JPH07211230A - カラー受像管の蛍光面露光方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 パネル1 の内面に形成された蛍光面形成部材
層16にシャドウマスク4を光学マスクとして、露光光源1
3、補正レンズ、光量補正フィルタを介して露光するカ
ラー受像管の蛍光面露光方法において、蛍光面形成部材
層の特定領域に対する電子ビーム軌道への近似エラを集
中させ、その特定領域以外の領域に対する電子ビーム軌
道への近似エラを十分に補正した補正レンズ31(35a,35
b) と、特定領域の光量分布を特定領域以外の領域の光
量分布に対して相対的に低くした光量補正フィルタ32(3
8a,38b) とを組合わせ、これら補正レンズ系と光量補正
フィルタとの組合わせを複数組用いて蛍光面形成部材層
を露光するようにした。 【効果】 蛍光面全面にわたりほぼ完全にミスランディ
ングを補正し、色純度良好なカラー受像管とすることが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、カラー受像管の蛍光
面露光方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にカラー受像管は、図６に示すよう
に、ほぼ矩形状のパネル１とこのパネル１に一体に接合
されたファンネル２からなる外囲器を有し、そのパネル
１の内面に、青、緑、赤に発光する３色蛍光体層からな
る蛍光面３が形成され、この蛍光面３に対向して、その
内側に多数の電子ビーム通過孔の形成されたシャドウマ
スク４が配置されている。一方、ファンネル２のネック
５内に３電子ビーム６を放出する電子銃７が配設されて
いる。そして、この電子銃７から放出される３電子ビー
ム６をファンネル２の外側に装着された偏向装置８の発
生する磁界により偏向して、上記蛍光面３を水平、垂直
走査することによりカラー画像を表示する構造に形成さ
れている。

【０００３】このようなカラー受像管の蛍光面３とし
て、図７に示すように、所定配列の３色蛍光体ドット１
０B ，１０G ，１０R で形成されたもの、および図８に
示すように、マトリックス状光吸収層１１のマトリック
スホールに３色蛍光体ドット１０B ，１０G ，１０R が
埋込まれるように形成されたブラックマトリックス形蛍
光面がある。

【０００４】従来よりこのカラー受像管の蛍光面３は、
写真印刷法により形成されており、、その一工程とし
て、シャドウマスク４を光学マスクとして、露光装置に
より、パネルの内面に形成された感光剤や感光性蛍光体
スラリ層などの蛍光面形成部材層にシャドウマスクの電
子ビーム通過孔に対応するパターンを焼付ける露光工程
がある。

【０００５】その露光装置は、図９に示すように、水銀
ランプを露光光源１３とし、この露光光源１３上に、露
光光源１３から放射される光線１４をカラー受像管の電
子銃から放出される電子ビームの軌道に近似させる補正
レンズ１５を含む補正レンズ系、上記パネル１の内面に
形成された蛍光面形成部材層１６に対する露光光源１３
から放射される光線１４の光量分布を補正する光量補正
フィルタ１７が配置されている。その補正レンズ１５
は、通常滑らかな連続曲面からなる非球面レンズからな
る。

【０００６】しかしこのような連続曲面からなる補正レ
ンズ１５では、上記蛍光体ドットまたはマトリックス状
光吸収層のマトリックスホールに蛍光体ドットが形成さ
れた蛍光面に対して、その全面にわたりミスランディン
グを生じないように蛍光体ドットやマトリックス状光吸
収層を形成することが困難な場合がある。たとえば電子
ビームのランディング特性が、図１０（ａ）に矢印で示
すように、蛍光面３のある領域でカールパターン１９を
示す場合、同（ｂ）に示すように、ある点２０を起点と
してレンズ面の傾斜を変化させて補正をおこなうと、必
ず不連続部２１ができてしまう。

【０００７】このような問題を解決するため、従来より
補正レンズを複数個の領域に分割し、その各領域ごと
に、表面の傾斜を決定した補正レンズが、特公昭４７−
４０９８３号公報などに示されている。この補正レンズ
によれば、分割領域ごとに露光光源からの光線を電子ビ
ームの軌道に精度よく近似させることができる。しかし
この補正レンズは、各分割領域の境界に段差ができるた
め、その段差に起因する露光むらができる。

【０００８】この露光むらを解決する有力な方法とし
て、補正レンズを揺動する方法があるが、そのために
は、露光装置に揺動機構を付設する必要があり、露光装
置が複雑になる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、カラー
受像管の蛍光面は、写真印刷法により形成され、その一
工程として、カラー受像管に組込まれるシャドウマスク
を光学マスクとして、露光光源上に、この露光光源から
放射される光線をカラー受像管の電子銃から放出される
電子ビームの軌道に近似させる補正レンズを含む補正レ
ンズ系、パネルの内面に形成された蛍光面形成部材層に
対する露光光源から放射される光線の光量分布を補正す
る光量補正フィルタが配置された露光装置を用いて露光
する方法がある。その補正レンズは、通常滑らかな連続
曲面からなる非球面レンズからなる。

【００１０】しかしこのような連続曲面からなる補正レ
ンズを用いて露光すると、蛍光体ドットまたはマトリッ
クス状光吸収層のマトリックスホールに蛍光体ドットが
形成された蛍光面に対して、その全面にわたり、ミスラ
ンディングを生じないように蛍光体ドットやマトリック
ス状光吸収層を形成することが困難な場合がある。たと
えば電子ビームのランディング特性が、蛍光面のある領
域でカールパターンを示す場合、ある点を起点としてレ
ンズ面の傾斜を変化させて補正をおこなうと、必ず不連
続部ができてしまう。

【００１１】このような問題を解決するため、補正レン
ズを複数個の領域に分割し、その各領域ごとに、表面の
傾斜を決定した補正レンズが知られている。この補正レ
ンズによれば、分割領域ごとに露光光源からの光線を電
子ビームの軌道に精度よく近似させることができる。し
かしこの補正レンズは、各分割領域の境界に段差ができ
るため、その段差に起因する露光むらができる。

【００１２】この露光むらを解決する有力な方法とし
て、補正レンズを揺動する方法があるが、そのために
は、露光装置に揺動機構を付設する必要があり、露光装
置が複雑になる。

【００１３】この発明は、上記問題点に鑑みてなされた
ものであり、連続曲面からなる補正レンズを用いても、
カールパターンのミスランディングを補正することがで
きるカラー受像管の蛍光面露光方法を得ることを目的と
する。

【００１４】

【課題を解決するための手段】パネル内面に形成された
蛍光面形成部材層にシャドウマスクを光学マスクとし
て、露光光源、この露光光源からの光線を電子ビームの
軌道に近似させる補正レンズ、蛍光面形成部材層に対す
る光量分布を補正する光量補正フィルタを介して露光す
るカラー受像管の蛍光面露光方法において、パネル内面
の特定領域に対する電子ビーム軌道への近似エラを集中
させ、その特定領域以外の領域に対する電子ビーム軌道
への近似エラを十分に補正した補正レンズと、特定領域
の光量分布を特定領域以外の領域の光量分布に対して相
対的に低くした光量補正フィルタとを組合わせ、これら
補正レンズと光量補正フィルタとの組合わせを複数組用
いて蛍光面形成部材層を露光するようにした。

【００１５】また、パネル内面の特定領域に対する電子
ビーム軌道への近似エラを集中させ、その特定領域以外
の領域に対する電子ビーム軌道への近似エラを十分に補
正した第１の補正レンズと、特定領域の光量分布を特定
領域以外の領域の光量分布に対して相対的に低くした第
１の光量補正フィルタとを組合わせ、これら第１の補正
レンズと第１の光量補正フィルタとの組合わせを用いて
蛍光面形成部材層を露光する工程と、特定領域に対する
電子ビーム軌道への近似エラを十分に補正した第２の補
正レンズと、特定領域の光量分布を特定領域以外の領域
の光量分布に対して相対的に高くした第２の光量補正フ
ィルタとを組合わせ、これら第２の補正レンズ系と第２
の光量補正フィルタとの組合わせを用いて蛍光面形成部
材層を露光する工程とにより蛍光面形成部材層を露光す
るようにした。

【００１６】また、パネルの対角軸近傍を特定領域と
し、この特定領域に対する電子ビーム軌道への近似エラ
を集中させ、その特定領域以外の領域に対する電子ビー
ム軌道への近似エラを十分に補正した第１の補正レンズ
と、特定領域の光量分布を特定領域以外の領域の光量分
布に対して相対的に低くした光量補正フィルタとを組合
わせ、これら第１の補正レンズと光量補正フィルタとの
組合わせを用いて蛍光面形成部材層を露光する工程と、
第１の補正レンズに対して電子ビーム軌道への近似エラ
の集中をパネルの対角軸方向にずらした第２の補正レン
ズと上記光量補正フィルタとを組合わせ、これら第２の
補正レンズと光量補正フィルタとを組合わせを用いて蛍
光面形成部材層を露光する工程とにより蛍光面形成部材
層を露光するようにした。

【００１７】

【作用】上記のように、パネル内面の特定領域に対する
電子ビーム軌道への近似エラを集中させ、その特定領域
以外の領域に対する電子ビーム軌道への近似エラを十分
に補正した補正レンズと、特定領域の光量分布を特定領
域以外の領域の光量分布に対して相対的に低くした光量
補正フィルタとを組合わせ、これら補正レンズと光量補
正フィルタとの組合わせを複数組用いて蛍光面形成部材
層を露光すると、従来連続曲面からなる補正レンズでは
補正が困難なミスランディングに対して、たとえばパネ
ル内面の特定領域に対する電子ビーム軌道への近似エラ
を集中させ、その特定領域以外の領域に対する電子ビー
ム軌道への近似エラを十分に補正した第１の補正レンズ
と、特定領域の光量分布を特定領域以外の領域の光量分
布に対して相対的に低くした第１の光量補正フィルタと
を組合わせ、これら第１の補正レンズと第１の光量補正
フィルタとの組合わせを用いて蛍光面形成部材層を露光
する工程と、蛍光面形成部材層の特定領域に対する電子
ビーム軌道への近似エラを十分に補正した第２の補正レ
ンズと、特定領域の光量分布を特定領域以外の領域の光
量分布に対して相対的に高くした第２の光量補正フィル
タとを組合わせ、これら第２の補正レンズと第２の光量
補正フィルタとの組合わせを用いて蛍光面形成部材層を
露光する工程とにより蛍光面形成部材層を露光すること
により、蛍光面全面にわたり、ほぼ完全にミスランディ
ングを補正することができる。

【００１８】また、パネルの対角軸近傍を特定領域と
し、この特定領域に対する電子ビーム軌道への近似エラ
を集中させ、その特定領域以外の領域に対する電子ビー
ム軌道への近似エラを十分に補正した第１の補正レンズ
と、特定領域の光量分布を特定領域以外の領域の光量分
布に対して相対的に低くした光量補正フィルタとを組合
わせ、これら第１の補正レンズと光量補正フィルタとの
組合わせを用いて蛍光面形成部材層を露光する工程と、
第１の補正レンズに対して電子ビーム軌道への近似エラ
の集中をパネルの対角軸方向にずらした第２の補正レン
ズと上記光量補正フィルタとを組合わせ、これら第２の
補正レンズと光量補正フィルタとを組合わせを用いて蛍
光面形成部材層を露光する工程とにより蛍光面形成部材
層を露光することにより、蛍光面全面にわたりミスラン
ディングを補正すると同時に、ほぼ矩形状パネルの対角
軸方向の蛍光体ドットまたはマトリックス状光吸収層の
マトリックスホールのラジアル方向のつぶれを補正し
て、ほぼ円形にすることができる。

【００１９】

【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例に基
づいて説明する。

【００２０】図１にその一実施例に係る露光装置を示
す。この露光装置は、パネル１を位置決め支持する支持
台３０の下部に水銀ランプを露光光源１３とする光源部
が設けられ、この光源部上に露光光源１３から放射され
る光線１４をカラー受像管の電子銃から放出される電子
ビームの軌道に近似させる後述する補正レンズ３１を含
む補正レンズ系、上記支持台３０に位置決め支持された
パネル１の内面に塗布形成された蛍光面形成部材層１６
に対する露光光源１３から放射される光線１４の光量分
布を補正する後述する光量補正フィルタ３２が配置され
ている。なお、図１において、４はシャドウマスクであ
る。

【００２１】上記補正レンズ３１は、図２に示すよう
に、カラー受像管の蛍光面３に４象限に対称に発生する
カールパターンのミスランディング３４を補正する２枚
の補正レンズ３５a ，３５b からなる。

【００２２】この２枚の補正レンズ３５a ，３５b のう
ち、第１の補正レンズ３５a は、図３（ａ）に矢印３６
a で示すように、パネルの垂直軸Ｙ近傍（特定領域）の
蛍光面３にランディングエラを集中させ、この垂直軸Ｙ
近傍以外の領域のランディングエラを極力抑える曲面に
形成されている。これに対し、第２の補正レンズ３５b
は、同（ｂ）に矢印３６b で示すように、パネルの水平
軸Ｘ近傍（特定領域）蛍光面３にランディングエラを集
中させ、この水平軸Ｘ近傍以外の領域のランディングエ
ラを極力抑える曲面に形成されている。

【００２３】また光量補正フィルタ３２は、上記第１の
補正レンズ３５a と組合わされて用いられる第１の光量
補正フィルタ３８a と、上記第２の補正レンズ３５b と
組合わされて用いられる第２の光量補正フィルタ３８b
とからなる。

【００２４】この２枚の光量補正フィルタ３８a ，３８
b のうち、第１の補正レンズ３５aと組合わされる第１
の光量補正フィルタ３８a は、図４（ａ）に透過率等高
線３９a で示すように、垂直軸Ｙ近傍の透過率をこの垂
直軸Ｙ近傍以外の透過率に対して相対的に低く、垂直軸
Ｙ近傍の透過率を最低として、垂直軸Ｙから遠ざかるに
したがって透過率が高くなる透過率分布に形成され、パ
ネルの垂直軸近傍の光量分布をこの垂直軸近傍以外の領
域の光量分布に対して相対的に低くして、露光装置の支
持台に位置決め支持されたパネル内面の垂直軸近傍の蛍
光面形成部材層を、垂直軸近傍以外の領域を十分に露光
しても、露光不足にするものとなっている。これに対
し、第２の補正レンズ３５b と組合わされる第２の光量
補正フィルタ３８b は、同（ｂ）に透過率等高線３９b
で示すように、水平軸Ｘ近傍の透過率をこの水平軸Ｘ近
傍以外の透過率に対して相対的に低く、水平軸Ｘ近傍の
透過率を最低として、水平軸Ｘから遠ざかるにしたがっ
て透過率が高くなる透過率分布に形成され、パネルの水
平軸近傍の光量分布をこの水平軸近傍以外の領域の光量
分布に対して相対的に低くして、露光装置の支持台に位
置決め支持されたパネル内面の蛍光面形成部材層の水平
軸近傍を、水平軸近傍以外の領域を十分に露光しても、
露光不足にするものとなっている。つまり、第２の光量
補正フィルタ３８b は、垂直軸近傍の光量分布を垂直軸
近傍以外の領域の光量分布に対して相対的に高くするも
のとなっている。

【００２５】この露光装置による露光は、図５（ａ）に
示すように、内面に蛍光面形成部材層１６が形成されか
つシャドウマスク４の装着されたパネル１を支持台３０
に位置決め支持し、まず第１の補正レンズ３５a および
第１の光量補正フィルタ３８a を露光光源１３上に配置
し、これら第１の補正レンズ３５a および第１の光量補
正フィルタ３８a を介して、パネル１の垂直軸近傍以外
の領域の蛍光面形成部材層が所定の露光量に達するまで
所定時間露光する。ついでこの第１の補正レンズ３５a
および第１の光量補正フィルタ３８a の代わりに、同
（ｂ）に示すように、第２の補正レンズ３５b および第
２の光量補正フィルタ３８b を露光光源１３上に配置
し、これら第２の補正レンズ３５b および第２の光量補
正フィルタ３８b を介して、パネル１の垂直軸近傍の蛍
光面形成部材層が所定の露光量に達するまで、すなわち
上記第１の補正レンズ３５a および第１の光量補正フィ
ルタ３８a を介して露光したときの露光量との積算露光
量が所定の露光量に達するまで、所定時間露光すること
によりおこなわれる。

【００２６】なお、カラー受像管の蛍光面の形成は、光
吸収層をもたない３色蛍光体ドットからなる蛍光面につ
いては、パネルの内面に感光性蛍光体スラリからなる蛍
光面形成部材層を塗布し乾燥して、感光性蛍光体スラリ
層を形成し、上記露光方法により、シャドウマスクを光
学マスクとして露光して、感光性蛍光体スラリ層にシャ
ドウマスクの電子ビーム通過孔に対応するパターンを焼
付け、現像により未感光部分を除去して、任意１色の蛍
光体ドットを形成し、この蛍光体ドットの形成方法を３
色蛍光体ドットについて繰返すことにより形成される。

【００２７】またマトリックス状光吸収層をもつ蛍光面
については、最初に感光剤からなる蛍光面形成部材層を
塗布し乾燥して感光剤層を形成し、上記露光方法によ
り、シャドウマスクを光学マスクとして露光して、感光
剤層にシャドウマスクの電子ビーム通過孔に対応するパ
ターンを焼付け、現像により未感光部分を除去して、ド
ットからなるレジストを形成する。つぎにこのレジスト
の形成されたパネルの内面に光吸収塗料を塗布し乾燥し
て、光吸収塗料層を形成する。つぎに上記レジスト上に
塗布された光吸収塗料をレジストとともに剥離して、パ
ネルの内面に３色蛍光体ドットを形成する部分をマトリ
ックスホールとするマトリックス状光吸収層を形成す
る。その後、上記蛍光体ドットの形成方法と同様の方法
により、そのマトリックスホールに３色蛍光体ドットを
形成することにより形成される。

【００２８】このようにパネル１の内面の特定領域にラ
ンディングエラを集中させ、それ以外の領域のランディ
ングエラを極力抑えるように構成された第１の補正レン
ズ３５a と、その特定領域に対する光量分布をそれ以外
の領域に対する光量分布に対して相対的に低くした第１
の光量補正フィルタ３８a を組合わせて露光し、ついで
その特定領域のランディングエラを極力抑えるように構
成された第２の補正レンズ３５b と、特定領域以外の領
域に対する光量分布を特定領域に対する光量分布に対し
て相対的に高くした第２の光量補正フィルタ３８b を組
合わせて露光すると、第１の補正レンズ３５a によりラ
ンディングエラを集中させた領域を第１の光量補正フィ
ルタ３８a により露光不足にし、このランディングエラ
を集中させた露光不足の領域に対して十分にランディン
グエラを補正した第２の補正レンズ３５b と組合わせた
第２の光量補正フィルタ３８a により、その露光不足の
領域を十分に露光することにより、蛍光面全面にわたり
良好なランディング特性をもつ蛍光面を形成することが
でき、色純度良好なカラー受像管を構成することができ
る。

【００２９】なお、上記実施例では、第１の補正レン
ズ、第１の光量補正フィルタの組合わせと、第２の補正
レンズ、第２の光量補正フィルタの組合わせとを、ミス
ランディングの補正に対して相補的に用いる場合につい
て説明したが、ほぼ矩形状パネルの内面に蛍光面を形成
する場合は、一般に露光光源からの光線がシャドウマス
クの電子ビーム通過孔を通過するとき、パネル内面の対
角軸方向に遮蔽され、蛍光体ドットやマトリックス状光
吸収層のマトリックスホールの形状が対角軸方向につぶ
れた長円形状となるが、この対角軸近傍を特定領域とし
て、たとえば２個の補正レンズのランディング設計目標
を対角軸方向にずらし、その第１の補正レンズと対角軸
近傍の領域の光量分布を対角軸近傍以外の領域の光量分
布に対して相対的に低くした光量補正フィルタとを組合
わせて露光し、ついで第２の補正レンズと上記光量補正
フィルタとを組合わせて露光することにより、蛍光面全
面のランディングを補正すると同時に、蛍光体ドットや
マトリックス状光吸収層のマトリックスホールの長円形
状を所望の円形にすることができる。

【００３０】なお、上記実施例では、２個の補正レンズ
を用いてランディングエラなどを補正する場合について
説明したが、この補正に２個以上の補正レンズを用いる
ことは任意である。

【００３１】

【発明の効果】パネル内面に形成された蛍光面形成部材
層にシャドウマスクを光学マスクとして、露光光源、こ
の露光光源からの光線を電子ビームの軌道に近似させる
補正レンズ、蛍光面形成部材層に対する光量分布を補正
する光量補正フィルタを介して露光するカラー受像管の
蛍光面露光方法において、パネル内面の特定領域に対す
る電子ビーム軌道への近似エラを集中させ、その特定領
域以外の領域に対する電子ビーム軌道への近似エラを十
分に補正した補正レンズと、特定領域の光量分布を特定
領域以外の領域の光量分布に対して相対的に低くした光
量補正フィルタとを組合わせ、これら補正レンズと光量
補正フィルタとの組合わせを複数組用いて蛍光面形成部
材層を露光すると、従来連続曲面からなる補正レンズで
は補正が困難なミスランディングに対して、たとえばパ
ネル内面の特定領域に対する電子ビーム軌道への近似エ
ラを集中させ、その特定領域以外の領域に対する電子ビ
ーム軌道への近似エラを十分に補正した第１の補正レン
ズと、特定領域の光量分布を特定領域以外の領域の光量
分布に対して相対的に低くした第１の光量補正フィルタ
とを組合わせ、これら第１の補正レンズ系と第１の光量
補正フィルタとの組合わせを用いて蛍光面形成部材層を
露光する工程と、パネル内面の特定領域に対する電子ビ
ーム軌道への近似エラを十分に補正した第２の補正レン
ズと、特定領域の光量分布を特定領域以外の領域の光量
分布に対して相対的に高くした第２の光量補正フィルタ
とを組合わせ、これら第２の補正レンズと第２の光量補
正フィルタとの組合わせを用いて蛍光面形成部材層を露
光する工程とにより露光することにより、蛍光面全面に
わたり、ほぼ完全にミスランディングを補正することが
でき、色純度良好なカラー受像管を構成することができ
る。

【００３２】また、パネルの対角軸近傍を特定領域と
し、この特定領域に電子ビーム軌道への近似エラを集中
させ、その特定領域以外の領域に対する電子ビーム軌道
を十分に補正した第１の補正レンズと、特定領域の光量
分布を特定領域以外の領域の光量分布に対して相対的に
低くした光量補正フィルタとを組合わせ、これら第１の
補正レンズ系と光量補正フィルタとの組合わせを用いて
蛍光面形成部材層を露光する工程と、第１の補正レンズ
に対して、電子ビーム軌道への近似エラを集中を対角軸
方向にずらした第２の補正レンズと上記光量補正フィル
タとの組合わせを用いて蛍光面形成部材層を露光する工
程とにより、蛍光面形成部材層を露光することにより、
蛍光面全面にわたりランディングを補正すると同時に、
蛍光体ドットやマトリックス状光吸収層のマトリックス
ホールの長円形状を所望の円形にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例に係る露光装置の構成を示
す図である。

【図２】この発明の一実施例において補正しようとする
蛍光面のミスランディングパターンを示す図である。

【図３】図３（ａ）および（ｂ）はそれぞれ上記蛍光面
のミスランディングパターンを補正するための補正レン
ズのミスランディングパターンを示す図である。

【図４】図４（ａ）および（ｂ）はそれぞれ上記補正レ
ンズと組合わせて用いられる光量補正フィルタの透過率
分布を示す図である。

【図５】図５（ａ）および（ｂ）はそれぞれ上記補正レ
ンズと上記光量補正フィルタとの組合わせによりおこな
われる露光を説明するための図である。

【図６】カラー受像管の構成を示す図である。

【図７】図７（ａ）は蛍光体ドットからなる蛍光面の構
成を示す平面図、図７（ｂ）はその断面図である。

【図８】図８（ａ）はマトリックス状光吸収層とそのマ
トリックスホールに埋込むように設けられた蛍光体ドッ
トからなる蛍光面の構成を示す平面図、図８（ｂ）はそ
の断面図である。

【図９】従来の露光装置の構成を示す図である。

【図１０】図１０（ａ）および（ｂ）は従来の補正レン
ズでは補正不可能なカールミスランディングパターンを
説明するための図である。

【符号の説明】

１…パネル ３…蛍光面 ４…シャドウマスク １３…露光光源 １６…蛍光面形成部材層 ３０…支持台 ３１…補正レンズ ３２…光量補正フィルタ ３５a …第１の補正レンズ ３５b …第２の補正レンズ ３８a …第１の光量補正フィルタ ３８b …第２の光量補正フィルタ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 パネル内面に形成された蛍光面形成部材
   層にシャドウマスクを光学マスクとして、露光光源、こ
   の露光光源からの光線を電子ビームの軌道に近似させる
   補正レンズ、上記蛍光面形成部材層に対する光量分布を
   補正する光量補正フィルタを介して露光するカラー受像
   管の蛍光面露光方法において、 上記パネル内面の特定領域に対する電子ビーム軌道への
   近似エラを集中させ、上記特定領域以外の領域に対する
   電子ビーム軌道への近似エラを十分に補正した補正レン
   ズと、上記特定領域の光量分布を上記特定領域以外の領
   域の光量分布に対して相対的に低くした光量補正フィル
   タとを組合わせ、これら補正レンズと光量補正フィルタ
   との組合わせを複数組用いて上記蛍光面形成部材層を露
   光することを特徴とするカラー受像管の蛍光面露光方
   法。
2. 【請求項２】 パネル内面に形成された蛍光面形成部材
   層にシャドウマスクを光学マスクとして、露光光源、こ
   の露光光源からの光線を電子ビームの軌道に近似させる
   補正レンズ、上記蛍光面形成部材層に対する光量分布を
   補正する光量補正フィルタを介して露光するカラー受像
   管の蛍光面露光方法において、 上記パネル内面の特定領域に対する電子ビーム軌道への
   近似エラを集中させ、上記特定領域以外の領域に対する
   電子ビーム軌道への近似エラを十分に補正した第１の補
   正レンズと、上記特定領域の光量分布を上記特定領域以
   外の領域の光量分布に対して相対的に低くした第１の光
   量補正フィルタとを組合わせ、これら第１の補正レンズ
   と第１の光量補正フィルタとの組合わせを用いて上記蛍
   光面形成部材層を露光する工程と、上記特定領域に対す
   る電子ビーム軌道への近似エラを十分に補正した第２の
   補正レンズと、上記特定領域の光量分布を上記特定領域
   以外の領域の光量分布に対して相対的に高くした第２の
   光量補正フィルタとを組合わせ、これら第２の補正レン
   ズと第２の光量補正フィルタとの組合わせを用いて上記
   蛍光面形成部材層を露光する工程とからなることを特徴
   とするカラー受像管の蛍光面露光方法。
3. 【請求項３】 ほぼ矩形状パネルの内面に形成された蛍
   光面形成部材層にシャドウマスクを光学マスクとして、
   露光光源、この露光光源からの光線を電子ビームの軌道
   に近似させる補正レンズ、上記蛍光面形成部材層に対す
   る光量分布を補正する光量補正フィルタを介して露光す
   るカラー受像管の蛍光面露光方法において、 上記パネルの対角軸近傍を特定領域とし、この特定領域
   に対する電子ビーム軌道への近似エラを集中させ、上記
   特定領域以外の領域に対する電子ビーム軌道への近似エ
   ラを十分に補正した第１の補正レンズと、上記特定領域
   の光量分布を上記特定領域以外の領域の光量分布に対し
   て相対的に低くした光量補正フィルタとを組合わせ、こ
   れら第１の補正レンズと光量補正フィルタとの組合わせ
   を用いて上記蛍光面形成部材層を露光する工程と、上記
   第１の補正レンズに対して上記電子ビーム軌道への近似
   エラの集中を上記パネルの対角軸方向にずらした第２の
   補正レンズと上記光量補正フィルタとを組合わせ、これ
   ら第２の補正レンズと光量補正フィルタとを組合わせを
   用いて上記蛍光面形成部材層を露光する工程とからなる
   ことを特徴とするカラー受像管の蛍光面露光方法。