JPH0721552A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0721552A JPH0721552A JP16490593A JP16490593A JPH0721552A JP H0721552 A JPH0721552 A JP H0721552A JP 16490593 A JP16490593 A JP 16490593A JP 16490593 A JP16490593 A JP 16490593A JP H0721552 A JPH0721552 A JP H0721552A
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- JP
- Japan
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- substrate
- recording medium
- magnetic recording
- etching
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Abstract
(57)【要約】
【目的】磁気記録媒体の基板表面に規則的な凹凸を形成
するテクスチュア方法を提供する。 【構成】基板表面にフォトリソグラフィにより微細な開
口部をもつレジストパターンを形成し、反応性イオンエ
ッチング、プラズマエッチングあるいはウェットエッチ
ングで、同心円状あるいはさらに放射線状の凹部を形成
すれば、凹凸形状を最適に制御できる。
するテクスチュア方法を提供する。 【構成】基板表面にフォトリソグラフィにより微細な開
口部をもつレジストパターンを形成し、反応性イオンエ
ッチング、プラズマエッチングあるいはウェットエッチ
ングで、同心円状あるいはさらに放射線状の凹部を形成
すれば、凹凸形状を最適に制御できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基板上に表面保護層で
覆われた磁性層を有し、表面に凹凸が形成された磁気記
録媒体の製造方法に関する。
覆われた磁性層を有し、表面に凹凸が形成された磁気記
録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体は、表面が平滑であるとそ
の媒体から記録を取り出すための磁気ヘッドが吸着され
るため、表面に適度の凹凸を有することが必要である。
そのためAl合金などからなる基板の表面を粗面化するテ
クスチュア方法が適用される。図２は従来のテクスチュ
ア方法を示し、円板である基板１の表面に、粒径２〜６
μｍの砥粒が付着している研磨テープ12を回転するコン
タクトローラ13により押し付け、基板１を回転させなが
ら、テープ12を走行させ、その間にノズル14より研削液
15を供給することにより、図３に示すように基板１の表
面に同心円状の凹凸を有する粗面16を形成する。
の媒体から記録を取り出すための磁気ヘッドが吸着され
るため、表面に適度の凹凸を有することが必要である。
そのためAl合金などからなる基板の表面を粗面化するテ
クスチュア方法が適用される。図２は従来のテクスチュ
ア方法を示し、円板である基板１の表面に、粒径２〜６
μｍの砥粒が付着している研磨テープ12を回転するコン
タクトローラ13により押し付け、基板１を回転させなが
ら、テープ12を走行させ、その間にノズル14より研削液
15を供給することにより、図３に示すように基板１の表
面に同心円状の凹凸を有する粗面16を形成する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のように
砥粒を用いて凹凸を形成するテクスチュア方法は、砥粒
の大きさ、基板１と研磨テープ12との接触位置などが不
規則のため、図３に示すように凹凸の深さ、ピッチとも
ランダムとなり、形状を制御できない。このため磁気特
性およびその異方性も制御できず、また磁気ヘッドの浮
上前の媒体表面とヘッドとの接触位置も不規則となるた
め、その間の摩擦係数も制御できない。
砥粒を用いて凹凸を形成するテクスチュア方法は、砥粒
の大きさ、基板１と研磨テープ12との接触位置などが不
規則のため、図３に示すように凹凸の深さ、ピッチとも
ランダムとなり、形状を制御できない。このため磁気特
性およびその異方性も制御できず、また磁気ヘッドの浮
上前の媒体表面とヘッドとの接触位置も不規則となるた
め、その間の摩擦係数も制御できない。
【０００４】本発明の目的は、基板上に形成する凹凸の
形状を正確に制御し、磁気特性良好で浮上前の磁気ヘッ
ドとの摩擦係数も制御された磁気記録媒体の製造方法を
提供することにある。
形状を正確に制御し、磁気特性良好で浮上前の磁気ヘッ
ドとの摩擦係数も制御された磁気記録媒体の製造方法を
提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、磁性層を含む各層を積層する前に、基
板表面にフォトリソグラフィ法を用いて均一に分散した
開口部を有するレジスト膜のパターンを形成し、そのレ
ジスト膜のパターンをマスクとしてエッチングにより基
板の表面層を除去するものとする。基板の表面層の除去
により基板表面に同心円の環状凹部を形成することが有
効であり、さらに環状凹部形成後、基板表面に基板の中
心から放射線状の条状凹部を基板の表面層の除去により
形成することも有効である。
めに、本発明は、磁性層を含む各層を積層する前に、基
板表面にフォトリソグラフィ法を用いて均一に分散した
開口部を有するレジスト膜のパターンを形成し、そのレ
ジスト膜のパターンをマスクとしてエッチングにより基
板の表面層を除去するものとする。基板の表面層の除去
により基板表面に同心円の環状凹部を形成することが有
効であり、さらに環状凹部形成後、基板表面に基板の中
心から放射線状の条状凹部を基板の表面層の除去により
形成することも有効である。
【０００６】
【作用】フォトリソグラフィによりレジスト膜パターン
はフォトマスク通りに形成できるため、フォトマスクの
パターンを変えることにより任意のレジスト膜パターン
を形成できる。これによりエッチングによって生ずる基
板表面の凹部パターンの平面形状を制御できる。そし
て、凹部の深さはエッチング時間によって制御でき、等
方性あるいは異方性のエッチング方法を適用することに
より、凹部の断面形状も制御できる。これにより基板表
面の粗面の凹凸形状は確実に制御できる。
はフォトマスク通りに形成できるため、フォトマスクの
パターンを変えることにより任意のレジスト膜パターン
を形成できる。これによりエッチングによって生ずる基
板表面の凹部パターンの平面形状を制御できる。そし
て、凹部の深さはエッチング時間によって制御でき、等
方性あるいは異方性のエッチング方法を適用することに
より、凹部の断面形状も制御できる。これにより基板表
面の粗面の凹凸形状は確実に制御できる。
【０００７】
【実施例】図１(a) 〜(e) は本発明の一実施例の基板表
面のテクスチュア方法の工程を示す。先ず、Al合金の磁
気記録媒体基板１の表面にレジストをスピンコーティン
グし、それを50〜150 ℃の低温で軽く焼成することによ
り、厚さ0.５〜１μｍのレジスト膜20を形成する〔同図
(a) 〕。冷却した後、同心円状のパターンを形成したフ
ォトマスク３を通して光４によりレジスト膜20を露光し
〔同図(b) 〕、現像を行うことによりピッチ５〜10μｍ
のレジストパターン２を形成する〔同図(c)〕。その
後、80℃〜200 ℃の高温でレジストパターンを焼成す
る。次に、このようにして形成されたレジストパターン
２をマスクにして、例えば四塩化炭素などのガスを用い
た反応性イオンエッチングによって基板１を加工し、例
えば幅２μｍ、深さ20ｎｍの凹部５をもつ凹凸面を形成
する〔同図(d) 〕。その後、酸素プラズマによるアッシ
ングによって、レジスト２を除去する〔同図(e) 〕。
面のテクスチュア方法の工程を示す。先ず、Al合金の磁
気記録媒体基板１の表面にレジストをスピンコーティン
グし、それを50〜150 ℃の低温で軽く焼成することによ
り、厚さ0.５〜１μｍのレジスト膜20を形成する〔同図
(a) 〕。冷却した後、同心円状のパターンを形成したフ
ォトマスク３を通して光４によりレジスト膜20を露光し
〔同図(b) 〕、現像を行うことによりピッチ５〜10μｍ
のレジストパターン２を形成する〔同図(c)〕。その
後、80℃〜200 ℃の高温でレジストパターンを焼成す
る。次に、このようにして形成されたレジストパターン
２をマスクにして、例えば四塩化炭素などのガスを用い
た反応性イオンエッチングによって基板１を加工し、例
えば幅２μｍ、深さ20ｎｍの凹部５をもつ凹凸面を形成
する〔同図(d) 〕。その後、酸素プラズマによるアッシ
ングによって、レジスト２を除去する〔同図(e) 〕。
【０００８】この工程により、基板表面には、図４のよ
うな、円周方向を示す矢印８に平行の同心円の矩形状の
凹部５をもつ凹凸面が形成される。反応性イオンエッチ
ングの代わりに、例えば六弗化硫黄と酸素の混合気体な
どを用いたプラズマエッチングによって基板の加工を行
うと、図５のような、曲面の側壁を持つ同心円の凹部５
が形成され、例えば硫酸、燐酸、塩酸、過酸化水素水の
水溶液などを用いたウェットエッチングによって基板の
加工を行うと、図６のような、同心円の突起６をもつ凹
凸が形成できる。
うな、円周方向を示す矢印８に平行の同心円の矩形状の
凹部５をもつ凹凸面が形成される。反応性イオンエッチ
ングの代わりに、例えば六弗化硫黄と酸素の混合気体な
どを用いたプラズマエッチングによって基板の加工を行
うと、図５のような、曲面の側壁を持つ同心円の凹部５
が形成され、例えば硫酸、燐酸、塩酸、過酸化水素水の
水溶液などを用いたウェットエッチングによって基板の
加工を行うと、図６のような、同心円の突起６をもつ凹
凸が形成できる。
【０００９】また、これらの工程を複数回繰り返すこと
により、さらに複雑な凹凸形状も形成することができ
る。例えば図７に示すように、反応性イオンエッチング
により円周方向８に平行の同心円の凹部５を形成したの
ち、これに垂直な、矢印９によって示す半径方向の放射
線状の凹部７のパターンをウェットエッチングによって
形成すれば、このあと基板１上に非磁性層、クロム層、
Co合金系磁性層、非晶質カーボン層などを積層して磁気
記録媒体を製造した場合、浮上前の磁気ヘッドと磁気記
録媒体表面とは均一に点接触するため、同心円状の凹部
５のみの場合と異なる記録特性を得ることができる。
により、さらに複雑な凹凸形状も形成することができ
る。例えば図７に示すように、反応性イオンエッチング
により円周方向８に平行の同心円の凹部５を形成したの
ち、これに垂直な、矢印９によって示す半径方向の放射
線状の凹部７のパターンをウェットエッチングによって
形成すれば、このあと基板１上に非磁性層、クロム層、
Co合金系磁性層、非晶質カーボン層などを積層して磁気
記録媒体を製造した場合、浮上前の磁気ヘッドと磁気記
録媒体表面とは均一に点接触するため、同心円状の凹部
５のみの場合と異なる記録特性を得ることができる。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、磁気記録媒体の基板の
テクスチュア方法を、フォトリソグラフィを用いてエッ
チングにより微細な規則的な凹凸を形成することによっ
て行うことにより、凹凸形状を確実に制御でき、また従
来の方法では10〜20nmであった表面の中心線平均粗さＲ
a を数nmにすることも可能であり、磁気ヘッドの浮上距
離や、基板と磁気ヘッドの摩擦係数など、記録特性の向
上に最適な表面の凹凸をもつ磁気記録媒体を得ることが
できた。
テクスチュア方法を、フォトリソグラフィを用いてエッ
チングにより微細な規則的な凹凸を形成することによっ
て行うことにより、凹凸形状を確実に制御でき、また従
来の方法では10〜20nmであった表面の中心線平均粗さＲ
a を数nmにすることも可能であり、磁気ヘッドの浮上距
離や、基板と磁気ヘッドの摩擦係数など、記録特性の向
上に最適な表面の凹凸をもつ磁気記録媒体を得ることが
できた。
【図１】本発明の一実施例の基板表面テクスチュア方法
の工程を(a) ないし(e) の順に示す断面図
の工程を(a) ないし(e) の順に示す断面図
【図２】従来のテクスチュア方法を示す斜視図
【図３】従来のテクスチュア方法によって得られた基板
表面形状の斜視図
表面形状の斜視図
【図４】本発明の一実施例における基板表面形状の斜視
図
図
【図５】本発明の異なる実施例における基板表面形状の
斜視図
斜視図
【図６】本発明の異なる実施例における基板表面形状の
斜視図
斜視図
【図７】本発明の異なる実施例における基板表面形状の
斜視図
斜視図
１ 基板 ２ レジストパターン ２０ レジスト膜 ３ フォトマスク ４ 露光光 ５ 同心円状凹部 ６ 突起 ７ 放射線状凹部 ８ 円周方向 ９ 半径方向
Claims (3)
- 【請求項１】磁性層を含む各層を積層する前に、基板表
面にフォトリソグラフィ法を用いて均一に分散した開口
部を有するレジスト膜のパターンを形成し、そのレジス
ト膜のパターンをマスクとしてエッチングにより基板の
表面層を除去することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法。 - 【請求項２】基板の表面層の除去により基板表面に同心
円の環状凹部を形成する請求項１記載の磁気記録媒体の
製造方法。 - 【請求項３】環状凹部形成後、基板表面に基板の中心か
ら放射線状の条状凹部を基板の表面層の除去により形成
する請求項２記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16490593A JPH0721552A (ja) | 1993-07-05 | 1993-07-05 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16490593A JPH0721552A (ja) | 1993-07-05 | 1993-07-05 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0721552A true JPH0721552A (ja) | 1995-01-24 |
Family
ID=15802098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16490593A Pending JPH0721552A (ja) | 1993-07-05 | 1993-07-05 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0721552A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100624462B1 (ko) * | 2005-03-04 | 2006-09-19 | 삼성전자주식회사 | 패턴화된 기록매체의 제조 방법 |
| CN100345187C (zh) * | 2003-07-19 | 2007-10-24 | 三星电子株式会社 | 图案化的磁记录介质及其制造方法 |
-
1993
- 1993-07-05 JP JP16490593A patent/JPH0721552A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100345187C (zh) * | 2003-07-19 | 2007-10-24 | 三星电子株式会社 | 图案化的磁记录介质及其制造方法 |
| KR100624462B1 (ko) * | 2005-03-04 | 2006-09-19 | 삼성전자주식회사 | 패턴화된 기록매체의 제조 방법 |
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