成法［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔ．、１９９０年、４４９３頁］（スキ−ム
２）が知られている。
【０００５】
【化１５】
【０００６】しかしながら、スキ−ム１は、全１１工
程、スキ−ム２では、全２０工程であり、収率はどちら
も１％以下であり、実用的な製造法としては満足のいく
方法ではない。
程、スキ−ム２では、全２０工程であり、収率はどちら
も１％以下であり、実用的な製造法としては満足のいく
方法ではない。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討を
行なった結果、以下に示すような新規な中間体及びそれ
らを用いたフェニル置換ＰＧＩ２類の有効な製造法を見
いだし、本発明を完成するに至った。
行なった結果、以下に示すような新規な中間体及びそれ
らを用いたフェニル置換ＰＧＩ２類の有効な製造法を見
いだし、本発明を完成するに至った。
【０００８】すなわち、本発明は、スキ−ム３に示すご
とく、式［ＩＩ］のフラン誘導体を酸触媒存在下転位反
応させて式［ＩＩＩ］の化合物とし、さらに酸性条件ま
たは塩基性条件下で異性化反応させ、必要に応じて水酸
基を保護することにより、式［Ｉ］の新規フェニル置換
ヒドロキシシクロペンテノン類を製造することができ、
このフェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類［Ｉ］
に式［ＶＩＩＩ］のＭ−Ｘ３で示される求核試薬を反応
させることにより、式［ＩＶ］の新規フェニル置換ヒド
ロキシシクロペンタノン類を製造することができ、この
フェニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類［ＩＶ］を
還元剤と反応させることにより、式［Ｖ］の新規フェニ
ル置換ジヒドロキシシクロペンタン類を製造することが
でき、さらにこのフェニル置換ジヒドロキシシクロペン
タン類［Ｖ］を環化させることで式［ＶＩ］のフェニル
置換ＰＧＩ２類を製造し得ると共に、この式［ＶＩ］の
フェニル置換ＰＧＩ２類の内、式［ＶＩＩ］で表わされ
る化合物は、フェニル置換プロスタグランジンＩ２類へ
と誘導するのに有用である新規な中間体であることを見
い出した。
とく、式［ＩＩ］のフラン誘導体を酸触媒存在下転位反
応させて式［ＩＩＩ］の化合物とし、さらに酸性条件ま
たは塩基性条件下で異性化反応させ、必要に応じて水酸
基を保護することにより、式［Ｉ］の新規フェニル置換
ヒドロキシシクロペンテノン類を製造することができ、
このフェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類［Ｉ］
に式［ＶＩＩＩ］のＭ−Ｘ３で示される求核試薬を反応
させることにより、式［ＩＶ］の新規フェニル置換ヒド
ロキシシクロペンタノン類を製造することができ、この
フェニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類［ＩＶ］を
還元剤と反応させることにより、式［Ｖ］の新規フェニ
ル置換ジヒドロキシシクロペンタン類を製造することが
でき、さらにこのフェニル置換ジヒドロキシシクロペン
タン類［Ｖ］を環化させることで式［ＶＩ］のフェニル
置換ＰＧＩ２類を製造し得ると共に、この式［ＶＩ］の
フェニル置換ＰＧＩ２類の内、式［ＶＩＩ］で表わされ
る化合物は、フェニル置換プロスタグランジンＩ２類へ
と誘導するのに有用である新規な中間体であることを見
い出した。
【０００９】さらに、フェニル置換ヒドロキシシクロペ
ンテノン類［Ｉ］の両対掌体の混合物を酵素分割するこ
とにより、光学活性な式［Ｉ］のフェニル置換ヒドロキ
シシクロペンテノン類を得ることができ、これを用いる
ことにより、対応する光学活性なフェニル置換ヒドロキ
シシクロペンタノン類［ＩＶ］、光学活性なフェニル置
換ジヒドロキシシクロペンタン類［Ｖ］、さらには光学
活性なフェニル置換ＰＧＩ２類を効率的に製造すること
ができることを知見し、本発明をなすに至ったものであ
る。
ンテノン類［Ｉ］の両対掌体の混合物を酵素分割するこ
とにより、光学活性な式［Ｉ］のフェニル置換ヒドロキ
シシクロペンテノン類を得ることができ、これを用いる
ことにより、対応する光学活性なフェニル置換ヒドロキ
シシクロペンタノン類［ＩＶ］、光学活性なフェニル置
換ジヒドロキシシクロペンタン類［Ｖ］、さらには光学
活性なフェニル置換ＰＧＩ２類を効率的に製造すること
ができることを知見し、本発明をなすに至ったものであ
る。
【００１０】
【化１６】
【００１１】式中、Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護
された水酸基、チオ−ル基、保護されたチオ−ル基、ア
ミノ基、保護されたアミノ基、あるいは「炭素数１〜６
のアルキル基、または炭素数１〜８のアラルキル基」で
置換されたアミノ基を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。
された水酸基、チオ−ル基、保護されたチオ−ル基、ア
ミノ基、保護されたアミノ基、あるいは「炭素数１〜６
のアルキル基、または炭素数１〜８のアラルキル基」で
置換されたアミノ基を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。
【００１２】Ｘ３は −Ｔ−（ＣＨ２）ｊ−Ｃ（Ｒ９）（２−ｋ）（ＯＺ２）
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１０
のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６の
アルコキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭素数１〜４のアルキ
レン基を、Ｄはフェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基もしくは
フェノキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基または炭素数５〜７のシクロアルキル基を示
す。）で表わされる基を示し、Ｚ２は水素原子または水
酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃなる基の場合水
酸基の保護基を示す。ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｎより選
ばれる金属または該金属を含む基を示す。
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１０
のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６の
アルコキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭素数１〜４のアルキ
レン基を、Ｄはフェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基もしくは
フェノキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基または炭素数５〜７のシクロアルキル基を示
す。）で表わされる基を示し、Ｚ２は水素原子または水
酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃなる基の場合水
酸基の保護基を示す。ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｎより選
ばれる金属または該金属を含む基を示す。
【００１３】Ｙ３は酸素原子、硫黄原子、−ＮＨ−また
は−ＮＲ１１−（式中、Ｒ１１は炭素数１〜６のアルキ
ル基を示す。）を示す。
は−ＮＲ１１−（式中、Ｒ１１は炭素数１〜６のアルキ
ル基を示す。）を示す。
【００１４】Ｘ４はハロゲン原子、水酸基、チオ−ル
基、アリル基、ビニル基、エチニル基、エステル基また
はシアノ基を示す。
基、アリル基、ビニル基、エチニル基、エステル基また
はシアノ基を示す。
【００１５】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の第１発明は、下記式［Ｉ］で表されるフェニル
置換ヒドロキシシクロペンテノン類に係わる。
本発明の第１発明は、下記式［Ｉ］で表されるフェニル
置換ヒドロキシシクロペンテノン類に係わる。
【００１６】
【化１７】 ［式中、Ｚ１は水素原子または水酸基の保護基を示し、
Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護された水酸基、チオ
−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ基、保護された
アミノ基、あるいは「炭素数１〜６のアルキル基、また
は炭素数１〜８のアラルキル基」で置換されたアミノ基
を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。］
Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護された水酸基、チオ
−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ基、保護された
アミノ基、あるいは「炭素数１〜６のアルキル基、また
は炭素数１〜８のアラルキル基」で置換されたアミノ基
を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。］
【００１７】本発明において、Ｚ１の水酸基の保護基と
してはＰＧの分野で通常用いられるものでよく、例えば
置換シリル基（トリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニ
ルシリル基、フェニルジメチルシリル基など）、テトラ
ヒドロピラニル（ＴＨＰ）基、テトラヒドロフラニル
基、アルコキシアルキル基（メトキシメチル基、エトキ
シエチル基など）、ベンジルオキシメチル基、ベンジル
基、トリチル基、アリル基、アシル基（ホルミル基、ア
セチル基、ベンゾイル基など）を挙げることができる。
してはＰＧの分野で通常用いられるものでよく、例えば
置換シリル基（トリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニ
ルシリル基、フェニルジメチルシリル基など）、テトラ
ヒドロピラニル（ＴＨＰ）基、テトラヒドロフラニル
基、アルコキシアルキル基（メトキシメチル基、エトキ
シエチル基など）、ベンジルオキシメチル基、ベンジル
基、トリチル基、アリル基、アシル基（ホルミル基、ア
セチル基、ベンゾイル基など）を挙げることができる。
【００１８】Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護された
水酸基、チオ−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ
基、保護されたアミノ基、あるいは「炭素数１〜６のア
ルキル基、または炭素数７〜１０のアラルキル基」で置
換されたアミノ基を示す。ハロゲン原子としては、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が用いら
れる。保護された水酸基、保護されたチオ−ル基、また
は保護されたアミノ基の保護基としては、上記の水酸基
の保護基と同様のものを挙げることができる。炭素数１
〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロプロピル
基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基などが
挙げられる。炭素数７〜１０のアラルキル基としては、
ベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−ニトロベンジ
ル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−メチルベンジル基
などが挙げられる。
水酸基、チオ−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ
基、保護されたアミノ基、あるいは「炭素数１〜６のア
ルキル基、または炭素数７〜１０のアラルキル基」で置
換されたアミノ基を示す。ハロゲン原子としては、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が用いら
れる。保護された水酸基、保護されたチオ−ル基、また
は保護されたアミノ基の保護基としては、上記の水酸基
の保護基と同様のものを挙げることができる。炭素数１
〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロプロピル
基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基などが
挙げられる。炭素数７〜１０のアラルキル基としては、
ベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｐ−ニトロベンジ
ル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−メチルベンジル基
などが挙げられる。
【００１９】Ｘ２は、α鎖としての官能基を有するフェ
ニル基上の側鎖、またはα鎖の導入・変換が可能なフェ
ニル基上の置換基を表し、ハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、
または炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わさ
れる基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、
炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされる
基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を表す。
ニル基上の側鎖、またはα鎖の導入・変換が可能なフェ
ニル基上の置換基を表し、ハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、
または炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わさ
れる基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、
炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされる
基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を表す。
【００２０】炭素数１〜４のアルキル基としては、具体
的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基または
シクロプロピル基を挙げることができる。炭素数１〜４
のアルコキシ基としては、具体的にはメトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ブトキシ
基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基またはシクロプロ
ポキシ基を挙げることができる。炭素数１〜６のアルキ
ル基としては、具体的には前記と同じものを挙げること
ができる。炭素数２〜６のアルケニル基としては、具体
的にはビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−メチ
ル−２−ブテニル基または３−メチル−２−ペンテニル
基などを挙げることができる。
的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基または
シクロプロピル基を挙げることができる。炭素数１〜４
のアルコキシ基としては、具体的にはメトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ブトキシ
基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基またはシクロプロ
ポキシ基を挙げることができる。炭素数１〜６のアルキ
ル基としては、具体的には前記と同じものを挙げること
ができる。炭素数２〜６のアルケニル基としては、具体
的にはビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−メチ
ル−２−ブテニル基または３−メチル−２−ペンテニル
基などを挙げることができる。
【００２１】上記Ｘ２の具体的な例としては、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、メトキシ基、アリ
ルオキシ基、ベンジルオキシ基、チオ−ル基、メチルチ
オ基、ベンジルチオ基、及び下記式で示されるものなど
が挙げられる。
子、臭素原子、ヨウ素原子、水酸基、メトキシ基、アリ
ルオキシ基、ベンジルオキシ基、チオ−ル基、メチルチ
オ基、ベンジルチオ基、及び下記式で示されるものなど
が挙げられる。
【００２２】
【化１８】
【００２３】
【化１９】
【００２４】本発明の第２発明は、式［ＩＩ］で表わさ
れるフラン誘導体を酸触媒存在下転位反応させて式［Ｉ
ＩＩ］の化合物とし、続いて酸性条件または塩基性条件
下で異性化反応させ、必要に応じて水酸基を保護するこ
とからなる上記式［Ｉ］のフェニル置換ヒドロキシシク
ロペンテノン類の製造方法に係わる。
れるフラン誘導体を酸触媒存在下転位反応させて式［Ｉ
ＩＩ］の化合物とし、続いて酸性条件または塩基性条件
下で異性化反応させ、必要に応じて水酸基を保護するこ
とからなる上記式［Ｉ］のフェニル置換ヒドロキシシク
ロペンテノン類の製造方法に係わる。
【００２５】ここで、原料であるフラン誘導体［ＩＩ］
は、フランの２−リチオ体（１）と、置換フェニルアル
デヒド（２）を反応させる方法（反応式１）、フルフラ
−ル（３）に、置換フェニルの求核試薬（４）を反応さ
せる方法（反応式２）等で合成することができる。
は、フランの２−リチオ体（１）と、置換フェニルアル
デヒド（２）を反応させる方法（反応式１）、フルフラ
−ル（３）に、置換フェニルの求核試薬（４）を反応さ
せる方法（反応式２）等で合成することができる。
【００２６】
【化２０】
【００２７】フラン誘導体［ＩＩ］は、酸触媒存在下加
熱すると転位反応が起こり、式［ＩＩＩ］の化合物とな
り、続いて酸性条件または塩基性条件下で異性化させ必
要に応じて水酸基を保護することにより、フェニル置換
ヒドロキシシクロペンテノン類［Ｉ］が製造できる（反
応式３）。
熱すると転位反応が起こり、式［ＩＩＩ］の化合物とな
り、続いて酸性条件または塩基性条件下で異性化させ必
要に応じて水酸基を保護することにより、フェニル置換
ヒドロキシシクロペンテノン類［Ｉ］が製造できる（反
応式３）。
【００２８】
【化２１】
【００２９】転位反応は、そのままあるいは適当な溶媒
中で行なうことができる。溶媒としては、水あるいは、
エ−テル系（ジエチルエ−テル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなど）、ハロゲン系（ジクロロメタン、ジク
ロロエタンなど）、ケトン系（アセトン、メチルイソブ
チルケトンなど）、エステル系（酢酸エチルなど）、脂
肪族炭化水素系（ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン
など）または芳香族炭化水素系（ベンゼン、トルエン、
ジクロロベンゼンなど）の有機溶媒を単独または混合し
て用いることができる。好ましくは水とテトラヒドロフ
ランの混合溶媒である。酸触媒としては、無機酸（塩
酸、硫酸など）あるいは有機酸（酢酸、トリフルオロ酢
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸など）
を、式［ＩＩ］の化合物に対して０．００１〜１００当
量、好ましくは０．０１〜１当量用いる。反応温度は、
０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは５０〜１００℃であ
る。反応時間は、基質や反応温度により異なるが、通常
０．５〜２４時間である。反応溶液を中和後、適当な有
機溶媒で抽出すれば式［ＩＩＩ］の化合物が得られる。
式［ＩＩＩ］の化合物は精製してあるいは粗製物のまま
次の反応に用いることができる。
中で行なうことができる。溶媒としては、水あるいは、
エ−テル系（ジエチルエ−テル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなど）、ハロゲン系（ジクロロメタン、ジク
ロロエタンなど）、ケトン系（アセトン、メチルイソブ
チルケトンなど）、エステル系（酢酸エチルなど）、脂
肪族炭化水素系（ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン
など）または芳香族炭化水素系（ベンゼン、トルエン、
ジクロロベンゼンなど）の有機溶媒を単独または混合し
て用いることができる。好ましくは水とテトラヒドロフ
ランの混合溶媒である。酸触媒としては、無機酸（塩
酸、硫酸など）あるいは有機酸（酢酸、トリフルオロ酢
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸など）
を、式［ＩＩ］の化合物に対して０．００１〜１００当
量、好ましくは０．０１〜１当量用いる。反応温度は、
０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは５０〜１００℃であ
る。反応時間は、基質や反応温度により異なるが、通常
０．５〜２４時間である。反応溶液を中和後、適当な有
機溶媒で抽出すれば式［ＩＩＩ］の化合物が得られる。
式［ＩＩＩ］の化合物は精製してあるいは粗製物のまま
次の反応に用いることができる。
【００３０】異性化反応は、そのままあるいは適当な溶
媒中で行なうことができる。溶媒としては、水あるい
は、エ−テル系（ジエチルエ−テル、ジオキサン、テト
ラヒドロフランなど）、ハロゲン系（ジクロロメタン、
ジクロロエタンなど）、ケトン系（アセトン、メチルイ
ソブチルケトンなど）、エステル系（酢酸エチルな
ど）、脂肪族炭化水素系（ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサンなど）または芳香族炭化水素系（ベンゼン、ト
ルエン、ジクロロベンゼンなど）の有機溶媒を単独また
は混合して用いることができる。酸性または塩基性条件
下どちらでも反応は進行するが、好ましくは塩基性条件
下で反応することが望ましい。酸触媒としては、無機酸
（塩酸、硫酸など）あるいは有機酸（酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸な
ど）を、式［ＩＩ］の化合物に対して０．００１〜１０
０当量、好ましくは０．０１〜１当量用いる。塩基性触
媒としては、有機アミン（トリエチルアミン、ピリジ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ジアザビシクロウンデセン
など）、金属酸化物（アルミナ、シリカゲルなど）、無
機塩基（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸水
素カリウムなど）を単独または混合して用いることがで
きる。使用量は、塩基によって異なり０．００１〜１０
０当量または溶媒として用いることもでき、好ましくは
式［ＩＩＩ］の化合物に対して０．０１〜５０当量用い
る。反応温度は−４０〜１００℃、好ましくは−２０〜
５０℃である。反応時間は、基質、溶媒や反応温度によ
り異なるが、通常５分〜２０時間である。なお本反応に
おいて、クロラ−ル（Ｃｌ３ＣＣＨＯ）などの電子吸引
性基を持つアルデヒドを式［ＩＩ］の化合物に対して
０．１〜３当量程度共存させておくと、反応がスム−ズ
に進行し生成物の純度も高くなる。反応溶液を中和後、
適当な有機溶媒で抽出、再結晶あるいはカラムクロマト
グラフィ−等で精製すればフェニル置換ヒドロキシシク
ロペンテノン類［Ｉ］（Ｚ１が水素原子）が得られる。
水酸基の保護は通常の方法で行なうことができフェニル
置換ヒドロキシシクロペンテノン類［Ｉ］（Ｚ１が水酸
基の保護基）に容易に誘導できる。
媒中で行なうことができる。溶媒としては、水あるい
は、エ−テル系（ジエチルエ−テル、ジオキサン、テト
ラヒドロフランなど）、ハロゲン系（ジクロロメタン、
ジクロロエタンなど）、ケトン系（アセトン、メチルイ
ソブチルケトンなど）、エステル系（酢酸エチルな
ど）、脂肪族炭化水素系（ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサンなど）または芳香族炭化水素系（ベンゼン、ト
ルエン、ジクロロベンゼンなど）の有機溶媒を単独また
は混合して用いることができる。酸性または塩基性条件
下どちらでも反応は進行するが、好ましくは塩基性条件
下で反応することが望ましい。酸触媒としては、無機酸
（塩酸、硫酸など）あるいは有機酸（酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸な
ど）を、式［ＩＩ］の化合物に対して０．００１〜１０
０当量、好ましくは０．０１〜１当量用いる。塩基性触
媒としては、有機アミン（トリエチルアミン、ピリジ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ジアザビシクロウンデセン
など）、金属酸化物（アルミナ、シリカゲルなど）、無
機塩基（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸水
素カリウムなど）を単独または混合して用いることがで
きる。使用量は、塩基によって異なり０．００１〜１０
０当量または溶媒として用いることもでき、好ましくは
式［ＩＩＩ］の化合物に対して０．０１〜５０当量用い
る。反応温度は−４０〜１００℃、好ましくは−２０〜
５０℃である。反応時間は、基質、溶媒や反応温度によ
り異なるが、通常５分〜２０時間である。なお本反応に
おいて、クロラ−ル（Ｃｌ３ＣＣＨＯ）などの電子吸引
性基を持つアルデヒドを式［ＩＩ］の化合物に対して
０．１〜３当量程度共存させておくと、反応がスム−ズ
に進行し生成物の純度も高くなる。反応溶液を中和後、
適当な有機溶媒で抽出、再結晶あるいはカラムクロマト
グラフィ−等で精製すればフェニル置換ヒドロキシシク
ロペンテノン類［Ｉ］（Ｚ１が水素原子）が得られる。
水酸基の保護は通常の方法で行なうことができフェニル
置換ヒドロキシシクロペンテノン類［Ｉ］（Ｚ１が水酸
基の保護基）に容易に誘導できる。
【００３１】本発明の第３発明は、式［ＩＶ］で表わさ
れるフェニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類に係わ
る。
れるフェニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類に係わ
る。
【００３２】
【化２２】 ［式中、Ｚ１、Ｘ１、Ｘ２は前記に同じ。Ｘ３は −Ｔ−（ＣＨ２）ｊ−Ｃ（Ｒ９）（２−ｋ）（ＯＺ２）
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ10は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１０
のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６の
アルコキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭素数１〜４のアルキ
レン基を、Ｄはフェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基もしくは
フェノキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基または炭素数５〜７のシクロアルキル基を示
す。）で表わされる基を示す。Ｚ２は水素原子または水
酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃなる基の場合水
酸基の保護基を示す。］ここで、Ｘ３はω鎖であり、上
述したように、 −Ｔ−（ＣＨ２）ｊ−Ｃ（Ｒ９）（２−ｋ）（ＯＺ２）
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０の
アルキニル基、フェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基」で置換されたフェニ
ル基もしくはフェノキシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭
素数１〜４のアルキレン基を、Ｄはフェニル基、フェノ
キシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素
数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、
フェニル基もしくはフェノキシ基」で置換されたフェニ
ル基もしくはフェノキシ基または炭素数５〜７のシクロ
アルキル基を示す。）で表わされる基を示す。Ｚ２は水
素原子または水酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃ
なる基の場合水酸基の保護基を示す。
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ10は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１０
のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６の
アルコキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭素数１〜４のアルキ
レン基を、Ｄはフェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基もしくは
フェノキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基または炭素数５〜７のシクロアルキル基を示
す。）で表わされる基を示す。Ｚ２は水素原子または水
酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃなる基の場合水
酸基の保護基を示す。］ここで、Ｘ３はω鎖であり、上
述したように、 −Ｔ−（ＣＨ２）ｊ−Ｃ（Ｒ９）（２−ｋ）（ＯＺ２）
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０の
アルキニル基、フェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基」で置換されたフェニ
ル基もしくはフェノキシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭
素数１〜４のアルキレン基を、Ｄはフェニル基、フェノ
キシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素
数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、
フェニル基もしくはフェノキシ基」で置換されたフェニ
ル基もしくはフェノキシ基または炭素数５〜７のシクロ
アルキル基を示す。）で表わされる基を示す。Ｚ２は水
素原子または水酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃ
なる基の場合水酸基の保護基を示す。
【００３３】Ｚ２の水酸基の保護基としてはＺ1と同様
のものを挙げることができる。
のものを挙げることができる。
【００３４】炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４
のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１
〜６のアルコキシ基は前記と同様のものを挙げることが
できる。炭素数１〜１０のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル
基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基ヘプチル基、オクチル基、１−メチルペンチル基、
２−メチルペンチル基、１−メチルヘキシル基、２−メ
チルヘキシル基、２，４−ジメチルペンチル基、２−エ
チルペンチル基、２−メチルペプチル基、２−エチルヘ
キシル基、２−プロピルペンチル基、シクロプロピル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−メチル
シクロペンチル基、２，５−ジメチルシクロヘキシル
基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル
基、シクロペンチルエチル基、またはシクロヘキシルエ
チル基などを挙げることができる。炭素数２〜１０のア
ルケニル基としては、ビニル基、アリル基、１−ブテニ
ル基、２−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ヘキセ
ニル基、３−メチル−２−ブテニル基または３−メチル
−２−ペンテニル基、２，６−ジメチル−５−ヘプテニ
ル基などを挙げることができる。炭素数２〜１０のアル
キニル基としては、エチニル基、１−プロピニル基、１
−ブチニル基、１−メチル−３−ペンチニル基、１−メ
チル−３−ヘキシニル基、２−メチル−３−ヘキシニル
基などを挙げることができる。炭素数５〜７のシクロア
ルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基、または４−メチルシクロヘキシ
ル基などを挙げることができる。
のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１
〜６のアルコキシ基は前記と同様のものを挙げることが
できる。炭素数１〜１０のアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル
基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基ヘプチル基、オクチル基、１−メチルペンチル基、
２−メチルペンチル基、１−メチルヘキシル基、２−メ
チルヘキシル基、２，４−ジメチルペンチル基、２−エ
チルペンチル基、２−メチルペプチル基、２−エチルヘ
キシル基、２−プロピルペンチル基、シクロプロピル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−メチル
シクロペンチル基、２，５−ジメチルシクロヘキシル
基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル
基、シクロペンチルエチル基、またはシクロヘキシルエ
チル基などを挙げることができる。炭素数２〜１０のア
ルケニル基としては、ビニル基、アリル基、１−ブテニ
ル基、２−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ヘキセ
ニル基、３−メチル−２−ブテニル基または３−メチル
−２−ペンテニル基、２，６−ジメチル−５−ヘプテニ
ル基などを挙げることができる。炭素数２〜１０のアル
キニル基としては、エチニル基、１−プロピニル基、１
−ブチニル基、１−メチル−３−ペンチニル基、１−メ
チル−３−ヘキシニル基、２−メチル−３−ヘキシニル
基などを挙げることができる。炭素数５〜７のシクロア
ルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基、または４−メチルシクロヘキシ
ル基などを挙げることができる。
【００３５】本発明の第４発明は、上記式［ＩＶ］のフ
ェニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類の製造法に係
わり、これは上記第２発明により得られたフェニル置換
ヒドロキシシクロペンテノン類［Ｉ］に求核試薬Ｍ−Ｘ
３［ＶＩＩＩ］を反応させてω鎖Ｘ３を導入することに
より、フェニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類［Ｉ
Ｖ］を製造するものである（反応式４）。
ェニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類の製造法に係
わり、これは上記第２発明により得られたフェニル置換
ヒドロキシシクロペンテノン類［Ｉ］に求核試薬Ｍ−Ｘ
３［ＶＩＩＩ］を反応させてω鎖Ｘ３を導入することに
より、フェニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類［Ｉ
Ｖ］を製造するものである（反応式４）。
【００３６】
【化２３】
【００３７】式中、Ｚ１、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３は上記と同
様の意味を示し、ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｎより選ばれる
金属または該金属を含む基を示す。具体的には、Ｌｉ、
ＭｇＢｒ、ＭｇＩ、ＺｎＢｒ、ＺｎＩ、ＣｕＬｉ、Ｃｕ
（ＣＮ）Ｌｉ、ＣｕＭｅ（ＣＮ）Ｌｉ２、Ｅｔ２ Ａ
ｌ、Ｅｔ３ ＡｌＬｉ、Ｃｕ（ＳＰｈ）Ｌｉ、（２−チ
エニル）Ｃｕ（ＣＮ）Ｌｉ２などを挙げることができ
る。
様の意味を示し、ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｎより選ばれる
金属または該金属を含む基を示す。具体的には、Ｌｉ、
ＭｇＢｒ、ＭｇＩ、ＺｎＢｒ、ＺｎＩ、ＣｕＬｉ、Ｃｕ
（ＣＮ）Ｌｉ、ＣｕＭｅ（ＣＮ）Ｌｉ２、Ｅｔ２ Ａ
ｌ、Ｅｔ３ ＡｌＬｉ、Ｃｕ（ＳＰｈ）Ｌｉ、（２−チ
エニル）Ｃｕ（ＣＮ）Ｌｉ２などを挙げることができ
る。
【００３８】この式［ＶＩＩＩ］の求核試薬としては、
通常ＰＧ類のω鎖導入反応に用いられるもので、Ｘ３の
種類によりリチウム試薬、銅−リチウム試薬、グリニヤ
−ル（マグネシウム）試薬、亜鉛試薬、アルミニウム試
薬などが用いられる。特にＸ３中のＴがＣＨ２ＣＨ２の
場合、ＺｎＩＸ３、Ｃｕ（ＣＮ）ＬｉＸ３が好ましく、
ＴがＣＨ＝ＣＨの場合、（２−チエニル）Ｃｕ（ＣＮ）
Ｌｉ２Ｘ３が好ましく、ＴがＣ≡Ｃの場合、Ｅｔ２ Ａ
ｌＸ３が好ましく用いられる。求核試薬は式［Ｉ］の化
合物に対して、０．５〜４当量、好ましくは０．８〜２
当量用いる。反応溶媒としては、反応を阻害しないもの
であればよく、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエ
−テル、ヘキサン、ペンタン、ベンゼン、トルエン等が
挙げられる。反応温度は、求核試薬により異なり、−１
００℃〜溶媒の還流温度、通常−７０〜４０℃である。
反応時間は、基質、溶媒や反応温度により異なるが、通
常５分〜５０時間である。
通常ＰＧ類のω鎖導入反応に用いられるもので、Ｘ３の
種類によりリチウム試薬、銅−リチウム試薬、グリニヤ
−ル（マグネシウム）試薬、亜鉛試薬、アルミニウム試
薬などが用いられる。特にＸ３中のＴがＣＨ２ＣＨ２の
場合、ＺｎＩＸ３、Ｃｕ（ＣＮ）ＬｉＸ３が好ましく、
ＴがＣＨ＝ＣＨの場合、（２−チエニル）Ｃｕ（ＣＮ）
Ｌｉ２Ｘ３が好ましく、ＴがＣ≡Ｃの場合、Ｅｔ２ Ａ
ｌＸ３が好ましく用いられる。求核試薬は式［Ｉ］の化
合物に対して、０．５〜４当量、好ましくは０．８〜２
当量用いる。反応溶媒としては、反応を阻害しないもの
であればよく、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエ
−テル、ヘキサン、ペンタン、ベンゼン、トルエン等が
挙げられる。反応温度は、求核試薬により異なり、−１
００℃〜溶媒の還流温度、通常−７０〜４０℃である。
反応時間は、基質、溶媒や反応温度により異なるが、通
常５分〜５０時間である。
【００３９】次に、本発明の第５発明は式［Ｖ］のフェ
ニル置換ジヒドロキシシクロペンタン類に係わり、第６
発明は、このフェニル置換ジヒドロキシシクロペンタン
類［Ｖ］を上記フェニル置換ヒドロキシペンタノン類
［ＩＶ］を還元することにより製造する方法に係わる
（反応式５）。
ニル置換ジヒドロキシシクロペンタン類に係わり、第６
発明は、このフェニル置換ジヒドロキシシクロペンタン
類［Ｖ］を上記フェニル置換ヒドロキシペンタノン類
［ＩＶ］を還元することにより製造する方法に係わる
（反応式５）。
【００４０】
【化２４】
【００４１】ここで、還元剤としては、ボラン、水素化
ホウ素ナトリウム、トリ−ｓ−ブチル水素化ホウ素カリ
ウム、トリ−ｓ−ブチル水素化ホウ素リチウム、トリサ
イアミル水素化ホウ素カリウムなどの水素化ホウ素化合
物、または水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチル
水素化アルミニウム、ビス（２−メトキシエトキシ）ア
ルミニウムナトリウムなどの水素化アルミニウム化合物
が用いられる。還元剤は式［ＩＶ］の化合物に対して、
１〜５当量用いる。反応溶媒としては、還元剤によって
適宜選択すればよく、例えば水あるいは、アルコ−ル系
（メタノ−ル、エタノ−ルなど）、エ−テル系（ジエチ
ルエ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、
脂肪族炭化水素系（ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ンなど）または芳香族炭化水素系（ベンゼン、トルエ
ン、ジクロロベンゼンなど）の有機溶媒を単独または混
合して用いることができる。反応温度は、還元剤によっ
て異なり、−８０℃〜５０℃、通常−１０〜３０℃であ
る。反応時間も制限されないが、通常３０分〜２０時間
である。
ホウ素ナトリウム、トリ−ｓ−ブチル水素化ホウ素カリ
ウム、トリ−ｓ−ブチル水素化ホウ素リチウム、トリサ
イアミル水素化ホウ素カリウムなどの水素化ホウ素化合
物、または水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチル
水素化アルミニウム、ビス（２−メトキシエトキシ）ア
ルミニウムナトリウムなどの水素化アルミニウム化合物
が用いられる。還元剤は式［ＩＶ］の化合物に対して、
１〜５当量用いる。反応溶媒としては、還元剤によって
適宜選択すればよく、例えば水あるいは、アルコ−ル系
（メタノ−ル、エタノ−ルなど）、エ−テル系（ジエチ
ルエ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、
脂肪族炭化水素系（ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ンなど）または芳香族炭化水素系（ベンゼン、トルエ
ン、ジクロロベンゼンなど）の有機溶媒を単独または混
合して用いることができる。反応温度は、還元剤によっ
て異なり、−８０℃〜５０℃、通常−１０〜３０℃であ
る。反応時間も制限されないが、通常３０分〜２０時間
である。
【００４２】本発明の第７発明は、フェニル置換ジヒド
ロキシシクロペンタン類［Ｖ］を、必要に応じてＸ１の
保護基をはずして環化することにより、式［ＶＩ］のフ
ェニル置換ＰＧＩ２類を製造する方法に係わる（反応式
６）。
ロキシシクロペンタン類［Ｖ］を、必要に応じてＸ１の
保護基をはずして環化することにより、式［ＶＩ］のフ
ェニル置換ＰＧＩ２類を製造する方法に係わる（反応式
６）。
【００４３】
【化２５】
【００４４】式中、Ｚ１、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３は上記と同
様の意味を示し、Ｙ３は酸素原子、硫黄原子、−ＮＨ−
または−ＮＲ１１−（式中、Ｒ１１は炭素数１〜６のア
ルキル基を示す。）を示す。炭素数１〜６のアルキル基
は前記と同じものを表す。
様の意味を示し、Ｙ３は酸素原子、硫黄原子、−ＮＨ−
または−ＮＲ１１−（式中、Ｒ１１は炭素数１〜６のア
ルキル基を示す。）を示す。炭素数１〜６のアルキル基
は前記と同じものを表す。
【００４５】ここで、環化反応は、Ｘ１の種類により異
なるが、例えばＸ１が水酸基、チオ−ル基、アミノ基の
場合、５員環上の水酸基との脱水反応であり、リン酸、
塩酸、硫酸などの無機酸、またはｐ−トルエンスルホン
酸、カンファ−スルホン酸などの有機酸存在下、ベンゼ
ン、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、メタノ−ル、エタノ−ル、
水などの溶媒中、０〜１５０℃、好ましくは室温〜溶媒
の還流温度で進行する。より好ましくは、トリフェニル
ホスフィンなどのトリアリ−ルホスフィン、またはトリ
エチルホスフィンなどのトリアルキルホスフィンと、ジ
エチルアゾジカルボキシレ−ト、ジメチルアゾジカルボ
キシレ−ト、ジシクロヘキシルジカルボキシレ−トなど
のアゾジカルボキシレ−ト類の存在下、エ−テル系（ジ
エチルエ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフランな
ど）、脂肪族炭化水素系（ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサンなど）、ハロゲン系（ジクロロメタン、ジクロ
ロエタンなど）または芳香族炭化水素系（ベンゼン、ト
ルエン、ジクロロベンゼンなど）の有機溶媒中、−４０
〜１５０℃、好ましくは−１０〜７０℃で脱水させるこ
とで環化させることができる。
なるが、例えばＸ１が水酸基、チオ−ル基、アミノ基の
場合、５員環上の水酸基との脱水反応であり、リン酸、
塩酸、硫酸などの無機酸、またはｐ−トルエンスルホン
酸、カンファ−スルホン酸などの有機酸存在下、ベンゼ
ン、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、メタノ−ル、エタノ−ル、
水などの溶媒中、０〜１５０℃、好ましくは室温〜溶媒
の還流温度で進行する。より好ましくは、トリフェニル
ホスフィンなどのトリアリ−ルホスフィン、またはトリ
エチルホスフィンなどのトリアルキルホスフィンと、ジ
エチルアゾジカルボキシレ−ト、ジメチルアゾジカルボ
キシレ−ト、ジシクロヘキシルジカルボキシレ−トなど
のアゾジカルボキシレ−ト類の存在下、エ−テル系（ジ
エチルエ−テル、ジオキサン、テトラヒドロフランな
ど）、脂肪族炭化水素系（ヘキサン、ヘプタン、シクロ
ヘキサンなど）、ハロゲン系（ジクロロメタン、ジクロ
ロエタンなど）または芳香族炭化水素系（ベンゼン、ト
ルエン、ジクロロベンゼンなど）の有機溶媒中、−４０
〜１５０℃、好ましくは−１０〜７０℃で脱水させるこ
とで環化させることができる。
【００４６】あるいは、５員環上の水酸基を常法により
臭素原子、塩素原子などのハロゲン原子に置換するか、
またはトシル基、メシル基などに変換後、有機アミン
（トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、ジアザビシクロウンデセンなど）、金属酸化物（ア
ルミナ、シリカゲルなど）、無機塩基（水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウムなど）の塩基
触媒存在下、エ−テル系（ジエチルエ−テル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素系（ヘ
キサン、ヘプタン、シクロヘキサンなど）、ハロゲン系
（ジクロロメタン、ジクロロエタンなど）または芳香族
炭化水素系（ベンゼン、トルエン、ジクロロベンゼンな
ど）の有機溶媒中、−７０〜１５０℃、好ましくは−３
０〜５０℃で反応させることにより環化させることがで
きる。
臭素原子、塩素原子などのハロゲン原子に置換するか、
またはトシル基、メシル基などに変換後、有機アミン
（トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、ジアザビシクロウンデセンなど）、金属酸化物（ア
ルミナ、シリカゲルなど）、無機塩基（水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウムなど）の塩基
触媒存在下、エ−テル系（ジエチルエ−テル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素系（ヘ
キサン、ヘプタン、シクロヘキサンなど）、ハロゲン系
（ジクロロメタン、ジクロロエタンなど）または芳香族
炭化水素系（ベンゼン、トルエン、ジクロロベンゼンな
ど）の有機溶媒中、−７０〜１５０℃、好ましくは−３
０〜５０℃で反応させることにより環化させることがで
きる。
【００４７】Ｘ１が保護された水酸基、保護されたチオ
−ル基、保護されたアミノ基の場合、保護基をはずして
上記と同様に反応させることができる。Ｘ１がハロゲン
原子の場合、ヨウ化銅などの銅触媒存在下、３０℃〜溶
媒の還流温度に加熱反応することにより環化させること
ができる。
−ル基、保護されたアミノ基の場合、保護基をはずして
上記と同様に反応させることができる。Ｘ１がハロゲン
原子の場合、ヨウ化銅などの銅触媒存在下、３０℃〜溶
媒の還流温度に加熱反応することにより環化させること
ができる。
【００４８】本発明の第７発明は、式［ＶＩＩ］で示さ
れるフェニル置換ＰＧＩ２類中間体に係わる。
れるフェニル置換ＰＧＩ２類中間体に係わる。
【００４９】
【化２６】
【００５０】式中、Ｚ１、Ｘ３、Ｙ3は上記と同様の意
味を示し、Ｘ４はハロゲン原子、水酸基、チオ−ル基、
アリル基、ビニル基、エチニル基、エステル基またはシ
アノ基を示す。
味を示し、Ｘ４はハロゲン原子、水酸基、チオ−ル基、
アリル基、ビニル基、エチニル基、エステル基またはシ
アノ基を示す。
【００５１】すなわち、フェニル置換ＰＧＩ２類［Ｖ
Ｉ］のうち、Ｘ２がＸ４であるフェニル置換ＰＧＩ２類
中間体［ＶＩＩ］は新規化合物であり、Ｘ２やＸ４部分
を必要なα鎖に変換することにより、種々のフェニル置
換ＰＧＩ２類を合成することができる有用中間体であ
る。（反応式７）
Ｉ］のうち、Ｘ２がＸ４であるフェニル置換ＰＧＩ２類
中間体［ＶＩＩ］は新規化合物であり、Ｘ２やＸ４部分
を必要なα鎖に変換することにより、種々のフェニル置
換ＰＧＩ２類を合成することができる有用中間体であ
る。（反応式７）
【００５２】
【化２７】
【００５３】なお、フェニル置換ヒドロキシシクロペン
テノン類［Ｉ］を両対掌体の混合物として用いた場合、
得られるフェニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類
［ＩＶ］、さらにはフェニル置換ＰＧＩ２類は５員環部
の水酸基について両対掌体の混合物となる。しかしなが
ら、ω鎖であるＸ３部分に光学活性な水酸基等がある場
合、式［ＩＶ］の化合物はジアステレオマ−混合物とな
るため再結晶あるいはカラムクロマトグラフィ−等で分
離することができ、光学活性なフェニル置換ヒドロキシ
シクロペンタノン類［ＩＶ］、さらには光学活性なフェ
ニル置換ＰＧＩ２類を得ることができる（反応式７）
（＊は光学活性を示す。）。
テノン類［Ｉ］を両対掌体の混合物として用いた場合、
得られるフェニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類
［ＩＶ］、さらにはフェニル置換ＰＧＩ２類は５員環部
の水酸基について両対掌体の混合物となる。しかしなが
ら、ω鎖であるＸ３部分に光学活性な水酸基等がある場
合、式［ＩＶ］の化合物はジアステレオマ−混合物とな
るため再結晶あるいはカラムクロマトグラフィ−等で分
離することができ、光学活性なフェニル置換ヒドロキシ
シクロペンタノン類［ＩＶ］、さらには光学活性なフェ
ニル置換ＰＧＩ２類を得ることができる（反応式７）
（＊は光学活性を示す。）。
【００５４】
【化２８】
【００５５】本発明の第９発明は、上記式［Ｉ］のフェ
ニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類の両対掌体の混
合物を酵素で処理して、下記式［ＩR］，［ＩS］のフェ
ニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類の光学活性体を
得る光学分割法に係わる。
ニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類の両対掌体の混
合物を酵素で処理して、下記式［ＩR］，［ＩS］のフェ
ニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類の光学活性体を
得る光学分割法に係わる。
【００５６】すなわち、フェニル置換ヒドロキシシクロ
ペンテノン類［Ｉ］のエステル体［Ｚ１がアシル基（ホ
ルミル基、アセチル基、ベンゾイル基など）の場合］を
酵素により不斉水解するか、フェニル置換ヒドロキシシ
クロペンテノン類［Ｉ］の水酸基体（Ｚ１が水素原子の
場合）を酵素により不斉エステル化することで、両対掌
体を分割することができる。酵素としては、微生物また
は動植物由来のエステラ−ゼあるいはリパ−ゼを用い
る。具体的には、シュ−ドモナス属、アスペルギルス
属、ムコ−ル属、カンジダ属、リゾプス属、サッカロマ
イセス属等の微生物由来のリパ−ゼ、あるいはステアプ
シン、パンクレアチン、ブタ肝臓エステラ−ゼ、ブタ膵
臓リパ−ゼ、小麦胚芽リパ−ゼ等の動植物由来の酵素が
挙げられる。反応は水溶液中または有機溶媒中あるいは
それらの混合液中で行なうことができる。水溶液として
は、通常、リン酸ナトリウム、リン酸カリウムのような
無機酸塩の緩衝液、クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウ
ムのような有機酸塩の緩衝液を用いることが望ましい。
有機溶媒としては、ヘプタン、トルエン、メチルイソブ
チルケトン、ジクロロメタン、ジエチルエ−テルなどを
挙げることができる。
ペンテノン類［Ｉ］のエステル体［Ｚ１がアシル基（ホ
ルミル基、アセチル基、ベンゾイル基など）の場合］を
酵素により不斉水解するか、フェニル置換ヒドロキシシ
クロペンテノン類［Ｉ］の水酸基体（Ｚ１が水素原子の
場合）を酵素により不斉エステル化することで、両対掌
体を分割することができる。酵素としては、微生物また
は動植物由来のエステラ−ゼあるいはリパ−ゼを用い
る。具体的には、シュ−ドモナス属、アスペルギルス
属、ムコ−ル属、カンジダ属、リゾプス属、サッカロマ
イセス属等の微生物由来のリパ−ゼ、あるいはステアプ
シン、パンクレアチン、ブタ肝臓エステラ−ゼ、ブタ膵
臓リパ−ゼ、小麦胚芽リパ−ゼ等の動植物由来の酵素が
挙げられる。反応は水溶液中または有機溶媒中あるいは
それらの混合液中で行なうことができる。水溶液として
は、通常、リン酸ナトリウム、リン酸カリウムのような
無機酸塩の緩衝液、クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウ
ムのような有機酸塩の緩衝液を用いることが望ましい。
有機溶媒としては、ヘプタン、トルエン、メチルイソブ
チルケトン、ジクロロメタン、ジエチルエ−テルなどを
挙げることができる。
【００５７】なお、不斉エステル化を行なう場合には、
酢酸ビニル、酢酸トリクロロエチル等のエステル源を共
存させて行なう。反応液のｐＨ、反応温度、反応時間
は、基質や酵素により異なるが、通常ｐＨは５〜１０、
温度は１０〜５０℃に保つことが望ましい。反応終了
後、生成物を有機溶媒で抽出し、再結晶あるいはカラム
クロマトグラフィ−で両異性体を分離することにより、
光学活性なフェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類
［Ｉ］が得られる。
酢酸ビニル、酢酸トリクロロエチル等のエステル源を共
存させて行なう。反応液のｐＨ、反応温度、反応時間
は、基質や酵素により異なるが、通常ｐＨは５〜１０、
温度は１０〜５０℃に保つことが望ましい。反応終了
後、生成物を有機溶媒で抽出し、再結晶あるいはカラム
クロマトグラフィ−で両異性体を分離することにより、
光学活性なフェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類
［Ｉ］が得られる。
【００５８】このようにして得られた光学活性なフェニ
ル置換ヒドロキシシクロペンテノン類［Ｉ］を用いるこ
とにより、異性体を分離することなく、光学活性なフェ
ニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類［ＩＶ］、さら
には光学活性なフェニル置換ＰＧＩ２類を得ることがで
きる（反応式８）（＊は光学活性を示す。）。
ル置換ヒドロキシシクロペンテノン類［Ｉ］を用いるこ
とにより、異性体を分離することなく、光学活性なフェ
ニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類［ＩＶ］、さら
には光学活性なフェニル置換ＰＧＩ２類を得ることがで
きる（反応式８）（＊は光学活性を示す。）。
【００５９】
【化２９】
【００６０】
【発明の効果】本発明のフェニル置換ヒドロキシシクロ
ペンテノン類［Ｉ］、フェニル置換ヒドロキシシクロペ
ンタノン類［ＩＶ］、フェニル置換ジヒドロキシシクロ
ペンタン類［Ｖ］、及びフェニル置換ＰＧＩ２類中間体
［ＶＩＩ］は医薬品としての用途が期待されるフェニル
置換ＰＧＩ２類の合成中間体として有用である。さら
に、本発明の方法によれば、フェニル置換ＰＧＩ２類を
効率的に製造することができる。加えて本発明の方法に
よれば、光学活性なフェニル置換ヒドロキシシクロペン
テノン類［Ｉ］及び光学活性なフェニル置換ＰＧＩ２類
を効率的に製造することができる。
ペンテノン類［Ｉ］、フェニル置換ヒドロキシシクロペ
ンタノン類［ＩＶ］、フェニル置換ジヒドロキシシクロ
ペンタン類［Ｖ］、及びフェニル置換ＰＧＩ２類中間体
［ＶＩＩ］は医薬品としての用途が期待されるフェニル
置換ＰＧＩ２類の合成中間体として有用である。さら
に、本発明の方法によれば、フェニル置換ＰＧＩ２類を
効率的に製造することができる。加えて本発明の方法に
よれば、光学活性なフェニル置換ヒドロキシシクロペン
テノン類［Ｉ］及び光学活性なフェニル置換ＰＧＩ２類
を効率的に製造することができる。
【００６１】
【実施例】以下、実施例及び参考例を挙げて本発明をさ
らに詳しく説明する。
らに詳しく説明する。
【００６２】
【化３０】
【００６３】２，６−ジブロモフェノール（２０ｇ，７
９ｍｍｏｌ）のアセトン（２００ｍｌ）溶液にアリルブ
ロミド（１１．５ｇ，９５ｍｍｏｌ，Ｋ2ＣＯ3（４ｇ）
を加え、５時間撹拌した。反応液を水にあけ、エーテル
（４００ｍｌ）まで抽出した。有機層をＭｇＳＯ4で乾
燥後、減圧濃縮すると、アリル−２，６−ジブロモフェ
ニルエーテル（２２．０ｇ，収率９５％）が得られた。
その分析値を下記に示す。
９ｍｍｏｌ）のアセトン（２００ｍｌ）溶液にアリルブ
ロミド（１１．５ｇ，９５ｍｍｏｌ，Ｋ2ＣＯ3（４ｇ）
を加え、５時間撹拌した。反応液を水にあけ、エーテル
（４００ｍｌ）まで抽出した。有機層をＭｇＳＯ4で乾
燥後、減圧濃縮すると、アリル−２，６−ジブロモフェ
ニルエーテル（２２．０ｇ，収率９５％）が得られた。
その分析値を下記に示す。
【００６４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．５１
（ｄ，８．１Ｈｚ，２Ｈ），６．８６（ｔ，８０Ｈｚ，
１Ｈ），６．１９（ｄｄｔ，１７．０，１０．４，５．
９Ｈｚ，１Ｈ），５．５２〜５．２６（ｍ，２Ｈ），
４．５５（ｄ，５．８２Ｈｚ，２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１５３．
１，１３２．９，１３２．６，１２６．２，１１８．
６，１１８．５，７３．９ ＩＲ（ｎｅａｔ）：１４２０，１２４５，９８０，９２
５，７６５，７２０
（ｄ，８．１Ｈｚ，２Ｈ），６．８６（ｔ，８０Ｈｚ，
１Ｈ），６．１９（ｄｄｔ，１７．０，１０．４，５．
９Ｈｚ，１Ｈ），５．５２〜５．２６（ｍ，２Ｈ），
４．５５（ｄ，５．８２Ｈｚ，２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１５３．
１，１３２．９，１３２．６，１２６．２，１１８．
６，１１８．５，７３．９ ＩＲ（ｎｅａｔ）：１４２０，１２４５，９８０，９２
５，７６５，７２０
【００６５】
【化３１】
【００６６】アリル−２，６−ジブロモフェニルエーテ
ル（１１．６８ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２００ｍ
ｌ）溶液を−７８℃に冷却し、撹拌しながら、ｎ−Ｂｕ
Ｌｉ（２０．１ｍｌ，２．１９Ｍのヘキサン溶液、４４
ｍｍｏｌ）を３０分かけてゆっくり滴下した。−７８℃
で３０分間撹拌した後、フルフラール（３．６５ｍｌ，
４４ｍｍｏｌ）を滴下した。１０分間撹拌した後、飽和
塩化アンモニウム水溶液（２００ｍｌ）を加え、室温ま
で昇温した。有機層を分離し、水層をエーテル（１００
ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭｇＳＯ4を用い
て乾燥した後、濾過した。濾液を減圧下濃縮した後、３
ｃｍのシリカゲル層を通して濾過した。シリカゲル層を
ヘキサンとエーテルの混合液（１００ｍｌ，１：１）で
洗浄した。濾液を減圧下濃縮して得られた粗化合物をそ
のまま次の反応に用いた。
ル（１１．６８ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２００ｍ
ｌ）溶液を−７８℃に冷却し、撹拌しながら、ｎ−Ｂｕ
Ｌｉ（２０．１ｍｌ，２．１９Ｍのヘキサン溶液、４４
ｍｍｏｌ）を３０分かけてゆっくり滴下した。−７８℃
で３０分間撹拌した後、フルフラール（３．６５ｍｌ，
４４ｍｍｏｌ）を滴下した。１０分間撹拌した後、飽和
塩化アンモニウム水溶液（２００ｍｌ）を加え、室温ま
で昇温した。有機層を分離し、水層をエーテル（１００
ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭｇＳＯ4を用い
て乾燥した後、濾過した。濾液を減圧下濃縮した後、３
ｃｍのシリカゲル層を通して濾過した。シリカゲル層を
ヘキサンとエーテルの混合液（１００ｍｌ，１：１）で
洗浄した。濾液を減圧下濃縮して得られた粗化合物をそ
のまま次の反応に用いた。
【００６７】
【化３２】
【００６８】前の反応で得られた粗化合物１をＴＨＦ
（８０ｍｌ）および水（１０ｍｌ）の溶液とした後、ｐ
−ＴｓＯＨ・Ｈ2Ｏ（３５０ｍｇ，２ｍｍｏｌ）を加
え、２時間加熱還流した。室温に冷却した後、飽和Ｎａ
ＨＣＯ3水溶液（９０ｍｌ）を加えて中和した。反応液
をＡｃＯＥＴ（２×７０ｍｌ）で抽出した後、得られた
有機層をＭｇＳＯ4を用いて乾燥した。濾過後、濾液を
減圧下濃縮して得られた粗化合物２をそのまま次の反応
に用いた。
（８０ｍｌ）および水（１０ｍｌ）の溶液とした後、ｐ
−ＴｓＯＨ・Ｈ2Ｏ（３５０ｍｇ，２ｍｍｏｌ）を加
え、２時間加熱還流した。室温に冷却した後、飽和Ｎａ
ＨＣＯ3水溶液（９０ｍｌ）を加えて中和した。反応液
をＡｃＯＥＴ（２×７０ｍｌ）で抽出した後、得られた
有機層をＭｇＳＯ4を用いて乾燥した。濾過後、濾液を
減圧下濃縮して得られた粗化合物２をそのまま次の反応
に用いた。
【００６９】
【化３３】
【００７０】前の反応で得られた粗化合物２のＴＨＦ
（２５ｍｌ）溶液にクロラール（０．３９ｍｌ，４ｍｍ
ｏｌ），トリエチルアミン（６．７ｍｌ，４８ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で２時間撹はんした。反応液に飽和Ｎ
Ｈ4Ｃｌ水溶液（３０ｍｌ）を加えた後、ＡｃＯＥｔ
（２×３０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭｇＳ
Ｏ4で乾燥した後、濾過した。濾液を減圧下濃縮して得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製して、化合物３（３．８５ｇ）をアリル−２，６
−ジブロモフェニルエーテルより収率３１％で得た。そ
の分析値を下記に示す。
（２５ｍｌ）溶液にクロラール（０．３９ｍｌ，４ｍｍ
ｏｌ），トリエチルアミン（６．７ｍｌ，４８ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で２時間撹はんした。反応液に飽和Ｎ
Ｈ4Ｃｌ水溶液（３０ｍｌ）を加えた後、ＡｃＯＥｔ
（２×３０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭｇＳ
Ｏ4で乾燥した後、濾過した。濾液を減圧下濃縮して得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製して、化合物３（３．８５ｇ）をアリル−２，６
−ジブロモフェニルエーテルより収率３１％で得た。そ
の分析値を下記に示す。
【００７１】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．８８
（ｄ，２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５５（ｄｄ，８．０，
１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｄｄ，７．８，１．６
Ｈｚ，１Ｈ），７．０３（ｔ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），
６．００（ｄｄｔ，１７．２，１０．４，５．７Ｈｚ，
１Ｈ），５．３９〜５．１９（ｍ，１Ｈ），５．１２〜
５．０４（ｍ，１Ｈ），４．３９〜４．２５（ｍ，１
Ｈ），２．９５（ｄｄ，１８．６，６．２Ｈｚ，１
Ｈ），２．４７（ｄｄ，１８．５，２．２Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：２０４．
１，１６０．９，１５３．９，１４０．７，１３３．
９，１３３．２，１２９．６，１２５．３，１１８．
０，１１７．９，７４．０，６８．１，４４．８ ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４２５，２９２０，２８６０，１
７００，１４３８，１３００，１２２５，１１１５，９
７８，７４８
（ｄ，２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５５（ｄｄ，８．０，
１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｄｄ，７．８，１．６
Ｈｚ，１Ｈ），７．０３（ｔ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），
６．００（ｄｄｔ，１７．２，１０．４，５．７Ｈｚ，
１Ｈ），５．３９〜５．１９（ｍ，１Ｈ），５．１２〜
５．０４（ｍ，１Ｈ），４．３９〜４．２５（ｍ，１
Ｈ），２．９５（ｄｄ，１８．６，６．２Ｈｚ，１
Ｈ），２．４７（ｄｄ，１８．５，２．２Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：２０４．
１，１６０．９，１５３．９，１４０．７，１３３．
９，１３３．２，１２９．６，１２５．３，１１８．
０，１１７．９，７４．０，６８．１，４４．８ ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４２５，２９２０，２８６０，１
７００，１４３８，１３００，１２２５，１１１５，９
７８，７４８
【００７２】
【化３４】
【００７３】化合物３（１０．０ｇ，３７ｍｍｏｌ）の
塩化メチレン（３７ｍｌ）溶液に、０℃でトリエチルア
ミン（７．６８ｍｌ，５５．５ｍｍｏｌ），Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノピリジン（９０．５ｍｇ，０．７４ｍｍｏ
ｌ），ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（７．７９
ｇ，４８．１ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温した後、１
２時間撹はんした。ヘキサン（１００ｍｌ）および飽和
ＮａＨＣＯ3水溶液（１００ｍｌ）を加え、よく撹拌し
た後、有機層を分離、水層をヘキサン（１００ｍｌ）で
抽出した。得られた有機層をＭｇＳＯ4を用いて乾燥し
た後、濾過した。濾液を減圧下濃縮して得られた粗生成
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化
合物４（１３．８ｇ）を収率８８％で得た。その分析値
を下記に示す。
塩化メチレン（３７ｍｌ）溶液に、０℃でトリエチルア
ミン（７．６８ｍｌ，５５．５ｍｍｏｌ），Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノピリジン（９０．５ｍｇ，０．７４ｍｍｏ
ｌ），ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（７．７９
ｇ，４８．１ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温した後、１
２時間撹はんした。ヘキサン（１００ｍｌ）および飽和
ＮａＨＣＯ3水溶液（１００ｍｌ）を加え、よく撹拌し
た後、有機層を分離、水層をヘキサン（１００ｍｌ）で
抽出した。得られた有機層をＭｇＳＯ4を用いて乾燥し
た後、濾過した。濾液を減圧下濃縮して得られた粗生成
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して化
合物４（１３．８ｇ）を収率８８％で得た。その分析値
を下記に示す。
【００７４】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．８４
（ｄ，２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄ，７．９Ｈ
ｚ，２Ｈ），７．０３（ｔ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），６．
０２（ｄｄｔ，１７．１，１０．３，５．８Ｈｚ，１
Ｈ），５．１９〜５．４０（ｍ，２Ｈ），５．０１（ｄ
ｄｄ，６．１，２．４Ｈｚ，１Ｈ），４．２１〜４．４
０（ｍ，２Ｈ），２．９０（ｄｄ，１８．２，６．１Ｈ
ｚ，１Ｈ），２．４４（ｄｄ，１８．３，２．３Ｈｚ，
１Ｈ），０．９２（ｓ，９Ｈ），０．１５（ｓ，６Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：２０４．
０，１６１．９，１５３．９，１３９．６，１３３．
７，１３３．２，１２９，１２６．６，１２５．２，１
１８．１，１１８．０，７４．０，６８．６，４５．
６，２５．７，１８．１，−４．８ ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４０，２８６０，１７２０，１
４４０，１２５５，１０８５，８３５
（ｄ，２．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄ，７．９Ｈ
ｚ，２Ｈ），７．０３（ｔ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），６．
０２（ｄｄｔ，１７．１，１０．３，５．８Ｈｚ，１
Ｈ），５．１９〜５．４０（ｍ，２Ｈ），５．０１（ｄ
ｄｄ，６．１，２．４Ｈｚ，１Ｈ），４．２１〜４．４
０（ｍ，２Ｈ），２．９０（ｄｄ，１８．２，６．１Ｈ
ｚ，１Ｈ），２．４４（ｄｄ，１８．３，２．３Ｈｚ，
１Ｈ），０．９２（ｓ，９Ｈ），０．１５（ｓ，６Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：２０４．
０，１６１．９，１５３．９，１３９．６，１３３．
７，１３３．２，１２９，１２６．６，１２５．２，１
１８．１，１１８．０，７４．０，６８．６，４５．
６，２５．７，１８．１，−４．８ ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４０，２８６０，１７２０，１
４４０，１２５５，１０８５，８３５
【００７５】
【化３５】
【００７６】（１Ｅ，３Ｓ）−１−ヨード−３−［（ｔ
−ブチルジメチルシリル）オキシ］−１−オクテン
（１．１０ｇ，３．０ｍｍｏｌ）のヘキサン（１２ｍ
ｌ）溶液に−７８℃でｎ−ＢｕＬｉ（１．３７ｍｌ，
３．０ｍｍｏｌ，２．１９Ｍのヘキサン溶液）を加え、
撹はんしながら１．５時間かけて０℃までゆっくり昇温
した。−７８℃に冷却し、（２−チエニル）シアノ銅
（ＩＩ）リチウム（１４．４ｍｌ，３．６ｍｍｏｌ，
０．２５ＭのＴＨＦ溶液）を加えた。２０分間撹はんし
た後、化合物４（１．０６ｇ，２．５ｍｍｏｌ）のエー
テル（１０ｍｌ）溶液を滴下した。撹拌しながら２時間
かけて−２０℃まで昇温した。反応液を飽和塩化アンモ
ニウム水溶液（１００ｍｌ）とヘキサン（３０ｍｌ）の
混合液に撹拌しながら注いだ。有機層を分離し、水層を
ヘキサン（３０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭ
ｇＳＯ4を用いて乾燥した後、濾過した。濾液を減圧下
濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製して化合物５及び化合物５’
（１．５１ｇ）を収率９１％で得た。その分析値を下記
に示す。
−ブチルジメチルシリル）オキシ］−１−オクテン
（１．１０ｇ，３．０ｍｍｏｌ）のヘキサン（１２ｍ
ｌ）溶液に−７８℃でｎ−ＢｕＬｉ（１．３７ｍｌ，
３．０ｍｍｏｌ，２．１９Ｍのヘキサン溶液）を加え、
撹はんしながら１．５時間かけて０℃までゆっくり昇温
した。−７８℃に冷却し、（２−チエニル）シアノ銅
（ＩＩ）リチウム（１４．４ｍｌ，３．６ｍｍｏｌ，
０．２５ＭのＴＨＦ溶液）を加えた。２０分間撹はんし
た後、化合物４（１．０６ｇ，２．５ｍｍｏｌ）のエー
テル（１０ｍｌ）溶液を滴下した。撹拌しながら２時間
かけて−２０℃まで昇温した。反応液を飽和塩化アンモ
ニウム水溶液（１００ｍｌ）とヘキサン（３０ｍｌ）の
混合液に撹拌しながら注いだ。有機層を分離し、水層を
ヘキサン（３０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭ
ｇＳＯ4を用いて乾燥した後、濾過した。濾液を減圧下
濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製して化合物５及び化合物５’
（１．５１ｇ）を収率９１％で得た。その分析値を下記
に示す。
【００７７】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．４０〜
７．４６（ｍ，１Ｈ），７．０４〜６．９７（ｍ，１
Ｈ），６．９６〜６．８８（ｍ，１Ｈ），６．１５〜
６．００（ｍ，１Ｈ），５．５６〜５．２２（ｍ，４
Ｈ），４．５１〜４．４４（ｍ，２Ｈ），４．１０〜
４．２３（ｍ，１Ｈ），４．０３〜３．９２（ｍ，１
Ｈ），３．５５（ｔ，１２．９Ｈｚ，１Ｈ），２．８９
〜３．０２（ｍ，１Ｈ），２．７９（ｄｄ，１８．４，
７．３Ｈｚ，１Ｈ），２．４７ ａｎｄ ２．４４（２
ｄｄ，１８．４，５３Ｈｚ，１Ｈ），１．４５〜１．０
０（ｍ，８Ｈ），０．９３〜０．８０（ｍ，３Ｈ），
０．９０，０．８９，０．８４ ａｎｄ ０．７９（４
ｓ，１８Ｈ），０．０９，０．０８，−０．０５，−
０．０９，−０．１１ａｎｄ −０．２３（６ｓ，９
Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：２１２．
７，２１２．５，１５４．７，１３７．７，１３７．
１，１３３．４，１３２．９，１３２．８，１２９．
２，１２９．０，１２７．５，１２７．１，１２５．
３，１２５．２，１１７．３，７４．１，７３．１，７
２．９，７２．７，７２．６，５６．６，５５．８，５
５．５，４７．６，３８．４，３８．３，３１．８，３
１．６，２５．８，２５．７，２４．８，２４．５，２
２．６，２２．５，１８．１，１８．０，１４．１，１
４．０，−４．４，−４．５，−４．７，−４．８，−
４．９ ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４０，２８６０，１７４０，１
４４５，１２５０，１１１５，８４０，７７５
７．４６（ｍ，１Ｈ），７．０４〜６．９７（ｍ，１
Ｈ），６．９６〜６．８８（ｍ，１Ｈ），６．１５〜
６．００（ｍ，１Ｈ），５．５６〜５．２２（ｍ，４
Ｈ），４．５１〜４．４４（ｍ，２Ｈ），４．１０〜
４．２３（ｍ，１Ｈ），４．０３〜３．９２（ｍ，１
Ｈ），３．５５（ｔ，１２．９Ｈｚ，１Ｈ），２．８９
〜３．０２（ｍ，１Ｈ），２．７９（ｄｄ，１８．４，
７．３Ｈｚ，１Ｈ），２．４７ ａｎｄ ２．４４（２
ｄｄ，１８．４，５３Ｈｚ，１Ｈ），１．４５〜１．０
０（ｍ，８Ｈ），０．９３〜０．８０（ｍ，３Ｈ），
０．９０，０．８９，０．８４ ａｎｄ ０．７９（４
ｓ，１８Ｈ），０．０９，０．０８，−０．０５，−
０．０９，−０．１１ａｎｄ −０．２３（６ｓ，９
Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：２１２．
７，２１２．５，１５４．７，１３７．７，１３７．
１，１３３．４，１３２．９，１３２．８，１２９．
２，１２９．０，１２７．５，１２７．１，１２５．
３，１２５．２，１１７．３，７４．１，７３．１，７
２．９，７２．７，７２．６，５６．６，５５．８，５
５．５，４７．６，３８．４，３８．３，３１．８，３
１．６，２５．８，２５．７，２４．８，２４．５，２
２．６，２２．５，１８．１，１８．０，１４．１，１
４．０，−４．４，−４．５，−４．７，−４．８，−
４．９ ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４０，２８６０，１７４０，１
４４５，１２５０，１１１５，８４０，７７５
【００７８】
【化３６】
【００７９】化合物５（６４６ｍｇ，０．９７ｍｍｏ
ｌ）のＴＨＦ（３２ｍｌ）溶液に−７８℃でＤｉｂａｌ
−Ｈ（１．１ｍｌ，１．１ｍｍｏｌ，１．０Ｍのトルエ
ン溶液）を滴下し、２０分間撹拌した。反応液中にＮａ
2ＳＯ4・１０Ｈ2Ｏ（３５０ｍｇ）を加え、室温まで昇
温した後、ＮａＦセライト（２００ｍｇ）を加え、セラ
イトパッドのフィルターで濾過した。濾液を減圧下濃縮
して得られた粗化合物６（６８９ｍｇ）をそのまま次の
反応に用いた。その分析値を下記に示す。
ｌ）のＴＨＦ（３２ｍｌ）溶液に−７８℃でＤｉｂａｌ
−Ｈ（１．１ｍｌ，１．１ｍｍｏｌ，１．０Ｍのトルエ
ン溶液）を滴下し、２０分間撹拌した。反応液中にＮａ
2ＳＯ4・１０Ｈ2Ｏ（３５０ｍｇ）を加え、室温まで昇
温した後、ＮａＦセライト（２００ｍｇ）を加え、セラ
イトパッドのフィルターで濾過した。濾液を減圧下濃縮
して得られた粗化合物６（６８９ｍｇ）をそのまま次の
反応に用いた。その分析値を下記に示す。
【００８０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．４６〜
７．３６（ｍ，１Ｈ），７．３４〜７．１７（ｍ，１
Ｈ），７．０２〜６．９２（ｍ，１Ｈ），６．２２〜
６．０２（ｍ，１Ｈ），５．５４〜５．２３（ｍ，４
Ｈ），４．６３〜３．８８（ｍ，５Ｈ），３．３０〜
３．１２（ｍ，１Ｈ），３．００〜１．６０（ｍ，４
Ｈ），１．４８〜１．０３（ｍ，８Ｈ），０．９０，
０．８１ ａｎｄ ０．７８（３ｓ，１８Ｈ），０．９
０〜０．８０（ｍ，３Ｈ），０．０８，０．０６，−
０．０５，−０．１１，−０．１３ ａｎｄ −０．２
１（６ｓ，９Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１５４．
６，１５４．５，１３６．５，１３６．３，１３５．
８，１３５．７，１３３．９，１３３．８，１３３．
５，１３３．２，１３１．９，１３１．８，１３１．
６，１２９．６，１２９．４，１２９．１，１２９．
０，１２８．８，１２７．０，１２６．９，１２５．
８，１２５．７，１２５．１，１２５．０，１１８．
２，１１８．１，１１７．５，１１７．４，７８．０，
７７．９，７７．７，７６．１，７５．８，７４．４，
７４．３，７３．６，７３．３，７３．１，５６．１，
５５．９，５３．３，５１．８，４９．１，４８．９，
４３．６，４３．３，４３．２，３８．５，３８．４，
３１．８，２５．９，２５．８，２４．８，２４．６，
２２．６，１８．１，１８．０，１４．０，−４．４，
−４．５，−４．６，−４．７，−４．９ ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４２０，２９４０，２８６０，１
４６０，１４４０，１２５０，１１１５，１０７０，８
３５，７７５
７．３６（ｍ，１Ｈ），７．３４〜７．１７（ｍ，１
Ｈ），７．０２〜６．９２（ｍ，１Ｈ），６．２２〜
６．０２（ｍ，１Ｈ），５．５４〜５．２３（ｍ，４
Ｈ），４．６３〜３．８８（ｍ，５Ｈ），３．３０〜
３．１２（ｍ，１Ｈ），３．００〜１．６０（ｍ，４
Ｈ），１．４８〜１．０３（ｍ，８Ｈ），０．９０，
０．８１ ａｎｄ ０．７８（３ｓ，１８Ｈ），０．９
０〜０．８０（ｍ，３Ｈ），０．０８，０．０６，−
０．０５，−０．１１，−０．１３ ａｎｄ −０．２
１（６ｓ，９Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１５４．
６，１５４．５，１３６．５，１３６．３，１３５．
８，１３５．７，１３３．９，１３３．８，１３３．
５，１３３．２，１３１．９，１３１．８，１３１．
６，１２９．６，１２９．４，１２９．１，１２９．
０，１２８．８，１２７．０，１２６．９，１２５．
８，１２５．７，１２５．１，１２５．０，１１８．
２，１１８．１，１１７．５，１１７．４，７８．０，
７７．９，７７．７，７６．１，７５．８，７４．４，
７４．３，７３．６，７３．３，７３．１，５６．１，
５５．９，５３．３，５１．８，４９．１，４８．９，
４３．６，４３．３，４３．２，３８．５，３８．４，
３１．８，２５．９，２５．８，２４．８，２４．６，
２２．６，１８．１，１８．０，１４．０，−４．４，
−４．５，−４．６，−４．７，−４．９ ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４２０，２９４０，２８６０，１
４６０，１４４０，１２５０，１１１５，１０７０，８
３５，７７５
【００８１】
【化３７】
【００８２】Ｐｄ2（ｄｂａ）3ＣＨＣｌ3（２２ｍｇ）
のＴＨＦ（０．８２ｍｌ）溶液にトリブチルホスフィン
（２１μｌ）を加え、室温で１０分間撹拌した後に、前
の反応で得られた粗化合物６（５７５ｍｇ）のＴＨＦ
（２．９ｍｌ）溶液を滴下した。２０分間撹拌した後に
モルホリン（０．３７ｍｌ）を加え、さらに２０分間撹
拌し、反応液に飽和ＮａＣｌ水溶液（５ｍｌ）を加え、
エーテル（２×１０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層
をＭｇＳＯ4を用いて乾燥した後、濾過し、濾液を減圧
下濃縮して得られた粗化合物７（５８２ｍｇ）をそのま
ま次の反応に用いた。
のＴＨＦ（０．８２ｍｌ）溶液にトリブチルホスフィン
（２１μｌ）を加え、室温で１０分間撹拌した後に、前
の反応で得られた粗化合物６（５７５ｍｇ）のＴＨＦ
（２．９ｍｌ）溶液を滴下した。２０分間撹拌した後に
モルホリン（０．３７ｍｌ）を加え、さらに２０分間撹
拌し、反応液に飽和ＮａＣｌ水溶液（５ｍｌ）を加え、
エーテル（２×１０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層
をＭｇＳＯ4を用いて乾燥した後、濾過し、濾液を減圧
下濃縮して得られた粗化合物７（５８２ｍｇ）をそのま
ま次の反応に用いた。
【００８３】
【化３８】
【００８４】前の反応で得られた粗化合物７（５８２ｍ
ｇ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液中にトリフェニルホスフィ
ン（３１６ｍｇ）を加え、０℃でアゾジカルボン酸ジエ
チル（０．１９ｍｌ）を滴下し、１時間かけて室温まで
昇温した。よう化メチル（０．２８９ｍｌ）を滴下し、
室温で２時間撹拌した後、飽和ＮａＣｌ水溶液（５ｍ
ｌ）を加え、エーテル（２×１０ｍｌ）で抽出した。得
られた有機層をＭｇＳＯ4を用いて乾燥した後、濾過
し、濾液を減圧下濃縮して得られた粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物８
（１７５ｍｇ，０．２８７ｍｍｏｌ）を収率３５％で得
た。その分析値を下記に示す。
ｇ）のＴＨＦ（５ｍｌ）溶液中にトリフェニルホスフィ
ン（３１６ｍｇ）を加え、０℃でアゾジカルボン酸ジエ
チル（０．１９ｍｌ）を滴下し、１時間かけて室温まで
昇温した。よう化メチル（０．２８９ｍｌ）を滴下し、
室温で２時間撹拌した後、飽和ＮａＣｌ水溶液（５ｍ
ｌ）を加え、エーテル（２×１０ｍｌ）で抽出した。得
られた有機層をＭｇＳＯ4を用いて乾燥した後、濾過
し、濾液を減圧下濃縮して得られた粗生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物８
（１７５ｍｇ，０．２８７ｍｍｏｌ）を収率３５％で得
た。その分析値を下記に示す。
【００８５】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．２３
（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０９〜７．０１
（ｍ，１Ｈ），６．７１〜６．６４（ｍ，１Ｈ），５．
６１〜５．４４（ｍ，２Ｈ），５．３０〜５．２０
（ｍ，１Ｈ），４．１５〜４．０６（ｍ，１Ｈ），４．
００〜３．８７（ｍ，１Ｈ），３．６４〜３．５５
（ｍ，１Ｈ），２．６５〜２．５２（ｍ，１Ｈ），２．
５０〜２．３５（ｍ，１Ｈ），２．１５〜２．０１
（ｍ，１Ｈ），１．６５〜１．０５（ｍ，８Ｈ），０．
９３，０．７６ ａｎｄ ０．７５（３ｓ，１８Ｈ），
０．９５〜０．８５（ｍ，３Ｈ），０．０８，０．０
７，０．０６，０．０１ ａｎｄ −０．０５（５ｓ，
１２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１５６．
６，１３５．９，１３５．６，１３２．５，１３２．
４，１３１．１，１２９．３，１２９．２，１２３．
１，１２３．０，１２１．５，１０２．４，８６．４，
８６．１，７７．３，７３．３，７３．０，５８．５，
５８．４，５１．２，５０．９，４２．１，４２．０，
３８．５，３８．４，３１．８，２５．９，２５．６，
２５．１，２４．８，２２．６，１８．３，１７．８，
１４．０，−４．２，−４．６，−４．７，−４．８，
−４．９，−５．０ ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９２０，２８５０，１４４５，１
２４３，１０８０，８２８，７６５
（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０９〜７．０１
（ｍ，１Ｈ），６．７１〜６．６４（ｍ，１Ｈ），５．
６１〜５．４４（ｍ，２Ｈ），５．３０〜５．２０
（ｍ，１Ｈ），４．１５〜４．０６（ｍ，１Ｈ），４．
００〜３．８７（ｍ，１Ｈ），３．６４〜３．５５
（ｍ，１Ｈ），２．６５〜２．５２（ｍ，１Ｈ），２．
５０〜２．３５（ｍ，１Ｈ），２．１５〜２．０１
（ｍ，１Ｈ），１．６５〜１．０５（ｍ，８Ｈ），０．
９３，０．７６ ａｎｄ ０．７５（３ｓ，１８Ｈ），
０．９５〜０．８５（ｍ，３Ｈ），０．０８，０．０
７，０．０６，０．０１ ａｎｄ −０．０５（５ｓ，
１２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１５６．
６，１３５．９，１３５．６，１３２．５，１３２．
４，１３１．１，１２９．３，１２９．２，１２３．
１，１２３．０，１２１．５，１０２．４，８６．４，
８６．１，７７．３，７３．３，７３．０，５８．５，
５８．４，５１．２，５０．９，４２．１，４２．０，
３８．５，３８．４，３１．８，２５．９，２５．６，
２５．１，２４．８，２２．６，１８．３，１７．８，
１４．０，−４．２，−４．６，−４．７，−４．８，
−４．９，−５．０ ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９２０，２８５０，１４４５，１
２４３，１０８０，８２８，７６５
【００８６】
【化３９】
【００８７】ｎ−ＢｕＬｉ（０．９ｍｌ，１．９７ｍｍ
ｏｌ，２．１９Ｍのヘキサン溶液）に０℃で化合物８
（３２９ｍｇ，０．５４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）
を滴下し、５分間撹拌した後に化合物９（３０６ｍｇ，
１．０８ｍｍｏｌ）を滴下した。室温まで昇温した後、
飽和塩化アンモニウム水溶液（５ｍｌ）を加え、エーテ
ル（２×１０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭｇ
ＳＯ4を用いて乾燥した後、濾過した。濾液を減圧下濃
縮した後、２０ｍｌのシリカゲル層を通し、濾液を再び
減圧下濃縮して得られた粗化合物１０をそのまま次の反
応に用いた。
ｏｌ，２．１９Ｍのヘキサン溶液）に０℃で化合物８
（３２９ｍｇ，０．５４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５ｍｌ）
を滴下し、５分間撹拌した後に化合物９（３０６ｍｇ，
１．０８ｍｍｏｌ）を滴下した。室温まで昇温した後、
飽和塩化アンモニウム水溶液（５ｍｌ）を加え、エーテ
ル（２×１０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭｇ
ＳＯ4を用いて乾燥した後、濾過した。濾液を減圧下濃
縮した後、２０ｍｌのシリカゲル層を通し、濾液を再び
減圧下濃縮して得られた粗化合物１０をそのまま次の反
応に用いた。
【００８８】
【化４０】
【００８９】前の反応で得られた粗化合物１０のイソプ
ロピルアルコールエーテル混合溶液（５：１，５．８ｍ
ｌ）中にピリジニウムｐ−トルエンスルホネートを触媒
量加え、３５℃の恒温槽中で撹拌した。２４時間後、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍｌ）を加え、エーテ
ル（２×１０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭｇ
ＳＯ4を用いて乾燥し、濾過した後、濾液を減圧下濃縮
した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製して化合物１１（１０４ｍｇ，０．
１７２ｍｍｏｌ）を化合物８より３２％で得た。その分
析値を下記に示す。
ロピルアルコールエーテル混合溶液（５：１，５．８ｍ
ｌ）中にピリジニウムｐ−トルエンスルホネートを触媒
量加え、３５℃の恒温槽中で撹拌した。２４時間後、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍｌ）を加え、エーテ
ル（２×１０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭｇ
ＳＯ4を用いて乾燥し、濾過した後、濾液を減圧下濃縮
した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製して化合物１１（１０４ｍｇ，０．
１７２ｍｍｏｌ）を化合物８より３２％で得た。その分
析値を下記に示す。
【００９０】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．０２〜
６．９０（ｍ，２Ｈ），６．７３（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．６４〜５．４７（ｍ，２Ｈ），５．１
４〜５．０４（ｍ，１Ｈ），４．１６〜４．０７（ｍ，
１Ｈ），３．９６〜３．８１（ｍ，１Ｈ），３．６８
（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．５０〜３．３８
（ｍ，１Ｈ），２．６２〜２．４３（ｍ，４Ｈ），２．
００〜１．８５（ｍ，１Ｈ），１．７５〜１．２０
（ｍ，１２Ｈ），０．９２，０．７９ ａｎｄ ０．７
８（３ｓ，１８Ｈ），０．９１〜０．８５（ｍ，３
Ｈ），０．０９，０．０８，０．０７，０．０２ ａｎ
ｄ −０．０３（５ｓ，１２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１５７．
２，１５７．１，１３５．８，１３５．５，１３０．
２，１２９．７，１２９．４，１２８．３，１２４．
０，１２１．８，１２１．７，１２０．２，１２０．
１，８４．５，８４．３，７６．８，７３．５，７３．
０，６２．８，５８．２，５８．１，５０．０，４９．
７，４２．５，３８．６，３８．５，３２．４，３１．
９，３１．８，２９．５，２５．９，２５．８，２５．
７，２５．１，２４．８，２２．６，１８．３，１７．
９，１４．０，−４．２，−４．６，−４．７，−４．
８ ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４００，２９３５，２８６０，１
４５２，１２５０，１１２０，１０８０，８３５
６．９０（ｍ，２Ｈ），６．７３（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．６４〜５．４７（ｍ，２Ｈ），５．１
４〜５．０４（ｍ，１Ｈ），４．１６〜４．０７（ｍ，
１Ｈ），３．９６〜３．８１（ｍ，１Ｈ），３．６８
（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．５０〜３．３８
（ｍ，１Ｈ），２．６２〜２．４３（ｍ，４Ｈ），２．
００〜１．８５（ｍ，１Ｈ），１．７５〜１．２０
（ｍ，１２Ｈ），０．９２，０．７９ ａｎｄ ０．７
８（３ｓ，１８Ｈ），０．９１〜０．８５（ｍ，３
Ｈ），０．０９，０．０８，０．０７，０．０２ ａｎ
ｄ −０．０３（５ｓ，１２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１５７．
２，１５７．１，１３５．８，１３５．５，１３０．
２，１２９．７，１２９．４，１２８．３，１２４．
０，１２１．８，１２１．７，１２０．２，１２０．
１，８４．５，８４．３，７６．８，７３．５，７３．
０，６２．８，５８．２，５８．１，５０．０，４９．
７，４２．５，３８．６，３８．５，３２．４，３１．
９，３１．８，２９．５，２５．９，２５．８，２５．
７，２５．１，２４．８，２２．６，１８．３，１７．
９，１４．０，−４．２，−４．６，−４．７，−４．
８ ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４００，２９３５，２８６０，１
４５２，１２５０，１１２０，１０８０，８３５
【００９１】
【化４１】
【００９２】Ｊｏｎｅｓ試薬（０．３３ｍｌ，３．０
Ｍ）のアセトン−エーテル（１：１，５．０ｍｌ）混合
液中に０℃で化合物１１（１０４ｍｇ，０．１７２ｍｍ
ｏｌ）のアセトン−エーテル（１：１，３．０ｍｌ）を
ゆっくりと滴下した。２０分撹拌した後、Ｈ2Ｏ（３ｍ
ｌ）で希釈し、エーテル（２×１０ｍｌ）で抽出した。
得られた有機層をＭｇＳＯ4を用いて乾燥し、濾過し
た。濾液を減圧下濃縮した後、得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物
１２（８０ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を７６％で得た。
その分析値を下記に示す。
Ｍ）のアセトン−エーテル（１：１，５．０ｍｌ）混合
液中に０℃で化合物１１（１０４ｍｇ，０．１７２ｍｍ
ｏｌ）のアセトン−エーテル（１：１，３．０ｍｌ）を
ゆっくりと滴下した。２０分撹拌した後、Ｈ2Ｏ（３ｍ
ｌ）で希釈し、エーテル（２×１０ｍｌ）で抽出した。
得られた有機層をＭｇＳＯ4を用いて乾燥し、濾過し
た。濾液を減圧下濃縮した後、得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物
１２（８０ｍｇ，０．１３ｍｍｏｌ）を７６％で得た。
その分析値を下記に示す。
【００９３】1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．０４〜
６．８７（ｍ，２Ｈ），６．７３（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．６３〜５．４８（ｍ，２Ｈ），５．１
５〜５．０３（ｍ，１Ｈ），４．１９〜４．０６（ｍ，
１Ｈ），３．９６〜３．８１（ｍ，１Ｈ），３．５１〜
３．３６（ｍ，１Ｈ），２．７０〜２．２６（ｍ，６
Ｈ），２．０６〜１．８０（ｍ，３Ｈ），１．８０，
１．１５（ｍ，８Ｈ），０．９１，０．７７ ａｎｄ
０．７６（３ｓ，１８Ｈ），０．９０〜０．８０（ｍ，
３Ｈ），０．０８，０．０７，０．０１ ａｎｄ −
０．０３（４ｓ，１２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１７９．
４，１５７．３，１３５．８，１３５．５，１３０．
３，１２９．８，１２９．５，１２８．４，１２２．
８，１２２．１，１２２．０，１２０．２，８４．７，
８４．５，７７．１，７６．９，７３．５，７３．１，
５８．２，５８．１，５０．０，４９．７，４２．５，
４２．４，３８．６，３８．５，３４．７，３３．４，
２５．９，２５．７，２５．３，２５．１，２４．８，
２４．５，２２．６，１８．３，１７．９，１４．１，
１４．０，−４．２，−４．６，−４．７，−４．８ ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４０，２８６０，１７０５，１
４５５，１２５０，１１２０，１０８５，８３８，７７
５
６．８７（ｍ，２Ｈ），６．７３（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈ
ｚ，１Ｈ），５．６３〜５．４８（ｍ，２Ｈ），５．１
５〜５．０３（ｍ，１Ｈ），４．１９〜４．０６（ｍ，
１Ｈ），３．９６〜３．８１（ｍ，１Ｈ），３．５１〜
３．３６（ｍ，１Ｈ），２．７０〜２．２６（ｍ，６
Ｈ），２．０６〜１．８０（ｍ，３Ｈ），１．８０，
１．１５（ｍ，８Ｈ），０．９１，０．７７ ａｎｄ
０．７６（３ｓ，１８Ｈ），０．９０〜０．８０（ｍ，
３Ｈ），０．０８，０．０７，０．０１ ａｎｄ −
０．０３（４ｓ，１２Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１７９．
４，１５７．３，１３５．８，１３５．５，１３０．
３，１２９．８，１２９．５，１２８．４，１２２．
８，１２２．１，１２２．０，１２０．２，８４．７，
８４．５，７７．１，７６．９，７３．５，７３．１，
５８．２，５８．１，５０．０，４９．７，４２．５，
４２．４，３８．６，３８．５，３４．７，３３．４，
２５．９，２５．７，２５．３，２５．１，２４．８，
２４．５，２２．６，１８．３，１７．９，１４．１，
１４．０，−４．２，−４．６，−４．７，−４．８ ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９４０，２８６０，１７０５，１
４５５，１２５０，１１２０，１０８５，８３８，７７
５
【００９４】
【化４２】
【００９５】化合物１２（７９．６ｍｇ，０．１２９ｍ
ｍｏｌ）のＴＨＦ（３．９ｍｌ）溶液に０℃で５５％の
ＨＦ水溶液（１．３ｍｌ）とＴＨＦ（１．２ｍｌ）の混
合溶液をゆっくりと滴下した。室温まで昇温した後、２
時間撹拌し、反応液をＮａＨＣＯ3（３２ｇ）Ｈ2Ｏ（１
４ｍｌ）、酢酸エチル（８．４ｍｌ）の混合液に撹拌し
ながら注いだ。有機層を分離し、水層を酢酸エチル（２
×１０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭｇＳＯ4
を用いて乾燥した後、濾過した。濾液は減圧下濃縮し、
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製して化合物１３（２０．５ｍｇ，０．０５
３ｍｍｏｌ）及び化合物１３’（１８．０ｍｇ，０．０
４６ｍｍｏｌ）を４１％，３６％でそれぞれ得た。その
分析値を下記に示す。 化合物１３1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：６．９８〜６．８７
（ｍ，２Ｈ），６．７４（ｔ，７．４Ｈｚ，１Ｈ），
５．６５〜５．４７（ｍ，２Ｈ），５．１１〜５．００
（ｍ，１Ｈ），４．１４〜４．０３（ｍ，１Ｈ），３．
９３〜３．８０（ｍ，１Ｈ），３．３７（ｔ，８．９Ｈ
ｚ，１Ｈ），２．７３〜２．５０（ｍ，３Ｈ），２．４
２〜２．２５（ｍ，３Ｈ），２．０６〜１．８０（ｍ，
３Ｈ），１．７０，１．０５（ｍ，８Ｈ），１．００〜
０．８０（ｍ，３Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１７８．
０，１５７．２，１３６．１，１３１．７，１２９．
７，１２９．０，１２３．２，１２１．９，１２０．
５，８４．４，７６．３，７３．２，５８．７，５０．
３，４１．２，３７．１，３３．１，３１．７，２９．
１，２５．２，２４．６，２２．６，１４．０ＩＲ（ｎ
ｅａｔ）：３４１２，２９２８，２８５９，１７１９，
１４５３，１２６７，１２０４，１０８０，１０１９，
９６８，８６２，７６８，７４７ｃｍ-1 ［α］22 D＋１０１°（ｃ ０．４４５，ＭｅＯＨ），
ｍ．ｐ．９５〜９６℃化合物１３’1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．０３〜６．９１
（ｍ，２Ｈ），６．７６（ｔ，７．４Ｈｚ，１Ｈ），
５．７５〜５．５８（ｍ，２Ｈ），５．１８〜５．０７
（ｍ，１Ｈ），４．１９〜４．１０（ｍ，１Ｈ），４．
０１〜３．９０（ｍ，１Ｈ），３．４９（ｔ，８２Ｈ
ｚ，１Ｈ），２．７３〜２．４０（ｍ，４Ｈ），２．３
４（ｔ，７．４Ｈｚ，２Ｈ），２．０８〜１．８２
（ｍ，３Ｈ），１．７０〜１．１５（ｍ，８Ｈ），１．
００〜０．８０（ｍ，３Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１７８．
０，１５７．２，１３５．７，１３０．３，１２９．
９，１２８．９，１２３．１，１２２．０，１２０．
６，８４．９，７６．８，７２．４，５８．５，５０．
６，４１．４，３７．４，３３．１，３１．７，２９．
０，２５．１，２４．６，２２．６，１４．０ＩＲ（ｎ
ｅａｔ）：３３５０，２９３０，１７０５，１４５０，
１２４０，１１９０，１０４０，９６５，８６０，７４
０ｃｍ-1 ［α］22 D−６６°（ｃ ０．２３２，ＭｅＯＨ）
ｍｏｌ）のＴＨＦ（３．９ｍｌ）溶液に０℃で５５％の
ＨＦ水溶液（１．３ｍｌ）とＴＨＦ（１．２ｍｌ）の混
合溶液をゆっくりと滴下した。室温まで昇温した後、２
時間撹拌し、反応液をＮａＨＣＯ3（３２ｇ）Ｈ2Ｏ（１
４ｍｌ）、酢酸エチル（８．４ｍｌ）の混合液に撹拌し
ながら注いだ。有機層を分離し、水層を酢酸エチル（２
×１０ｍｌ）で抽出した。得られた有機層をＭｇＳＯ4
を用いて乾燥した後、濾過した。濾液は減圧下濃縮し、
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製して化合物１３（２０．５ｍｇ，０．０５
３ｍｍｏｌ）及び化合物１３’（１８．０ｍｇ，０．０
４６ｍｍｏｌ）を４１％，３６％でそれぞれ得た。その
分析値を下記に示す。 化合物１３1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：６．９８〜６．８７
（ｍ，２Ｈ），６．７４（ｔ，７．４Ｈｚ，１Ｈ），
５．６５〜５．４７（ｍ，２Ｈ），５．１１〜５．００
（ｍ，１Ｈ），４．１４〜４．０３（ｍ，１Ｈ），３．
９３〜３．８０（ｍ，１Ｈ），３．３７（ｔ，８．９Ｈ
ｚ，１Ｈ），２．７３〜２．５０（ｍ，３Ｈ），２．４
２〜２．２５（ｍ，３Ｈ），２．０６〜１．８０（ｍ，
３Ｈ），１．７０，１．０５（ｍ，８Ｈ），１．００〜
０．８０（ｍ，３Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１７８．
０，１５７．２，１３６．１，１３１．７，１２９．
７，１２９．０，１２３．２，１２１．９，１２０．
５，８４．４，７６．３，７３．２，５８．７，５０．
３，４１．２，３７．１，３３．１，３１．７，２９．
１，２５．２，２４．６，２２．６，１４．０ＩＲ（ｎ
ｅａｔ）：３４１２，２９２８，２８５９，１７１９，
１４５３，１２６７，１２０４，１０８０，１０１９，
９６８，８６２，７６８，７４７ｃｍ-1 ［α］22 D＋１０１°（ｃ ０．４４５，ＭｅＯＨ），
ｍ．ｐ．９５〜９６℃化合物１３’1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：７．０３〜６．９１
（ｍ，２Ｈ），６．７６（ｔ，７．４Ｈｚ，１Ｈ），
５．７５〜５．５８（ｍ，２Ｈ），５．１８〜５．０７
（ｍ，１Ｈ），４．１９〜４．１０（ｍ，１Ｈ），４．
０１〜３．９０（ｍ，１Ｈ），３．４９（ｔ，８２Ｈ
ｚ，１Ｈ），２．７３〜２．４０（ｍ，４Ｈ），２．３
４（ｔ，７．４Ｈｚ，２Ｈ），２．０８〜１．８２
（ｍ，３Ｈ），１．７０〜１．１５（ｍ，８Ｈ），１．
００〜０．８０（ｍ，３Ｈ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ（ｐｐｍ）：１７８．
０，１５７．２，１３５．７，１３０．３，１２９．
９，１２８．９，１２３．１，１２２．０，１２０．
６，８４．９，７６．８，７２．４，５８．５，５０．
６，４１．４，３７．４，３３．１，３１．７，２９．
０，２５．１，２４．６，２２．６，１４．０ＩＲ（ｎ
ｅａｔ）：３３５０，２９３０，１７０５，１４５０，
１２４０，１１９０，１０４０，９６５，８６０，７４
０ｃｍ-1 ［α］22 D−６６°（ｃ ０．２３２，ＭｅＯＨ）
【００９６】
【化４３】
【００９７】化合物３（２２０ｍｇ，０．７１ｍｍｏ
ｌ）に酢酸ビニル（３．０ｍｌ）及びＰＰＬ（Ｐｏｒｃ
ｎｅ Ｐａｒｃｒｅａｓ Ｌｉｐａｓｅ，２３４ｍ
ｇ）を加え、室温で８日間激しく撹拌した。反応液にセ
ライト（３００ｍｇ）を加え、セライトパッドのフィル
ターで濾過した。濾液を減圧下濃縮した。得られた粗生
成物をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製して化合物１４（８４ｍｇ，０．２４ｍｍｏ
ｌ）*と化合物３’（１２８ｍｇ，０．４１ｍｍｏｌ）
**を収率３４％，５８％でそれぞれ得た。 ＊９７．５％ｅｅ，＊＊６３．２％ｅｅ
ｌ）に酢酸ビニル（３．０ｍｌ）及びＰＰＬ（Ｐｏｒｃ
ｎｅ Ｐａｒｃｒｅａｓ Ｌｉｐａｓｅ，２３４ｍ
ｇ）を加え、室温で８日間激しく撹拌した。反応液にセ
ライト（３００ｍｇ）を加え、セライトパッドのフィル
ターで濾過した。濾液を減圧下濃縮した。得られた粗生
成物をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製して化合物１４（８４ｍｇ，０．２４ｍｍｏ
ｌ）*と化合物３’（１２８ｍｇ，０．４１ｍｍｏｌ）
**を収率３４％，５８％でそれぞれ得た。 ＊９７．５％ｅｅ，＊＊６３．２％ｅｅ
【００９８】
【化４４】
【００９９】金属Ｎａ（２６．８ｍｇ，１．１７ｍｍｏ
ｌ）のＭｅＯＨ（２．３４ｍｌ）溶液中に炭酸グアニジ
ン（２．１１ｍｇ，１．１７ｍｍｏｌ）を加え室温で２
５分間撹拌した。調整したグアニジン溶液（０．１５２
ｍｌ）を化合物１４（２６．８ｍｇ，０．０７６ｍｍｏ
ｌ）のＭｅＯＨ（０．３ｍｌ）溶液中に０℃で滴下し
た。５分間撹拌した後、氷酢酸（４．３μｌ）を加え、
反応液をそのまま濃縮し、ＭｅＯＨを留去した。これに
Ｈ2Ｏ（１ｍｌ）を加え、酢酸エチル（２×５ｍｌ）で
抽出し、有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した後、濾過した。
濾液は減圧下濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製して化合物３”（１
６．８ｍｇ，０．０５４ｍｍｏｌ）を収率７２％で得
た。
ｌ）のＭｅＯＨ（２．３４ｍｌ）溶液中に炭酸グアニジ
ン（２．１１ｍｇ，１．１７ｍｍｏｌ）を加え室温で２
５分間撹拌した。調整したグアニジン溶液（０．１５２
ｍｌ）を化合物１４（２６．８ｍｇ，０．０７６ｍｍｏ
ｌ）のＭｅＯＨ（０．３ｍｌ）溶液中に０℃で滴下し
た。５分間撹拌した後、氷酢酸（４．３μｌ）を加え、
反応液をそのまま濃縮し、ＭｅＯＨを留去した。これに
Ｈ2Ｏ（１ｍｌ）を加え、酢酸エチル（２×５ｍｌ）で
抽出し、有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した後、濾過した。
濾液は減圧下濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製して化合物３”（１
６．８ｍｇ，０．０５４ｍｍｏｌ）を収率７２％で得
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 67/347 69/63 9279−4Ｈ 69/76 Ｚ 9279−4Ｈ 69/92 255/40 Ｃ０７Ｄ 307/93 Ｃ０７Ｆ 7/18 Ａ Ｃ１２Ｐ 41/00 Ｈ 9452−4Ｂ
Claims (9)
- 【請求項１】 式［Ｉ］で表わされるフェニル置換ヒド
ロキシシクロペンテノン類。 【化１】 ［式中、Ｚ１は水素原子または水酸基の保護基を示し、
Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護された水酸基、チオ
−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ基、保護された
アミノ基、あるいは「炭素数１〜６のアルキル基、また
は炭素数１〜８のアラルキル基」で置換されたアミノ基
を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。］ - 【請求項２】 式［ＩＩ］ 【化２】 ［式中、Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護された水酸
基、チオ−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ基、保
護されたアミノ基、あるいは「炭素数１〜６のアルキル
基、または炭素数１〜８のアラルキル基」で置換された
アミノ基を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。］で表わされる
フラン誘導体を酸触媒存在下転位反応させ、式［ＩＩ
Ｉ］ 【化３】 ［式中、Ｘ１、Ｘ２は前記に同じ。］の化合物とし、続
いて酸性条件または塩基性条件下で異性化反応させ、必
要に応じて水酸基を保護することを特徴とする、式
［Ｉ］ 【化４】 ［式中、Ｘ１、Ｘ２は前記に同じ。Ｚ１は水素原子また
は水酸基の保護基を示す。］で表わされるフェニル置換
ヒドロキシシクロペンテノン類を製造する方法。 - 【請求項３】 式［ＩＶ］で表わされるフェニル置換ヒ
ドロキシシクロペンタノン類。 【化５】 ［式中、Ｚ１は水素原子または水酸基の保護基を示し、
Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護された水酸基、チオ
−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ基、保護された
アミノ基、あるいは「炭素数１〜６のアルキル基、また
は炭素数１〜８のアラルキル基」で置換されたアミノ基
を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。Ｘ３は −Ｔ−（ＣＨ２）ｊ−Ｃ（Ｒ９）（２−ｋ）（ＯＺ２）
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ10は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１０
のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６の
アルコキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭素数１〜４のアルキ
レン基を、Ｄはフェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基もしくは
フェノキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基または炭素数５〜７のシクロアルキル基を示
す。）で表わされる基を示す。Ｚ２は水素原子または水
酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃなる基の場合水
酸基の保護基を示す。］ - 【請求項４】 式［Ｉ］ 【化６】 ［式中、Ｚ１は水素原子または水酸基の保護基を示し、
Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護された水酸基、チオ
−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ基、保護された
アミノ基、あるいは「炭素数１〜６のアルキル基、また
は炭素数１〜８のアラルキル基」で置換されたアミノ基
を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシを示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。］で表わされる
フェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類と、 Ｍ−Ｘ３ ［式中、Ｘ３は −Ｔ−（ＣＨ２）ｊ−Ｃ（Ｒ９）（２−ｋ）（ＯＺ２）
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１０
のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６の
アルコキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭素数１〜４のアルキ
レン基を、Ｄはフェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基もしくは
フェノキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基または炭素数５〜７のシクロアルキル基を示
す。）で表わされる基を示し、Ｚ２は水素原子または水
酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃなる基の場合水
酸基の保護基を示す。ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｎより選
ばれる金属または該金属を含む基を示す。］で表わされ
る求核試薬を反応させることを特徴とする、式［ＩＶ］ 【化７】 ［式中、Ｚ１、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３は前記に同じ。］で表
わされるフェニル置換ヒドロキシシクロペンタノン類を
製造する方法。 - 【請求項５】 式［Ｖ］で表わされるフェニル置換ジヒ
ドロキシシクロペンタン類 【化８】 ［式中、Ｚ１は水素原子または水酸基の保護基を示し、
Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護された水酸基、チオ
−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ基、保護された
アミノ基、あるいは「炭素数１〜６のアルキル基、また
は炭素数１〜８のアラルキル基」で置換されたアミノ基
を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。Ｘ３は −Ｔ−（ＣＨ２）ｊ−Ｃ（Ｒ９）（２−ｋ）（ＯＺ２）
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１０
のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６の
アルコキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭素数１〜４のアルキ
レン基を、Ｄはフェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基もしくは
フェノキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基または炭素数５〜７のシクロアルキル基を示
す。）で表わされる基を示す。Ｚ２は水素原子または水
酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃなる基の場合水
酸基の保護基を示す。］ - 【請求項６】 式［ＩＶ］ 【化９】 ［式中、Ｚ１は水素原子または水酸基の保護基を示し、
Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護された水酸基、チオ
−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ基、保護された
アミノ基、あるいは「炭素数１〜６のアルキル基、また
は炭素数１〜８のアラルキル基」で置換されたアミノ基
を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。Ｘ３は −Ｔ−（ＣＨ２）ｊ−Ｃ（Ｒ９）（２−ｋ）（ＯＺ２）
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１０
のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６の
アルコキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭素数１〜４のアルキ
レン基を、Ｄはフェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基もしくは
フェノキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基または炭素数５〜７のシクロアルキル基を示
す。）で表わされる基を示す。Ｚ２は水素原子または水
酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃなる基の場合水
酸基の保護基を示す。］で表わされるフェニル置換ヒド
ロキシシクロペンタノン類を還元剤と反応させることを
特徴とする、式［Ｖ］ 【化１０】 ［式中、Ｚ１、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３は前記に同じ。］で表
わされるフェニル置換ジヒドロキシシクロペンタン類を
製造する方法。 - 【請求項７】 式［Ｖ］ 【化１１】 ［式中、Ｚ１は水素原子または水酸基の保護基を示し、
Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護された水酸基、チオ
−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ基、保護された
アミノ基、あるいは「炭素数１〜６のアルキル基、また
は炭素数１〜８のアラルキル基」で置換されたアミノ基
を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。Ｘ３は −Ｔ−（ＣＨ２）ｊ−Ｃ（Ｒ９）（２−ｋ）（ＯＺ２）
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１０
のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６の
アルコキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭素数１〜４のアルキ
レン基を、Ｄはフェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基もしくは
フェノキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基または炭素数５〜７のシクロアルキル基を示
す。）で表わされる基を示す。Ｚ２は水素原子または水
酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃなる基の場合水
酸基の保護基を示す。］で表わされるフェニル置換ジヒ
ドロキシシクロペンタン類を環化させることを特徴とす
る、式［ＶＩ］ 【化１２】 ［式中、Ｚ１、Ｘ２、Ｘ３は前記に同じ。Ｙ３は酸素原
子、硫黄原子、−ＮＨ−または−ＮＲ１１−（式中、Ｒ
１１は炭素数１〜６のアルキル基を示す。）を示す。］
で表わされるフェニル置換プロスタグランジンＩ２類を
製造する方法。 - 【請求項８】 式［ＶＩＩ］で表わされるフェニル置換
プロスタグランジンＩ２類中間体。 【化１３】 ［式中、Ｚ１は水素原子または水酸基の保護基を示し、
Ｘ３は −Ｔ−（ＣＨ２）ｊ−Ｃ（Ｒ９）（２−ｋ）（ＯＺ２）
ｋ−Ｒ１０ （式中、ＴはＣＨ２ＣＨ２、ＣＨ＝ＣＨ、またはＣ≡Ｃ
より選ばれる基を示し、ｊ及びｋはそれぞれ独立に０、
１または２の整数を示し、Ｒ９は（２−ｋ）個の水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のア
ルコキシ基を示し、Ｒ１０は炭素数１〜１０のアルキル
基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜１０
のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基、フェ
ニル基、フェノキシ基、「ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６の
アルコキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基、あるいは−Ｂ−Ｄ（Ｂは炭素数１〜４のアルキ
レン基を、Ｄはフェニル基、フェノキシ基、「ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基もしくは
フェノキシ基」で置換されたフェニル基もしくはフェノ
キシ基または炭素数５〜７のシクロアルキル基を示
す。）で表わされる基を示し、Ｚ２は水素原子または水
酸基の保護基を示し、ただしＴがＣ≡Ｃなる基の場合水
酸基の保護基を示す。Ｘ４はハロゲン原子、水酸基、チ
オ−ル基、アリル基、ビニル基、エチニル基、エステル
基またはシアノ基を示し、Ｙ３は酸素原子、硫黄原子、
−ＮＨ−または−ＮＲ１１−（式中、Ｒ１１は炭素数１
〜６のアルキル基を示す。）を示す。］ - 【請求項９】 式［Ｉ］ 【化１４】 ［式中、Ｚ１は水素原子または水酸基の保護基を示し、
Ｘ１はハロゲン原子、水酸基、保護された水酸基、チオ
−ル基、保護されたチオ−ル基、アミノ基、保護された
アミノ基、あるいは「炭素数１〜６のアルキル基、また
は炭素数１〜８のアラルキル基」で置換されたアミノ基
を示す。Ｘ２はハロゲン原子、 −Ｙ1 h（ＣＲ１Ｒ２）ｍＡｎ（ＣＨ２）ｐＹ２ ｑ（ＣＲ
３Ｒ４）ｒＱｓ （式中、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ酸素原子または硫黄原
子を示し、Ａはビニレン基、エチニレン基、またはアレ
ンの両端の炭素原子から１個ずつ水素原子を除いてでき
る２価の基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４の
アルコキシ基を示し、Ｑは水素原子、 −ＣＯＯＲ５ （式中、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、シアノ基、水酸基、 −ＯＣＯＲ６ （式中、Ｒ６は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基ま
たは炭素数２〜６のアルケニル基を示す。）で表わされ
る基、 −ＣＯＮＲ７Ｒ８ （式中、Ｒ７及びＲ８は水素原子、炭素数１〜６のアル
キル基またはフェニル基を示す。）で表わされる基また
はフェニル基を示し、ｈ、ｎ、ｑ、ｓは０または１を示
し、ｍ、ｐ、ｒは０〜５の整数を示す。］で表わされる
フェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類の両対掌体
の混合物を酵素で処理することを特徴とする光学活性な
式［Ｉ］のフェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類
の光学分割法。
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|---|---|---|---|
| JP05121694A JP3541417B2 (ja) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | フェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類、ペンタノン類及びフェニル置換プロスタグランジンｉ２類中間体並びにその製造法及び光学分割法 |
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|---|---|---|---|
| JP05121694A JP3541417B2 (ja) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | フェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類、ペンタノン類及びフェニル置換プロスタグランジンｉ２類中間体並びにその製造法及び光学分割法 |
Publications (2)
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ID=12880732
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| JP05121694A Expired - Fee Related JP3541417B2 (ja) | 1994-02-24 | 1994-02-24 | フェニル置換ヒドロキシシクロペンテノン類、ペンタノン類及びフェニル置換プロスタグランジンｉ２類中間体並びにその製造法及び光学分割法 |
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1994
- 1994-02-24 JP JP05121694A patent/JP3541417B2/ja not_active Expired - Fee Related
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