JPH07234306A - 鏡およびその製造方法 - Google Patents
鏡およびその製造方法Info
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- JPH07234306A JPH07234306A JP2552694A JP2552694A JPH07234306A JP H07234306 A JPH07234306 A JP H07234306A JP 2552694 A JP2552694 A JP 2552694A JP 2552694 A JP2552694 A JP 2552694A JP H07234306 A JPH07234306 A JP H07234306A
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- Japan
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- film
- protective film
- silver
- mirror
- benzotriazole
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Abstract
(57)【要約】
【構成】ガラス基板１上に銀鏡面膜２、銅保護膜３、裏
止め塗膜５を順次形成してなる鏡において、銅保護膜２
と裏止め塗膜５との間にベンゾトリアゾールおよび／ま
たはその誘導体を塗布して形成されてなる被膜４を有す
る鏡およびその製造方法。 【効果】耐アルカリ性、耐酸性などの化学的耐久性が格
段に優れ、厳しい使用条件下の環境下においても充分使
用に耐え得るとともに、切断、面取りなどの加工性にも
優れる。
止め塗膜５を順次形成してなる鏡において、銅保護膜２
と裏止め塗膜５との間にベンゾトリアゾールおよび／ま
たはその誘導体を塗布して形成されてなる被膜４を有す
る鏡およびその製造方法。 【効果】耐アルカリ性、耐酸性などの化学的耐久性が格
段に優れ、厳しい使用条件下の環境下においても充分使
用に耐え得るとともに、切断、面取りなどの加工性にも
優れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特に耐アルカリ性およ
び耐酸性等が格段に優れるとともに、切断、面取りなど
の加工性も優れた鏡およびその製造方法に関する。
び耐酸性等が格段に優れるとともに、切断、面取りなど
の加工性も優れた鏡およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ガラス基板裏面に銀鏡面膜を鍍金
してなる鏡においては、銀鏡面膜の各種外的悪条件から
の耐性あるいは機械的損傷を防止するために、銀鏡面膜
上に銅保護膜を形成し、更にその上に直接裏止め塗膜を
形成する製造方法がとられてきた。
してなる鏡においては、銀鏡面膜の各種外的悪条件から
の耐性あるいは機械的損傷を防止するために、銀鏡面膜
上に銅保護膜を形成し、更にその上に直接裏止め塗膜を
形成する製造方法がとられてきた。
【０００３】しかし、このような製造方法で作られた鏡
は、それぞれそれなりの効果をもたらすが、鏡のあらゆ
る使用条件下において存在する悪条件に対しては充分満
足のゆく性能が得られなかった。
は、それぞれそれなりの効果をもたらすが、鏡のあらゆ
る使用条件下において存在する悪条件に対しては充分満
足のゆく性能が得られなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
の製造方法に比べて耐アルカリ性、耐酸性、加工性、耐
蝕性等を向上させた鏡の製造方法の提供にある。
の製造方法に比べて耐アルカリ性、耐酸性、加工性、耐
蝕性等を向上させた鏡の製造方法の提供にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス基板上
に銀鏡面膜、銅保護膜、裏止め塗膜を順次形成してなる
鏡の製造方法において、銅保護膜表面をベンゾトリアゾ
ールおよび／またはその誘導体を含む表面処理液にて表
面処理した後、塗料を塗布して裏止め塗膜を形成する鏡
の製造方法を提供するものである。
に銀鏡面膜、銅保護膜、裏止め塗膜を順次形成してなる
鏡の製造方法において、銅保護膜表面をベンゾトリアゾ
ールおよび／またはその誘導体を含む表面処理液にて表
面処理した後、塗料を塗布して裏止め塗膜を形成する鏡
の製造方法を提供するものである。
【０００６】本発明は、また、ガラス基板上に銀鏡面
膜、銅保護膜、裏止め塗膜を順次形成してなる鏡におい
て、銅保護膜と裏止め塗膜との間にベンゾトリアゾール
および／またはその誘導体を塗布して形成されてなる被
膜を有することを特徴とする鏡を提供するものである。
膜、銅保護膜、裏止め塗膜を順次形成してなる鏡におい
て、銅保護膜と裏止め塗膜との間にベンゾトリアゾール
および／またはその誘導体を塗布して形成されてなる被
膜を有することを特徴とする鏡を提供するものである。
【０００７】図１は、本発明に係る鏡の一具体例を示し
たものであり、１はガラス基板、２はガラス基板に形成
された銀鏡面膜、３は銀鏡面膜２の化学的耐久性を高め
るために銀鏡面膜上に形成された銅保護膜、４はベンゾ
トリアゾールおよび／またはその誘導体を塗布して形成
されてなる被膜、５は銀鏡面膜および銅保護膜を保護す
るために形成された裏止め塗膜を示す。
たものであり、１はガラス基板、２はガラス基板に形成
された銀鏡面膜、３は銀鏡面膜２の化学的耐久性を高め
るために銀鏡面膜上に形成された銅保護膜、４はベンゾ
トリアゾールおよび／またはその誘導体を塗布して形成
されてなる被膜、５は銀鏡面膜および銅保護膜を保護す
るために形成された裏止め塗膜を示す。
【０００８】上記した鏡において、銀鏡面膜としては、
無電解メッキ法によりガラス基板面に膜状に析出させて
形成させる膜が通常使用されるが、必ずしもこれに限定
されることはなく、真空蒸着法、スパッター法、その他
各種の被膜形成法により形成される銀膜も銀鏡面膜とし
て使用できる。かかる銀鏡面膜は、鏡として要求される
反射率が充分得られ、かつ耐久性に優れた銀鏡面膜が得
られるように０．５〜２ｇ／ｍ2 の膜厚が適当である。
無電解メッキ法によりガラス基板面に膜状に析出させて
形成させる膜が通常使用されるが、必ずしもこれに限定
されることはなく、真空蒸着法、スパッター法、その他
各種の被膜形成法により形成される銀膜も銀鏡面膜とし
て使用できる。かかる銀鏡面膜は、鏡として要求される
反射率が充分得られ、かつ耐久性に優れた銀鏡面膜が得
られるように０．５〜２ｇ／ｍ2 の膜厚が適当である。
【０００９】また、銅保護膜は、化学的に変質しやすい
銀鏡面膜の化学的耐久性を高める保護膜として形成され
るものであり、かかる銅保護膜は、充分な化学的耐久性
向上効果が得られ、かつ銀鏡面膜との密着性も損なわれ
ないように、０．１〜１ｇ／ｍ2 程度の膜厚とするのが
適当である。
銀鏡面膜の化学的耐久性を高める保護膜として形成され
るものであり、かかる銅保護膜は、充分な化学的耐久性
向上効果が得られ、かつ銀鏡面膜との密着性も損なわれ
ないように、０．１〜１ｇ／ｍ2 程度の膜厚とするのが
適当である。
【００１０】銀鏡面膜および銅保護膜の形成された鏡の
代表的な製造方法は、表面が平滑で、かつ表面欠点のな
いガラス板を用意し、このガラス板を充分に洗浄した
後、銀鏡面膜の形成される面を活性化処理し、その表面
に無電解メッキ法、例えばいわゆる銀鏡反応によって銀
を析出する銀メッキ液をスプレーして銀鏡面膜を形成
し、次いで銀鏡面膜上に、無電解メッキ法により銅を析
出するメッキ液をスプレーして銅保護膜を形成し次いで
洗浄、乾燥する。こうして形成された銅保護膜上に、銀
鏡面膜および銅保護膜の耐蝕性、機械的耐久性を高める
ために、下記する塗料が塗布され、硬化処理されて裏止
め塗膜が形成される。
代表的な製造方法は、表面が平滑で、かつ表面欠点のな
いガラス板を用意し、このガラス板を充分に洗浄した
後、銀鏡面膜の形成される面を活性化処理し、その表面
に無電解メッキ法、例えばいわゆる銀鏡反応によって銀
を析出する銀メッキ液をスプレーして銀鏡面膜を形成
し、次いで銀鏡面膜上に、無電解メッキ法により銅を析
出するメッキ液をスプレーして銅保護膜を形成し次いで
洗浄、乾燥する。こうして形成された銅保護膜上に、銀
鏡面膜および銅保護膜の耐蝕性、機械的耐久性を高める
ために、下記する塗料が塗布され、硬化処理されて裏止
め塗膜が形成される。
【００１１】塗料としては、従来から通常鏡用塗料とし
て使用されているアルキッド樹脂系塗料、エポキシ樹脂
系塗料（例えば特開昭６３−１８４７０１号公報、特開
昭６３−１８４７０２号公報等）、エポキシエステル樹
脂系塗料（例えば特開平５−１６１５３１号公報等）の
公知の各種塗料が適用可能である。塗料は、ハケ、ロー
ラ、フローコーター等の方法で乾燥膜厚約３０〜１００
μｍになるよう塗布し、次いで常温乾燥もしくは焼付乾
燥し、裏止め塗膜を形成する。
て使用されているアルキッド樹脂系塗料、エポキシ樹脂
系塗料（例えば特開昭６３−１８４７０１号公報、特開
昭６３−１８４７０２号公報等）、エポキシエステル樹
脂系塗料（例えば特開平５−１６１５３１号公報等）の
公知の各種塗料が適用可能である。塗料は、ハケ、ロー
ラ、フローコーター等の方法で乾燥膜厚約３０〜１００
μｍになるよう塗布し、次いで常温乾燥もしくは焼付乾
燥し、裏止め塗膜を形成する。
【００１２】本発明においては、上記銅保護膜上に銅保
護膜の耐蝕性、特に耐アルカリ性、耐酸性を高めるた
め、また次いで施される裏止め塗膜との密着性を高める
ため、さらに切断、面取りなどの加工性を高めるためベ
ンゾトリアゾールおよび／またはその誘導体の膜を形成
する。
護膜の耐蝕性、特に耐アルカリ性、耐酸性を高めるた
め、また次いで施される裏止め塗膜との密着性を高める
ため、さらに切断、面取りなどの加工性を高めるためベ
ンゾトリアゾールおよび／またはその誘導体の膜を形成
する。
【００１３】ベンゾトリアゾールおよび／またはその誘
導体の膜を形成せしめる方法としては、ベンゾトリアゾ
ールおよび／またはその誘導体を含む表面処理液を銅保
護膜上に塗布し、強制乾燥もしくは自然乾燥させ膜を形
成させる。前記表面処理液の溶媒としては、ベンゾトリ
アゾールおよび／またはその誘導体の溶解度が高く、か
つ低温で蒸発しやすい溶剤であれば特に制限なく、各種
溶剤が使用可能であるが、特にメタノール、エタノール
等の低分子のアルコール類、メチルエチルケトン等のケ
トン類が好ましい。銅保護膜上へ処理されるベンゾトリ
アゾールおよび／またはその誘導体の量は、銅保護膜上
への充分な耐アルカリ性、耐酸性や防蝕効果を得るた
め、また、次いで施される裏止め塗膜との充分な密着性
を得るため０．１〜１０ｇ／ｍ2 、特に好ましくは０．
７〜２．０ｇ／ｍ2 程度の量（固形分換算）とするのが
適当である。
導体の膜を形成せしめる方法としては、ベンゾトリアゾ
ールおよび／またはその誘導体を含む表面処理液を銅保
護膜上に塗布し、強制乾燥もしくは自然乾燥させ膜を形
成させる。前記表面処理液の溶媒としては、ベンゾトリ
アゾールおよび／またはその誘導体の溶解度が高く、か
つ低温で蒸発しやすい溶剤であれば特に制限なく、各種
溶剤が使用可能であるが、特にメタノール、エタノール
等の低分子のアルコール類、メチルエチルケトン等のケ
トン類が好ましい。銅保護膜上へ処理されるベンゾトリ
アゾールおよび／またはその誘導体の量は、銅保護膜上
への充分な耐アルカリ性、耐酸性や防蝕効果を得るた
め、また、次いで施される裏止め塗膜との充分な密着性
を得るため０．１〜１０ｇ／ｍ2 、特に好ましくは０．
７〜２．０ｇ／ｍ2 程度の量（固形分換算）とするのが
適当である。
【００１４】前記ベンゾトリアゾールおよび／またはそ
の誘導体は、銅保護膜上に被膜形成するが、この被膜
は、銅保護膜に対する悪影響が一切なく、外部からの銅
保護膜への影響を遮断するばかりか、上記ベンゾトリア
ゾールおよび／またはその誘導体自体が、銅および銅合
金に対する腐蝕抑制剤として、一般に広く使用されてお
り、銅保護膜と裏止め塗膜との間に形成する被膜として
は最適である。
の誘導体は、銅保護膜上に被膜形成するが、この被膜
は、銅保護膜に対する悪影響が一切なく、外部からの銅
保護膜への影響を遮断するばかりか、上記ベンゾトリア
ゾールおよび／またはその誘導体自体が、銅および銅合
金に対する腐蝕抑制剤として、一般に広く使用されてお
り、銅保護膜と裏止め塗膜との間に形成する被膜として
は最適である。
【００１５】ベンゾトリアゾールおよび／またはその誘
導体の銅に対する腐蝕抑制のメカニズムは、広く研究さ
れているので、ここでは割愛するが、未酸化銅（Ｃｕ）
または酸化第二銅（ＣｕＯ）へ処理する場合より、酸化
第一銅（Ｃｕ2 Ｏ）へ処理した場合の方が効果的である
とされているが、本発明においては銅の酸化状態は特に
限定されない。
導体の銅に対する腐蝕抑制のメカニズムは、広く研究さ
れているので、ここでは割愛するが、未酸化銅（Ｃｕ）
または酸化第二銅（ＣｕＯ）へ処理する場合より、酸化
第一銅（Ｃｕ2 Ｏ）へ処理した場合の方が効果的である
とされているが、本発明においては銅の酸化状態は特に
限定されない。
【００１６】本発明は、銅保護膜形成、洗浄、必要に応
じて加熱を行い乾燥後、基板の温度を常温にしたところ
で銅保護膜表面をベンゾトリアゾールおよび／またはそ
の誘導体を含む表面処理液にて処理し外部からの銅保護
膜への影響を遮断する膜として用いることにより耐アル
カリ性、耐酸性の他、耐久性等が高められるという新規
知見に基づくものである。
じて加熱を行い乾燥後、基板の温度を常温にしたところ
で銅保護膜表面をベンゾトリアゾールおよび／またはそ
の誘導体を含む表面処理液にて処理し外部からの銅保護
膜への影響を遮断する膜として用いることにより耐アル
カリ性、耐酸性の他、耐久性等が高められるという新規
知見に基づくものである。
【００１７】ベンゾトリアゾールおよび／またはその誘
導体は、化１にて示される化合物である。
導体は、化１にて示される化合物である。
【００１８】
【化１】
【００１９】なお、化１において、Ｘは水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、または水酸基を表し、Ｒ1 、Ｒ
2 およびＲ3 は、それぞれ相互に独立して、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、カルボキシル基、またはそ
のエステルである。
ゲン原子、アルキル基、または水酸基を表し、Ｒ1 、Ｒ
2 およびＲ3 は、それぞれ相互に独立して、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、カルボキシル基、またはそ
のエステルである。
【００２０】具体的には、化２に示すものが代表的なも
のとして挙げられる。
のとして挙げられる。
【００２１】
【化２】
【００２２】
【実施例】充分に洗浄されたガラス基板（サイズ９０ｍ
ｍ×４０ｍｍ×５ｍｍ）面上に常法に従って、銀鏡反応
によって銀を析出する硝酸銀を含む溶液と銀を還元させ
る還元液との銀メッキ液をスプレーし、１．０ｇ／ｍ2
厚の銀鏡面膜を形成し、この膜面を水洗した後、無電解
メッキ法によって銅を析出する硫酸銅を含む溶液と銅を
還元させる還元液との銅メッキ液をスプレーし、０．３
ｇ／ｍ2 厚の銅保護膜を形成し、次いで水洗した後乾燥
した後、基板温度を常温とした。
ｍ×４０ｍｍ×５ｍｍ）面上に常法に従って、銀鏡反応
によって銀を析出する硝酸銀を含む溶液と銀を還元させ
る還元液との銀メッキ液をスプレーし、１．０ｇ／ｍ2
厚の銀鏡面膜を形成し、この膜面を水洗した後、無電解
メッキ法によって銅を析出する硫酸銅を含む溶液と銅を
還元させる還元液との銅メッキ液をスプレーし、０．３
ｇ／ｍ2 厚の銅保護膜を形成し、次いで水洗した後乾燥
した後、基板温度を常温とした。
【００２３】この銀鏡面膜および銅保護膜の形成された
ガラス板の銅保護膜上に表１上欄（数値は固形分換算の
重量（ｇ／ｍ2 ）を示し、例５（比較例）はベンゾトリ
アゾール処理なしを示す。）に示した各量となるように
ベンゾトリアゾールのエチルアルコール溶液をスプレー
にて均一に散布、自然乾燥してベンゾトリアゾール被膜
を銅保護膜上に形成させた。ベンゾトリアゾール被膜形
成後、残留したエチルアルコール除去のため乾燥炉にて
１００℃で３０分間加熱乾燥した。
ガラス板の銅保護膜上に表１上欄（数値は固形分換算の
重量（ｇ／ｍ2 ）を示し、例５（比較例）はベンゾトリ
アゾール処理なしを示す。）に示した各量となるように
ベンゾトリアゾールのエチルアルコール溶液をスプレー
にて均一に散布、自然乾燥してベンゾトリアゾール被膜
を銅保護膜上に形成させた。ベンゾトリアゾール被膜形
成後、残留したエチルアルコール除去のため乾燥炉にて
１００℃で３０分間加熱乾燥した。
【００２４】乾燥後、基板温度を５０℃まで冷却し、フ
ェノール変性アルキッド樹脂系裏止め塗料（大日本塗料
「ＳＭコートＤＥ」）をフローコーター法により、乾燥
膜厚３０μｍとなるよう塗布し、乾燥炉にてガラス板温
７０℃になるよう９０秒間加熱乾燥する。次いで更にフ
ローコーター法により乾燥膜厚合計５５μｍとなるよう
前記裏止め塗料を塗布し、乾燥炉にてガラス板温１３５
℃になるよう３分間加熱乾燥し、裏止め塗膜を形成させ
た。
ェノール変性アルキッド樹脂系裏止め塗料（大日本塗料
「ＳＭコートＤＥ」）をフローコーター法により、乾燥
膜厚３０μｍとなるよう塗布し、乾燥炉にてガラス板温
７０℃になるよう９０秒間加熱乾燥する。次いで更にフ
ローコーター法により乾燥膜厚合計５５μｍとなるよう
前記裏止め塗料を塗布し、乾燥炉にてガラス板温１３５
℃になるよう３分間加熱乾燥し、裏止め塗膜を形成させ
た。
【００２５】これらの各試験片について、各種性能試験
を行った結果も表１下欄に示す。同欄において、以下の
試験方法に定めた条件下での合格、不合格を示す。
を行った結果も表１下欄に示す。同欄において、以下の
試験方法に定めた条件下での合格、不合格を示す。
【００２６】１．碁盤目試験：ＪＩＳ Ｋ ４５００
６ １５により評価した。 ２．温水試験：純水６０℃に４８０時間浸漬し取り出し
たとき、銀面に異常を認めないこと。 ３．塩水噴霧試験：ＪＩＳ Ｚ ２３７１による塩水噴
霧試験を４８０時間行ったとき銀面に異常を認めないこ
と。 ４．塩酸試験（１）：１．５ｖｏｌ％塩酸（試薬１級）
水に２０℃、４８時間浸漬し取り出したとき、銀面に異
常を認めないこと。 ５．塩酸試験（２）：１０ｖｏｌ％塩酸（試薬１級）水
に２０℃、４８時間浸漬し取り出したとき、銀面の侵食
が面積比５０％以下であること。但し試験片の４辺は、
シーリングした。 ６．アンモニア水浸漬試験：アンモニア水（試薬１級）
５０重量部と純水５０重量部を混ぜたものに２０℃、４
８時間浸漬し取り出したとき、銀面の侵食が面積比５０
％以下であること。 ７．亜硫酸ガス試験：亜硫酸ガスを飽和したデシケータ
ー中にて２０℃、４８時間暴露し、取り出したとき銀面
の侵食が、面積比５０％以下であること。ただし、試験
辺の４辺はシーリングした。 ８．面取り加工試験（１）：試験片を裏面取り幅３ｍ
ｍ、３０５ｍｍ／分のスピードにて面取りを行い、エッ
ジ部の剥離の有無を判定する。なお、判定基準は、全く
剥離なしの場合を◎、ごく部分的に剥離した場合を○、
非常に剥離した場合を×とした。 ９．面取り加工試験（２）：試験片を１２０℃で１時間
加熱後、裏面取り幅３ｍｍ、３０ｍｍ／分のスピードに
て面取りを行い、エッジ部の剥離の有無を判定する。な
お、判定基準は、全く剥離なしの場合を◎、ごく部分的
に剥離した場合を○、非常に剥離した場合を×とした。
６ １５により評価した。 ２．温水試験：純水６０℃に４８０時間浸漬し取り出し
たとき、銀面に異常を認めないこと。 ３．塩水噴霧試験：ＪＩＳ Ｚ ２３７１による塩水噴
霧試験を４８０時間行ったとき銀面に異常を認めないこ
と。 ４．塩酸試験（１）：１．５ｖｏｌ％塩酸（試薬１級）
水に２０℃、４８時間浸漬し取り出したとき、銀面に異
常を認めないこと。 ５．塩酸試験（２）：１０ｖｏｌ％塩酸（試薬１級）水
に２０℃、４８時間浸漬し取り出したとき、銀面の侵食
が面積比５０％以下であること。但し試験片の４辺は、
シーリングした。 ６．アンモニア水浸漬試験：アンモニア水（試薬１級）
５０重量部と純水５０重量部を混ぜたものに２０℃、４
８時間浸漬し取り出したとき、銀面の侵食が面積比５０
％以下であること。 ７．亜硫酸ガス試験：亜硫酸ガスを飽和したデシケータ
ー中にて２０℃、４８時間暴露し、取り出したとき銀面
の侵食が、面積比５０％以下であること。ただし、試験
辺の４辺はシーリングした。 ８．面取り加工試験（１）：試験片を裏面取り幅３ｍ
ｍ、３０５ｍｍ／分のスピードにて面取りを行い、エッ
ジ部の剥離の有無を判定する。なお、判定基準は、全く
剥離なしの場合を◎、ごく部分的に剥離した場合を○、
非常に剥離した場合を×とした。 ９．面取り加工試験（２）：試験片を１２０℃で１時間
加熱後、裏面取り幅３ｍｍ、３０ｍｍ／分のスピードに
て面取りを行い、エッジ部の剥離の有無を判定する。な
お、判定基準は、全く剥離なしの場合を◎、ごく部分的
に剥離した場合を○、非常に剥離した場合を×とした。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【発明の効果】本発明の鏡は、従来の鏡に比べ、耐アル
カリ性、耐酸性などの化学的耐久性が格段に優れ、厳し
い使用条件下の環境下においても充分使用に耐え得ると
ともに、切断、面取りなどの加工性にも優れる。
カリ性、耐酸性などの化学的耐久性が格段に優れ、厳し
い使用条件下の環境下においても充分使用に耐え得ると
ともに、切断、面取りなどの加工性にも優れる。
【図１】本発明に係る鏡の断面図
１：ガラス基板 ２：銀鏡面膜 ３：銅保護膜 ４：ベンゾトリアゾールおよび／またはその誘導体を塗
布して形成されてなる被膜 ５：裏止め塗膜
布して形成されてなる被膜 ５：裏止め塗膜
フロントページの続き (72)発明者 木村 幸雄 茨城県鹿島郡神栖町大字東和田25番地 旭 硝子株式会社鹿島工場内 (72)発明者 徳永 一郎 茨城県鹿島郡神栖町大字東和田25番地 旭 硝子株式会社鹿島工場内 (72)発明者 鈴木 孝成 栃木県那須郡西那須野町朝日町８−15 ふ じハイム103号 (72)発明者 伊藤 武 栃木県那須郡西那須野町大字高柳351−６
Claims (2)
- 【請求項１】ガラス基板上に銀鏡面膜、銅保護膜、裏止
め塗膜を順次形成してなる鏡の製造方法において、銅保
護膜表面をベンゾトリアゾールおよび／またはその誘導
体を含む表面処理液にて表面処理した後、塗料を塗布し
て裏止め塗膜を形成する鏡の製造方法。 - 【請求項２】ガラス基板上に銀鏡面膜、銅保護膜、裏止
め塗膜を順次形成してなる鏡において、銅保護膜と裏止
め塗膜との間にベンゾトリアゾールおよび／またはその
誘導体を塗布して形成されてなる被膜を有することを特
徴とする鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2552694A JPH07234306A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 鏡およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2552694A JPH07234306A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 鏡およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07234306A true JPH07234306A (ja) | 1995-09-05 |
Family
ID=12168496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2552694A Withdrawn JPH07234306A (ja) | 1994-02-23 | 1994-02-23 | 鏡およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07234306A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002129106A (ja) * | 2000-10-30 | 2002-05-09 | T B L:Kk | 耐塩水噴霧性塗料組成物及びその塗装体 |
| WO2011024969A1 (ja) | 2009-08-31 | 2011-03-03 | 旭硝子株式会社 | 裏止め塗料組成物および鏡 |
| WO2014103894A1 (ja) | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 旭硝子株式会社 | 裏止め塗料組成物および鏡 |
-
1994
- 1994-02-23 JP JP2552694A patent/JPH07234306A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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