JP2700497B2 - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2700497B2 JP2700497B2 JP1312594A JP31259489A JP2700497B2 JP 2700497 B2 JP2700497 B2 JP 2700497B2 JP 1312594 A JP1312594 A JP 1312594A JP 31259489 A JP31259489 A JP 31259489A JP 2700497 B2 JP2700497 B2 JP 2700497B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording medium
- substrate
- magnetic recording
- area ratio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、磁気記録媒体及びその製造方法に関に関す
る。
る。
（従来の技術） 従来より磁気ヘッドの磁気記録媒体への吸着を防止し
て磁気記録媒体に対する磁気ヘッドの走行性を改善する
ため、磁気記録媒体の表面に凹凸を形成する方法が行な
われている。
て磁気記録媒体に対する磁気ヘッドの走行性を改善する
ため、磁気記録媒体の表面に凹凸を形成する方法が行な
われている。
このような磁気記録媒体表面に凹凸を形成する方法の
代表例として、エッチングにより面粗度が平均0.05〜
0.1μｍの凹凸保護膜を形成する方法（特開昭58−53026
号）、多数の孔を形成したマスクを介してスパッタリ
ングを行なって凹凸を保護膜に形成する方法（特開昭56
−22221号）、結着剤である樹脂中に微粒子を分散し
た下地層を形成して磁気記録媒体表面に凹凸を形成する
方法（特開昭59−92428号）、非磁性基板の表面にNiP
等をメッキにより被覆し、この被覆層に0.006〜0.010μ
の粗さRaを与えて磁気記録媒体表面に凹凸を形成する方
法（特開昭59−82626号）が知られている。
代表例として、エッチングにより面粗度が平均0.05〜
0.1μｍの凹凸保護膜を形成する方法（特開昭58−53026
号）、多数の孔を形成したマスクを介してスパッタリ
ングを行なって凹凸を保護膜に形成する方法（特開昭56
−22221号）、結着剤である樹脂中に微粒子を分散し
た下地層を形成して磁気記録媒体表面に凹凸を形成する
方法（特開昭59−92428号）、非磁性基板の表面にNiP
等をメッキにより被覆し、この被覆層に0.006〜0.010μ
の粗さRaを与えて磁気記録媒体表面に凹凸を形成する方
法（特開昭59−82626号）が知られている。
（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上記及びの方法により表面に凹凸
を形成した磁気記録媒体は、いずれも凹凸が柔軟な保護
膜の表面に形成されていて突起内部に芯となるものがな
いため、磁気記録媒体上を走行する磁気ヘッドに突起部
分が吸着して磁気記録媒体に対する磁気ヘッド走行性の
改善効果が得にくい傾向にある。
を形成した磁気記録媒体は、いずれも凹凸が柔軟な保護
膜の表面に形成されていて突起内部に芯となるものがな
いため、磁気記録媒体上を走行する磁気ヘッドに突起部
分が吸着して磁気記録媒体に対する磁気ヘッド走行性の
改善効果が得にくい傾向にある。
他方、上記及びの方法により表面に凹凸を形成し
た磁気記録媒体は、いずれも突起部分がその先端に向け
て先細りする形状となっているために、磁気記録媒体表
面の突起上部が磁気ヘッドを繰り返し走行させると摩耗
して磁気ヘッドとの接触面積、従って動摩擦係数が増加
し、磁気ヘッドの走行性が悪くなる傾向にある。
た磁気記録媒体は、いずれも突起部分がその先端に向け
て先細りする形状となっているために、磁気記録媒体表
面の突起上部が磁気ヘッドを繰り返し走行させると摩耗
して磁気ヘッドとの接触面積、従って動摩擦係数が増加
し、磁気ヘッドの走行性が悪くなる傾向にある。
（課題を解決するための手段） 上記した課題を解決するために、本発明は下記する構
成の磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
成の磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
（１）非磁性基板上に直接または下地層を介して磁気記
録層として強磁性体薄膜を形成してなる磁気記録媒体に
おいて、 前記非磁性基板上のトラック面に対するその面積比率
は3/103〜1/105でかつ均一に分布し、その高さは10-2μ
ｍ〜10-1μｍでかつ揃っており、その幅は0.5μｍ〜10
μｍである断面矩形の突起を、前記非磁性基板上に設け
たことを特徴とする磁気記録媒体。
録層として強磁性体薄膜を形成してなる磁気記録媒体に
おいて、 前記非磁性基板上のトラック面に対するその面積比率
は3/103〜1/105でかつ均一に分布し、その高さは10-2μ
ｍ〜10-1μｍでかつ揃っており、その幅は0.5μｍ〜10
μｍである断面矩形の突起を、前記非磁性基板上に設け
たことを特徴とする磁気記録媒体。
（２）鏡面研磨された非磁性基板上にマスクを施してエ
ッチングを行なって前記非磁性基板上のトラック面に対
するその面積比率は3/103〜1/105でかつ均一に分布し、
その高さは10-2μｍ〜10-1μｍでかつ揃っており、その
幅は0.5μｍ〜10μｍである断面矩形の突起を前記非磁
性基板上に形成し、 次いで、前記突起を形成した前記非磁性基板上に直接
または下地層を介して強磁性体薄膜を形成することを特
徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
ッチングを行なって前記非磁性基板上のトラック面に対
するその面積比率は3/103〜1/105でかつ均一に分布し、
その高さは10-2μｍ〜10-1μｍでかつ揃っており、その
幅は0.5μｍ〜10μｍである断面矩形の突起を前記非磁
性基板上に形成し、 次いで、前記突起を形成した前記非磁性基板上に直接
または下地層を介して強磁性体薄膜を形成することを特
徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
（実施例） 以下に図面とともに実施例を示し、本発明を更に詳し
く説明する。
く説明する。
第１図は本発明に係る薄膜型磁気ディスクの断面図で
ある。
ある。
この磁気ディスクは、断面矩形の突起1aを有するアル
ミニウム等の非磁性基板１上に、Cr膜等の非磁性膜から
なる下地層２、強磁性体薄膜からなる磁性層３、カーボ
ン等の保護膜４、及び潤滑層５が順次積層されて構成さ
れている。同図に示すように、突起1aの高さは揃ってい
る。
ミニウム等の非磁性基板１上に、Cr膜等の非磁性膜から
なる下地層２、強磁性体薄膜からなる磁性層３、カーボ
ン等の保護膜４、及び潤滑層５が順次積層されて構成さ
れている。同図に示すように、突起1aの高さは揃ってい
る。
そしてこのような磁気ディスクは、非磁性基板１の表
面に断面矩形の突起を形成する工程を除いては公知の方
法によって製造される。
面に断面矩形の突起を形成する工程を除いては公知の方
法によって製造される。
この工程は以下の通りである。
まず、非磁性基板１の表面に第２図ａに示すように公
知の方法に従ってフォトレジスト層６を形成し、このフ
ォトレジスト層６をパターン状の開口部を有するフォト
マスク７で覆って感光波長域の光、例えば紫外線でフォ
トレジスト層６にパターン露光を行ない、フォトマスク
７開口部のフォトレジスト層６を硬化する。
知の方法に従ってフォトレジスト層６を形成し、このフ
ォトレジスト層６をパターン状の開口部を有するフォト
マスク７で覆って感光波長域の光、例えば紫外線でフォ
トレジスト層６にパターン露光を行ない、フォトマスク
７開口部のフォトレジスト層６を硬化する。
次いで、未硬化のフォトレジスト層６を現像によって
除去し、第２図ｂのパターン状に硬化したフォトレジス
ト層６を得、この上からエッチング処理を施すことによ
り第２図ｃのように非磁性基板１の表面に断面矩形の突
起が形成される。
除去し、第２図ｂのパターン状に硬化したフォトレジス
ト層６を得、この上からエッチング処理を施すことによ
り第２図ｃのように非磁性基板１の表面に断面矩形の突
起が形成される。
しかる後、この突起表面に硬化したフォトレジスト層
６を除去することにより、第２図ｄに示す断面矩形の突
起を有する本発明に係る非磁性基板１が得られる。
６を除去することにより、第２図ｄに示す断面矩形の突
起を有する本発明に係る非磁性基板１が得られる。
ここで非磁性基板１につき更に詳しく説明すると、上
記エッチング処理の際のエッチング媒体の選択により本
発明においてはこの非磁性基板１として、前記アルミニ
ウム等の非磁性金属材料からなるディスク状の基板の
他、その表面にニッケル、リン等の無電解メッキ層を形
成したものやガラス、磁器等のセラミック材料あるいは
ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリ
アミド等のプラスチック材料からなるディスク状の基板
を使用することができる。
記エッチング処理の際のエッチング媒体の選択により本
発明においてはこの非磁性基板１として、前記アルミニ
ウム等の非磁性金属材料からなるディスク状の基板の
他、その表面にニッケル、リン等の無電解メッキ層を形
成したものやガラス、磁器等のセラミック材料あるいは
ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリ
アミド等のプラスチック材料からなるディスク状の基板
を使用することができる。
他方、上記フォトレジスト層６を形成するためのフォ
トレジスト材料には上記フォトマスク７の開口パターン
に応じてネガ又はポリ型のフォトレジスト材料が選ばれ
る。
トレジスト材料には上記フォトマスク７の開口パターン
に応じてネガ又はポリ型のフォトレジスト材料が選ばれ
る。
そしてこのフォトマスク７の開口パターンは光ディス
ク等の作製工程において用いられているレーザによる露
光、半導体の作製工程において用いられている電子ビー
ム描画等の公知のフォトリソグラフ技術によって形成す
ることができる。
ク等の作製工程において用いられているレーザによる露
光、半導体の作製工程において用いられている電子ビー
ム描画等の公知のフォトリソグラフ技術によって形成す
ることができる。
また、非磁性基板１のエッチング処理、及びパターン
露光後のフォトレジスト層６の除去も公知のドライ法、
ウェット法によって行なうことができる。
露光後のフォトレジスト層６の除去も公知のドライ法、
ウェット法によって行なうことができる。
以上の実施例をより具体的に説明すると以下の通りで
ある。
ある。
ここで以下の実施例1,2及び比較例１の非磁性基板１
における突起1aの高さが0.01μｍ未満の場合には磁気デ
ィスク表面に磁気ヘッドの走行性を改善するために充分
な凹凸が形成されず、0.1μｍを越えると、磁気ヘッド
のヘッド浮上量にもよるが、このヘッド浮上量が0.14〜
0.15μｍ程度の場合には磁気ディスク表面の突起により
磁気ヘッドが破壊される恐れがある。このような理由か
ら実施例1,2及び比較例１の非磁性基板１における突起1
aの高さは0.01〜0.1μｍの範囲の中から選ばれたもので
あり、また、その突起1aの高さを揃っている（第１図に
図示）。
における突起1aの高さが0.01μｍ未満の場合には磁気デ
ィスク表面に磁気ヘッドの走行性を改善するために充分
な凹凸が形成されず、0.1μｍを越えると、磁気ヘッド
のヘッド浮上量にもよるが、このヘッド浮上量が0.14〜
0.15μｍ程度の場合には磁気ディスク表面の突起により
磁気ヘッドが破壊される恐れがある。このような理由か
ら実施例1,2及び比較例１の非磁性基板１における突起1
aの高さは0.01〜0.1μｍの範囲の中から選ばれたもので
あり、また、その突起1aの高さを揃っている（第１図に
図示）。
他方、非磁性基板１の突起1aの幅が磁気ディスクのト
ラック幅、例えばトラック幅が10〜15μｍである場合に
は、この幅末満であれば実験室で形成できる限界のほぼ
0.5μ程度までは磁気ヘッドの走行性、及び磁気ディス
クの記録・再生特性がともに優れている。このような理
由から実施例1,2及び比較例１の非磁性基板１における
突起1aの幅は0.5〜10μｍの範囲の中から選ばれたもの
である。
ラック幅、例えばトラック幅が10〜15μｍである場合に
は、この幅末満であれば実験室で形成できる限界のほぼ
0.5μ程度までは磁気ヘッドの走行性、及び磁気ディス
クの記録・再生特性がともに優れている。このような理
由から実施例1,2及び比較例１の非磁性基板１における
突起1aの幅は0.5〜10μｍの範囲の中から選ばれたもの
である。
−磁気ディスクの製造− 以下のようにして実施例1,2及び比較例1,2の磁気ディ
スクを製造した。
スクを製造した。
（実施例１） 表面が鏡面研磨されたガラス基板を非磁性基板として
この非磁性基板１上に東京応化社製のONNR−22の商品名
で知られるネガフォトレジスト材料をスピンコート法に
より塗布して厚さ0.5μｍのフォトレジスト層６を形成
し、磁気ディスクトラック面に対する開口部の面積比率
が1/100となるパターン状の開口部を有するフォトマス
ク７を通して紫外線を露光し、未露光のフォトレジスト
層６を除去した後、露出したガラス基板面をCF4でドラ
イエッチングを行ない、ウェット法でパターン状の硬化
フォトレジスト層６を除去して磁気ディスクトラック面
に対する面積比率が1/100、高さが0.03μｍの断面矩形
の突起1aを有する非磁性基板１を得た。
この非磁性基板１上に東京応化社製のONNR−22の商品名
で知られるネガフォトレジスト材料をスピンコート法に
より塗布して厚さ0.5μｍのフォトレジスト層６を形成
し、磁気ディスクトラック面に対する開口部の面積比率
が1/100となるパターン状の開口部を有するフォトマス
ク７を通して紫外線を露光し、未露光のフォトレジスト
層６を除去した後、露出したガラス基板面をCF4でドラ
イエッチングを行ない、ウェット法でパターン状の硬化
フォトレジスト層６を除去して磁気ディスクトラック面
に対する面積比率が1/100、高さが0.03μｍの断面矩形
の突起1aを有する非磁性基板１を得た。
尚、上記フォトマスク７は、例えばその上にCr薄膜、
ポジフォトレジスト材料よりなるフォトレジスト層を順
次形成した石英ガラス基板を回転し、このフォトレジス
ト層上に上記フォトマスク７のパターン状の開口部にの
み照射されるように信号変調したレーザビームを照射し
た後に露光部のフォトレジスト層を溶解除去し、露出し
たCr薄膜をエッチング除去することによって形成するこ
とができる。
ポジフォトレジスト材料よりなるフォトレジスト層を順
次形成した石英ガラス基板を回転し、このフォトレジス
ト層上に上記フォトマスク７のパターン状の開口部にの
み照射されるように信号変調したレーザビームを照射し
た後に露光部のフォトレジスト層を溶解除去し、露出し
たCr薄膜をエッチング除去することによって形成するこ
とができる。
このようにして磁気ディスクトラック面に対する面積
比率が1/100であり、高さが0.03μｍであって２μｍ×
２μｍの断面矩形の突起1aを有する非磁性基板１を得た
後、この非磁性基板１の凹凸表面状にスパッター法によ
り厚さ0.045μｍのCr膜を下地層２として、厚さ0.07μ
ｍのCoCrTa合金膜を磁性層３として、0.04μｍのカーボ
ン膜を保護膜４として順次形成し、次いでこの保護膜４
上に厚さ0.003μｍの潤滑層５を形成することによって
実施例１の磁気ディスクを得た。
比率が1/100であり、高さが0.03μｍであって２μｍ×
２μｍの断面矩形の突起1aを有する非磁性基板１を得た
後、この非磁性基板１の凹凸表面状にスパッター法によ
り厚さ0.045μｍのCr膜を下地層２として、厚さ0.07μ
ｍのCoCrTa合金膜を磁性層３として、0.04μｍのカーボ
ン膜を保護膜４として順次形成し、次いでこの保護膜４
上に厚さ0.003μｍの潤滑層５を形成することによって
実施例１の磁気ディスクを得た。
尚、潤滑層５はモンテジソン社製の登録商標フォンブ
リンAM2001の名称で知られているフッ素系潤滑剤を住友
スリーエム社製の登録商標フロリナートFC77の名称で知
られているフッ素系溶剤で0.012容量％の濃度に希釈し
ちものをスピンコート法で形成した。
リンAM2001の名称で知られているフッ素系潤滑剤を住友
スリーエム社製の登録商標フロリナートFC77の名称で知
られているフッ素系溶剤で0.012容量％の濃度に希釈し
ちものをスピンコート法で形成した。
（実施例２） 磁気ディスクトラック面に対する開口部の面積比率が
3/1000となるパターン状の開口部を有するフォトマスク
７を使用した以外は実施例１と同様にして非磁性基板１
の磁気ディスクトラック面に対する面積比率が3/1000で
ある以外は実施例１と同様の実施例２と磁気ディスクを
得た。
3/1000となるパターン状の開口部を有するフォトマスク
７を使用した以外は実施例１と同様にして非磁性基板１
の磁気ディスクトラック面に対する面積比率が3/1000で
ある以外は実施例１と同様の実施例２と磁気ディスクを
得た。
（比較例１） 磁気ディスクトラック面に対する開口部の面積比率が
3/100となるパターン状の開口部を有するフォトマスク
７を使用した以外は実施例１と同様にして非磁性基板１
の磁気ディスクトラック面に対する面積比率が3/100で
ある以外は実施例１と同様の比較例１の磁気ディスクを
得た。
3/100となるパターン状の開口部を有するフォトマスク
７を使用した以外は実施例１と同様にして非磁性基板１
の磁気ディスクトラック面に対する面積比率が3/100で
ある以外は実施例１と同様の比較例１の磁気ディスクを
得た。
（比較例２） 実施例１の非磁性基板１に代えてアルミニウム合金基
板上にNiP無電解メッキ層を形成してこのメッキ層を鏡
面研磨した後で研磨テープによりラクスチャー処理して
この層に先端のとがった凹凸を形成したものを使用した
以外は実施例１と同様にして比較例２の磁気ディスクを
得た。
板上にNiP無電解メッキ層を形成してこのメッキ層を鏡
面研磨した後で研磨テープによりラクスチャー処理して
この層に先端のとがった凹凸を形成したものを使用した
以外は実施例１と同様にして比較例２の磁気ディスクを
得た。
−磁気ディスクの評価− （ａ）磁気ディスクの表面形状評価 上記実施例1,2及び比較例1,2の磁気ディスクにつき、
WYKO社製の光学式３次元測定機によりその表面形状を測
定した。
WYKO社製の光学式３次元測定機によりその表面形状を測
定した。
その結果実施例1,2及び比較例１の磁気ディスクの表
面には断面矩形の突起1aが確認され、比較例２の磁気デ
ィスクの表面には先端のとがった突起が確認された。
面には断面矩形の突起1aが確認され、比較例２の磁気デ
ィスクの表面には先端のとがった突起が確認された。
（ｂ）磁気ヘッドの走行性評価 上記実施例1,2及び比較例1,2の磁気ディスクにつき、
磁気ヘッドの非磁性基板１に対するヘッド圧を2.9g/m
m2、線速度5.6m/secとして、Mn−Znフェライトヘッドを
使用して、30000回までのCSS（コンタクト・スタート・
ストップ）テストを行ない、第３図の結果を得た。
磁気ヘッドの非磁性基板１に対するヘッド圧を2.9g/m
m2、線速度5.6m/secとして、Mn−Znフェライトヘッドを
使用して、30000回までのCSS（コンタクト・スタート・
ストップ）テストを行ない、第３図の結果を得た。
第３図の結果から明らかなように非磁性基板１の磁気
ディスクトラック面に対する面積比率が1/100を越える
比較例１の磁気ディスクは従来の磁気ディスク構成であ
る比較例２の磁気ディスクよりも磁気ヘッドの走行初期
及び繰り返し走行中の動摩擦係数がともに大きく、磁気
ヘッドの走行性は良くない。
ディスクトラック面に対する面積比率が1/100を越える
比較例１の磁気ディスクは従来の磁気ディスク構成であ
る比較例２の磁気ディスクよりも磁気ヘッドの走行初期
及び繰り返し走行中の動摩擦係数がともに大きく、磁気
ヘッドの走行性は良くない。
これに対し、非磁性基板１の磁気ディスクトラック面
に対する面積比率が1/100である実施例１の磁気ディス
クは比較例２の磁気ディスクに比較して磁気ヘッドの走
行初期の動摩擦係数な大きいものの、磁気ヘッドの走行
繰り返しがほぼ25000回を越えるあたりから小さくな
り、30000回に達しても動摩擦係数がほぼ0.5と磁気ディ
スクを回転するモータのトルクにもよるが、通常の磁気
ヘッドの走行に対して支障のない範囲にある。
に対する面積比率が1/100である実施例１の磁気ディス
クは比較例２の磁気ディスクに比較して磁気ヘッドの走
行初期の動摩擦係数な大きいものの、磁気ヘッドの走行
繰り返しがほぼ25000回を越えるあたりから小さくな
り、30000回に達しても動摩擦係数がほぼ0.5と磁気ディ
スクを回転するモータのトルクにもよるが、通常の磁気
ヘッドの走行に対して支障のない範囲にある。
また、実施例２の磁気ディスクは磁気ヘッドの走行初
期及び繰り返し走行中の動摩擦係数がともに0.5よりも
はるかに小さい。
期及び繰り返し走行中の動摩擦係数がともに0.5よりも
はるかに小さい。
更に、非磁性基板１における突起1a部分の面積比率を
実施例２の磁気ディスクよりも小さくして得られた磁気
ディスクの磁気ヘッドの走行性を上記と同様にして評価
したところ、面積比率が実施例２の3/1000から実験室で
作製できる1/105までの範囲において実施例２と同様に
磁気ヘッドの走行初期及び繰り返し走行中の動摩擦係数
がともに0.5よりもはるかに小さいものであった。
実施例２の磁気ディスクよりも小さくして得られた磁気
ディスクの磁気ヘッドの走行性を上記と同様にして評価
したところ、面積比率が実施例２の3/1000から実験室で
作製できる1/105までの範囲において実施例２と同様に
磁気ヘッドの走行初期及び繰り返し走行中の動摩擦係数
がともに0.5よりもはるかに小さいものであった。
上述したことは、第３図に示してあることから明確で
あり、面積比率が3/103を越えると（前記した実施例１
は面積比率が3/102、比較例1,2は面積比率が1/102）、
動摩擦係数が悪化し（同図中、実施例１、比較例1,2はC
SS回数が30000回後の動摩擦係数は全て0.5以上とな
り）、反対に、面積比率を3/103〜1/105の範囲に選定す
ると（前記した実施例２の面積比率3/102を含む範
囲）、動摩擦係数は格段に低くかつ安定した値（第３図
中、走行初期を除いた30000回後までのCSS回数の動摩擦
係数は約0.11程度で一定）が得られるのである。
あり、面積比率が3/103を越えると（前記した実施例１
は面積比率が3/102、比較例1,2は面積比率が1/102）、
動摩擦係数が悪化し（同図中、実施例１、比較例1,2はC
SS回数が30000回後の動摩擦係数は全て0.5以上とな
り）、反対に、面積比率を3/103〜1/105の範囲に選定す
ると（前記した実施例２の面積比率3/102を含む範
囲）、動摩擦係数は格段に低くかつ安定した値（第３図
中、走行初期を除いた30000回後までのCSS回数の動摩擦
係数は約0.11程度で一定）が得られるのである。
（発明の効果） 上述したように本発明は、非磁性基板上に設けた突起
の磁気ヘッド接触側の面（例えば第２図（ｄ）に図示す
る突起1aの上面）は全て均一に平坦であるから、この突
起が設けられた非磁性基板上に例えば、下地層、磁性
層、保護膜、潤滑層を順次積層して成る磁気記録媒体
（第１図に図示の薄膜型磁気ディスク）の表面である潤
滑層にもやはり、最下層の非磁性基板上に設けた突起の
磁気ヘッド接触側の平坦な面とに対応した平坦な面が生
じる結果、磁気ヘッドと接触する磁気記録媒体の表面
（断面矩形の潤滑層）を常時均一に平坦化することがで
きるので、高速回転する磁気記録媒体と磁気ヘッドとの
接触面積を常時一定としかつ動摩擦係数を格段に低くす
ることができ、従って、磁気ヘッドの走行性（CSS特
性）を一層に改善することができる。
の磁気ヘッド接触側の面（例えば第２図（ｄ）に図示す
る突起1aの上面）は全て均一に平坦であるから、この突
起が設けられた非磁性基板上に例えば、下地層、磁性
層、保護膜、潤滑層を順次積層して成る磁気記録媒体
（第１図に図示の薄膜型磁気ディスク）の表面である潤
滑層にもやはり、最下層の非磁性基板上に設けた突起の
磁気ヘッド接触側の平坦な面とに対応した平坦な面が生
じる結果、磁気ヘッドと接触する磁気記録媒体の表面
（断面矩形の潤滑層）を常時均一に平坦化することがで
きるので、高速回転する磁気記録媒体と磁気ヘッドとの
接触面積を常時一定としかつ動摩擦係数を格段に低くす
ることができ、従って、磁気ヘッドの走行性（CSS特
性）を一層に改善することができる。
また、この突起のトラック面に対する面積比率を3/10
3〜1/105でかつ均一に分布したことにより、この面積比
率が1/105未満の場合は通常のフォトリソグラフではこ
れを得ることができないので、磁気ヘッドの接触面積が
大となってヘッドクラッシュが発生しやすく、一方、例
えば第３図に示したように、この面積比率が3/103を越
えると（同図中、実施例１は面積比率が3/102、比較例
1,2は面積比率が1/102）、高速回転する磁気記録媒体と
磁気ヘッドとの接触面積は常時一定とはならなくなって
動摩擦係数が悪化する（同図中、実施例１、比較例1,2
はCSS回数が30000回後の動摩擦係数は全て0.5以上とな
る）。このことを考慮した上で、突起のトラック面に対
する面積比率を3/103〜1/105の範囲を選定した（実施例
２の面積比率3/102を含む範囲の）ものであるために、
高速回転する磁気記録媒体と磁気ヘッドとの接触面積は
常時一定となって動摩擦係数は格段に低くかつ安定した
値（第３図中、走行初期を除いた30000回後までのCSS回
数の動摩擦係数は約0.11程度で一定）が得られ、この結
果、ヘッドクラッシュの発生を確実に未然に防止するこ
とができる。
3〜1/105でかつ均一に分布したことにより、この面積比
率が1/105未満の場合は通常のフォトリソグラフではこ
れを得ることができないので、磁気ヘッドの接触面積が
大となってヘッドクラッシュが発生しやすく、一方、例
えば第３図に示したように、この面積比率が3/103を越
えると（同図中、実施例１は面積比率が3/102、比較例
1,2は面積比率が1/102）、高速回転する磁気記録媒体と
磁気ヘッドとの接触面積は常時一定とはならなくなって
動摩擦係数が悪化する（同図中、実施例１、比較例1,2
はCSS回数が30000回後の動摩擦係数は全て0.5以上とな
る）。このことを考慮した上で、突起のトラック面に対
する面積比率を3/103〜1/105の範囲を選定した（実施例
２の面積比率3/102を含む範囲の）ものであるために、
高速回転する磁気記録媒体と磁気ヘッドとの接触面積は
常時一定となって動摩擦係数は格段に低くかつ安定した
値（第３図中、走行初期を除いた30000回後までのCSS回
数の動摩擦係数は約0.11程度で一定）が得られ、この結
果、ヘッドクラッシュの発生を確実に未然に防止するこ
とができる。
さらに、この突起の高さを、10-2μｍ〜10-1μｍの範
囲に限定しかつその高さを揃えることに着目したことに
より、突起の高さが10-2μｍ未満の場合は磁気記録媒体
表面に磁気ヘッドの走行性を改善するために充分な凹凸
が形成されず、また、10-1μｍを越えると、磁気ヘッド
の浮上量にもよるが、この突起により磁気ヘッドが破壊
される恐れがあることを未然に回避することができる。
囲に限定しかつその高さを揃えることに着目したことに
より、突起の高さが10-2μｍ未満の場合は磁気記録媒体
表面に磁気ヘッドの走行性を改善するために充分な凹凸
が形成されず、また、10-1μｍを越えると、磁気ヘッド
の浮上量にもよるが、この突起により磁気ヘッドが破壊
される恐れがあることを未然に回避することができる。
さらにまた、突起形状を断面矩形しかつ突起の高さを
揃えることで、この突起が多少摩耗したとしても磁気ヘ
ッドとの接触面積を摩耗しないときと同様に常時一定に
保つことができ、これに加えて突起の面積比率を明確化
することによって磁気ヘッドとの接触面積を自在にコン
トロールすることができ、良好なCSS特性を長期間維持
することができる。
揃えることで、この突起が多少摩耗したとしても磁気ヘ
ッドとの接触面積を摩耗しないときと同様に常時一定に
保つことができ、これに加えて突起の面積比率を明確化
することによって磁気ヘッドとの接触面積を自在にコン
トロールすることができ、良好なCSS特性を長期間維持
することができる。
さらにまた、この突起の幅を、0.5μｍ〜10μｍの範
囲に限定しこれに着目したことにより、突起の幅が磁気
記録媒体のトラック幅（例えばトラック幅が10μｍ〜15
μｍ）未満でありかつ突起が形成可能な0.5μｍに亘っ
てトラック幅より小なる幅の突起を形成するので、この
結果、磁気記録媒体の記録容量が高密度化してトラック
幅が一段と小となった場合であってもこれに対応した突
起の幅を形成可能であるから、この突起の形成により磁
気記録媒体の高密度化に対応して磁気ヘッドの走行性等
が劣化することを防止することができる。
囲に限定しこれに着目したことにより、突起の幅が磁気
記録媒体のトラック幅（例えばトラック幅が10μｍ〜15
μｍ）未満でありかつ突起が形成可能な0.5μｍに亘っ
てトラック幅より小なる幅の突起を形成するので、この
結果、磁気記録媒体の記録容量が高密度化してトラック
幅が一段と小となった場合であってもこれに対応した突
起の幅を形成可能であるから、この突起の形成により磁
気記録媒体の高密度化に対応して磁気ヘッドの走行性等
が劣化することを防止することができる。
第１図は本発明に係る薄膜型磁気ディスクの断面図、第
２図ａ〜ｄは本発明に係る非磁性基板の作製工程を順次
表わした説明図、第３図は磁気ヘッドの走行繰り返し数
と磁気ディスク−磁気ヘッド間の動摩擦係数との関係を
示すグラフである。 １……非磁性基板、1a……突起、３……磁性層、６……
フォトレジスト層、７……フォトマスク。
２図ａ〜ｄは本発明に係る非磁性基板の作製工程を順次
表わした説明図、第３図は磁気ヘッドの走行繰り返し数
と磁気ディスク−磁気ヘッド間の動摩擦係数との関係を
示すグラフである。 １……非磁性基板、1a……突起、３……磁性層、６……
フォトレジスト層、７……フォトマスク。
Claims (2)
- 【請求項１】非磁性基板上に直接または下地層を介して
磁気記録層として強磁性体薄膜を形成してなる磁気記録
媒体において、 前記非磁性基板上のトラック面に対するその面積比率は
3/103〜1/105でかつ均一に分布し、その高さは10-2μｍ
〜10-1μｍでかつ揃っており、その幅は0.5μｍ〜10μ
ｍである断面矩形の突起を、前記非磁性基板上に設けた
ことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】鏡面研磨された非磁性基板上にマスクを施
してエッチングを行なって前記非磁性基板上のトラック
面に対するその面積比率は3/103〜1/105でかつ均一に分
布し、その高さは10-2μｍ〜10-1μｍでかつ揃ってお
り、その幅は0.5μｍ〜10μｍである断面矩形の突起を
前記非磁性基板上に形成し、 次いで、前記突起を形成した前記非磁性基板上に直接ま
たは下地層を介して強磁性体薄膜を形成することを特徴
とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1312594A JP2700497B2 (ja) | 1989-11-30 | 1989-11-30 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1312594A JP2700497B2 (ja) | 1989-11-30 | 1989-11-30 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03173917A JPH03173917A (ja) | 1991-07-29 |
| JP2700497B2 true JP2700497B2 (ja) | 1998-01-21 |
Family
ID=18031081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1312594A Expired - Lifetime JP2700497B2 (ja) | 1989-11-30 | 1989-11-30 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2700497B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2737901B2 (ja) * | 1987-09-09 | 1998-04-08 | 旭硝子株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
-
1989
- 1989-11-30 JP JP1312594A patent/JP2700497B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03173917A (ja) | 1991-07-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5626941A (en) | Thin film media for very low flying height/contact recording application | |
| JP4594811B2 (ja) | 磁気記録媒体用基板、磁気記録媒体および磁気記録装置 | |
| US7180706B2 (en) | Magnetic heads and semiconductor devices and surface planarization processes for the fabrication thereof | |
| JP4601980B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| US6858328B1 (en) | Master information support | |
| US6898031B1 (en) | Method for replicating magnetic patterns on hard disk media | |
| JP3286291B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP4977121B2 (ja) | インプリント用モールド構造体及びそれを用いたインプリント方法、並びに磁気記録媒体の製造方法 | |
| US20060269795A1 (en) | Magnetic recording media | |
| JP2700497B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP4258150B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法ならびに磁気ディスク装置 | |
| JP2889775B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP4454394B2 (ja) | ナノ・インプリント・リソグラフィ用の潤滑性付与レジスト膜 | |
| JPH0489616A (ja) | 磁気ディスク装置及び磁気ディスク | |
| JPH03127327A (ja) | 磁気デイスクとその製造法及び磁気デイスク装置 | |
| JP2000293842A (ja) | 磁気記録媒体、ディスク基板及びディスク基板製造用原盤 | |
| JP2958200B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2777499B2 (ja) | 磁気ディスク | |
| US20110181975A1 (en) | Method of manufacturing a master disk for magnetic transfer | |
| US20090244762A1 (en) | Resist pattern forming method, mold structure producing method, magnetic recording medium producing method, magnetic transfer method and magnetic recording medium | |
| JP2915722B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH06274867A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2001325721A (ja) | 記録媒体用基板、それを用いた記録媒体および製造方法ならびに情報記録装置 | |
| JPH06274863A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2002373417A (ja) | 磁気記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071003 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081003 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091003 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101003 Year of fee payment: 13 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101003 Year of fee payment: 13 |