JPH07213858A - ガス処理装置 - Google Patents
ガス処理装置Info
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- JPH07213858A JPH07213858A JP6015274A JP1527494A JPH07213858A JP H07213858 A JPH07213858 A JP H07213858A JP 6015274 A JP6015274 A JP 6015274A JP 1527494 A JP1527494 A JP 1527494A JP H07213858 A JPH07213858 A JP H07213858A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 安定した濃度のアンモニアを回収可能とした
温度スイング方式のアンモニア回収装置を備えたガス処
理装置を提供する。 【構成】 脱硝装置６を備えた排ガスボイラ５からはＮ
Ｈ3 を含む排ガスが排出される。この排ガスはＮＨ3 吸
着塔１，２によって温度スイング方式で吸着と脱着が行
われＮＨ3 が回収される。回収された脱着ＮＨ3 はＮＨ
3 注入ノズル７から排ガス内に導入され脱硝に使われ
る。吸着塔１，２の脱着ガス煙道には、吸着剤を充填し
たバイパス装置３が連通されていて吸着塔１，２から排
出される高ＮＨ3 濃度の脱着ガス中のＮＨ3 を一時的に
吸着する。これによって、吸着塔１，２から出る脱着ガ
スのＮＨ3 濃度を安定させる。
温度スイング方式のアンモニア回収装置を備えたガス処
理装置を提供する。 【構成】 脱硝装置６を備えた排ガスボイラ５からはＮ
Ｈ3 を含む排ガスが排出される。この排ガスはＮＨ3 吸
着塔１，２によって温度スイング方式で吸着と脱着が行
われＮＨ3 が回収される。回収された脱着ＮＨ3 はＮＨ
3 注入ノズル７から排ガス内に導入され脱硝に使われ
る。吸着塔１，２の脱着ガス煙道には、吸着剤を充填し
たバイパス装置３が連通されていて吸着塔１，２から排
出される高ＮＨ3 濃度の脱着ガス中のＮＨ3 を一時的に
吸着する。これによって、吸着塔１，２から出る脱着ガ
スのＮＨ3 濃度を安定させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アンモニアを添加して
脱硝した排ガス中から吸着塔を用いて温度スイング方式
によってアンモニアを回収するアンモニア回収装置を有
するガス処理装置に関する。
脱硝した排ガス中から吸着塔を用いて温度スイング方式
によってアンモニアを回収するアンモニア回収装置を有
するガス処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】燃焼排ガスを脱硝するため脱硝装置内で
燃焼排ガス中にアンモニアを注入することが行われる。
アンモニアは過剰に注入されるため脱硝装置を出た排ガ
ス中から未反応のアンモニア（ＮＨ3 ）を回収する必要
がある。ＮＨ3 の回収には吸着塔を用いてＮＨ3 を吸着
し、ＮＨ3 を吸着済みの吸着剤を加熱してＮＨ3 を脱着
する、いわゆる吸着塔を用いた温度スイング方式が用い
られる。図４には、吸着塔を用いて脱硝装置から流れて
来るガスからＮＨ3 を回収するための従来の装置の基本
構成を示している。
燃焼排ガス中にアンモニアを注入することが行われる。
アンモニアは過剰に注入されるため脱硝装置を出た排ガ
ス中から未反応のアンモニア（ＮＨ3 ）を回収する必要
がある。ＮＨ3 の回収には吸着塔を用いてＮＨ3 を吸着
し、ＮＨ3 を吸着済みの吸着剤を加熱してＮＨ3 を脱着
する、いわゆる吸着塔を用いた温度スイング方式が用い
られる。図４には、吸着塔を用いて脱硝装置から流れて
来るガスからＮＨ3 を回収するための従来の装置の基本
構成を示している。
【０００３】図４にみるように、脱硝装置からの燃焼排
ガス煙道９には吸着剤３０を充填した吸着塔１が連絡さ
れており、煙道９に高濃度のＮＨ3 が流れるときにバル
ブＶ１，Ｖ２の操作により排ガスを吸着塔１に導いてＮ
Ｈ3 を吸着する。吸着されたＮＨ3 は処理ガス煙道１０
側から高温ガスを吸着塔１に流して脱着し煙道２４側へ
流す。
ガス煙道９には吸着剤３０を充填した吸着塔１が連絡さ
れており、煙道９に高濃度のＮＨ3 が流れるときにバル
ブＶ１，Ｖ２の操作により排ガスを吸着塔１に導いてＮ
Ｈ3 を吸着する。吸着されたＮＨ3 は処理ガス煙道１０
側から高温ガスを吸着塔１に流して脱着し煙道２４側へ
流す。
【０００４】図５には燃焼排ガス煙道の脱硝装置後流に
ＮＨ3 ガス吸着塔１，２を設置した従来のガス処理装置
全体の系統図を示しており、これについて説明する。ガ
ス吸着装置１，２内には吸着剤を充填しており、脱硝装
置からでた排ガス中に含まれる未反応のＮＨ3 を吸着す
る。吸着塔１，２は吸着と脱着を交互に行い、作用は同
じなので、まず吸着塔１について説明を行う。前記した
図４には吸着塔１だけを示してある。
ＮＨ3 ガス吸着塔１，２を設置した従来のガス処理装置
全体の系統図を示しており、これについて説明する。ガ
ス吸着装置１，２内には吸着剤を充填しており、脱硝装
置からでた排ガス中に含まれる未反応のＮＨ3 を吸着す
る。吸着塔１，２は吸着と脱着を交互に行い、作用は同
じなので、まず吸着塔１について説明を行う。前記した
図４には吸着塔１だけを示してある。
【０００５】図５において、まずバルブＶ１，Ｖ６を
開、Ｖ２，Ｖ５を閉にして脱硝装置を出て２０ppm のＮ
Ｈ3 を含んだ１００℃の低温排ガスを吸着塔１に流して
排ガス中のＮＨ3 を吸着する。吸着剤３０がＮＨ3 で飽
和したところでバルブＶ１，Ｖ６を閉、バルブＶ２，Ｖ
５，Ｖ７を開いて吸着塔１でＮＨ3 の脱着工程に入る。
脱着はバルブＶ７を経て脱硝装置に入る前の高温排ガス
を吸着塔１内に導き吸着塔１内部を加温装置で高温にし
て行い、脱着したＮＨ3 はバルブＶ２を通して煙突入口
から排出または脱硝装置入口にて再利用するものとす
る。
開、Ｖ２，Ｖ５を閉にして脱硝装置を出て２０ppm のＮ
Ｈ3 を含んだ１００℃の低温排ガスを吸着塔１に流して
排ガス中のＮＨ3 を吸着する。吸着剤３０がＮＨ3 で飽
和したところでバルブＶ１，Ｖ６を閉、バルブＶ２，Ｖ
５，Ｖ７を開いて吸着塔１でＮＨ3 の脱着工程に入る。
脱着はバルブＶ７を経て脱硝装置に入る前の高温排ガス
を吸着塔１内に導き吸着塔１内部を加温装置で高温にし
て行い、脱着したＮＨ3 はバルブＶ２を通して煙突入口
から排出または脱硝装置入口にて再利用するものとす
る。
【０００６】この温度スイング方式によるガス吸脱着装
置は、低温で被吸着ガスであるＮＨ 3 を吸着剤３に吸着
後、吸着剤３０および／またはその容器を昇温すること
により吸着されたＮＨ3 ガスを脱着回収するものであ
る。吸着ＮＨ3 ガスは吸着塔内の温度が上昇するにつれ
徐々に脱着されるが一定時間後は一時的に大過剰のＮＨ
3 ガスが容器出口で検出されていた。
置は、低温で被吸着ガスであるＮＨ 3 を吸着剤３に吸着
後、吸着剤３０および／またはその容器を昇温すること
により吸着されたＮＨ3 ガスを脱着回収するものであ
る。吸着ＮＨ3 ガスは吸着塔内の温度が上昇するにつれ
徐々に脱着されるが一定時間後は一時的に大過剰のＮＨ
3 ガスが容器出口で検出されていた。
【０００７】この脱着ＮＨ3 濃度を吸着塔出口のＮＨ3
計Ｍ１で測定したものを図６に示す。脱着開始時間を０
分として脱着ＮＨ3 の経時変化を観察した結果、破線で
示す吸着塔内部温度が上昇するにつれ吸着塔から排出さ
れるＮＨ3 濃度は急激に上昇し、３時間後には４０００
ppm のＮＨ3 が吸着塔出口で観測された。
計Ｍ１で測定したものを図６に示す。脱着開始時間を０
分として脱着ＮＨ3 の経時変化を観察した結果、破線で
示す吸着塔内部温度が上昇するにつれ吸着塔から排出さ
れるＮＨ3 濃度は急激に上昇し、３時間後には４０００
ppm のＮＨ3 が吸着塔出口で観測された。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】吸着ＮＨ3 ガスを吸着
塔から脱着する際、昇温とともにＮＨ3 ガスが脱着し、
一定時間後ピークを迎える。この大過剰のＮＨ3 ガスは
吸着装置入口排ガスに対し体積換算で１０2 ppm 〜１０
4 ppm に相当していた。このＮＨ3 ガスを直接煙突から
排出する又は他の用途に使用するには、脱着ＮＨ3 ガス
を一定濃度以下に調整する必要があった。
塔から脱着する際、昇温とともにＮＨ3 ガスが脱着し、
一定時間後ピークを迎える。この大過剰のＮＨ3 ガスは
吸着装置入口排ガスに対し体積換算で１０2 ppm 〜１０
4 ppm に相当していた。このＮＨ3 ガスを直接煙突から
排出する又は他の用途に使用するには、脱着ＮＨ3 ガス
を一定濃度以下に調整する必要があった。
【０００９】また、通常排出可能なＮＨ3 濃度は煙突出
口で１０ppm 以下であるため、排出基準を満足するには
４００倍量の排ガスが必要であった。これとは別に回収
したＮＨ3 を脱硝用として再利用する場合も８０倍排ガ
ス希釈を行う必要があり、このため配管径が大きくなる
と同時にファン類も大型化するため、脱着開始一定時間
経過時のＮＨ3 ピーク値を低くし吸着塔から均一にＮＨ
3 を排出することが必要であった。本発明は、安定した
濃度のアンモニアを回収可能とした温度スイング方式の
アンモニア回収装置を備えたガス処理装置を提供するこ
とを課題としている。
口で１０ppm 以下であるため、排出基準を満足するには
４００倍量の排ガスが必要であった。これとは別に回収
したＮＨ3 を脱硝用として再利用する場合も８０倍排ガ
ス希釈を行う必要があり、このため配管径が大きくなる
と同時にファン類も大型化するため、脱着開始一定時間
経過時のＮＨ3 ピーク値を低くし吸着塔から均一にＮＨ
3 を排出することが必要であった。本発明は、安定した
濃度のアンモニアを回収可能とした温度スイング方式の
アンモニア回収装置を備えたガス処理装置を提供するこ
とを課題としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段と作用】本発明は、アンモ
ニアを添加して脱硝した排ガス中から吸着塔によりアン
モニアを吸着し、吸着したアンモニアを吸着塔から脱着
して回収するアンモニア回収装置を有するガス処理装置
において一時的に過剰の脱着ＮＨ3 ガスが放出すること
を防止するため、吸着塔の脱着ガス煙道に、吸着剤を充
填したバイパス装置を備えて脱着ガスを選択的に流す脱
着ガスバイパスラインを設けた構成を採用する。
ニアを添加して脱硝した排ガス中から吸着塔によりアン
モニアを吸着し、吸着したアンモニアを吸着塔から脱着
して回収するアンモニア回収装置を有するガス処理装置
において一時的に過剰の脱着ＮＨ3 ガスが放出すること
を防止するため、吸着塔の脱着ガス煙道に、吸着剤を充
填したバイパス装置を備えて脱着ガスを選択的に流す脱
着ガスバイパスラインを設けた構成を採用する。
【００１１】このように吸着剤を充填したバイパス装置
を備えた脱着ガスバイパスラインを設置することにより
例えば排出基準値以上のＮＨ3 ガスはバイパス装置内に
蓄えることができるので排出基準値以上のＮＨ3 ガスの
放出を防ぐ。また脱着ガスを再利用する系については脱
着濃度以下の必要な濃度の脱着ＮＨ3 ガスを供給するこ
ととなり、余剰ガスの放出を防止することができる。バ
イパス装置に吸着されたＮＨ3 ガスは、徐々に脱着され
排出ＮＨ3 濃度は安定した状態に保たれる。
を備えた脱着ガスバイパスラインを設置することにより
例えば排出基準値以上のＮＨ3 ガスはバイパス装置内に
蓄えることができるので排出基準値以上のＮＨ3 ガスの
放出を防ぐ。また脱着ガスを再利用する系については脱
着濃度以下の必要な濃度の脱着ＮＨ3 ガスを供給するこ
ととなり、余剰ガスの放出を防止することができる。バ
イパス装置に吸着されたＮＨ3 ガスは、徐々に脱着され
排出ＮＨ3 濃度は安定した状態に保たれる。
【００１２】本発明によるガス処理装置ではアンモニア
回収装置を構成する吸着塔を少なくとも２系統設けてそ
れぞれをバルブにて切替え可能に構成すると共に各吸着
塔の脱着ガス煙道に、前後に切替えバルブを付けて、前
記した構成のバイパス装置を備えた脱着ガスバイパスラ
インを接続した構成として吸着と脱着を継続的に行いな
がら、高濃度の脱着ＮＨ3 ガスが出るのを脱着ガスバイ
パスラインを使って防止することができる。
回収装置を構成する吸着塔を少なくとも２系統設けてそ
れぞれをバルブにて切替え可能に構成すると共に各吸着
塔の脱着ガス煙道に、前後に切替えバルブを付けて、前
記した構成のバイパス装置を備えた脱着ガスバイパスラ
インを接続した構成として吸着と脱着を継続的に行いな
がら、高濃度の脱着ＮＨ3 ガスが出るのを脱着ガスバイ
パスラインを使って防止することができる。
【００１３】また、他の本発明によるガス処理装置にお
いては、前記した構成に加え、吸着塔を出た低温ガスと
脱硝前の排ガスを混合して適温にしたガスを脱着用ガス
として吸着塔に導くように構成する。これによって脱着
用ガス温度は所望の値に選定できるので脱着される吸着
剤の温度変化をゆるやかにして脱着ＮＨ3 ガス濃度を安
定した状態に保つことができる。
いては、前記した構成に加え、吸着塔を出た低温ガスと
脱硝前の排ガスを混合して適温にしたガスを脱着用ガス
として吸着塔に導くように構成する。これによって脱着
用ガス温度は所望の値に選定できるので脱着される吸着
剤の温度変化をゆるやかにして脱着ＮＨ3 ガス濃度を安
定した状態に保つことができる。
【００１４】本発明によるガス処理装置において吸着塔
及びバイパス装置の吸着剤から脱着したアンモニアガス
の少なくともいづれか一方を脱硝用として再利用するよ
う構成することができる。これによって排出基準以上の
ＮＨ3 ガスの放出を防いでＮＨ3 を有効に脱硝に使用で
きる。
及びバイパス装置の吸着剤から脱着したアンモニアガス
の少なくともいづれか一方を脱硝用として再利用するよ
う構成することができる。これによって排出基準以上の
ＮＨ3 ガスの放出を防いでＮＨ3 を有効に脱硝に使用で
きる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明によるガス処理装置を図１及び
図２に示した一実施例に基づいて具体的に説明する。図
１は、燃焼排ガス煙道の脱硝装置後流に設置したアンモ
ニア回収装置をもつ本発明によるガス処理装置の基本的
構成を示したもので、まずこれについて説明する。
図２に示した一実施例に基づいて具体的に説明する。図
１は、燃焼排ガス煙道の脱硝装置後流に設置したアンモ
ニア回収装置をもつ本発明によるガス処理装置の基本的
構成を示したもので、まずこれについて説明する。
【００１６】脱硝装置（図示せず）の後流の燃焼排ガス
煙道９にＮＨ3 吸着剤３０を充填した吸着塔１を備え、
その前後にバルブＶ１及びＶ６を設けている。この吸着
塔１の入口側であって、バルブＶ１の後を分岐し、バル
ブＶ２を備えた脱着ガス煙道を２４とし、更に脱着ガス
煙道２４においてバルブＶ２より上流側に分岐したバイ
パスライン２１を追設し、このバイパスライン２１にＮ
Ｈ3 吸着剤３０を充填した脱着ＮＨ3 のためのバイパス
装置３を設ける。また、このバイパス装置３の前後には
バルブＶ３とバルブＶ４が備えられている。なお、符号
１０は処理ガス煙道で図示しない煙突等に接続されてい
る。
煙道９にＮＨ3 吸着剤３０を充填した吸着塔１を備え、
その前後にバルブＶ１及びＶ６を設けている。この吸着
塔１の入口側であって、バルブＶ１の後を分岐し、バル
ブＶ２を備えた脱着ガス煙道を２４とし、更に脱着ガス
煙道２４においてバルブＶ２より上流側に分岐したバイ
パスライン２１を追設し、このバイパスライン２１にＮ
Ｈ3 吸着剤３０を充填した脱着ＮＨ3 のためのバイパス
装置３を設ける。また、このバイパス装置３の前後には
バルブＶ３とバルブＶ４が備えられている。なお、符号
１０は処理ガス煙道で図示しない煙突等に接続されてい
る。
【００１７】図１において、脱硝装置より２０ppm 程度
のＮＨ3 を含んだ低温排ガスを吸着塔１内に流すため、
バルブＶ１とＶ６を開、バルブＶ２，Ｖ３及びＶ４を閉
とし、吸着塔１内のＮＨ3 吸着剤３０にＮＨ3 を吸着さ
せた後に、煙突（図示せず）より大気へ放出する。吸着
塔１内のＮＨ3 吸着剤３０がＮＨ3 で飽和したところ
で、脱着を行うため、バルブＶ１及びＶ６を閉じ、高温
ガスを処理ガス煙道１０側より吸着塔１内へ流す。
のＮＨ3 を含んだ低温排ガスを吸着塔１内に流すため、
バルブＶ１とＶ６を開、バルブＶ２，Ｖ３及びＶ４を閉
とし、吸着塔１内のＮＨ3 吸着剤３０にＮＨ3 を吸着さ
せた後に、煙突（図示せず）より大気へ放出する。吸着
塔１内のＮＨ3 吸着剤３０がＮＨ3 で飽和したところ
で、脱着を行うため、バルブＶ１及びＶ６を閉じ、高温
ガスを処理ガス煙道１０側より吸着塔１内へ流す。
【００１８】脱着を開始した後、吸着塔１の内部温度が
上昇するにつれ、吸着塔１から排出されるＮＨ3 濃度が
急激に上昇する。この濃度をＮＨ3 計Ｍ２で測定してお
き、一定濃度を超えたとき、バルブＶ２を閉じ、バルブ
Ｖ３及びＶ４を開にして，脱着ガスをバイパス装置３に
流す。
上昇するにつれ、吸着塔１から排出されるＮＨ3 濃度が
急激に上昇する。この濃度をＮＨ3 計Ｍ２で測定してお
き、一定濃度を超えたとき、バルブＶ２を閉じ、バルブ
Ｖ３及びＶ４を開にして，脱着ガスをバイパス装置３に
流す。
【００１９】高濃度の脱着ＮＨ3 は、いったん低温のバ
イパス装置３内のＮＨ3 吸着剤３０に吸着されて、脱着
ガス煙道２４のＮＨ3 は低濃度となり煙突等へ送られ
る。更にバイパス装置３に脱着ガスを流していくと、高
温の排ガスが流れることで徐々に装置３内温度が上昇
し、一時的に吸着されたＮＨ3 は再び脱着しバルブＶ４
を通り煙突から排出又は脱着装置上流側へ送られ脱硝用
に再利用される。これにより、ＮＨ3 吸着塔１より脱着
されたＮＨ3 は、バイパス装置３により高濃度を抑え、
ほぼ一定濃度となり排出されることとなり、大気放出が
できると共に、脱着装置再利用する時の制御が単純とな
る。
イパス装置３内のＮＨ3 吸着剤３０に吸着されて、脱着
ガス煙道２４のＮＨ3 は低濃度となり煙突等へ送られ
る。更にバイパス装置３に脱着ガスを流していくと、高
温の排ガスが流れることで徐々に装置３内温度が上昇
し、一時的に吸着されたＮＨ3 は再び脱着しバルブＶ４
を通り煙突から排出又は脱着装置上流側へ送られ脱硝用
に再利用される。これにより、ＮＨ3 吸着塔１より脱着
されたＮＨ3 は、バイパス装置３により高濃度を抑え、
ほぼ一定濃度となり排出されることとなり、大気放出が
できると共に、脱着装置再利用する時の制御が単純とな
る。
【００２０】本願発明の好適な実施例を全体の系統図と
して図２に示してあり、次にこれについて説明する。本
図の場合、ガスタービン等の燃焼排ガスの脱硝を過剰の
アンモニア注入で効率良く行うものであって、ガスター
ビン４の燃焼排ガス煙道８に備えられた排ガスボイラ５
の後流にリークアンモニアを吸着するＮＨ3 吸着剤を充
填したＮＨ3 吸着塔を２系統有するアンモニア回収装置
を設置したものに本発明を適用したものである。
して図２に示してあり、次にこれについて説明する。本
図の場合、ガスタービン等の燃焼排ガスの脱硝を過剰の
アンモニア注入で効率良く行うものであって、ガスター
ビン４の燃焼排ガス煙道８に備えられた排ガスボイラ５
の後流にリークアンモニアを吸着するＮＨ3 吸着剤を充
填したＮＨ3 吸着塔を２系統有するアンモニア回収装置
を設置したものに本発明を適用したものである。
【００２１】まず、ガスタービン４の後流の煙道には脱
硝装置６及びＮＨ3 注入ノズル７を備えた排ガスボイラ
５が設けられ、その後の燃焼排ガス煙道８を２系統に分
けて、それぞれを燃焼排ガス入口煙道９及び１２とし、
これにＮＨ3 吸着剤を充填したＮＨ3 吸着塔１及び２を
設け、その後には処理ガス煙道１０及び１３を接続し、
これらは合流し煙突１１へと連なっている。このＮＨ3
吸着塔１，２の前後にはそれぞれバルブＶ１，Ｖ６及び
Ｖ９とＶ１４が備えられている。
硝装置６及びＮＨ3 注入ノズル７を備えた排ガスボイラ
５が設けられ、その後の燃焼排ガス煙道８を２系統に分
けて、それぞれを燃焼排ガス入口煙道９及び１２とし、
これにＮＨ3 吸着剤を充填したＮＨ3 吸着塔１及び２を
設け、その後には処理ガス煙道１０及び１３を接続し、
これらは合流し煙突１１へと連なっている。このＮＨ3
吸着塔１，２の前後にはそれぞれバルブＶ１，Ｖ６及び
Ｖ９とＶ１４が備えられている。
【００２２】また、脱着用高温ガスは、排ガスボイラ５
の前で分岐し、高温ガス煙道１４とし混合器１５へ送
り、煙突１１の前より分岐した低温ガス煙道１６の低温
ガスと合流させ適温とした後、高温ガス煙道１８として
ＮＨ3 吸着塔１及び２の後流へ接続している。この高温
ガス煙道１８にはそれぞれバルブＶ５，Ｖ１３が設けら
れていて、循環ファン１７を介して必要に応じ（脱着工
程時）高温ガスが導かれるように構成されている。
の前で分岐し、高温ガス煙道１４とし混合器１５へ送
り、煙突１１の前より分岐した低温ガス煙道１６の低温
ガスと合流させ適温とした後、高温ガス煙道１８として
ＮＨ3 吸着塔１及び２の後流へ接続している。この高温
ガス煙道１８にはそれぞれバルブＶ５，Ｖ１３が設けら
れていて、循環ファン１７を介して必要に応じ（脱着工
程時）高温ガスが導かれるように構成されている。
【００２３】図２に示したガス処理装置の新規な部分
は、ＮＨ3 吸着塔１及び２の入口部の燃焼排ガス入口煙
道９及び１２を結ぶバイパス煙道１９を設け、これにＮ
Ｈ3 吸着剤を充填したバイパス装置３及び前後にバルブ
Ｖ３及びＶ１１を設けたところである。更に、バイパス
装置３とバルブＶ３及びＶ１１の間より、脱着ＮＨ3 煙
道２４及び２５へ接続する脱着ガス煙道２１及び２０を
追設してある。この脱着ガス煙道２１及び２０にはそれ
ぞれバルブＶ４及びＶ１２が備えられている。
は、ＮＨ3 吸着塔１及び２の入口部の燃焼排ガス入口煙
道９及び１２を結ぶバイパス煙道１９を設け、これにＮ
Ｈ3 吸着剤を充填したバイパス装置３及び前後にバルブ
Ｖ３及びＶ１１を設けたところである。更に、バイパス
装置３とバルブＶ３及びＶ１１の間より、脱着ＮＨ3 煙
道２４及び２５へ接続する脱着ガス煙道２１及び２０を
追設してある。この脱着ガス煙道２１及び２０にはそれ
ぞれバルブＶ４及びＶ１２が備えられている。
【００２４】また、脱着ＮＨ3 煙道２４及び２５は合流
して、循環ファン２３を備えた循環ＮＨ3 煙道２２とな
り、排ガスボイラ５内のＮＨ3 注入ノズル７へ接続され
ている。これとは別に図示しないが、循環ＮＨ3 煙道２
２を備えず、脱着ＮＨ3 煙道２４及び２５を、煙突１１
の前の処理ガス煙道１０及び１３へ接続する場合もあ
る。
して、循環ファン２３を備えた循環ＮＨ3 煙道２２とな
り、排ガスボイラ５内のＮＨ3 注入ノズル７へ接続され
ている。これとは別に図示しないが、循環ＮＨ3 煙道２
２を備えず、脱着ＮＨ3 煙道２４及び２５を、煙突１１
の前の処理ガス煙道１０及び１３へ接続する場合もあ
る。
【００２５】以上説明した図２に示すガス処理装置の作
用を説明する。ＮＨ3 吸着剤を充填した吸着塔１及び２
は脱着ＮＨ3 のためのバイパス装置３を備えたバイパス
煙道１９を設置しており、このバイパス装置３はバルブ
Ｖ３，Ｖ１１で区切られている。ガスタービン４より発
生した燃焼排ガスの脱硝を行なった後のリークアンモニ
アの吸着は、まずバルブＶ１，Ｖ６を開、Ｖ２，Ｖ３
Ｖ１１，Ｖ５ Ｖ７を閉にしてＮＨ3 吸着塔１のＡ系統
へ２０ppm のＮＨ3 を含んだ１００℃の低温排ガスを流
してＮＨ3 を吸着する。吸着剤がＮＨ3 で飽和したとこ
ろでバルブＶ１，Ｖ６を閉、バルブＶ２，Ｖ５，Ｖ７を
開いて高温ガスをＮＨ3 吸着塔１へ流すことによって吸
着塔１でＮＨ3 の脱着工程に入る。
用を説明する。ＮＨ3 吸着剤を充填した吸着塔１及び２
は脱着ＮＨ3 のためのバイパス装置３を備えたバイパス
煙道１９を設置しており、このバイパス装置３はバルブ
Ｖ３，Ｖ１１で区切られている。ガスタービン４より発
生した燃焼排ガスの脱硝を行なった後のリークアンモニ
アの吸着は、まずバルブＶ１，Ｖ６を開、Ｖ２，Ｖ３
Ｖ１１，Ｖ５ Ｖ７を閉にしてＮＨ3 吸着塔１のＡ系統
へ２０ppm のＮＨ3 を含んだ１００℃の低温排ガスを流
してＮＨ3 を吸着する。吸着剤がＮＨ3 で飽和したとこ
ろでバルブＶ１，Ｖ６を閉、バルブＶ２，Ｖ５，Ｖ７を
開いて高温ガスをＮＨ3 吸着塔１へ流すことによって吸
着塔１でＮＨ3 の脱着工程に入る。
【００２６】脱着は吸着塔１内部を加温装置で高温にし
て行い、脱着したＮＨ3 はバルブＶ２を通して脱硝装置
６入口のＮＨ3 注入ノズル７へ送り再利用する。この脱
着ＮＨ3 濃度を吸着塔１出口のＮＨ3 計Ｍ１で測定した
ものを図６に示す。脱着開始時間を０分として脱着ＮＨ
3 の経時変化を観察した結果、破線で示す吸着塔内部温
度が上昇するにつれ吸着塔から排出されるＮＨ3 濃度は
急激に上昇し、２時間後には２０００ppm のＮＨ3 が吸
着塔出口で観測された。ＮＨ3 計Ｍ１で観測される脱着
ＮＨ3 が２０００ppm を超えたときバルブＶ２を閉じバ
ルブＶ３、Ｖ４を開にして脱着ＮＨ3 をバイパス装置３
に流入する。
て行い、脱着したＮＨ3 はバルブＶ２を通して脱硝装置
６入口のＮＨ3 注入ノズル７へ送り再利用する。この脱
着ＮＨ3 濃度を吸着塔１出口のＮＨ3 計Ｍ１で測定した
ものを図６に示す。脱着開始時間を０分として脱着ＮＨ
3 の経時変化を観察した結果、破線で示す吸着塔内部温
度が上昇するにつれ吸着塔から排出されるＮＨ3 濃度は
急激に上昇し、２時間後には２０００ppm のＮＨ3 が吸
着塔出口で観測された。ＮＨ3 計Ｍ１で観測される脱着
ＮＨ3 が２０００ppm を超えたときバルブＶ２を閉じバ
ルブＶ３、Ｖ４を開にして脱着ＮＨ3 をバイパス装置３
に流入する。
【００２７】高濃度のＮＨ3 は、いったん低温のバイパ
ス装置３に吸着されるが、脱着ＮＨ 3 を含んだ高温の排
ガスが流れ込むことで徐々にバイパス装置３内の温度が
上昇し、一時的に吸着されたＮＨ3 は再び脱着してバル
ブＶ４を通って脱硝装置６上流側で脱硝用に再利用され
る。このときのＮＨ3 濃度の様子をＮＨ3 計で観測した
結果を図３に示す。一方、ＮＨ3 吸着塔２を含むＢ系統
は、Ａ系統と逆の工程を行うことによって、ガスタービ
ン４の燃焼排ガスは、連続して脱硝でき、また、リーク
アンモニアの吸着、脱着を行うことができる。なお、以
上の説明では脱着ＮＨ3 を脱硝用に再利用するものとし
て説明したが、そのまゝ煙突１１から排出するようにし
てもよい。
ス装置３に吸着されるが、脱着ＮＨ 3 を含んだ高温の排
ガスが流れ込むことで徐々にバイパス装置３内の温度が
上昇し、一時的に吸着されたＮＨ3 は再び脱着してバル
ブＶ４を通って脱硝装置６上流側で脱硝用に再利用され
る。このときのＮＨ3 濃度の様子をＮＨ3 計で観測した
結果を図３に示す。一方、ＮＨ3 吸着塔２を含むＢ系統
は、Ａ系統と逆の工程を行うことによって、ガスタービ
ン４の燃焼排ガスは、連続して脱硝でき、また、リーク
アンモニアの吸着、脱着を行うことができる。なお、以
上の説明では脱着ＮＨ3 を脱硝用に再利用するものとし
て説明したが、そのまゝ煙突１１から排出するようにし
てもよい。
【００２８】
【発明の効果】以上具体的に説明したように、本発明の
ガス処理装置によれば煙突出口でのＮＨ3 排出基準を満
足することが可能である。また、アンモニア回収装置の
上流に設置した脱硝装置で過剰のＮＨ3 の使用が可能と
なり、脱硝効率が向上する。また、吸着塔から脱着にっ
て高濃度のＮＨ3 が排出されてもバイパス装置で脱着Ｎ
Ｈ3 濃度を平準化することが出来るため、脱着ガス流
速、温度の調節が不要で制御が単純である。
ガス処理装置によれば煙突出口でのＮＨ3 排出基準を満
足することが可能である。また、アンモニア回収装置の
上流に設置した脱硝装置で過剰のＮＨ3 の使用が可能と
なり、脱硝効率が向上する。また、吸着塔から脱着にっ
て高濃度のＮＨ3 が排出されてもバイパス装置で脱着Ｎ
Ｈ3 濃度を平準化することが出来るため、脱着ガス流
速、温度の調節が不要で制御が単純である。
【００２９】更にまた、本発明のガス処理装置ではバイ
パス装置が脱着ＮＨ3 に対し調整能力を有するため、吸
着塔内の昇温を早めることが出来る。そのためＮＨ3 脱
着に要する時間が短縮する。また、バイパス装置によ
り、吸着塔から脱着するＮＨ3 濃度がほぼ一定となるた
め、ＮＨ3 の排出または脱硝再利用時の制御が単純であ
る。
パス装置が脱着ＮＨ3 に対し調整能力を有するため、吸
着塔内の昇温を早めることが出来る。そのためＮＨ3 脱
着に要する時間が短縮する。また、バイパス装置によ
り、吸着塔から脱着するＮＨ3 濃度がほぼ一定となるた
め、ＮＨ3 の排出または脱硝再利用時の制御が単純であ
る。
【図１】本発明によりバイパス装置を備えた脱着ガスバ
イパスラインを設けたアンモニア回収装置の基本的構成
を示す機器配置図。
イパスラインを設けたアンモニア回収装置の基本的構成
を示す機器配置図。
【図２】本発明の一実施例によるガス処理装置の機器配
置図。
置図。
【図３】本発明によるガス処理装置における脱着ＮＨ3
濃度の経時変化を示すグラフ。
濃度の経時変化を示すグラフ。
【図４】従来のガス処理装置におけるアンモニア回収装
置の基本的構成を示す機器配置図。
置の基本的構成を示す機器配置図。
【図５】従来のガス処理装置の機器配置図。
【図６】従来のガス処理装置における脱着ＮＨ3 濃度の
経時変化を示すグラフ。
経時変化を示すグラフ。
１ ＮＨ3 吸着塔 ２ ＮＨ3 吸着塔 ３ バイパス装置 ４ ガスタービン ５ 排ガスボイラ ６ 脱硝装置 ７ ＮＨ3 注入ノズル ８ 燃焼排ガス煙道 ９ 燃焼排ガス入口煙道 １０ 処理ガス煙道 １１ 煙突 １２ 燃焼排ガス入口煙道 １３ 処理ガス煙道 １４ 高温ガス煙道 １５ 混合器 １６ 低温ガス煙道 １７ 循環ファン １８ 高温ガス煙道 １９ バイパス煙道 ２０ 脱着ガス煙道 ２１ 脱着ガス煙道 ２２ 循環ＮＨ3 煙道 ２３ 循環ファン ２４ 脱着ＮＨ3 煙道 ２５ 脱着ＮＨ3 煙道 Ｖ１〜Ｖ１４ バルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/58 Ｂ０１Ｄ 53/34 １３１ (72)発明者 守井 淳 長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工業株式 会社長崎造船所内 (72)発明者 内藤 治 長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工業株式 会社長崎造船所内 (72)発明者 小林 敬古 東京都千代田区丸の内二丁目５番１号 三 菱重工業株式会社内 (72)発明者 飯田 耕三 広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱 重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 小林 一登 広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱 重工業株式会社広島研究所内 (72)発明者 大空 弘幸 広島市西区観音新町四丁目６番22号 三菱 重工業株式会社広島研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 アンモニアを添加して脱硝した排ガス中
から吸着塔によりアンモニアを吸着し、吸着したアンモ
ニアを前記吸着塔から脱着して回収するアンモニア回収
装置を有するガス処理装置において、前記吸着塔の脱着
ガス煙道に、吸着剤を充填したバイパス装置を備え脱着
ガスを選択的に流す脱着ガスバイパスラインを設けたこ
とを特徴とするガス処理装置。 - 【請求項２】 前記吸着塔を少なくとも２系統設けてそ
れぞれをバルブにて切替え可能に構成すると共に各吸着
塔の脱着ガス煙道に、前後に切替えバルブを付けて前記
バイパス装置を備えた脱着ガスバイパスラインを接続し
た請求項１記載のガス処理装置。 - 【請求項３】 前記吸着塔を出た低温ガスと脱硝前の排
ガスを混合して適温にしたガスを脱着用ガスとして前記
吸着塔に導くよう構成した請求項１又は２記載のガス処
理装置。 - 【請求項４】 前記吸着塔及び前記バイパス装置の吸着
物質から脱着したアンモニアガスの少なくともいづれか
一方を脱硝用として再利用するよう構成した請求項１〜
３のいづれか１つに記載のガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01527494A JP3202469B2 (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01527494A JP3202469B2 (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | ガス処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07213858A true JPH07213858A (ja) | 1995-08-15 |
| JP3202469B2 JP3202469B2 (ja) | 2001-08-27 |
Family
ID=11884286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01527494A Expired - Fee Related JP3202469B2 (ja) | 1994-02-09 | 1994-02-09 | ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3202469B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101476404B1 (ko) * | 2013-08-19 | 2014-12-23 | 한국동서발전(주) | 폐암모니아 처리방법, 폐암모니아 처리시스템 및 이를 포함하는 탈질반응장치의 암모니아 주입시스템 |
| KR101684296B1 (ko) * | 2015-12-02 | 2016-12-08 | 주식회사 이앤켐솔루션 | 순차방식을 이용한 암모니아 연속 회수시스템 |
-
1994
- 1994-02-09 JP JP01527494A patent/JP3202469B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101476404B1 (ko) * | 2013-08-19 | 2014-12-23 | 한국동서발전(주) | 폐암모니아 처리방법, 폐암모니아 처리시스템 및 이를 포함하는 탈질반응장치의 암모니아 주입시스템 |
| KR101684296B1 (ko) * | 2015-12-02 | 2016-12-08 | 주식회사 이앤켐솔루션 | 순차방식을 이용한 암모니아 연속 회수시스템 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3202469B2 (ja) | 2001-08-27 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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