JPH0720317A - 偏光板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高温高湿下で劣化のないことや寸法安定性に
優れていることなどの良好な耐湿熱性を有し、且つ高い
生産性を有する偏光板を提供する。 【構成】 偏光膜及び該偏光膜の少なくとも一方の表面
に厚さ５０μｍ以上の保護膜が設けられてなる偏光板に
おいて、該保護膜が可塑剤を含有するセルロースエステ
ル系フィルムであり、そして該保護膜の表面から深さ１
０μｍまでの範囲における表面層の可塑剤含有量が３〜
９重量％であり、且つ該保護膜全体の可塑剤の平均濃度
が１１〜１８重量％の範囲にあることを特徴とする偏光
板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、パーソナルコンピュー
ター、ワードプロセッサー及びテレビ等に使用される液
晶ディスプレーの偏光板に関する。

【０００２】

【従来の技術】パーソナルコンピューター、ワードプロ
セッサー、時計や電卓等の使用されていた液晶ディスプ
レーは、タッチパネル、光シャッターあるいは自動車搭
載用の液晶ディスプレー等のように過酷な環境下で使用
されることが多くなってきている。従って、液晶ディス
プレーに使用される偏光板についても、当然過酷な環境
下でも特性が変化しないよう、例えば、高温高湿下で劣
化のないことや寸法安定性に優れていることなどの耐久
性が要求される。

【０００３】即ち、上記液晶ディスプレーに使用される
偏光板は、偏光膜とその片面又は両面に保護膜が接着さ
れた構成を有し、偏光膜としては、一軸配向されたポリ
ビニルアルコール（ＰＶＡ）にヨウ素及び／又は二色性
染料を吸着させたものが一般に使用され、また保護膜と
しては、良好な光透過性及び小さい複屈折を有するセル
ローストリアセテート（ＴＡＣ）が一般に使用される。
この保護膜の特性が上記偏光板の耐久性を支配している
ことから、保護膜は、上述の高温高湿下で劣化のないこ
とや寸法安定性に優れていることなどの良好な耐湿熱性
が当然要求される。

【０００４】従来のセルローストリアセテートの保護膜
は、膜に適度な柔軟性を付与するため、保護膜中にリン
酸エステル等の可塑剤を１５〜２０重量％含有してい
る。しかしながら、このような偏光板を高温高湿下で使
用した場合、保護膜にクラックが入ったり、保護膜が偏
光膜から剥離したり、あるいは保護膜が着色する等の問
題が発生する。

【０００５】上記問題を解決するため、リン酸エステル
等の可塑剤を１０重量％以下の量で含有した保護膜を用
いた偏光板が提案されている（特開昭６１−２４３４０
７号公報）。さらに、可塑剤を含まない保護膜を用いた
偏光板も提案されている（特開平１−２１４８０２号公
報）。しかしながら、これらの保護膜は、高温高湿下で
の耐久性（耐湿熱性）については向上したものである
が、柔軟性が低下するため保護膜自体が脆くなり、保護
膜の製膜工程、スリット加工、偏光膜と保護膜との接着
工程あるいは偏光板の加工工程（打ち抜き工程等）にお
いて種々の問題が発生する。即ち、保護膜であるセルロ
ーストリアセテートの製膜工程でのクラックの発生、偏
光膜と保護膜との接着不良、そして特にスリット加工や
打ち抜きの工程で切り屑の発生が多く、切り屑が製品に
付着して透明性等に欠陥を有する製品を多数製造するこ
とになる。更に、このように切断された切断面は、細か
いクラックによりノコギリ状になっているため、スリッ
トされたフィルムは搬送（巻き取り）中に引き裂かれる
場合がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明者は、
上記偏光板の保護膜（セルローストリアセテート等のセ
ルロースエステル系フィルム）について、上記柔軟性の
低下をもたらすことなく、前記耐湿熱性の向上を図るた
め種々検討を重ねてきた。そして、特にセルローストリ
アセテートフィルムの厚さ方向の可塑剤濃度分布に着目
して検討を重ねた結果、フィルム表面の可塑剤濃度を低
くし、フィルム全体としてはある程度可塑剤濃度を保持
することにより、フィルム全体としては柔軟性を維持し
ながら、耐湿熱性を向上させることができるとが明らか
となった。このような良好な柔軟性を有し、加工適性に
優れ、且つ高温高湿下で劣化のないことや寸法安定性に
優れていることなどの良好な耐湿熱性を有するセルロー
スエステル系フィルムを偏光板の保護膜として用いるこ
とにより耐湿熱性に優れた偏光板を高い生産性で得るこ
とができる。

【０００７】従って、本発明は、高温高湿下で劣化のな
いことや寸法安定性に優れていることなどの良好な耐湿
熱性を有する偏光板を提供することを目的とする。さら
に、本発明は、生産性が高く（製造が容易で歩留が高
い）、且つ耐湿熱性に優れた偏光板を提供することを目
的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的は、偏光膜及び
該偏光膜の少なくとも一方の表面に５０μｍ以上の保護
膜が設けられてなる偏光板において、該保護膜が可塑剤
を含有するセルロースエステル系フィルムであり、そし
て該保護膜の表面から深さ１０μｍまでの範囲における
表面層の可塑剤含有量が３〜９重量％であり、且つ該保
護膜全体の可塑剤の平均濃度が１１〜１８重量％の範囲
にあることを特徴とする偏光板により達成することがで
きる。

【０００９】上記本発明の偏光板の好ましい態様は下記
の通りである。

【００１０】（１）該可塑剤が、リン酸エステル系可塑
剤である上記の偏光板。

【００１１】（２）該セルロースエステルが、セルロー
ストリアセテートである上記の偏光板。

【００１２】（３）該保護膜が、溶液流延により得られ
るものである上記の偏光板。

【００１３】（４）該保護膜の表面から深さ１０μｍま
での範囲の表面層が、可塑剤を５〜７重量％含有してい
る上記の偏光板。

【００１４】（５）該保護膜全体が、該可塑剤を１３〜
１６重量％含有している上記の偏光板。

【００１５】（６）該保護膜の膜厚が、５０〜１５０μ
ｍである上記の偏光板。

【００１６】［発明の詳細な記述］本発明の偏光板は、
偏光膜及び該偏光膜の少なくとも一方の表面に保護膜が
設けられた基本構成を有する。図１及び図２に本発明の
偏光板の基本的な構成の断面を模式的に示す。

【００１７】図１には、偏光膜１１の一方の表面に、接
着層１３を介して保護膜１２が形成された偏光板が示さ
れている。保護膜は、このように接着剤（粘着剤）によ
り偏光膜表面に接着されるのが一般的である。保護膜上
には、更にハードコート層が形成されても良い。

【００１８】図２には、偏光膜２１の両方の表面に、そ
れぞれ接着層２３ａ、２３ｂを介して保護膜２２ａ及び
２２ｂが形成された偏光板が示されている。

【００１９】本発明の偏光板に使用される偏光膜は、公
知のものを使用することができる。例えば、ポリビニル
アルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルア
ルコール系フィルム及びエチレン・酢酸ビニル共重合体
のケン化フィルム等の親水性高分子フィルムにヨウ素及
び／又は二色性染料を吸着配向させた偏光フィルム；ポ
リビニルアルコール系フィルムを脱水処理してポリエン
を配向させた偏光フィルム；及びポリ塩化ビニルフィル
ムを脱塩酸処理してポリエンを配向させた偏光フィルム
を挙げることができる。

【００２０】本発明の偏光板の保護膜に使用されるセル
ロースエステルは、セルロースと脂肪酸とのエステルで
あり、例えば、セルロースジアセテート、セルロースト
リアセテート、セルローストリプロピオネート及びセル
ローストリブチレートを挙げることができる。また、セ
ルロースアセテートブチレート等の共重合体であっても
良い。さらに、これらを単独で使用しても、複数使用し
ても良い。上記の中では、セルローストリアセテートが
好ましい。またセルローストリアセテートの酢化度は、
５０〜７０％が好ましく、特に５５〜６５％が好まし
い。重量平均分子量７００００〜１２００００が好まし
く、特に８００００〜１０００００が好ましい。さら
に、上記セルローストリアセテートは、酢酸だけでなく
上記酢化度を満足する限り、一部プロピオン酸、酪酸等
の脂肪酸でエステル化されていても良い。あるいは、上
記セルローストリアセテートは、総量で上記酢化度を満
足する限りセルロースプロピオネート、セルロースブチ
レート等の他のセルロースエステル類を含んでいても良
い。

【００２１】本発明の偏光板の保護膜には、可塑剤が含
有されている。その例としては、トリフェニルホスフェ
ート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニル
ホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、クレ
ジルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホ
スフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホ
スフェート及びトリブトキシエチルホスフェート等のリ
ン酸エステル系可塑剤；ジエチルフタレート、ジメトキ
シエチルフタレート、ジメチルフタレート等のフタル酸
エステル；及びトリアセチン、トリブチリン、ブチルフ
タリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリ
コレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ｏ−ｐ
−トルエンエチルスルホンアミド、グリセロールトリア
セテート及びブチルフタリルブチルグリコレート等のグ
リセロールエステル系を挙げることができる。これらの
中で、リン酸エステル系可塑剤が好ましい。

【００２２】本発明の偏光板の保護膜は、セルロースエ
ステル系（好ましくはセルローストリアセテート）のフ
ィルムであって、保護膜の表面から深さ１０μｍまでの
範囲の表面層における、上記リン酸エステル系等の可塑
剤含有量が３〜９重量％であり、且つ保護膜全体の可塑
剤の平均濃度が１１〜１８重量％である。図３に、本発
明の保護膜の構成の断面を模式的に示す。保護膜３１の
内、表面から深さ１０μｍまでの範囲の層が表面層３２
ａ、３２ｂであり、従って、保護膜３１は表面層３２
ａ、３２ｂを含む保護膜全体である。表面層が、リン酸
エステル系等の可塑剤を３〜９重量％の量で含有する限
り、表面層の可塑剤の含有量は、均一であっても不均一
であっても良い。また、保護膜全体が、可塑剤を１１〜
１８重量％の平均濃度で含有している限り、表面層を除
いた保護膜の可塑剤の含有量は、均一であっても不均一
であっても良い。一般に、表面層に近い領域では可塑剤
の含有量は低く、内部では高くなっている。

【００２３】上記表面層は、リン酸エステル系可塑剤を
５〜７重量％の量で含有していることが好ましく、保護
膜全体が、リン酸エステル系可塑剤を１３〜１６重量％
の量で含有していることが好ましい。表面層のリン酸エ
ステル系可塑剤の含有量が９重量％を超えると、高温高
湿下で保護膜にクラックが入り易くなり（耐湿熱性の低
下）、３％未満の場合はスリット加工した際切断面がノ
コギリ状になり、フィルム（保護膜）は搬送（巻き取
り）中に引き裂かれ易くなる。保護膜（全体）中のリン
酸エステル系可塑剤の含有量が１８重量％を超えると経
時的に可塑剤が表面にブリードする場合があり、３％未
満の場合は製造時に切り屑の発生が多く、切り屑が製品
に付着して欠陥（透明性等に）のある保護膜を形成し易
い。上記保護膜の膜厚は、５０〜１５０μｍの範囲が好
ましく、特に７０〜１２０μｍの範囲が好ましい。

【００２４】また、本発明の保護膜は、紫外線吸収剤を
含有していても良い。例えば、２，２’−ジヒドロキシ
−４，４’−ジメトキシベンゾフェノンを挙げることが
できる。

【００２５】本発明の保護膜は、滑り性を付与するため
に無機又は有機化合物の微粒子を含有しても良い。無機
化合物の例として、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化
アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タ
ルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、
水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マ
グネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができ
る。酸化ケイ素、二酸化チタンおよび酸化ジルコニウム
が好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。 上記有機
化合物（ポリマー）の例として、シリコーン樹脂、弗素
樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコー
ン樹脂が好ましい。

【００２６】本発明のフィルムを溶液流延法で作製する
際に使用される溶剤としては、セルローストリアセテー
トを溶解できる溶剤であれば何でもよく、また、単独で
溶解できない溶剤であっても、他の溶剤と混合すること
により溶解できるものであれば使用することができる。
上記溶剤の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、イソオクタン及びシクロヘキサン等の脂
肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳
香族炭化水素；塩化メチル、塩化メチレン（メチレンク
ロライド）、四塩化炭素及びトリクロロエタン等のハロ
ゲン化炭化水素；メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等のアルコール；
そして蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル及び酢酸エ
チル等のエステル類を挙げることができる。

【００２７】一般には、メチレンクロライドとメタノー
ルの混合溶剤が使用されるが、セルロースエステルを析
出させない限り（ドープ作製中あるいは後の微粒子分散
液の添加時に）、他の溶剤、例えばイソプロピルアルコ
ールやｎ−ブチルアルコールを使用しても良い。ドープ
中のセルロースエステルと溶剤との割合は、重量比で１
０：９０〜３０：７０の範囲が好ましい。

【００２８】次に、本発明の保護膜を製造する方法につ
いて説明する。 i)１溶剤、セルローストリアセテート及び可塑剤をドー
プ用ミキシングタンクに投入し、攪拌して（加熱下に、
必要に応じ加圧下に）セルローストリアセテートを溶解
させてドープを調製する。 ii) 紫外線吸収剤等を使用する場合は、溶剤及び紫外線
吸収剤を別のミキシングタンクに投入し、攪拌して紫外
線吸収剤を溶解させる（滑り性を改善する微粒子を添加
する場合は、これを更に投入混合し、分散機に移し、微
粒子を充分分散させて分散液を調製する）。 iii)上記ドープ又は上記ドープと紫外線吸収剤含有溶液
の混合液を、適宜ドープフィルターを介して流延口に送
り、流延口からドープ（混合液）をドラム上に流延す
る。 iv) 流延口から混合液（ドープ）がドラム上に流延され
た後は、ドラムが一回転する間に流延された層が自己支
持性を有する程度に乾燥され、次いで、ドラムから剥離
されて充分に乾燥（８０〜１３０℃）された後、ドラム
に巻き取られる。上記ドラムの代わりに無端バンドを使
用しても良い。 v)本発明では、可塑剤含有量の少ない表面層を形成する
ために、さらにフィルムを１４０〜１６０℃で１分〜６
０分の間（好ましくは１４０〜１６０℃で３分〜３０分
の間）熱処理して、表面の可塑剤を揮発させることによ
り、本発明の保護膜用フィルムを作製する。

【００２９】上記可塑剤含有量の少ない表面層を形成す
る他の方法として、特開昭６１−９４７２５号公報に記
載されている共流延方法を利用することができる。即
ち、セルローストリアセテートをメチレンクロライド及
びメタノール等の混合溶媒中に溶解したドープ（Ｂ）を
共流延させる際に、アルコール等の貧溶媒の割合をドー
プ（Ｂ）の混合溶媒より高くした混合溶媒を用い且つセ
ルローストリアセテートの濃度をドープ（Ｂ）より低く
したドープ（Ａ）を、ドープ（Ｂ）の両側に配置して共
流延を行なうことにより製膜時間（ドラムから剥離する
までの時間）を短縮することができるものである。この
方法において、ドープ（Ａ）の可塑剤のセルローストリ
アセテートに対する割合を小さくして、共流延を行なえ
ば上記v)の乾燥工程を行なわなくても本発明の保護膜用
フィルムを製造することができる。

【００３０】また、上記可塑剤含有量の少ない表面層を
形成する方法として、特開昭６２−３７１１３号公報に
記載されている１０℃以下の支持体への流延方法を利用
することができる。即ち、セルローストリアセテートの
ドープを１０℃以下の支持体に流延させると、溶剤の割
合が大きい状態で乾燥工程に移されるので、この状態で
高温で急速に乾燥することによっても本発明の保護膜用
フィルムを製造することができる。即ち、可塑剤の溶解
度がセルローストリアセテートより圧倒的に大きいこと
から、上記急速乾燥により多量の溶剤がフィルム表面に
急速に移動して揮発していく際、フィルム表面付近の可
塑剤も溶剤と共に揮発するためと考えられる。

【００３１】上記保護膜用セルローストリアセテートフ
ィルム等のセルロースエステル系フィルムは、その後ス
リッターで小幅に切断され、次の偏光板製造工程に送ら
れる。偏光板製造工程では、保護膜となるセルロースエ
ステルフィルムの片面に接着剤を塗布した後、偏光膜の
片面又は両面に接着することにより偏光板を製造するこ
とができる。液晶ディスプレー用とする場合は、さらに
保護膜の片面に接着剤を塗布し、離型紙を仮接着し、打
ち抜き工程に送り打ち抜きを行なう。

【００３２】さらに、ドープあるいは分散液の調製時
に、必要に応じて、分散剤、蛍光染料、消泡剤、潤滑
剤、褪色防止剤、防腐剤等の公知の各種添加剤を用いて
も良い。

【００３３】

【実施例】

［実施例１］セルローストリアセテート（酢化度：６１
％）１００重量部、ＴＰＰ（トリフェニルホスフェー
ト）１５重量部、メチレンクロライド３６０重量部、メ
タノール４０重量部及び１−ブタノール２０重量部を混
合、加熱攪拌することにより、セルローストリアセテー
トを溶解させてドープを調製した。上記調製したドープ
を溶液製膜装置（ドープの流延口及びドラムからなる）
の流延口に送り、次いで流延口からドープをドラム上に
流延した。その後、ドラムから剥離したフィルムを、多
数のロールを有する熱処理装置（１００℃）の中を搬送
することにより乾燥し、膜厚８０μｍのセルローストリ
アセテートフィルムを作製した。このフィルムをさらに
上記熱処理装置に搬送して、１５０℃、１０分間の熱処
理して、フィルム表面の可塑剤を揮発させて保護膜用フ
ィルムを得た。

【００３４】得られた保護膜用フィルムを打ち抜きして
二枚の保護膜を作成し、これらの片面にポリウレタン系
接着剤を塗布して、ポリビニルアルコール・二色性染料
偏光膜（３０μｍ）の両面に接着することにより偏光板
を作製した。

【００３５】［実施例２］セルローストリアセテート
（酢化度：６１％）１００重量部、ＴＰＰ（トリフェニ
ルホスフェート）２２重量部、メチレンクロライド３６
０重量部、メタノール４０重量部及び１−ブタノール２
０重量部を混合、加熱攪拌することにより、セルロース
トリアセテートを溶解させてドープを調製した。上記調
製したドープを溶液製膜装置の流延口に送り、次いで流
延口からドープをドラム上に流延した。その後、ドラム
から剥離したフィルムを、多数のロールを有する熱処理
装置（１００℃）の中を搬送することにより乾燥し、厚
さ８０μｍのセルローストリアセテートフィルムを作製
した。このフィルムをさらに上記熱処理装置に搬送し
て、１５０℃、１５分間の熱処理して、フィルム表面の
可塑剤を揮発させて保護膜用フィルムを得た。

【００３６】得られた保護膜用フィルムを用いて実施例
１と同様にして偏光板を作製した。

【００３７】［比較例１］実施例１において、乾燥後の
１５０℃、１０分間の熱処理を行なわなかった以外は実
施例１と同様にしてセルローストリアセテートフィルム
を作製した。

【００３８】［比較例２］実施例１において、乾燥後の
１５０℃、１０分間の熱処理の代わりに、１４０℃、３
分間の熱処理を行なった以外は実施例１と同様にしてセ
ルローストリアセテートフィルムを作製した。

【００３９】［比較例３］セルローストリアセテート
（酢化度：６１％）１００重量部、ＴＰＰ（トリフェニ
ルホスフェート）７重量部、メチレンクロライド３６０
重量部、メタノール４０重量部及び１−ブタノール２０
重量部を混合、加熱攪拌することにより、セルロースト
リアセテートを溶解させてドープを調製した。上記調製
したドープを溶液製膜装置の流延口に送り、次いで流延
口からドープをドラム上に流延した。その後、ドラムか
ら剥離したフィルムを、多数のロールを有する熱処理装
置（１００℃）の中を搬送することにより乾燥し、膜厚
８０μｍのセルローストリアセテートフィルム（保護膜
用フィルム）を作製した。得られた保護膜用フィルムを
用いて実施例１と同様にして偏光板を作製した。

【００４０】上記で得られた保護膜用フィルム及び偏光
板について下記の方法によりその特性を評価した。

【００４１】１）フィルム中の可塑剤濃度（表面層及び
膜全体） 各例で得られた保護膜用フィルムについて、フィルムの
表面から深さ１０μｍまでの表面層を削って０．５ｇの
試料を採取し、フィルムのもう一方の表面についても同
様に試料を採取し、そしてフィルムを厚さ方向に切断し
て膜全体の試料として０．５ｇを採取した。比較例２の
み、フィルムの表面から深さ５μｍまでの表面層につい
ても採取した。上記試料０．５ｇをそれぞれクロロホル
ム４０ｍｌに溶解し、２μｌをガスクロマトグラフィの
気化室に注入し、ガスクロマトグラムを得、可塑剤濃度
は検量線を用いて決定した。

【００４２】上記ガスクロマトグラフィによる測定条件
は下記の通りである。 使用したガスクロマトグラフィ：ＧＣ−１５Ａ（（株）
島津製作所製） カラム：シリコンＯＶ、２％、１．６ｍ、３φ、２６０
℃ キャリアーガス：窒素５０ｍｌ／分 検出器：ＦＩＤ、水素０．６ｋｇ／ｃｍ² 、空気０．５
ｋｇ／ｃｍ² 気化室：２８０℃

【００４３】２）加工適性 各例で得られた保護膜用フィルムをスリット加工（切
断）を行ない、その時発生する切り屑の量を観察した。
またスリットしたフィルム切り口の凹凸の程度を顕微鏡
で観察し、下記のように評価した。 ＡＡ：切り屑の発生がほとんどなく、切り口が滑らかで
あった。 ＢＢ：切り屑が少し発生し、切り口が多少ノコギリ状で
あった。 ＣＣ：切り屑が多く、切り口がノコギリ状であった。

【００４４】３）耐湿熱性 得られた偏光板を１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切
断し、アクリル系接着剤を用いてガラス板に接着し、８
５℃、９０％ＲＨの雰囲気下に５００時間放置した後、
偏光板の割れ、保護膜の剥離、着色等について観察し、
下記のように評価した。 ＡＡ：割れ、剥離、着色のいずれの発生もなかった。 ＣＣ：割れが数か所発生し、若干の着色があった。 ＤＤ：割れ、剥離、着色の発生があった。

【００４５】上記測定結果を下記の表１に示す。

【００４６】

【表１】 表１ ──────────────────────────────────── 可塑剤濃度（wt％） 加工適性 耐湿熱性 総合評価 表面層 膜全体 ──────────────────────────────────── 実施例１ 6.3/6.0 11.2 ＢＢ ＡＡ 良 実施例２ 5.5/5.2 14.5 ＡＡ ＡＡ 優 ──────────────────────────────────── 比較例１ 14.2/13.8 12.5 ＢＢ ＤＤ 不可 比較例２ 10.8/10.5 12.5 ＢＢ ＣＣ 不可 比較例３ 7.2/7.0 6.4 ＣＣ ＡＡ 不可 ────────────────────────────────────

【００４７】上記結果から明らかなように、実施例１及
び２で得られた本発明の偏光板は、加工適性及び耐湿熱
性の両方において良好であった。一方、比較例１及び２
で得られた偏光板は、加工適性は良好であるが、耐湿熱
性が充分とは言えない。特に、比較例２で得られた偏光
板の保護膜については、深さ５μｍまでの表面層の可塑
剤濃度も測定したところ７．５及び７．３重量％との低
い値が得られたにもかかわらず、劣った耐湿熱性を示し
ており、本発明の可塑剤濃度を満足する表面層としては
１０μｍの深さまで必要であることが分かる。更に、可
塑剤濃度が１０重量％未満と低い保護膜を用いた偏光板
（比較例３）は、可塑剤濃度が低いため耐湿熱性は良好
であるが、加工適性に問題がある。

【００４８】

【発明の効果】本発明の偏光板を構成する保護膜は、膜
全体としては適度な量の可塑剤を含有しながら、その表
面層の可塑剤濃度が低く抑えられている。これにより、
可塑剤濃度が適度な場合の耐湿熱性の低下の問題、及び
可塑剤濃度が低い場合の柔軟性低下による加工適性の低
下の問題を共に解決したものである。従って、本発明の
保護膜を用いて偏光板を製造する場合には、保護膜用フ
ィルムが柔軟性を有することから、スリット加工時に切
り屑の発生が少なく、屑が保護膜に付着することに伴う
偏光板の透明性の低下がなく、またフィルムをスリット
した際の切り口が滑らかであるため、搬送中に引き裂か
れて切断されることもなく、また同様に偏光板の打ち抜
き工程においても切り屑の発生が少なく、屑が偏光板に
付着することに伴う種々の問題の発生もない。従って、
上記保護膜と偏光膜の接着により得られる本発明の偏光
板は、製造が容易で、歩留が高く、高い生産性を示すと
の優位性を有する。更に、本発明の偏光板を構成する保
護膜は、保護膜の表面層の可塑剤濃度が低いことから、
柔軟性を有するだけでなく、高温高湿下で、割れ、着色
等の発生がなく（即ち優れた耐湿熱性を有し）、従って
得られる偏光板についても高温高湿下で、偏光板の割
れ、保護膜の剥離、着色等の発生がほとんどなく耐湿熱
性に優れたものである。このため、本発明の偏光板が組
み込まれた液晶ディスプレーも、高温高湿下で長期間使
用しても劣化することがないものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の偏光板の基本的な構成の断面
の模式図である。

【図２】図２は、本発明の偏光板の基本的な別の構成の
断面の模式図である。

【図３】図３は、本発明の偏光板を構成する保護膜の断
面の模式図である。

【符号の説明】

１１、２１ 偏光膜 １２、２２ａ、２２ｂ、３１ 保護膜 １３、２３ａ、２３ｂ 接着層 ３２ａ、３２ｂ 表面層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 偏光膜及び該偏光膜の少なくとも一方の
   表面に厚さ５０μｍ以上の保護膜が設けられてなる偏光
   板において、該保護膜が可塑剤を含有するセルロースエ
   ステル系フィルムであり、そして該保護膜の表面から深
   さ１０μｍまでの範囲における表面層の可塑剤含有量が
   ３〜９重量％であり、且つ該保護膜全体の可塑剤の平均
   濃度が１１〜１８重量％の範囲にあることを特徴とする
   偏光板。