JPH07224156A - ケイ素系化合物及びその製造方法 - Google Patents
ケイ素系化合物及びその製造方法Info
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- JPH07224156A JPH07224156A JP2952194A JP2952194A JPH07224156A JP H07224156 A JPH07224156 A JP H07224156A JP 2952194 A JP2952194 A JP 2952194A JP 2952194 A JP2952194 A JP 2952194A JP H07224156 A JPH07224156 A JP H07224156A
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】導電性、光反応性及び耐熱性に優れたケイ素系
化合物を提供する。 【構成】一般式（１）で表されるケイ素化合物単位、一
般式（２）で表されるアセチレン単位及び一般式（３）
で表されるメタロセン単位を構成単位とするケイ素系化
合物。
化合物を提供する。 【構成】一般式（１）で表されるケイ素化合物単位、一
般式（２）で表されるアセチレン単位及び一般式（３）
で表されるメタロセン単位を構成単位とするケイ素系化
合物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、導電性、光反応性及び
耐熱性などに優れた機能材料として有用な新規ケイ素系
化合物及びその製造方法に関する。
耐熱性などに優れた機能材料として有用な新規ケイ素系
化合物及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、耐熱性に優れた機能性材料と
して多数のケイ素系化合物が提案されてきた。例えば、
芳香族環とアセチレン（Ｃ−Ｃ三重結合）ユニットを含
む高分子化合物は、芳香族ジアセチレンのジナトリウム
塩とジクロロシラン誘導体との重縮合反応により合成さ
れている [J. Organomet．Chem. 260,171 (1984)] 。ま
た、ジエチニルシラン化合物と芳香族ジハライドの重縮
合反応によっても同様の重合体が得られている [J.Poly
m.Sci:part C:Polym. Lett.,28,431 (1990)]。
して多数のケイ素系化合物が提案されてきた。例えば、
芳香族環とアセチレン（Ｃ−Ｃ三重結合）ユニットを含
む高分子化合物は、芳香族ジアセチレンのジナトリウム
塩とジクロロシラン誘導体との重縮合反応により合成さ
れている [J. Organomet．Chem. 260,171 (1984)] 。ま
た、ジエチニルシラン化合物と芳香族ジハライドの重縮
合反応によっても同様の重合体が得られている [J.Poly
m.Sci:part C:Polym. Lett.,28,431 (1990)]。
【０００３】一方、フェロセンユニットを含む高分子化
合物については、ビス（シクロペンタジエニル）シラン
誘導体と塩化鉄（II) との重縮合反応（USP3,060,215)
やシクロフェロセニルシランの開環重合 [J. Am. Chem.
Soc. 114, 6246 (1992)] により、フェロセン−シラン
共重合体が合成されている。また、ジエチニルシランと
１，１'-ジシリルフェロセンとのヒドロシリル化反応に
より、フェロセン−シラン−エチレン（炭素−炭素二重
結合）を含む高分子化合物が合成されている[J. Polym.
Sci. Polym. Chem. Ed. 21, 2529 (1983)]。
合物については、ビス（シクロペンタジエニル）シラン
誘導体と塩化鉄（II) との重縮合反応（USP3,060,215)
やシクロフェロセニルシランの開環重合 [J. Am. Chem.
Soc. 114, 6246 (1992)] により、フェロセン−シラン
共重合体が合成されている。また、ジエチニルシランと
１，１'-ジシリルフェロセンとのヒドロシリル化反応に
より、フェロセン−シラン−エチレン（炭素−炭素二重
結合）を含む高分子化合物が合成されている[J. Polym.
Sci. Polym. Chem. Ed. 21, 2529 (1983)]。
【０００４】さらに、ルテノセン含有ケイ素系高分子
は、ルテノセンとアルデヒド化合物とを塩化亜鉛の存在
下で重縮合反応させることにより得られる[J. Organoｍ
et. Chem., 6, 92(1966)]。
は、ルテノセンとアルデヒド化合物とを塩化亜鉛の存在
下で重縮合反応させることにより得られる[J. Organoｍ
et. Chem., 6, 92(1966)]。
【０００５】しかしながら、上記ケイ素系化合物は、い
ずれも耐熱性、導電性が十分ではなかった。
ずれも耐熱性、導電性が十分ではなかった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点に
鑑み、耐熱性、光反応性及び導電性に優れたケイ素系化
合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
鑑み、耐熱性、光反応性及び導電性に優れたケイ素系化
合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のケイ素系化合物
は、ケイ素化合物単位、アセチレン単位及びメタロセン
単位を構成単位とする。
は、ケイ素化合物単位、アセチレン単位及びメタロセン
単位を構成単位とする。
【０００８】上記ケイ素化合物単位は一般式（１）、ア
セチレン単位は一般式（２）、メタロセン単位は一般式
（３）でそれぞれ表される。
セチレン単位は一般式（２）、メタロセン単位は一般式
（３）でそれぞれ表される。
【０００９】
【化１２】
【００１０】
【化１３】
【００１１】
【化１４】
【００１２】式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｙ、Ｍ及びａは次のも
のを示す。Ｒ1 は、水素原子、アルキル基又はアリール
基を示し、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ
2 は、水素原子、アルキル基、アリール基又はＲ1 3Ｓｉ
で表されるシリル基を示し、同一であっても異なってい
てもよい。Ｙは芳香族環、アセチレン残基又は有機金属
化合物を示し、ＭはＦｅ又はＲｕを示す。ａは０〜１０
の整数を示す。
のを示す。Ｒ1 は、水素原子、アルキル基又はアリール
基を示し、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ
2 は、水素原子、アルキル基、アリール基又はＲ1 3Ｓｉ
で表されるシリル基を示し、同一であっても異なってい
てもよい。Ｙは芳香族環、アセチレン残基又は有機金属
化合物を示し、ＭはＦｅ又はＲｕを示す。ａは０〜１０
の整数を示す。
【００１３】上記Ｒ1 及びＲ2 で表されるアルキル基の
炭素数は、多くなると結合が切れ易くなり、得られるケ
イ素系化合物の耐熱性が低下するので１〜２０に限定さ
れる。上記アルキル基としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタ
デシル基、ノナデシル基、エイコデシル基等が挙げられ
る。
炭素数は、多くなると結合が切れ易くなり、得られるケ
イ素系化合物の耐熱性が低下するので１〜２０に限定さ
れる。上記アルキル基としては、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペン
タデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタ
デシル基、ノナデシル基、エイコデシル基等が挙げられ
る。
【００１４】上記Ｒ1 及びＲ2 で表されるアリール基の
炭素数は、多くなると溶剤に対する溶解性が低下するの
で６〜１２に限定される。上記アリール基としては、例
えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニリ
ル基、ナフチル基等が挙げられる。
炭素数は、多くなると溶剤に対する溶解性が低下するの
で６〜１２に限定される。上記アリール基としては、例
えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニリ
ル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００１５】上記Ｒ1 3Ｓｉで表されるシリル基として
は、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフ
ェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジフェニ
ルメチルシリル基、メチルシリル基、ジメチルシリル
基、フェニルシリル基、ジフェニルシリル基、メチルフ
ェニルシリル基等が挙げられる。
は、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフ
ェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、ジフェニ
ルメチルシリル基、メチルシリル基、ジメチルシリル
基、フェニルシリル基、ジフェニルシリル基、メチルフ
ェニルシリル基等が挙げられる。
【００１６】上記Ｙで表される芳香族環としては、フェ
ニレン誘導体、ビフェニレン誘導体が、上記アセチレン
残基としては、一般式（３）で表されるフェロセン、ル
テノセン、金属がケイ素、ゲルマニウム又は錫であるフ
タロシアニン化合物又はポリフィリン化合物、一般式−
ＢＲ1 −で表されるホウ素化合物等が挙げられる。尚、
一般式で使用されるＲ1 、Ｒ2 、Ｙ、Ｍ、ａ等の記号
は、本明細書中では同一であり、以下省略する。
ニレン誘導体、ビフェニレン誘導体が、上記アセチレン
残基としては、一般式（３）で表されるフェロセン、ル
テノセン、金属がケイ素、ゲルマニウム又は錫であるフ
タロシアニン化合物又はポリフィリン化合物、一般式−
ＢＲ1 −で表されるホウ素化合物等が挙げられる。尚、
一般式で使用されるＲ1 、Ｒ2 、Ｙ、Ｍ、ａ等の記号
は、本明細書中では同一であり、以下省略する。
【００１７】上記各構成単位のモル比は、ケイ素化合物
単位：アセチレン単位：メタロセン単位＝１：２：０．
０１〜１である。
単位：アセチレン単位：メタロセン単位＝１：２：０．
０１〜１である。
【００１８】上記ケイ素化合物の重量平均分子量は、小
さくなると十分な耐熱性及び導電性が得られなくなるの
で５００以上に限定されるが、重量平均分子量が大きく
なり過ぎると溶解性が悪くなるので５万以下が好まし
い。
さくなると十分な耐熱性及び導電性が得られなくなるの
で５００以上に限定されるが、重量平均分子量が大きく
なり過ぎると溶解性が悪くなるので５万以下が好まし
い。
【００１９】次に、本発明２のケイ素系化合物について
説明する。本発明２のケイ素系化合物は、一般式（４）
で表される。
説明する。本発明２のケイ素系化合物は、一般式（４）
で表される。
【００２０】
【化１５】
【００２１】一般式（４）において、ｂは１以上の整数
を示す。
を示す。
【００２２】一般式（４）で表されるケイ素系化合物
は、一般式（１）、（２）及び（３）で表される単位が
１：２：１の割合で反応したものである。
は、一般式（１）、（２）及び（３）で表される単位が
１：２：１の割合で反応したものである。
【００２３】次に、本発明３のケイ素系化合物について
説明する。本発明３のケイ素系化合物は、一般式（５）
で表される構成単位と一般式（６）で表される構成単位
よりなる。
説明する。本発明３のケイ素系化合物は、一般式（５）
で表される構成単位と一般式（６）で表される構成単位
よりなる。
【００２４】
【化１６】
【００２５】
【化１７】
【００２６】一般式（５）及び（６）において、ｃ，ｄ
はｃ＋ｄ≧２を満足する１以上の整数を示す。即ち、本
発明２のケイ素系化合物において、ＭがＦｅの構成単位
とＲｕの構成単位が混合して反応したケイ素系化合物で
ある。
はｃ＋ｄ≧２を満足する１以上の整数を示す。即ち、本
発明２のケイ素系化合物において、ＭがＦｅの構成単位
とＲｕの構成単位が混合して反応したケイ素系化合物で
ある。
【００２７】次に、本発明４のケイ素系化合物の製造方
法について説明する。本発明４の製造方法は、ジエチニ
ルシリル化合物と、ジハロゲン化メタロセンを遷移金属
触媒の存在下で重縮合反応させることを特徴とする。
法について説明する。本発明４の製造方法は、ジエチニ
ルシリル化合物と、ジハロゲン化メタロセンを遷移金属
触媒の存在下で重縮合反応させることを特徴とする。
【００２８】上記ジエチニルシリル化合物は、一般式
（７）で表されるものである。
（７）で表されるものである。
【００２９】
【化１８】
【００３０】上記ジハロゲン化メタロセンは、一般式
（８）で表されるものである。
（８）で表されるものである。
【００３１】
【化１９】
【００３２】式中、Ｘはハロゲン原子を示す。
【００３３】上記ジエチニルシリル化合物としては、例
えば、ジエチニルジメチルシラン、ジエチニルジエチル
シラン、ジエチニルジプロピルシラン、ジエチニルジブ
チルシラン、ジエチニルジヘキシルシラン、ジエチニル
ジオクチルシラン、ジエチニルジドデシルシラン、ジエ
チニルジエイコデシルシラン、ジエチニルジフェニルシ
ラン、ジエチニルジトリルシラン、ジエチニルジビフェ
ニリルシラン、ジエチニルメチルフェニリシラン、ジエ
チニルメチルトリルシラン、ビス（ジメチルクロロシリ
ル）フタロシアニナシリコン、ビス（ジメチルクロロシ
リル）フタロシアニナゲルマニウム、ビス（ジメチルク
ロロシリル）フタロシアニナチン、ビス（ジメチルクロ
ロシリル）ポルフィリナトシリコン、ビス（ジメチルク
ロロシリル）ポルフィリナトゲルマニウム、ビス（ジメ
チルクロロシリル）ポルフィリナトチン、ビス（ジメチ
ルクロロシリル）フェニルボロン、ビス（ジフェニルク
ロロシリル）メチルボロン、ビス（４−クロロジメチル
シリルフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−クロロジ
フェニルシリルフェニル）ジメチルシラン、１，７−ジ
クロロ−１，１，４，４，７，７−ヘキサメチル−１，
４，７−トリシラ−２，５−ヘプタジエン等が挙げられ
る。
えば、ジエチニルジメチルシラン、ジエチニルジエチル
シラン、ジエチニルジプロピルシラン、ジエチニルジブ
チルシラン、ジエチニルジヘキシルシラン、ジエチニル
ジオクチルシラン、ジエチニルジドデシルシラン、ジエ
チニルジエイコデシルシラン、ジエチニルジフェニルシ
ラン、ジエチニルジトリルシラン、ジエチニルジビフェ
ニリルシラン、ジエチニルメチルフェニリシラン、ジエ
チニルメチルトリルシラン、ビス（ジメチルクロロシリ
ル）フタロシアニナシリコン、ビス（ジメチルクロロシ
リル）フタロシアニナゲルマニウム、ビス（ジメチルク
ロロシリル）フタロシアニナチン、ビス（ジメチルクロ
ロシリル）ポルフィリナトシリコン、ビス（ジメチルク
ロロシリル）ポルフィリナトゲルマニウム、ビス（ジメ
チルクロロシリル）ポルフィリナトチン、ビス（ジメチ
ルクロロシリル）フェニルボロン、ビス（ジフェニルク
ロロシリル）メチルボロン、ビス（４−クロロジメチル
シリルフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−クロロジ
フェニルシリルフェニル）ジメチルシラン、１，７−ジ
クロロ−１，１，４，４，７，７−ヘキサメチル−１，
４，７−トリシラ−２，５−ヘプタジエン等が挙げられ
る。
【００３４】上記ジエチニルシリル化合物は、種々の方
法によって合成されているが、例えば、一般式Ｒ1 3Ｓｉ
Ｃｌ2 で表されるジクロルシランと、エチニルマグネシ
ウムブロマイドとから調製するのが好ましい。
法によって合成されているが、例えば、一般式Ｒ1 3Ｓｉ
Ｃｌ2 で表されるジクロルシランと、エチニルマグネシ
ウムブロマイドとから調製するのが好ましい。
【００３５】上記ジハロゲン化メタロセンのハロゲン原
子としては、例えば、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ
るが、好ましくはヨウ素である。
子としては、例えば、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ
るが、好ましくはヨウ素である。
【００３６】上記ジハロゲン化メタロセンとしては、例
えば、１，１'-ジヨードフェロセン、１，１'-ジヨード
−３，３'-ジメチルフェロセン、１，１'-ジヨード−
３，３'-ジフェニルフェロセン、１，１'-ジヨード−
３，３'-ジエチルフェロセン、１，１'-ジヨード−３，
３'-ジビフェニルフェロセン、１'-ジヨード−３，３'-
ビス（トリメチルシリル）フェロセン、１，１'-ジヨー
ドルテノセン、１，１'-ジヨード−３，３'-ジメチルル
テノセン、１，１'-ジヨード−３，３'-ジフェニルルテ
ノセン、１，１'-ジヨード−３，３'-ジエチルルテノセ
ン、１，１'-ジヨード−３，３'-ジビフェニルルテノセ
ン、１'-ジヨード−３，３'-ビス（トリメチルシリル）
ルテノセン、及びこれらの臭化物、塩化物などが挙げら
れる。
えば、１，１'-ジヨードフェロセン、１，１'-ジヨード
−３，３'-ジメチルフェロセン、１，１'-ジヨード−
３，３'-ジフェニルフェロセン、１，１'-ジヨード−
３，３'-ジエチルフェロセン、１，１'-ジヨード−３，
３'-ジビフェニルフェロセン、１'-ジヨード−３，３'-
ビス（トリメチルシリル）フェロセン、１，１'-ジヨー
ドルテノセン、１，１'-ジヨード−３，３'-ジメチルル
テノセン、１，１'-ジヨード−３，３'-ジフェニルルテ
ノセン、１，１'-ジヨード−３，３'-ジエチルルテノセ
ン、１，１'-ジヨード−３，３'-ジビフェニルルテノセ
ン、１'-ジヨード−３，３'-ビス（トリメチルシリル）
ルテノセン、及びこれらの臭化物、塩化物などが挙げら
れる。
【００３７】上記ジハロゲン化メタロセンは、種々の方
法によって合成されているが、例えば、メタロセンとｎ
−ブチルリチウムとから、一般式（１２）で表されるジ
リチオメタロセンを調製した後、一般式ＣＦ2 ＺＣＦ2
Ｚ（式中、Ｚはフッ素以外のハロゲン原子を示す）で表
されるハロゲン化剤として１，２−ジハロ−１，１，
２，２−テトラフルオロエタンを反応させることにより
合成することができる。上記Ｚで示されるハロゲン原子
としてはヨウ素が好ましく、ハロゲン化剤としてハロゲ
ンを用いてもよい。
法によって合成されているが、例えば、メタロセンとｎ
−ブチルリチウムとから、一般式（１２）で表されるジ
リチオメタロセンを調製した後、一般式ＣＦ2 ＺＣＦ2
Ｚ（式中、Ｚはフッ素以外のハロゲン原子を示す）で表
されるハロゲン化剤として１，２−ジハロ−１，１，
２，２−テトラフルオロエタンを反応させることにより
合成することができる。上記Ｚで示されるハロゲン原子
としてはヨウ素が好ましく、ハロゲン化剤としてハロゲ
ンを用いてもよい。
【００３８】
【化２０】
【００３９】上記ジエチニルシリル化合物の使用量は、
少なくなっても多くなっても生成するケイ素系化合物の
分子量が低下し、十分な耐熱性が得られなくなるので、
ジハロゲン化メタロセンのモル数に対して０．５〜２倍
のモル数が好ましく、より好ましくは０．８〜１．２倍
のモル数である。
少なくなっても多くなっても生成するケイ素系化合物の
分子量が低下し、十分な耐熱性が得られなくなるので、
ジハロゲン化メタロセンのモル数に対して０．５〜２倍
のモル数が好ましく、より好ましくは０．８〜１．２倍
のモル数である。
【００４０】上記遷移金属触媒としては、テトラキス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム〔Ｐｄ（ＰＰｈ
3)4 〕、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムク
ロライド〔（ＰＰｈ3)ＰｄＣｌ2 〕等が挙げられる。
（トリフェニルホスフィン）パラジウム〔Ｐｄ（ＰＰｈ
3)4 〕、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムク
ロライド〔（ＰＰｈ3)ＰｄＣｌ2 〕等が挙げられる。
【００４１】上記遷移金属触媒の使用量は、少なくなる
と重縮合反応系の反応性が低下し、多くなると得られる
ケイ素系化合物に残存し易くなり物性の低下をもたらす
ので、ジハロゲン化メタロセンのモル数に対して０．０
００１〜１倍のモル数が好ましく、より好ましくは０．
００１〜０．１倍のモル数である。
と重縮合反応系の反応性が低下し、多くなると得られる
ケイ素系化合物に残存し易くなり物性の低下をもたらす
ので、ジハロゲン化メタロセンのモル数に対して０．０
００１〜１倍のモル数が好ましく、より好ましくは０．
００１〜０．１倍のモル数である。
【００４２】上記遷移金属触媒に助触媒として、ヨウ化
銅（Ｉ）、トリフェニルホスフィン等を加えてもよい。
このような助触媒を加えなくても重縮合反応は進行する
が、助触媒の添加により反応時間の短縮及び生成物の収
率向上を達成しうる。
銅（Ｉ）、トリフェニルホスフィン等を加えてもよい。
このような助触媒を加えなくても重縮合反応は進行する
が、助触媒の添加により反応時間の短縮及び生成物の収
率向上を達成しうる。
【００４３】上記助触媒の使用量は、ジハロゲン化メタ
ロセンのモル数に対して０．００１〜１倍のモル数が好
ましく、より好ましくは０．０１〜０．１倍のモル数で
ある。
ロセンのモル数に対して０．００１〜１倍のモル数が好
ましく、より好ましくは０．０１〜０．１倍のモル数で
ある。
【００４４】上記触媒の他に、反応系中で発生するハロ
ゲン化水素を捕捉するために添加剤が用いられてもよ
い。このような添加剤としては、ジイソプロピルアミ
ン、トリエチルアミン等が挙げられるが、これに限定さ
れるものではない。
ゲン化水素を捕捉するために添加剤が用いられてもよ
い。このような添加剤としては、ジイソプロピルアミ
ン、トリエチルアミン等が挙げられるが、これに限定さ
れるものではない。
【００４５】上記重縮合反応は溶媒中で行われるのが好
ましく、溶媒としては、極性、無極性のいずれでもよい
が、好ましくは、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、トルエン、キシレンなどの非プロトン性溶媒が挙げ
られ、特に好ましくはトルエンである。
ましく、溶媒としては、極性、無極性のいずれでもよい
が、好ましくは、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、トルエン、キシレンなどの非プロトン性溶媒が挙げ
られ、特に好ましくはトルエンである。
【００４６】重縮合反応の反応温度としては特に限定さ
れないが、−１５０℃から用いられる溶媒の沸点との間
が好ましい。溶媒としてトルエンを用いる場合は、５０
〜１１０℃の反応温度が好ましい。
れないが、−１５０℃から用いられる溶媒の沸点との間
が好ましい。溶媒としてトルエンを用いる場合は、５０
〜１１０℃の反応温度が好ましい。
【００４７】上記反応は、空気又は不活性ガス雰囲気下
のいずれでも進行するが、特にアルゴン又は窒素雰囲気
下で行うのが好ましい。
のいずれでも進行するが、特にアルゴン又は窒素雰囲気
下で行うのが好ましい。
【００４８】上記反応時間は、短くても長くても得られ
るケイ素系化合物の収率が低下するので、１５〜３５時
間が好ましい。
るケイ素系化合物の収率が低下するので、１５〜３５時
間が好ましい。
【００４９】上記重縮合反応で得られるケイ素系化合物
の精製方法としては、例えば、各種溶媒による再沈殿
法、分取ゲルパーミエーションクロマトグラフを用いて
分離する方法が挙げられるが、好ましくは、水、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール、ヘキサン、石油
エーテル等の貧溶媒又はこれらの混合溶媒による再沈殿
法であり、より好ましくはイソプロパノールによる再沈
殿法である。
の精製方法としては、例えば、各種溶媒による再沈殿
法、分取ゲルパーミエーションクロマトグラフを用いて
分離する方法が挙げられるが、好ましくは、水、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール、ヘキサン、石油
エーテル等の貧溶媒又はこれらの混合溶媒による再沈殿
法であり、より好ましくはイソプロパノールによる再沈
殿法である。
【００５０】上記重縮合反応によって、本発明及び本発
明２のケイ素系化合物が得られる。また、ジハロゲン化
メタロセン（８）として、フェロセンとルテノセンを併
用することにより、本発明３のケイ素系化合物が得られ
る。
明２のケイ素系化合物が得られる。また、ジハロゲン化
メタロセン（８）として、フェロセンとルテノセンを併
用することにより、本発明３のケイ素系化合物が得られ
る。
【００５１】次に、本発明５のケイ素系化合物の製造方
法について説明する。本発明５の製造方法は、１，１'-
ビス（トリメチルシリルエチニル）メタロセン誘導体と
リチオ化剤を反応させた後、ハロゲン化シリル化合物と
重縮合反応させることを特徴とする。
法について説明する。本発明５の製造方法は、１，１'-
ビス（トリメチルシリルエチニル）メタロセン誘導体と
リチオ化剤を反応させた後、ハロゲン化シリル化合物と
重縮合反応させることを特徴とする。
【００５２】上記１，１'-ビス（トリメチルシリルエチ
ニル）メタロセン誘導体は、一般式（９）で表されるも
のである。
ニル）メタロセン誘導体は、一般式（９）で表されるも
のである。
【００５３】
【化２１】
【００５４】上記リチオ化剤は一般式（１０）で表され
るものである。
るものである。
【００５５】
【化２２】
【００５６】上記ハロゲン化シリル化合物は、一般式
（１１）で表されるものである。
（１１）で表されるものである。
【００５７】
【化２３】
【００５８】上記１，１'-ビス（トリメチルシリルエチ
ニル）メタロセン誘導体としては、例えば、フェロセン
誘導体、ルテノセン誘導体等が好適に使用され、例え
ば、１，１'-ビス（トリメチルシリルエチニル）フェロ
セン、１，１'-ビス（トリメチルシリルエチニル）−
３，３'-ジメチルフェロセン、１，１'-ビス（トリメチ
ルシリルエチニル）−３，３'-ジフェニルフェロセン、
１，１'-ビス（トリメチルシリルエチニル）−３，３'-
ジエチルフェロセン、１，１'-ビス（トリメチルシリル
エチニル）−３，３'-ジビフェニルフェロセン、１，
１'-ビス（トリメチルシリルエチニル）−３，３'-ビス
（トリメチルシリル）フェロセン等のフェロセン誘導
体、及びこれらのルテノセン誘導体が挙げられる。
ニル）メタロセン誘導体としては、例えば、フェロセン
誘導体、ルテノセン誘導体等が好適に使用され、例え
ば、１，１'-ビス（トリメチルシリルエチニル）フェロ
セン、１，１'-ビス（トリメチルシリルエチニル）−
３，３'-ジメチルフェロセン、１，１'-ビス（トリメチ
ルシリルエチニル）−３，３'-ジフェニルフェロセン、
１，１'-ビス（トリメチルシリルエチニル）−３，３'-
ジエチルフェロセン、１，１'-ビス（トリメチルシリル
エチニル）−３，３'-ジビフェニルフェロセン、１，
１'-ビス（トリメチルシリルエチニル）−３，３'-ビス
（トリメチルシリル）フェロセン等のフェロセン誘導
体、及びこれらのルテノセン誘導体が挙げられる。
【００５９】上記１，１'-ビス（トリメチルシリルエチ
ニル）メタロセン誘導体は、種々の方法により合成可能
であり、例えば、１，１'-ジヨードメタロセンとトリメ
チルシリルアセチレンをパラジウム触媒存在下で反応さ
せる方法が挙げられる〔Organometalics,11,2757(199
2)] 。
ニル）メタロセン誘導体は、種々の方法により合成可能
であり、例えば、１，１'-ジヨードメタロセンとトリメ
チルシリルアセチレンをパラジウム触媒存在下で反応さ
せる方法が挙げられる〔Organometalics,11,2757(199
2)] 。
【００６０】上記リチオ化剤としては、特に限定されな
いが、メチルリチウムが好ましい。リチオ化剤の使用量
は、少なくなっても多くなっても生成するケイ素系化合
物の分子量が低下し、十分な耐熱性が得られなくなるの
で、１，１'-ビス（トリメチルシリルエチニル）メタロ
セン誘導体のモル数に対して１〜４倍のモル数が好まし
く、より好ましくは１．５〜３倍のモル数である。
いが、メチルリチウムが好ましい。リチオ化剤の使用量
は、少なくなっても多くなっても生成するケイ素系化合
物の分子量が低下し、十分な耐熱性が得られなくなるの
で、１，１'-ビス（トリメチルシリルエチニル）メタロ
セン誘導体のモル数に対して１〜４倍のモル数が好まし
く、より好ましくは１．５〜３倍のモル数である。
【００６１】上記ハロゲン化シリル化合物としては、例
えば、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラ
ン、ジプロピルジクロロシラン、ジブチルジクロロシラ
ン、ジペンチルジクロロシラン、ジヘキシルジクロロシ
ラン、ジオクチルジクロロシラン、ジノニルジクロロシ
ラン、ジデシルジクロロシラン、ジウンデシルジクロロ
シラン、ジドデシルジクロロシラン、ジトリデシルジク
ロロシラン、ジテトラデシルジクロロシラン、ジペンタ
デシルジクロロシラン、ジヘキサデシルジクロロシラ
ン、ジヘプタデシルジクロロシラン、ジオクタデシルジ
クロロシラン、ジノナデシルジクロロシラン、ジエイコ
デシルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジ
トリルジクロロシラン、ジキシリルジクロロシラン、ジ
ビフェニルジクロロシラン、ジナフチルジクロロシラ
ン、メチルフェニルジクロロシラン、メチルトリルジク
ロロシラン、１，４−ビスクロロジフェニルシリルベン
ゼン、１，４−ビスクロロメチルフェニルベンゼン、
１，３−ビスクロロジメチルシリルベンゼン、１，３−
ビスクロロジフェニルシリルベンゼン、１，３−ビスク
ロロメチルフェニルベンゼン、１，２−ビスクロロジメ
チルシリルベンゼン、１，２−ビスクロロジフェニルシ
リルベンゼン、１，２−ビスクロロメチルフェニルベン
ゼン、１，２−ビスクロロジメチルシリルアセチレン、
１，２−ビスクロロジフェニルシリルアセチレン、１，
２−ビスクロロメチルフェニルシリルアセチレン、１，
１'-ビスクロロジメチルシリルフェロセン、１，１'-ビ
スクロロジフェニルシリルフェロセン、１，１'-ビスク
ロロメチルフェニルシリルフェロセン等の塩化物及びそ
の臭素化物、ヨウ素化物、フッ素化物が挙げられる。
えば、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラ
ン、ジプロピルジクロロシラン、ジブチルジクロロシラ
ン、ジペンチルジクロロシラン、ジヘキシルジクロロシ
ラン、ジオクチルジクロロシラン、ジノニルジクロロシ
ラン、ジデシルジクロロシラン、ジウンデシルジクロロ
シラン、ジドデシルジクロロシラン、ジトリデシルジク
ロロシラン、ジテトラデシルジクロロシラン、ジペンタ
デシルジクロロシラン、ジヘキサデシルジクロロシラ
ン、ジヘプタデシルジクロロシラン、ジオクタデシルジ
クロロシラン、ジノナデシルジクロロシラン、ジエイコ
デシルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジ
トリルジクロロシラン、ジキシリルジクロロシラン、ジ
ビフェニルジクロロシラン、ジナフチルジクロロシラ
ン、メチルフェニルジクロロシラン、メチルトリルジク
ロロシラン、１，４−ビスクロロジフェニルシリルベン
ゼン、１，４−ビスクロロメチルフェニルベンゼン、
１，３−ビスクロロジメチルシリルベンゼン、１，３−
ビスクロロジフェニルシリルベンゼン、１，３−ビスク
ロロメチルフェニルベンゼン、１，２−ビスクロロジメ
チルシリルベンゼン、１，２−ビスクロロジフェニルシ
リルベンゼン、１，２−ビスクロロメチルフェニルベン
ゼン、１，２−ビスクロロジメチルシリルアセチレン、
１，２−ビスクロロジフェニルシリルアセチレン、１，
２−ビスクロロメチルフェニルシリルアセチレン、１，
１'-ビスクロロジメチルシリルフェロセン、１，１'-ビ
スクロロジフェニルシリルフェロセン、１，１'-ビスク
ロロメチルフェニルシリルフェロセン等の塩化物及びそ
の臭素化物、ヨウ素化物、フッ素化物が挙げられる。
【００６２】上記重縮合反応で使用される溶媒として
は、本発明４で使用されるものと同一の溶媒が挙げら
れ、特に好ましいのはテトラヒドロフランである。上記
重縮合反応の反応温度としては、本発明と同様な温度範
囲が好ましいが、溶媒としてテトラヒドロフランを用い
る場合は−８０〜５０℃が特に好ましい。
は、本発明４で使用されるものと同一の溶媒が挙げら
れ、特に好ましいのはテトラヒドロフランである。上記
重縮合反応の反応温度としては、本発明と同様な温度範
囲が好ましいが、溶媒としてテトラヒドロフランを用い
る場合は−８０〜５０℃が特に好ましい。
【００６３】また、上記重縮合反応は、本発明４と同様
な雰囲気で行われるのが好ましく、反応時間は短くても
長くてもケイ素系化合物の収率が低下するので、１〜４
８時間が好ましい。
な雰囲気で行われるのが好ましく、反応時間は短くても
長くてもケイ素系化合物の収率が低下するので、１〜４
８時間が好ましい。
【００６４】上記重縮合反応によって得られるケイ素系
化合物の精製方法としては、本発明４と同様な精製方法
が好ましい。
化合物の精製方法としては、本発明４と同様な精製方法
が好ましい。
【００６５】本発明５の製造方法によって、本発明２の
ケイ素系化合物が得られる。また、メタロセン誘導体
（８）として、フェロセン誘導体とルテノセン誘導体と
を併用することにより、本発明３のケイ素系化合物が得
られる。
ケイ素系化合物が得られる。また、メタロセン誘導体
（８）として、フェロセン誘導体とルテノセン誘導体と
を併用することにより、本発明３のケイ素系化合物が得
られる。
【００６６】次に、本発明６のケイ素系化合物の製造方
法について説明する。本発明６の製造方法は、本発明５
の製造方法において１，１'-ビス（トリメチルシリルエ
チニル）メタロセン誘導体とリチオ化剤を反応させた
後、ハロゲン化シリル化合物と重縮合反応させる際に、
添加剤を加えることを特徴とする。
法について説明する。本発明６の製造方法は、本発明５
の製造方法において１，１'-ビス（トリメチルシリルエ
チニル）メタロセン誘導体とリチオ化剤を反応させた
後、ハロゲン化シリル化合物と重縮合反応させる際に、
添加剤を加えることを特徴とする。
【００６７】上記添加剤としては、塩化リチウム、臭化
リチウム、フッ化リチウム、ヨウ化リチウム等のハロゲ
ン化リチウム；テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサ
メチルフォスフォリックトリアミド、ヘキサメチルフォ
スフォラストリアミド等のアミン系多座配位子及び、１
２−クラウン−４（１，４，７，１０−テトラオキサシ
クロドデカン）、１５−クラウン−５（１，４，７，１
０，１３−ペンタオキサシクロペンタデカン）、１８−
クラウン−６（１，４，７，１０，１３，１６−ヘキサ
オキサシクロオクタデカン）などのクラウンエーテル等
が挙げられる。
リチウム、フッ化リチウム、ヨウ化リチウム等のハロゲ
ン化リチウム；テトラメチルエチレンジアミン、ヘキサ
メチルフォスフォリックトリアミド、ヘキサメチルフォ
スフォラストリアミド等のアミン系多座配位子及び、１
２−クラウン−４（１，４，７，１０−テトラオキサシ
クロドデカン）、１５−クラウン−５（１，４，７，１
０，１３−ペンタオキサシクロペンタデカン）、１８−
クラウン−６（１，４，７，１０，１３，１６−ヘキサ
オキサシクロオクタデカン）などのクラウンエーテル等
が挙げられる。
【００６８】上記添加剤の使用量は、少なくなると反応
系を十分に活性化することができず、多くなると反応生
成物から除去するのが難しくなるので、ハロゲン化シリ
ル化合物のモル数に対して、０．０００１〜１００倍の
モル数が好ましく、より好ましくは０．０１〜１０倍の
モル数である。
系を十分に活性化することができず、多くなると反応生
成物から除去するのが難しくなるので、ハロゲン化シリ
ル化合物のモル数に対して、０．０００１〜１００倍の
モル数が好ましく、より好ましくは０．０１〜１０倍の
モル数である。
【００６９】
【実施例】次に、本発明の実施例を説明する。 （実施例１）攪拌装置、還流冷却管及び滴下ロート付５
０ｍｌの２口フラスコ中へ、ビス（トリフェニルホスフ
ィン）パラジウムジクロライド１７ｍｇ、ヨウ化銅
（Ｉ）４８ｍｇ及びトリフェニルホスフィン６６ｍｇを
供給し、真空ポンプにて脱気して圧力１．３×１０-5気
圧とし、アルゴンを入れて圧力１気圧のアルゴン雰囲気
とした後、さらに１，１’−ジヨードフェロセン１．０
１ｇ、ジフェニルジエチニルシラン０．５８ｇ、トルエ
ン７．５ｍｌ及びジイソプロピルアミン７．５ｍｌを供
給し、温度９０℃で１６時間還流しながら攪拌して反応
させて固形分を沈殿させた。反応終了後、反応溶液にテ
トラヒドロフラン及び水を加えて固形分を溶解し、得ら
れた溶液の有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥してグラ
スフィルターにて濾過し、得られた濾液から有機溶媒を
減圧留去し、減圧蒸留後の残存物をテトラヒドロフラン
に溶解して得られた溶液をイソプロパノール中に滴下し
て再沈殿させ、ケイ素系化合物０．４５ｇ（収率４３
％）を得た。
０ｍｌの２口フラスコ中へ、ビス（トリフェニルホスフ
ィン）パラジウムジクロライド１７ｍｇ、ヨウ化銅
（Ｉ）４８ｍｇ及びトリフェニルホスフィン６６ｍｇを
供給し、真空ポンプにて脱気して圧力１．３×１０-5気
圧とし、アルゴンを入れて圧力１気圧のアルゴン雰囲気
とした後、さらに１，１’−ジヨードフェロセン１．０
１ｇ、ジフェニルジエチニルシラン０．５８ｇ、トルエ
ン７．５ｍｌ及びジイソプロピルアミン７．５ｍｌを供
給し、温度９０℃で１６時間還流しながら攪拌して反応
させて固形分を沈殿させた。反応終了後、反応溶液にテ
トラヒドロフラン及び水を加えて固形分を溶解し、得ら
れた溶液の有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥してグラ
スフィルターにて濾過し、得られた濾液から有機溶媒を
減圧留去し、減圧蒸留後の残存物をテトラヒドロフラン
に溶解して得られた溶液をイソプロパノール中に滴下し
て再沈殿させ、ケイ素系化合物０．４５ｇ（収率４３
％）を得た。
【００７０】得られたケイ素系化合物については、以下
の測定を行って同程した。分取ゲルパーミエーションク
ロマトグラフ（東ソー社製「ＧＰＣ−８０００」）によ
り重量平均分子量を測定した結果、ポリスチレン換算で
４２００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペクトル（日本電子
社製「ＪＮＭ−ＧＸ２７０」）を測定した結果、４．５
ｐｐｍ付近にフェロセンのシクロペンタジエニル環のプ
ロトンに由来するピークが、７〜８ｐｐｍにフェニル基
のプロトンに由来するピークがそれぞれ確認された。ま
た、13Ｃ核磁気共鳴スペクトル（日本電子社製「ＪＮＭ
−ＧＸ２７０」）を測定した結果、６５〜７５ｐｐｍに
フェロセンのシクロペンタジエニル環の炭素に由来する
ピークが、８５及び１０７ｐｐｍ付近にはエチニレン基
の炭素に由来するピークが、１２５〜１３５ｐｐｍには
フェニル基の炭素に由来するピークがそれぞれ確認され
た。さらに、29Ｓｉ核磁気共鳴スペクトル（日本電子社
製「ＪＮＭ−ＧＸ２７０」）を測定した結果、−４８ｐ
ｐｍにエチニレン基に結合しているケイ素に由来するピ
ークが確認され、赤外線吸収スペクトル（日立製作所製
「２７０−３０」）を測定した結果、２１５０ｃｍ-1に
エチニレン基の炭素−炭素三重結合に由来する吸収が確
認された。
の測定を行って同程した。分取ゲルパーミエーションク
ロマトグラフ（東ソー社製「ＧＰＣ−８０００」）によ
り重量平均分子量を測定した結果、ポリスチレン換算で
４２００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペクトル（日本電子
社製「ＪＮＭ−ＧＸ２７０」）を測定した結果、４．５
ｐｐｍ付近にフェロセンのシクロペンタジエニル環のプ
ロトンに由来するピークが、７〜８ｐｐｍにフェニル基
のプロトンに由来するピークがそれぞれ確認された。ま
た、13Ｃ核磁気共鳴スペクトル（日本電子社製「ＪＮＭ
−ＧＸ２７０」）を測定した結果、６５〜７５ｐｐｍに
フェロセンのシクロペンタジエニル環の炭素に由来する
ピークが、８５及び１０７ｐｐｍ付近にはエチニレン基
の炭素に由来するピークが、１２５〜１３５ｐｐｍには
フェニル基の炭素に由来するピークがそれぞれ確認され
た。さらに、29Ｓｉ核磁気共鳴スペクトル（日本電子社
製「ＪＮＭ−ＧＸ２７０」）を測定した結果、−４８ｐ
ｐｍにエチニレン基に結合しているケイ素に由来するピ
ークが確認され、赤外線吸収スペクトル（日立製作所製
「２７０−３０」）を測定した結果、２１５０ｃｍ-1に
エチニレン基の炭素−炭素三重結合に由来する吸収が確
認された。
【００７１】上記結果より、得られたケイ素系化合物
は、一般式（１３）で表される構成単位からなるケイ素
系化合物と同定された。尚、上記 1Ｈ核磁気共鳴スペク
トルの測定結果を図１に、13Ｃ核磁気共鳴スペクトルの
測定結果を図２に、29Ｓｉ核磁気共鳴の測定結果を図３
に、赤外線吸収スペクトルの測定結果を図４にそれぞれ
示した。
は、一般式（１３）で表される構成単位からなるケイ素
系化合物と同定された。尚、上記 1Ｈ核磁気共鳴スペク
トルの測定結果を図１に、13Ｃ核磁気共鳴スペクトルの
測定結果を図２に、29Ｓｉ核磁気共鳴の測定結果を図３
に、赤外線吸収スペクトルの測定結果を図４にそれぞれ
示した。
【００７２】
【化２４】
【００７３】（実施例２）メタロセン、ケイ素化合物、
遷移金属触媒、助触媒、ＨＣｌ捕捉剤及び溶媒の成分な
らびに使用量を表１に示したように変えたこと以外は、
実施例１と同様にして反応させ、ケイ素系化合物を得
た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を表３に示
した。
遷移金属触媒、助触媒、ＨＣｌ捕捉剤及び溶媒の成分な
らびに使用量を表１に示したように変えたこと以外は、
実施例１と同様にして反応させ、ケイ素系化合物を得
た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を表３に示
した。
【００７４】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で４４００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４．５ｐｐｍ付近にフェロセン
のシクロペンタジエニル環のプロトンに由来するピーク
が確認され、赤外線吸収スペクトルを測定した結果、２
１５０ｃｍ-1にエチニレン基のＣ−Ｃ三重結合に由来す
る吸収が確認された。上記結果より、得られたケイ素系
化合物は、一般式（１３）で表される構成単位からなる
ケイ素系化合物であると同定された。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で４４００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４．５ｐｐｍ付近にフェロセン
のシクロペンタジエニル環のプロトンに由来するピーク
が確認され、赤外線吸収スペクトルを測定した結果、２
１５０ｃｍ-1にエチニレン基のＣ−Ｃ三重結合に由来す
る吸収が確認された。上記結果より、得られたケイ素系
化合物は、一般式（１３）で表される構成単位からなる
ケイ素系化合物であると同定された。
【００７５】（実施例３）メタロセン、ケイ素化合物、
遷移金属触媒、助触媒、ＨＣｌ捕捉剤及び溶媒の成分な
らびに使用量を表１に示したように変えたこと以外は、
実施例１と同様にして反応させ、ケイ素系化合物を得
た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を表３に示
した。
遷移金属触媒、助触媒、ＨＣｌ捕捉剤及び溶媒の成分な
らびに使用量を表１に示したように変えたこと以外は、
実施例１と同様にして反応させ、ケイ素系化合物を得
た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を表３に示
した。
【００７６】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で６６００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、０．２ｐｐｍ付近にトリメチル
シリル基のプロトンに由来するピークが、４ｐｐｍ前後
にはフェロセンのシクロペンタジエニル環のプロトンに
由来するピークが確認された。また、13Ｃ核磁気共鳴ス
ペクトルを測定した結果、０ｐｐｍ付近にはトリメチル
シリル基の炭素に由来するピークが、７５ｐｐｍ前後に
はフェロセンのシクロペンタジエジル環の炭素に由来す
るピークが、８１及び１１７ｐｐｍ付近にはエチニレン
基の炭素に由来するピークがそれぞれ確認された。赤外
線吸収スペクトルを測定した結果、２１５０ｃｍ-1にエ
チニレン基の炭素−炭素三重結合に由来する吸収が確認
された。上記結果より、得られたケイ素系化合物は、一
般式（１４）で表される構成単位からなるケイ素系化合
物であると同定された。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で６６００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、０．２ｐｐｍ付近にトリメチル
シリル基のプロトンに由来するピークが、４ｐｐｍ前後
にはフェロセンのシクロペンタジエニル環のプロトンに
由来するピークが確認された。また、13Ｃ核磁気共鳴ス
ペクトルを測定した結果、０ｐｐｍ付近にはトリメチル
シリル基の炭素に由来するピークが、７５ｐｐｍ前後に
はフェロセンのシクロペンタジエジル環の炭素に由来す
るピークが、８１及び１１７ｐｐｍ付近にはエチニレン
基の炭素に由来するピークがそれぞれ確認された。赤外
線吸収スペクトルを測定した結果、２１５０ｃｍ-1にエ
チニレン基の炭素−炭素三重結合に由来する吸収が確認
された。上記結果より、得られたケイ素系化合物は、一
般式（１４）で表される構成単位からなるケイ素系化合
物であると同定された。
【００７７】
【化２５】
【００７８】（実施例４）メタロセン、ケイ素化合物、
遷移金属触媒、助触媒、ＨＣｌ捕捉剤及び溶媒の成分な
らびに使用量を表１に示したように変えたこと以外は、
実施例１と同様にして反応させ、ケイ素系化合物を得
た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を表３に示
した。
遷移金属触媒、助触媒、ＨＣｌ捕捉剤及び溶媒の成分な
らびに使用量を表１に示したように変えたこと以外は、
実施例１と同様にして反応させ、ケイ素系化合物を得
た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を表３に示
した。
【００７９】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３５００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４．４〜５．２ｐｐｍ付近にル
テノセンのシクロペンタジエニル環のプロトンに由来す
るピークが、７〜８ｐｐｍにはフェニル基のプロトンに
由来するピークがそれぞれ確認された。また、13Ｃ核磁
気共鳴スペクトルを測定した結果、６５〜８０ｐｐｍ付
近にはルテノセンのシクロペンタジエニル環の炭素に由
来するピークが、８５及び１０７ｐｐｍ付近にはエチニ
レン基の炭素に由来するピークが、１２５〜１３５ｐｐ
ｍ付近にはフェニル基の炭素に由来するピークがそれぞ
れ確認された。赤外線吸収スペクトルを測定した結果、
２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重結合に
由来する吸収が確認された。上記結果より、得られたケ
イ素系化合物は、一般式（１５）で表される構成単位か
らなるケイ素系化合物であると同定された。尚、上記 1
Ｈ核磁気共鳴スペクトルの測定結果を図５に、13Ｃ核磁
気共鳴スペクトルの測定結果を図６に、赤外線吸収スペ
クトルの測定結果を図７にそれぞれ示した。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３５００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４．４〜５．２ｐｐｍ付近にル
テノセンのシクロペンタジエニル環のプロトンに由来す
るピークが、７〜８ｐｐｍにはフェニル基のプロトンに
由来するピークがそれぞれ確認された。また、13Ｃ核磁
気共鳴スペクトルを測定した結果、６５〜８０ｐｐｍ付
近にはルテノセンのシクロペンタジエニル環の炭素に由
来するピークが、８５及び１０７ｐｐｍ付近にはエチニ
レン基の炭素に由来するピークが、１２５〜１３５ｐｐ
ｍ付近にはフェニル基の炭素に由来するピークがそれぞ
れ確認された。赤外線吸収スペクトルを測定した結果、
２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重結合に
由来する吸収が確認された。上記結果より、得られたケ
イ素系化合物は、一般式（１５）で表される構成単位か
らなるケイ素系化合物であると同定された。尚、上記 1
Ｈ核磁気共鳴スペクトルの測定結果を図５に、13Ｃ核磁
気共鳴スペクトルの測定結果を図６に、赤外線吸収スペ
クトルの測定結果を図７にそれぞれ示した。
【００８０】
【化２６】
【００８１】（実施例５）メタロセン、ケイ素化合物、
遷移金属触媒、助触媒、ＨＣｌ捕捉剤及び溶媒の成分な
らびに使用量を表１に示したように変えたこと以外は、
実施例１と同様にして反応させ、ケイ素系化合物を得
た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を表３に示
した。
遷移金属触媒、助触媒、ＨＣｌ捕捉剤及び溶媒の成分な
らびに使用量を表１に示したように変えたこと以外は、
実施例１と同様にして反応させ、ケイ素系化合物を得
た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を表３に示
した。
【００８２】得られたケイ素系化合物の重量平均分子量
につき、実施例１と同様の測定を行ったところはポリス
チレン換算で５２００であった。また、誘導結合プラズ
マ発光分析（セイコー電子工業社製「ＳＰＳ４００
０」）により元素分析を行った結果、ケイ素系化合物中
のケイ素４．９重量％、鉄０．６重量％であった。 1Ｈ
核磁気共鳴スペクトルを実施例１と同様に測定した結
果、４．１７及び４．４２ｐｐｍ付近にフェロセンのシ
クロペンタジエニル環のプロトンに由来するピークが確
認され、赤外線吸収スペクトルを実施例１と同様に測定
した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素
三重結合に由来する吸収が確認された。尚、上記 1Ｈ核
磁気共鳴スペクトルの測定結果を図８に、赤外線吸収ス
ペクトルの測定結果を図９に示した。
につき、実施例１と同様の測定を行ったところはポリス
チレン換算で５２００であった。また、誘導結合プラズ
マ発光分析（セイコー電子工業社製「ＳＰＳ４００
０」）により元素分析を行った結果、ケイ素系化合物中
のケイ素４．９重量％、鉄０．６重量％であった。 1Ｈ
核磁気共鳴スペクトルを実施例１と同様に測定した結
果、４．１７及び４．４２ｐｐｍ付近にフェロセンのシ
クロペンタジエニル環のプロトンに由来するピークが確
認され、赤外線吸収スペクトルを実施例１と同様に測定
した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素
三重結合に由来する吸収が確認された。尚、上記 1Ｈ核
磁気共鳴スペクトルの測定結果を図８に、赤外線吸収ス
ペクトルの測定結果を図９に示した。
【００８３】
【表１】
【００８４】（実施例６）攪拌装置、還流冷却管及び滴
下ロート付５０ｍｌの３口フラスコ中へ、１，１’−ビ
ス（トリメチルシリルエチニル）フェロセン１ｇ、テト
ラヒドロフラン５０ｍｌを供給し、真空ポンプにて脱気
して圧力１．３×１０-5気圧とし、アルゴンを入れて圧
力１気圧のアルゴン雰囲気とした後、温度−７８℃に冷
却して攪拌しながら１．４Ｎメチルリチウム／エーテル
溶液３．８ｍｌを滴下し、温度２５℃に昇温して２４時
間攪拌を続けた。攪拌終了後、温度−７８℃に冷却して
ジフェニルジクロロシラン０．６７ｇを加え、温度２５
℃に昇温して３０時間攪拌を続けた。攪拌終了後、反応
溶液を氷水中に入れてテトラヒドロフランを加え、得ら
れた溶液の有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥してグラ
スフィルターにて濾過し、得られた濾液から有機溶媒を
減圧蒸留し、減圧蒸留後の残存物をテトラヒドロフラン
に溶解して得られた溶液をイソプロパノール中に滴下し
て再沈殿させ、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素
系化合物の収量及び収率を表３に示した。
下ロート付５０ｍｌの３口フラスコ中へ、１，１’−ビ
ス（トリメチルシリルエチニル）フェロセン１ｇ、テト
ラヒドロフラン５０ｍｌを供給し、真空ポンプにて脱気
して圧力１．３×１０-5気圧とし、アルゴンを入れて圧
力１気圧のアルゴン雰囲気とした後、温度−７８℃に冷
却して攪拌しながら１．４Ｎメチルリチウム／エーテル
溶液３．８ｍｌを滴下し、温度２５℃に昇温して２４時
間攪拌を続けた。攪拌終了後、温度−７８℃に冷却して
ジフェニルジクロロシラン０．６７ｇを加え、温度２５
℃に昇温して３０時間攪拌を続けた。攪拌終了後、反応
溶液を氷水中に入れてテトラヒドロフランを加え、得ら
れた溶液の有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥してグラ
スフィルターにて濾過し、得られた濾液から有機溶媒を
減圧蒸留し、減圧蒸留後の残存物をテトラヒドロフラン
に溶解して得られた溶液をイソプロパノール中に滴下し
て再沈殿させ、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素
系化合物の収量及び収率を表３に示した。
【００８５】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で４８００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４ｐｐｍ付近にフェロセンのシ
クロペンタジエニル環のプロトンに由来するピークが、
７〜８ｐｐｍにはフェニル基のプロトンに由来するピー
クがそれぞれ確認された。また、13Ｃ核磁気共鳴スペク
トルを測定した結果、６５．０、７２．２及び７３．９
ｐｐｍにはフェロセンのシクロペンタジエニル環の炭素
に由来するピークが、８５．４及び１０７．６ｐｐｍに
はエチニレン基の炭素に由来するピークが、１２５〜１
３５ｐｐｍ付近にはフェニル基の炭素に由来するピーク
がそれぞれ確認された。さらに、29Ｓｉ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、−４８．６ｐｐｍにエチニレン
基に結合しているケイ素に由来するピークが確認され、
赤外線吸収スペクトルを測定した結果、２１５０ｃｍ-1
にエチニレン基の炭素−炭素三重結合に由来する吸収が
確認された。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で４８００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４ｐｐｍ付近にフェロセンのシ
クロペンタジエニル環のプロトンに由来するピークが、
７〜８ｐｐｍにはフェニル基のプロトンに由来するピー
クがそれぞれ確認された。また、13Ｃ核磁気共鳴スペク
トルを測定した結果、６５．０、７２．２及び７３．９
ｐｐｍにはフェロセンのシクロペンタジエニル環の炭素
に由来するピークが、８５．４及び１０７．６ｐｐｍに
はエチニレン基の炭素に由来するピークが、１２５〜１
３５ｐｐｍ付近にはフェニル基の炭素に由来するピーク
がそれぞれ確認された。さらに、29Ｓｉ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、−４８．６ｐｐｍにエチニレン
基に結合しているケイ素に由来するピークが確認され、
赤外線吸収スペクトルを測定した結果、２１５０ｃｍ-1
にエチニレン基の炭素−炭素三重結合に由来する吸収が
確認された。
【００８６】上記結果より、得られたケイ素系化合物
は、一般式（１３）で表される構成単位からなるケイ素
系化合物であると同定された。尚、上記 1Ｈ核磁気共鳴
スペクトルの測定結果を図１０に、13Ｃ核磁気共鳴スペ
クトルの測定結果を図１１に、赤外線吸収スペクトルの
測定結果を図１２にそれぞれ示した。
は、一般式（１３）で表される構成単位からなるケイ素
系化合物であると同定された。尚、上記 1Ｈ核磁気共鳴
スペクトルの測定結果を図１０に、13Ｃ核磁気共鳴スペ
クトルの測定結果を図１１に、赤外線吸収スペクトルの
測定結果を図１２にそれぞれ示した。
【００８７】（実施例７）ケイ素化合物の成分及び量を
表２に示したように変えたこと以外は、実施例６と同様
にして、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系化合
物の収量及び収率を表３に示した。
表２に示したように変えたこと以外は、実施例６と同様
にして、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系化合
物の収量及び収率を表３に示した。
【００８８】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で６００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペク
トルを測定した結果、０．４５ｐｐｍにはケイ素に結合
したメチル基のプロトンに由来するピークが、４．２６
〜４．３４ｐｐｍにはフェロセンのシクロペンタジエニ
ル環のプロトンに由来するピークが確認された。また、
13Ｃ核磁気共鳴スペクトルを測定した結果、６６．１、
６９．５及び７５．８ｐｐｍ付近にはフェロセンのシク
ロペンタジエニル環の炭素に由来するピークが、８８．
５及び１０４．１ｐｐｍにはエチニレン基の炭素に由来
するピークがそれぞれ確認され、赤外線吸収スペクトル
を測定した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素
−炭素三重結合に由来する吸収が確認された。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で６００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペク
トルを測定した結果、０．４５ｐｐｍにはケイ素に結合
したメチル基のプロトンに由来するピークが、４．２６
〜４．３４ｐｐｍにはフェロセンのシクロペンタジエニ
ル環のプロトンに由来するピークが確認された。また、
13Ｃ核磁気共鳴スペクトルを測定した結果、６６．１、
６９．５及び７５．８ｐｐｍ付近にはフェロセンのシク
ロペンタジエニル環の炭素に由来するピークが、８８．
５及び１０４．１ｐｐｍにはエチニレン基の炭素に由来
するピークがそれぞれ確認され、赤外線吸収スペクトル
を測定した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素
−炭素三重結合に由来する吸収が確認された。
【００８９】直鎖状重合体の場合末端にくるアセチレン
基（−Ｃ≡ＣＨ）及びシラノール基（−Ｓｉ−ＯＨ）の
スペクトルが赤外線吸収スペクトル又は 1Ｈ核磁気共鳴
スペクトルで確認できなかった。上記結果より、得られ
たケイ素系化合物は、一般式（１６）で表される構成単
位からなるケイ素系化合物であると同定された。
基（−Ｃ≡ＣＨ）及びシラノール基（−Ｓｉ−ＯＨ）の
スペクトルが赤外線吸収スペクトル又は 1Ｈ核磁気共鳴
スペクトルで確認できなかった。上記結果より、得られ
たケイ素系化合物は、一般式（１６）で表される構成単
位からなるケイ素系化合物であると同定された。
【００９０】
【化２７】
【００９１】（実施例８）ケイ素化合物の成分及び量を
表２に示したように変えたこと以外は、実施例６と同様
にして、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系化合
物の収量及び収率を表３に示した。
表２に示したように変えたこと以外は、実施例６と同様
にして、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系化合
物の収量及び収率を表３に示した。
【００９２】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で５６００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、０．６９ｐｐｍにはケイ素に結
合したメチル基のプロトンに由来するピークが、４．３
４及び４．５８ｐｐｍにはフェロセンのシクロペンタジ
エニル環のプロトンに由来するピークが確認された。ま
た、13Ｃ核磁気共鳴スペクトルを測定した結果、０．６
５ｐｐｍにはケイ素に結合したメチル基の炭素に由来す
るピークが、６５．１、７２．０及び７３．７ｐｐｍ付
近にはフェロセンのシクロペンタジエニル環の炭素に由
来するピークが、８６．８及び１０６．０ｐｐｍ付近に
はエチニレン基の炭素に由来するピークがそれぞれ確認
され、赤外線吸収スペクトルを測定した結果、２１５０
ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重結合に由来する
吸収が確認された。上記結果より、得られたケイ素系化
合物は、一般式（１７）で表される構成単位からなるケ
イ素系化合物であると同定された。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で５６００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、０．６９ｐｐｍにはケイ素に結
合したメチル基のプロトンに由来するピークが、４．３
４及び４．５８ｐｐｍにはフェロセンのシクロペンタジ
エニル環のプロトンに由来するピークが確認された。ま
た、13Ｃ核磁気共鳴スペクトルを測定した結果、０．６
５ｐｐｍにはケイ素に結合したメチル基の炭素に由来す
るピークが、６５．１、７２．０及び７３．７ｐｐｍ付
近にはフェロセンのシクロペンタジエニル環の炭素に由
来するピークが、８６．８及び１０６．０ｐｐｍ付近に
はエチニレン基の炭素に由来するピークがそれぞれ確認
され、赤外線吸収スペクトルを測定した結果、２１５０
ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重結合に由来する
吸収が確認された。上記結果より、得られたケイ素系化
合物は、一般式（１７）で表される構成単位からなるケ
イ素系化合物であると同定された。
【００９３】
【化２８】
【００９４】（実施例９）攪拌装置、還流冷却管及び滴
下ロート付５０ｍｌの３口フラスコ中へ、１，１’−ビ
ス（トリメチルシリルエチニル）フェロセン１ｇ、テト
ラヒドロフラン５０ｍｌを供給し、真空ポンプにて脱気
して圧力１．３×１０-5気圧とし、アルゴンを入れて圧
力１気圧のアルゴン雰囲気とした後、温度−７８℃に冷
却して攪拌しながら１．４Ｎメチルリチウム／エーテル
溶液３．８ｍｌを滴下し、温度２５℃に昇温して２４時
間攪拌を続けた。攪拌終了後、温度−７８℃に冷却して
ジトリルジクロロシラン０．７４ｇを加え、温度２５℃
に昇温して２４時間攪拌を続けた。攪拌終了後、反応溶
液を氷水中に入れてテトラヒドロフランを加え、得られ
た溶液の有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥してグラス
フィルターにて濾過し、得られた濾液から有機溶媒を減
圧蒸留し、減圧蒸留後の残存物をテトラヒドロフランに
溶解して得られた溶液をイソプロパノール中に滴下して
再沈殿させ、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系
化合物の収量及び収率を表３に示した。
下ロート付５０ｍｌの３口フラスコ中へ、１，１’−ビ
ス（トリメチルシリルエチニル）フェロセン１ｇ、テト
ラヒドロフラン５０ｍｌを供給し、真空ポンプにて脱気
して圧力１．３×１０-5気圧とし、アルゴンを入れて圧
力１気圧のアルゴン雰囲気とした後、温度−７８℃に冷
却して攪拌しながら１．４Ｎメチルリチウム／エーテル
溶液３．８ｍｌを滴下し、温度２５℃に昇温して２４時
間攪拌を続けた。攪拌終了後、温度−７８℃に冷却して
ジトリルジクロロシラン０．７４ｇを加え、温度２５℃
に昇温して２４時間攪拌を続けた。攪拌終了後、反応溶
液を氷水中に入れてテトラヒドロフランを加え、得られ
た溶液の有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥してグラス
フィルターにて濾過し、得られた濾液から有機溶媒を減
圧蒸留し、減圧蒸留後の残存物をテトラヒドロフランに
溶解して得られた溶液をイソプロパノール中に滴下して
再沈殿させ、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系
化合物の収量及び収率を表３に示した。
【００９５】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で２９００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４〜５ｐｐｍ付近にフェロセン
のシクロペンタジエニル環のプロトンに由来するピーク
が、７〜８ｐｐｍにはフェニル基のプロトンに由来する
ピークが、２．４ｐｐｍにベンジルのプロトンに由来す
るピークがそれぞれ確認された。また、13Ｃ核磁気共鳴
スペクトルを測定した結果、７４．４、７２．６及び６
４．８ｐｐｍにはシクロペンタジエニル環の炭素に由来
するピークが、１０７．４及び８６．０ｐｐｍにはエチ
ニレン基の炭素に由来するピークが、１２５〜１３５ｐ
ｐｍにはフェニル基に由来するピークがそれぞれ確認さ
れ、赤外線吸収スペクトルを測定した結果、２１５０ｃ
ｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重結合に由来する吸
収が確認された。上記結果より、得られたケイ素系化合
物は、一般式（１８）で表される構成単位からなるケイ
素系化合物であると同定された。得られたケイ素系化合
物の収率を表３に示した。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で２９００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４〜５ｐｐｍ付近にフェロセン
のシクロペンタジエニル環のプロトンに由来するピーク
が、７〜８ｐｐｍにはフェニル基のプロトンに由来する
ピークが、２．４ｐｐｍにベンジルのプロトンに由来す
るピークがそれぞれ確認された。また、13Ｃ核磁気共鳴
スペクトルを測定した結果、７４．４、７２．６及び６
４．８ｐｐｍにはシクロペンタジエニル環の炭素に由来
するピークが、１０７．４及び８６．０ｐｐｍにはエチ
ニレン基の炭素に由来するピークが、１２５〜１３５ｐ
ｐｍにはフェニル基に由来するピークがそれぞれ確認さ
れ、赤外線吸収スペクトルを測定した結果、２１５０ｃ
ｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重結合に由来する吸
収が確認された。上記結果より、得られたケイ素系化合
物は、一般式（１８）で表される構成単位からなるケイ
素系化合物であると同定された。得られたケイ素系化合
物の収率を表３に示した。
【００９６】
【化２９】
【００９７】（実施例１０）ケイ素化合物の成分及び量
を表２に示したように変えたこと以外は、実施例９と同
様にして、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系化
合物の収量及び収率を表３に示した。
を表２に示したように変えたこと以外は、実施例９と同
様にして、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系化
合物の収量及び収率を表３に示した。
【００９８】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３４００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４〜５ｐｐｍ付近にフェロセン
のシクロペンタジエニル環のプロトンに由来するピーク
が、７〜８ｐｐｍにはフェニル基に由来するピークが、
５．０ｐｐｍにはケイ素のプロトンに由来するピークが
それぞれ確認された。赤外線吸収スペクトルを測定した
結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重
結合に由来する吸収が確認された。上記結果より、得ら
れたケイ素系化合物は、一般式（１９）で表される構成
単位からなるケイ素系化合物であると同定された。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３４００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４〜５ｐｐｍ付近にフェロセン
のシクロペンタジエニル環のプロトンに由来するピーク
が、７〜８ｐｐｍにはフェニル基に由来するピークが、
５．０ｐｐｍにはケイ素のプロトンに由来するピークが
それぞれ確認された。赤外線吸収スペクトルを測定した
結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重
結合に由来する吸収が確認された。上記結果より、得ら
れたケイ素系化合物は、一般式（１９）で表される構成
単位からなるケイ素系化合物であると同定された。
【００９９】
【化３０】
【０１００】（実施例１１）ケイ素化合物の成分及び量
を表２に示したように変えたこと以外は、実施例９と同
様にして、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系化
合物の収量及び収率を表３に示した。
を表２に示したように変えたこと以外は、実施例９と同
様にして、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系化
合物の収量及び収率を表３に示した。
【０１０１】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で１５００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４〜５ｐｐｍ付近にフェロセン
のシクロペンタジエニル環のプロトンに由来するピーク
が、０．４〜１．６ｐｐｍにはブチル基に由来するピー
クがそれぞれ確認された。赤外線吸収スペクトルを測定
した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素
三重結合に由来する吸収が確認された。上記結果より、
得られたケイ素系化合物は、一般式（２０）で表される
構成単位からなるケイ素系化合物であると同定された。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で１５００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４〜５ｐｐｍ付近にフェロセン
のシクロペンタジエニル環のプロトンに由来するピーク
が、０．４〜１．６ｐｐｍにはブチル基に由来するピー
クがそれぞれ確認された。赤外線吸収スペクトルを測定
した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素
三重結合に由来する吸収が確認された。上記結果より、
得られたケイ素系化合物は、一般式（２０）で表される
構成単位からなるケイ素系化合物であると同定された。
【０１０２】
【化３１】
【０１０３】
【表２】
【０１０４】
【表３】
【０１０５】（実施例１２）攪拌装置、還流冷却管及び
滴下ロート付５０ｍｌの３口フラスコ中へ、１，１’−
ビス（トリメチルシリルエチニル）−３，３'-ビス（ト
リメチルシリル）フェロセン１．５ｇ、テトラヒドロフ
ラン５０ｍｌを供給し、真空ポンプにて脱気して圧力
１．３×１０-5気圧とし、アルゴンを入れて圧力１気圧
のアルゴン雰囲気とした後、温度−７８℃に冷却して攪
拌しながら１．４Ｎメチルリチウム／エーテル溶液４．
１ｍｌを滴下し、温度２５℃に昇温して２４時間攪拌を
続けた。攪拌終了後、温度−７８℃に冷却してジフェニ
ルジクロロシラン１．３４ｇを加え、温度２５℃に昇温
して２４時間攪拌を続けた。攪拌終了後、反応溶液を氷
水中に入れてテトラヒドロフランを加え、得られた溶液
の有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥してグラスフィル
ターにて濾過し、得られた濾液から有機溶媒を減圧蒸留
し、減圧蒸留後の残存物をテトラヒドロフランに溶解し
て得られた溶液を、混合比８：２のイソプロパノール：
水混合溶媒中に滴下して再沈殿させ、ケイ素系化合物を
得た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を表６に
示した。
滴下ロート付５０ｍｌの３口フラスコ中へ、１，１’−
ビス（トリメチルシリルエチニル）−３，３'-ビス（ト
リメチルシリル）フェロセン１．５ｇ、テトラヒドロフ
ラン５０ｍｌを供給し、真空ポンプにて脱気して圧力
１．３×１０-5気圧とし、アルゴンを入れて圧力１気圧
のアルゴン雰囲気とした後、温度−７８℃に冷却して攪
拌しながら１．４Ｎメチルリチウム／エーテル溶液４．
１ｍｌを滴下し、温度２５℃に昇温して２４時間攪拌を
続けた。攪拌終了後、温度−７８℃に冷却してジフェニ
ルジクロロシラン１．３４ｇを加え、温度２５℃に昇温
して２４時間攪拌を続けた。攪拌終了後、反応溶液を氷
水中に入れてテトラヒドロフランを加え、得られた溶液
の有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥してグラスフィル
ターにて濾過し、得られた濾液から有機溶媒を減圧蒸留
し、減圧蒸留後の残存物をテトラヒドロフランに溶解し
て得られた溶液を、混合比８：２のイソプロパノール：
水混合溶媒中に滴下して再沈殿させ、ケイ素系化合物を
得た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を表６に
示した。
【０１０６】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３２００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、０．２７ｐｐｍ付近にトリメチ
ルシリル基のプロトンに由来するピークが、３．８０、
４．２４及び４．５７ｐｐｍにはフェロセンのシクロペ
ンタジエニル環のプロトンに由来するピークがそれぞれ
確認された。また、13Ｃ核磁気共鳴スペクトルを測定し
た結果、−０．０２ｐｐｍ付近にはトリメチルシリル基
の炭素に由来するピークが、７３．１、７６．５、７
６．６、７７．０及び７７．１ｐｐｍにはフェロセンの
シクロペンタジエニル環の炭素に由来するピークが、８
０．７及び１１７．５ｐｐｍにはエチニレン基の炭素に
由来するピークがそれぞれ確認され、赤外線吸収スペク
トルを測定した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の
炭素−炭素三重結合に由来する吸収が確認された。 上
記結果より、得られたケイ素系化合物は、一般式（１
４）で表される構成単位からなるケイ素系化合物である
と同定された。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３２００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、０．２７ｐｐｍ付近にトリメチ
ルシリル基のプロトンに由来するピークが、３．８０、
４．２４及び４．５７ｐｐｍにはフェロセンのシクロペ
ンタジエニル環のプロトンに由来するピークがそれぞれ
確認された。また、13Ｃ核磁気共鳴スペクトルを測定し
た結果、−０．０２ｐｐｍ付近にはトリメチルシリル基
の炭素に由来するピークが、７３．１、７６．５、７
６．６、７７．０及び７７．１ｐｐｍにはフェロセンの
シクロペンタジエニル環の炭素に由来するピークが、８
０．７及び１１７．５ｐｐｍにはエチニレン基の炭素に
由来するピークがそれぞれ確認され、赤外線吸収スペク
トルを測定した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の
炭素−炭素三重結合に由来する吸収が確認された。 上
記結果より、得られたケイ素系化合物は、一般式（１
４）で表される構成単位からなるケイ素系化合物である
と同定された。
【０１０７】（実施例１３）メタロセン、ケイ素化合物
及びリチオ化剤の成分ならびに使用量を表４に示したよ
うに変えたこと以外は、実施例６と同様にして、ケイ素
系化合物を得た。得られたケイ素系化合物の収量及び収
率を表６に示した。
及びリチオ化剤の成分ならびに使用量を表４に示したよ
うに変えたこと以外は、実施例６と同様にして、ケイ素
系化合物を得た。得られたケイ素系化合物の収量及び収
率を表６に示した。
【０１０８】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３５００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４．４〜５．２ｐｐｍ付近にル
テノセンのシクロペンタジエニル環のプロトンに由来す
るピークが、７〜８ｐｐｍにはフェニル基のプロトンに
由来するピークががそれぞれ確認された。また、13Ｃ核
磁気共鳴スペクトルを測定した結果、６５〜８０ｐｐｍ
にはルテノセンのシクロペンタジエニル環の炭素に由来
するピークが、８５及び１０７ｐｐｍ付近にはエチニレ
ン基の炭素に由来するピークが、１２５〜１３５ｐｐｍ
付近にはフェニル基の炭素に由来するピークがそれぞれ
確認された。さらに、赤外線吸収スペクトルを測定した
結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重
結合に由来する吸収が確認された。上記結果より、得ら
れたケイ素系化合物は、一般式（１５）で表される構成
単位からなるケイ素系化合物であると同定された。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３５００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４．４〜５．２ｐｐｍ付近にル
テノセンのシクロペンタジエニル環のプロトンに由来す
るピークが、７〜８ｐｐｍにはフェニル基のプロトンに
由来するピークががそれぞれ確認された。また、13Ｃ核
磁気共鳴スペクトルを測定した結果、６５〜８０ｐｐｍ
にはルテノセンのシクロペンタジエニル環の炭素に由来
するピークが、８５及び１０７ｐｐｍ付近にはエチニレ
ン基の炭素に由来するピークが、１２５〜１３５ｐｐｍ
付近にはフェニル基の炭素に由来するピークがそれぞれ
確認された。さらに、赤外線吸収スペクトルを測定した
結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重
結合に由来する吸収が確認された。上記結果より、得ら
れたケイ素系化合物は、一般式（１５）で表される構成
単位からなるケイ素系化合物であると同定された。
【０１０９】（実施例１４）攪拌装置及び還流冷却管付
５０ｍｌの２口フラスコ中へ、１，１’−ビス（トリメ
チルシリルエチニル）フェロセン１．０ｇ及びテトラヒ
ドロフラン５０ｍｌを供給し、真空ポンプにて脱気して
圧力１．３×１０-5気圧とし、アルゴンを入れて圧力１
気圧のアルゴン雰囲気とした後、温度−７８℃に冷却し
て攪拌しながら１．４Ｎメチルリチウム／エーテル溶液
３．７ｍｌを滴下し、３時間かけて温度２５℃に昇温し
て２４時間攪拌を続けた。次いで、再び反応液を−７８
℃に冷却し、１０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解させ
たビスクロロジメチルシリルベンゼン０．６９０ｇを１
０分間かけて滴下した後、３時間かけて２５℃に昇温し
て２４時間攪拌を続けた。得られた反応液を氷水中に入
れて１００ｍｌのテトラヒドロフランを加え、得られた
溶液の有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥してグラスフ
ィルターにて濾過し、得られた濾液から有機溶媒を減圧
蒸留し、減圧蒸留後の残存物を３ｍｌのテトラヒドロフ
ランに溶解して得られた溶液を、イソプロパノールに滴
下して再沈殿させ、ケイ素系化合物を得た。得られたケ
イ素系化合物の収量及び収率を表６に示した。
５０ｍｌの２口フラスコ中へ、１，１’−ビス（トリメ
チルシリルエチニル）フェロセン１．０ｇ及びテトラヒ
ドロフラン５０ｍｌを供給し、真空ポンプにて脱気して
圧力１．３×１０-5気圧とし、アルゴンを入れて圧力１
気圧のアルゴン雰囲気とした後、温度−７８℃に冷却し
て攪拌しながら１．４Ｎメチルリチウム／エーテル溶液
３．７ｍｌを滴下し、３時間かけて温度２５℃に昇温し
て２４時間攪拌を続けた。次いで、再び反応液を−７８
℃に冷却し、１０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解させ
たビスクロロジメチルシリルベンゼン０．６９０ｇを１
０分間かけて滴下した後、３時間かけて２５℃に昇温し
て２４時間攪拌を続けた。得られた反応液を氷水中に入
れて１００ｍｌのテトラヒドロフランを加え、得られた
溶液の有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥してグラスフ
ィルターにて濾過し、得られた濾液から有機溶媒を減圧
蒸留し、減圧蒸留後の残存物を３ｍｌのテトラヒドロフ
ランに溶解して得られた溶液を、イソプロパノールに滴
下して再沈殿させ、ケイ素系化合物を得た。得られたケ
イ素系化合物の収量及び収率を表６に示した。
【０１１０】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３５００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４．２０〜４．３５ｐｐｍ付近
と４．４０〜４．５０ｐｐｍ付近にフェロセンのシクロ
ペンタジエニル環のプロトンに由来するピークが、０．
４０ｐｐｍにはメチル基のプロトンに由来するピークが
がそれぞれ確認された。また、この積分比は約２：３で
あった。さらに、赤外線吸収スペクトルを測定した結
果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重結
合に由来する吸収が確認された。上記結果より、得られ
たケイ素系化合物は、一般式（２１）で表される構成単
位からなるケイ素系化合物であると同定された。尚、上
記赤外線吸収スペクトルの測定結果を図１３に示した。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３５００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４．２０〜４．３５ｐｐｍ付近
と４．４０〜４．５０ｐｐｍ付近にフェロセンのシクロ
ペンタジエニル環のプロトンに由来するピークが、０．
４０ｐｐｍにはメチル基のプロトンに由来するピークが
がそれぞれ確認された。また、この積分比は約２：３で
あった。さらに、赤外線吸収スペクトルを測定した結
果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素三重結
合に由来する吸収が確認された。上記結果より、得られ
たケイ素系化合物は、一般式（２１）で表される構成単
位からなるケイ素系化合物であると同定された。尚、上
記赤外線吸収スペクトルの測定結果を図１３に示した。
【０１１１】
【化３２】
【０１１２】（実施例１５）メタロセン、ケイ素化合
物、リチオ化剤、助触媒及び溶剤の成分ならびに使用量
を表４に示したように変えたこと以外は、実施例９と同
様にして、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系化
合物の収量及び収率を表６に示した。
物、リチオ化剤、助触媒及び溶剤の成分ならびに使用量
を表４に示したように変えたこと以外は、実施例９と同
様にして、ケイ素系化合物を得た。得られたケイ素系化
合物の収量及び収率を表６に示した。
【０１１３】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で７３００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトル、13Ｃ核磁気共鳴スペクトル及び赤外線吸収スペ
クトルを測定した結果、実施例６と同様なピーク及び吸
収が確認された。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で７３００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトル、13Ｃ核磁気共鳴スペクトル及び赤外線吸収スペ
クトルを測定した結果、実施例６と同様なピーク及び吸
収が確認された。
【０１１４】（実施例１６）メタロセン、ケイ素化合
物、リチオ化剤及び溶剤の成分ならびに使用量を表４に
示したように変え、さらに反応時間を表６に示すように
変えたこと以外は、実施例９と同様にして、ケイ素系化
合物を得た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を
表６に示した。
物、リチオ化剤及び溶剤の成分ならびに使用量を表４に
示したように変え、さらに反応時間を表６に示すように
変えたこと以外は、実施例９と同様にして、ケイ素系化
合物を得た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を
表６に示した。
【０１１５】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で２９００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４〜５ｐｐｍ付近にフェロセン
のシクロペンタジエニル環のプロトンに由来するピーク
が、０〜１ｐｐｍにはメチル基のプロトンに由来するピ
ークががそれぞれ確認された。また、13Ｃ核磁気共鳴ス
ペクトルを測定した結果、７３．７、７２．０及び６
５．４ｐｐｍにはフェロセンのシクロペンタジエニル環
の炭素に由来するピークが、１０４．２及び８８．４ｐ
ｐｍ付近にはエチニレン基の炭素に由来するピークが
１．０ｐｐｍ付近にはメチル基に由来するピークがそれ
ぞれ確認された。さらに、赤外線吸収スペクトルを測定
した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素
三重結合に由来する吸収が確認された。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で２９００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４〜５ｐｐｍ付近にフェロセン
のシクロペンタジエニル環のプロトンに由来するピーク
が、０〜１ｐｐｍにはメチル基のプロトンに由来するピ
ークががそれぞれ確認された。また、13Ｃ核磁気共鳴ス
ペクトルを測定した結果、７３．７、７２．０及び６
５．４ｐｐｍにはフェロセンのシクロペンタジエニル環
の炭素に由来するピークが、１０４．２及び８８．４ｐ
ｐｍ付近にはエチニレン基の炭素に由来するピークが
１．０ｐｐｍ付近にはメチル基に由来するピークがそれ
ぞれ確認された。さらに、赤外線吸収スペクトルを測定
した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素
三重結合に由来する吸収が確認された。
【０１１６】（実施例１７）メタロセン、ケイ素化合
物、リチオ化剤及び溶剤の成分ならびに使用量を表４に
示したように変え、さらに反応時間を表６に示すように
変えたこと以外は、実施例９と同様にして、ケイ素系化
合物を得た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を
表６に示した。
物、リチオ化剤及び溶剤の成分ならびに使用量を表４に
示したように変え、さらに反応時間を表６に示すように
変えたこと以外は、実施例９と同様にして、ケイ素系化
合物を得た。得られたケイ素系化合物の収量及び収率を
表６に示した。
【０１１７】得られたケイ素系化合物について、実施例
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３４００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４．４及び４．６ｐｐｍ付近に
フェロセンのシクロペンタジエニル環のプロトンに由来
するピークが、４．７ｐｐｍ及び５．０ｐｐｍにはルテ
ノセンのシクロペンタジエニル環のプロトンに由来する
ピークががそれぞれ確認された。それらの積分比は約
３：２であった。さらに、赤外線吸収スペクトルを測定
した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素
三重結合に由来する吸収が確認された。上記結果より、
得られたケイ素系化合物は、一般式（２２）で表される
構成単位と一般式（２３）で表される構成単位からな
り、そのモル比が３：２のケイ素系化合物であると同定
された。尚、上記赤外線吸収スペクトルの測定結果を図
１４に示した。
１と同様の測定を行った同定した。重量平均分子量はポ
リスチレン換算で３４００であり、 1Ｈ核磁気共鳴スペ
クトルを測定した結果、４．４及び４．６ｐｐｍ付近に
フェロセンのシクロペンタジエニル環のプロトンに由来
するピークが、４．７ｐｐｍ及び５．０ｐｐｍにはルテ
ノセンのシクロペンタジエニル環のプロトンに由来する
ピークががそれぞれ確認された。それらの積分比は約
３：２であった。さらに、赤外線吸収スペクトルを測定
した結果、２１５０ｃｍ-1にエチニレン基の炭素−炭素
三重結合に由来する吸収が確認された。上記結果より、
得られたケイ素系化合物は、一般式（２２）で表される
構成単位と一般式（２３）で表される構成単位からな
り、そのモル比が３：２のケイ素系化合物であると同定
された。尚、上記赤外線吸収スペクトルの測定結果を図
１４に示した。
【０１１８】
【化３３】
【化３４】
【０１１９】
【表４】
【０１２０】（比較例１〜２）表５に示した各成分を使
用したこと以外は、実施例６と同様にして反応を行っ
た。
用したこと以外は、実施例６と同様にして反応を行っ
た。
【０１２１】
【表５】
【０１２２】上記各実施例及び比較例で得られたケイ素
系化合物について、熱重量分析（セイコー電子社製「Ｓ
ＳＣ５２００」）により、１０℃／分の昇温速度で３０
℃から８００℃まで昇温し、初期重量に対して５重量％
及び１０重量％減少した時の温度（以下Ｔ5 及びＴ10と
記す）ならびに８００℃における重量残存率（以下Ｗ
800 と記す) を測定して耐熱性を評価し、その結果を表
５及び表６に示した。
系化合物について、熱重量分析（セイコー電子社製「Ｓ
ＳＣ５２００」）により、１０℃／分の昇温速度で３０
℃から８００℃まで昇温し、初期重量に対して５重量％
及び１０重量％減少した時の温度（以下Ｔ5 及びＴ10と
記す）ならびに８００℃における重量残存率（以下Ｗ
800 と記す) を測定して耐熱性を評価し、その結果を表
５及び表６に示した。
【０１２３】
【表６】
【０１２４】
【発明の効果】本発明のケイ素系化合物の構成は、上述
の通りであるから、導電性、光反応性及び耐熱性に優れ
ており、航空宇宙材料、建築材料等に好適に用いられ
る。
の通りであるから、導電性、光反応性及び耐熱性に優れ
ており、航空宇宙材料、建築材料等に好適に用いられ
る。
【図１】実施例１で得られたケイ素系化合物の 1Ｈ核磁
気共鳴スペクトル図である。
気共鳴スペクトル図である。
【図２】実施例１で得られたケイ素系化合物の13Ｃ核磁
気共鳴スペクトル図である。
気共鳴スペクトル図である。
【図３】実施例１で得られたケイ素系化合物の29Ｓｉ核
磁気共鳴スペクトル図である。
磁気共鳴スペクトル図である。
【図４】実施例１で得られたケイ素系化合物の赤外線吸
収スペクトル図である。
収スペクトル図である。
【図５】実施例４で得られたケイ素系化合物の 1Ｈ核磁
気共鳴スペクトル図である。
気共鳴スペクトル図である。
【図６】実施例４で得られたケイ素系化合物の13Ｃ核磁
気共鳴スペクトル図である。
気共鳴スペクトル図である。
【図７】実施例４で得られたケイ素系化合物の赤外線吸
収スペクトル図である。
収スペクトル図である。
【図８】実施例５で得られたケイ素系化合物の 1Ｈ核磁
気共鳴スペクトル図である。
気共鳴スペクトル図である。
【図９】実施例５で得られたケイ素系化合物の赤外線吸
収スペクトル図である。
収スペクトル図である。
【図１０】実施例６で得られたケイ素系化合物の 1Ｈ核
磁気共鳴スペクトル図である。
磁気共鳴スペクトル図である。
【図１１】実施例６で得られたケイ素系化合物の13Ｃ核
磁気共鳴スペクトル図である。
磁気共鳴スペクトル図である。
【図１２】実施例６で得られたケイ素系化合物の赤外線
吸収スペクトル図である。
吸収スペクトル図である。
【図１３】実施例１４で得られたケイ素系化合物の赤外
線吸収スペクトル図である。
線吸収スペクトル図である。
【図１４】実施例１７で得られたケイ素系化合物の赤外
線吸収スペクトル図である。
線吸収スペクトル図である。
Claims (6)
- 【請求項１】一般式（１）で表されるケイ素化合物単
位、一般式（２）で表されるアセチレン単位及び一般式
（３）で表されるメタロセン単位を構成単位とし、各構
成単位のモル比が、ケイ素化合物単位：アセチレン単
位：メタロセン単位＝１：２：０．０１〜１であり、か
つ重量平均分子量が５００以上であることを特徴とする
ケイ素系化合物。 【化１】 【化２】 【化３】 （式中、Ｒ1 は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル
基又は炭素数６〜１２のアリール基を示し、同一であっ
ても異なっていてもよい。Ｒ2 は、水素原子、炭素数１
〜２０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基又は
Ｒ1 3Ｓｉで表されるシリル基を示し、同一であっても異
なっていてもよい。Ｙは芳香族環、アセチレン残基又は
有機金属化合物を示し、ＭはＦｅ又はＲｕを示す。ａは
０〜１０の整数を示す。） - 【請求項２】一般式（４）で表される構成単位よりなる
請求項１記載のケイ素系化合物。 【化４】 （式中、Ｒ1 は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル
基又は炭素数６〜１２のアリール基を示し、同一であっ
ても異なっていてもよい。Ｒ2 は、水素原子、炭素数１
〜２０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基又は
Ｒ1 3Ｓｉで表されるシリル基を示し、同一であっても異
なっていてもよい。Ｙは芳香族環、アセチレン残基又は
有機金属化合物を示し、ＭはＦｅ又はＲｕを示す。ａは
０〜１０の整数を示し、ｂは１以上の整数を示す。） - 【請求項３】一般式（５）で表される構成単位と一般式
（６）で表される構成単位よりなる請求項１記載のケイ
素系化合物。 【化５】 【化６】 （式中、Ｒ1 は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル
基又は炭素数６〜１２のアリール基を示し、同一であっ
ても異なっていてもよい。Ｒ2 は、水素、炭素数１〜２
０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基又はＲ1 3
Ｓｉで表されるシリル基を示し、同一であっても異なっ
ていてもよい。Ｙは芳香族環、アセチレン残基又は有機
金属化合物を示す。ｃ，ｄはｃ＋ｄ≧２を満足する１以
上の整数を示す。） - 【請求項４】一般式（７）で表されるジエチニルシリル
化合物と、一般式（８）で表されるジハロゲン化メタロ
センを遷移金属触媒の存在下で重縮合反応させることを
特徴とする請求項１、請求項２又は請求項３記載のケイ
素系化合物の製造方法。 【化７】 【化８】 （式中、Ｒ1 は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル
基又は炭素数６〜１２のアリール基を示し、同一であっ
ても異なっていてもよい。Ｒ2 は、水素、炭素数１〜２
０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基又はＲ1 3
Ｓｉで表されるシリル基を示し、同一であっても異なっ
ていてもよい。Ｙは芳香族環、アセチレン残基又は有機
金属化合物を示し、ＭはＦｅ又はＲｕを示し、Ｘはハロ
ゲン原子を示す。） - 【請求項５】一般式（９）で表される１，１'-ビス（ト
リメチルシリルエチニル）メタロセン誘導体と一般式
（１０）で表されるリチオ化剤とを反応させた後、一般
式（１１）で表されるハロゲン化シリル化合物と重縮合
反応させることを特徴とする請求項１、請求項２又は請
求項３記載のケイ素系化合物の製造方法。 【化９】 【化１０】 【化１１】 （式中、Ｒ1 は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル
基又は炭素数６〜１２のアリール基を示し、同一であっ
ても異なっていてもよい。Ｒ2 は、水素、炭素数１〜２
０のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基又はＲ1 3
Ｓｉで表されるシリル基を示し、同一であっても異なっ
ていてもよい。Ｒ3 は炭素数１〜２０のアルキル基又は
炭素数６〜１２のアリール基を示す。Ｙは芳香族環、ア
セチレン残基又は有機金属化合物を示し、ＭはＦｅ又は
Ｒｕを示す。ａは０〜１０の整数を示す。） - 【請求項６】重縮合反応させる際に、ハロゲン化リチウ
ム、アミン系多座配位子及びクラウンエーテルのうち少
なくともいずれか１種の添加剤を添加することを特徴と
する請求項５記載のケイ素系化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2952194A JPH07224156A (ja) | 1993-03-04 | 1994-02-28 | ケイ素系化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4417193 | 1993-03-04 | ||
| JP4417093 | 1993-03-04 | ||
| JP5-44170 | 1993-12-13 | ||
| JP5-311888 | 1993-12-13 | ||
| JP5-44171 | 1993-12-13 | ||
| JP31188893 | 1993-12-13 | ||
| JP2952194A JPH07224156A (ja) | 1993-03-04 | 1994-02-28 | ケイ素系化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07224156A true JPH07224156A (ja) | 1995-08-22 |
Family
ID=27459082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2952194A Pending JPH07224156A (ja) | 1993-03-04 | 1994-02-28 | ケイ素系化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07224156A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011148900A1 (ja) * | 2010-05-26 | 2011-12-01 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及びそれを用いた光電変換素子 |
| JP2014172970A (ja) * | 2013-03-07 | 2014-09-22 | Tokyo Institute Of Technology | フェロセン構造を有する有機ヘテロ高分子 |
-
1994
- 1994-02-28 JP JP2952194A patent/JPH07224156A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011148900A1 (ja) * | 2010-05-26 | 2011-12-01 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物及びそれを用いた光電変換素子 |
| JP2014172970A (ja) * | 2013-03-07 | 2014-09-22 | Tokyo Institute Of Technology | フェロセン構造を有する有機ヘテロ高分子 |
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