JPH07190942A - 鏡面上の異物検査装置 - Google Patents
鏡面上の異物検査装置Info
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- JPH07190942A JPH07190942A JP32914693A JP32914693A JPH07190942A JP H07190942 A JPH07190942 A JP H07190942A JP 32914693 A JP32914693 A JP 32914693A JP 32914693 A JP32914693 A JP 32914693A JP H07190942 A JPH07190942 A JP H07190942A
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】
【目的】大型ガラス基板のゴミ検査を高速・高感度で行
う。 【構成】ガラス基板１１を一軸送りする検査ステージ１
と、レーザ光をガラス基板に斜めに入射させて検査ステ
ージ１の送り方向と直交する方向に走査するレーザ投光
手段２と、レーザ光のガラス基板１１からの正反射光を
受光せず乱反射光を受光する受光素子９と、受光素子９
の光電変換出力信号を投光手段２の走査周期に同期し各
走査毎に一定サンプリング時間で読み込む信号処理回路
１０とを有し、レーザ光ビームは斜めに入射されガラス
基板上で楕円形状となり、複数の走査ライン上で同一異
物による乱反射光を受光できるため、信号処理回路１０
は、複走査分の同一走査位置におけるデータを加算して
出力する。 【効果】レーザを一方向に光学走査することで検査の高
速化が行える。隣接する複数走査位置での検出信号を加
算し、高感度となる。
う。 【構成】ガラス基板１１を一軸送りする検査ステージ１
と、レーザ光をガラス基板に斜めに入射させて検査ステ
ージ１の送り方向と直交する方向に走査するレーザ投光
手段２と、レーザ光のガラス基板１１からの正反射光を
受光せず乱反射光を受光する受光素子９と、受光素子９
の光電変換出力信号を投光手段２の走査周期に同期し各
走査毎に一定サンプリング時間で読み込む信号処理回路
１０とを有し、レーザ光ビームは斜めに入射されガラス
基板上で楕円形状となり、複数の走査ライン上で同一異
物による乱反射光を受光できるため、信号処理回路１０
は、複走査分の同一走査位置におけるデータを加算して
出力する。 【効果】レーザを一方向に光学走査することで検査の高
速化が行える。隣接する複数走査位置での検出信号を加
算し、高感度となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、板ガラス、研磨された
金属平面等の鏡面上のゴミや傷等の異物を検出する鏡面
上の異物検査装置に関し、特にガラス基板上のゴミを検
出するガラス基板ゴミ検査装置に関する。
金属平面等の鏡面上のゴミや傷等の異物を検出する鏡面
上の異物検査装置に関し、特にガラス基板上のゴミを検
出するガラス基板ゴミ検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のガラス基板検査装置として、例え
ば特開昭６３−２６３４５３に記載されたものがある。
ば特開昭６３−２６３４５３に記載されたものがある。
【０００３】図６〜図７はそれぞれ従来のガラス基板検
査装置を示す平面図、正面図及び要部の拡大図である。
この装置は、検査テーブル１１１と、走査手段１１２
と、検出手段１１３とから構成されている。
査装置を示す平面図、正面図及び要部の拡大図である。
この装置は、検査テーブル１１１と、走査手段１１２
と、検出手段１１３とから構成されている。
【０００４】テーブル本体１１５には回転テーブル１１
６が取り付けられており、検査テーブル１１１を直線移
動及び回転移動することにより走査を行っている。テー
ブル１１５は軸受け孔１１８に嵌合された支持軸１２
９，１３０により案内されエンコーダ１３２を備えた送
り用モータ１３１で回転する送りねじ１２８により送ら
れる。送りねじ１２８，支持軸１２９，１３０は基台１
２５に固定のブラケット１２６，１２７に取り付けられ
ている。回転テーブル１１６は軸受け部１１９上を回転
軸線１２０を中心に回転する回転テーブル部１２１を有
し、回転テーブル部１２１はベルト溝１２２に書けられ
たベルト１３５を介してエンコーダ１３６を備えた回転
用モータ１３４により回転させられる。
６が取り付けられており、検査テーブル１１１を直線移
動及び回転移動することにより走査を行っている。テー
ブル１１５は軸受け孔１１８に嵌合された支持軸１２
９，１３０により案内されエンコーダ１３２を備えた送
り用モータ１３１で回転する送りねじ１２８により送ら
れる。送りねじ１２８，支持軸１２９，１３０は基台１
２５に固定のブラケット１２６，１２７に取り付けられ
ている。回転テーブル１１６は軸受け部１１９上を回転
軸線１２０を中心に回転する回転テーブル部１２１を有
し、回転テーブル部１２１はベルト溝１２２に書けられ
たベルト１３５を介してエンコーダ１３６を備えた回転
用モータ１３４により回転させられる。
【０００５】検出手段１１３は、半球体状の反射面に形
成されていて、レーザ発振器１４３と、集光レンズ１４
４とからなる投光体１４５と、光電変換素子を持った乱
反射光検出体１４６とを備えており、また、被検査体１
０３からの正反射方向には光を逃がすための開口１４９
が開けられている。乱反射光検出体１４６は正反射光１
４８の光路を避けた方向に取り付けられていて、被検査
体１０３の表面の異物とか、傷などによる乱反射光を主
として受光するようになっており、その受光の強弱に応
じた強さの電気信号を送出する。
成されていて、レーザ発振器１４３と、集光レンズ１４
４とからなる投光体１４５と、光電変換素子を持った乱
反射光検出体１４６とを備えており、また、被検査体１
０３からの正反射方向には光を逃がすための開口１４９
が開けられている。乱反射光検出体１４６は正反射光１
４８の光路を避けた方向に取り付けられていて、被検査
体１０３の表面の異物とか、傷などによる乱反射光を主
として受光するようになっており、その受光の強弱に応
じた強さの電気信号を送出する。
【０００６】さらに、検査テーブル１１１の裏側には、
半球体状の反射内面を持った透過光集光器１５２が取り
付けられており、これには、光電変換素子を持った透過
光検出体１５３が取り付けられている。これは、検出光
１４７が被検査体１０３のピンホールによる投下光の変
化を検出して、その強弱に応じた電気信号を送出する。
半球体状の反射内面を持った透過光集光器１５２が取り
付けられており、これには、光電変換素子を持った透過
光検出体１５３が取り付けられている。これは、検出光
１４７が被検査体１０３のピンホールによる投下光の変
化を検出して、その強弱に応じた電気信号を送出する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のガラス
基板検査装置は、被検査物にスポットレーザ光を照射し
検出箇所近傍に半球体状の反射面を設置し、高感度に検
査できる半面、スポットレーザ光が固定されているため
走査は被検査物をステージ等でメカニカルに走査する必
要があり、高速検査が困難であるという問題があった。
基板検査装置は、被検査物にスポットレーザ光を照射し
検出箇所近傍に半球体状の反射面を設置し、高感度に検
査できる半面、スポットレーザ光が固定されているため
走査は被検査物をステージ等でメカニカルに走査する必
要があり、高速検査が困難であるという問題があった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の鏡面上の異物検
査装置は、被検査物を一軸方向に送る検査ステージと、
前記被検査物の被検査面に対しレーザ光を前記検査ステ
ージの送り方向と直交する方向に一定周期で走査するレ
ーザ投光手段と、前記レーザ投光手段によるレーザ光の
ガラス基板からの正反射方向近傍の正反射光が直接入ら
ない位置に前記レーザ投光手段に対向して置かれ前記被
検査面からの乱反射光を受光素子に受光させる受光手段
と、前記受光素子の光電変換出力信号を前記投光手段の
走査周期に同期し各走査毎に一定サンプリング時間で読
み込み順次シフトさせながら格納するメモリと、前記メ
モリで格納された隣接する複走査分の同一走査位置にお
けるデータを加算する加算器とを含む。
査装置は、被検査物を一軸方向に送る検査ステージと、
前記被検査物の被検査面に対しレーザ光を前記検査ステ
ージの送り方向と直交する方向に一定周期で走査するレ
ーザ投光手段と、前記レーザ投光手段によるレーザ光の
ガラス基板からの正反射方向近傍の正反射光が直接入ら
ない位置に前記レーザ投光手段に対向して置かれ前記被
検査面からの乱反射光を受光素子に受光させる受光手段
と、前記受光素子の光電変換出力信号を前記投光手段の
走査周期に同期し各走査毎に一定サンプリング時間で読
み込み順次シフトさせながら格納するメモリと、前記メ
モリで格納された隣接する複走査分の同一走査位置にお
けるデータを加算する加算器とを含む。
【０００９】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
【００１０】図１は、本発明の一実施例を示す斜視図で
ある。
ある。
【００１１】一軸ステージを有しガラス基板１１を載置
する検査ステージ１と、レーザ３、レーザ光を検査ステ
ージ１の送り方向（副走査方向）と直交する方向（主走
査方向）にしかも平行光として走査する放物面鏡５及び
この焦点位置に置かれたガルバノスキャナ４並びにレー
ザ光をガラス基板１１の検査面に所要の入射角度で投光
させる反射ミラー６とで構成されるレーザ投光手段２
と、レーザ投光手段２のレーザ光のガラス基板１１の正
反射方向からずらした方向でレーザ投光手段２によるガ
ラス基板１１からの正反射方向近傍の正反射光が直接入
らない位置にレーザ投光手段２に対向して置かれゴミに
よる乱反射光を受光する二つの円筒面レンズ８−ａ，８
−ｂ及び受光素子９とで構成される受光手段７と、受光
素子９の光電変換出力信号を投光手段２のガルバノスキ
ャナ４の走査周期に同期し各走査毎に一定サンプリング
時間で読み込む信号処理回路１０とで構成されている。
する検査ステージ１と、レーザ３、レーザ光を検査ステ
ージ１の送り方向（副走査方向）と直交する方向（主走
査方向）にしかも平行光として走査する放物面鏡５及び
この焦点位置に置かれたガルバノスキャナ４並びにレー
ザ光をガラス基板１１の検査面に所要の入射角度で投光
させる反射ミラー６とで構成されるレーザ投光手段２
と、レーザ投光手段２のレーザ光のガラス基板１１の正
反射方向からずらした方向でレーザ投光手段２によるガ
ラス基板１１からの正反射方向近傍の正反射光が直接入
らない位置にレーザ投光手段２に対向して置かれゴミに
よる乱反射光を受光する二つの円筒面レンズ８−ａ，８
−ｂ及び受光素子９とで構成される受光手段７と、受光
素子９の光電変換出力信号を投光手段２のガルバノスキ
ャナ４の走査周期に同期し各走査毎に一定サンプリング
時間で読み込む信号処理回路１０とで構成されている。
【００１２】図２は、図１の信号処理回路１０の構成を
示したブロック図である。受光素子９の光電変換出力信
号を各走査毎に一定サンプリング時間で読み込むサンプ
リング回路１２と、複走査分の取り込みデータを順次シ
フトさせながら格納するメモリ１３（それぞれが一走査
分のデータをシフトさせながら格納する１ラインメモリ
２３の複数本を直列に接続）と、メモリ１３で格納され
た隣接する複走査分の同一動作位置におけるデータを加
算する加算器１４と、加算器１４の出力を微分する微分
器１５とで構成されている。
示したブロック図である。受光素子９の光電変換出力信
号を各走査毎に一定サンプリング時間で読み込むサンプ
リング回路１２と、複走査分の取り込みデータを順次シ
フトさせながら格納するメモリ１３（それぞれが一走査
分のデータをシフトさせながら格納する１ラインメモリ
２３の複数本を直列に接続）と、メモリ１３で格納され
た隣接する複走査分の同一動作位置におけるデータを加
算する加算器１４と、加算器１４の出力を微分する微分
器１５とで構成されている。
【００１３】図３は、図１のレーザ投光手段２で投光さ
れるレーザビームのガラス基板１１上での形状を表した
斜視図である。レーザ光を斜めに投光しているため、ビ
ームの形状は光学走査方向１７と直交する方向に長い楕
円形状となり、レーザの入射角度が大きいほど長軸は長
くなる。長軸をレーザ光のガラス基板１１上の主走査の
ピッチの複数倍以上にすれば、異物１８からの乱反射光
を複数のステージ１の送り位置での複数回の主走査で検
出できる。
れるレーザビームのガラス基板１１上での形状を表した
斜視図である。レーザ光を斜めに投光しているため、ビ
ームの形状は光学走査方向１７と直交する方向に長い楕
円形状となり、レーザの入射角度が大きいほど長軸は長
くなる。長軸をレーザ光のガラス基板１１上の主走査の
ピッチの複数倍以上にすれば、異物１８からの乱反射光
を複数のステージ１の送り位置での複数回の主走査で検
出できる。
【００１４】図４（ａ）〜（ｄ）は、異物１８からの乱
反射光の検出方法を説明するためのグラフで、異なるス
テージ送り位置でのレーザ光の各走査での走査位置に対
する受光素子９の光電変換出力を示している。異物に対
する走査レーザビームの中心が近い程異物からの検出信
号１９は大きくなる。また、異物からの検出信号に混じ
って、乱反射受光型の検査装置においては外部からの漏
れ光や電気ノイズのためランダムなノイズが検出される
ため、異物のサイズが小さくなると異物による信号出力
との識別が困難となる。
反射光の検出方法を説明するためのグラフで、異なるス
テージ送り位置でのレーザ光の各走査での走査位置に対
する受光素子９の光電変換出力を示している。異物に対
する走査レーザビームの中心が近い程異物からの検出信
号１９は大きくなる。また、異物からの検出信号に混じ
って、乱反射受光型の検査装置においては外部からの漏
れ光や電気ノイズのためランダムなノイズが検出される
ため、異物のサイズが小さくなると異物による信号出力
との識別が困難となる。
【００１５】図５（ａ）、（ｂ）は、図４に示した各ス
テージ送り位置での出力を加算器１４により加算した信
号およびその微分器１５による微分信号の光学走査位置
に対する様子を示したグラフである。受光素子９が出力
する複数走査位置での各信号を加算器１４で加算するこ
とにより、ノイズ成分は、それぞれ位相がランダムであ
るため相互に打ち消し合い凹凸分がなくなりほぼフラッ
トな出力となる。一方異物からの検出信号１９は位相が
合っているため、突起信号として検出される。この加算
信号を微分器１５で微分し、一定レベル以上を検出する
ことにより、異物箇所を鮮明に検出できる。なお、加算
器１４にオフセット等がなければ加算器１４の出力が一
定レベル以上になることで異物を検出することもでき
る。
テージ送り位置での出力を加算器１４により加算した信
号およびその微分器１５による微分信号の光学走査位置
に対する様子を示したグラフである。受光素子９が出力
する複数走査位置での各信号を加算器１４で加算するこ
とにより、ノイズ成分は、それぞれ位相がランダムであ
るため相互に打ち消し合い凹凸分がなくなりほぼフラッ
トな出力となる。一方異物からの検出信号１９は位相が
合っているため、突起信号として検出される。この加算
信号を微分器１５で微分し、一定レベル以上を検出する
ことにより、異物箇所を鮮明に検出できる。なお、加算
器１４にオフセット等がなければ加算器１４の出力が一
定レベル以上になることで異物を検出することもでき
る。
【００１６】
【発明の効果】本発明の鏡面上の異物検査装置は、レー
ザを一方向に光学走査することで検査の高速化が行える
上、楕円ビーム形状の特徴を生かし隣接する複数走査位
置での検出信号を加算し、ランダムなノイズ成分を平坦
化した後に微分することで、高感度な異物検出が実現で
きるという効果がある。
ザを一方向に光学走査することで検査の高速化が行える
上、楕円ビーム形状の特徴を生かし隣接する複数走査位
置での検出信号を加算し、ランダムなノイズ成分を平坦
化した後に微分することで、高感度な異物検出が実現で
きるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す斜視図である。
【図２】図１に示した信号処理回路１０のブロック図で
ある。
ある。
【図３】図１のレーザ投光手段２で投光されるレーザビ
ームのガラス基板１１上での形状を表した斜視図であ
る。
ームのガラス基板１１上での形状を表した斜視図であ
る。
【図４】図１に示す光電素子９の出力を示すグラフであ
る。
る。
【図５】（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ光学走査位置に対
する図２に示す加算器１４の出力及び微分器１５の出力
を示すグラフである。
する図２に示す加算器１４の出力及び微分器１５の出力
を示すグラフである。
【図６】従来のガラス基板検査装置の平面図である。
【図７】図６の従来のガラス基板検査装置の正面図であ
る。
る。
【図８】図６に示す検出手段１１３の要部の一部を破断
して示す拡大正面図である。
して示す拡大正面図である。
１ 検査ステージ ２ レーザ投光手段 ３ レーザ ４ ガルバノスキャナ ５ 放物面鏡 ６ 反射ミラー ７ 受光手段 ８−ａ，８−ｂ 円筒面レンズ ９ 受光素子 １０ 信号処理回路 １１ ガラス基板 １２ サンプリング回路 １３ メモリ １４ 積分器 １５ 微分器 １６ レーザビーム １７ 光学走査方向 １８ 異物 １０３ 被検査体 １１１ 検査テーブル １１２ 走査手段 １１３ 検出手段 １１５ テーブル １１６ 回転テーブル １１７ 送りネジ孔 １１８ 軸受け孔 １１９ 軸受け部 １２０ 回転軸線 １２１ 回転テーブル部 １２２ ベルト溝 １２５ 基台 １２６，１２７ ブラケット １２８ 送りネジ １２９，１３０ 支持軸 １３１ 送り用モータ １３２，１３６ エンコーダ １３３ 送り駆動体 １３４ 回転用モータ １３５ ベルト １４１ 支持ブラケット １４２ 反射集光器 １４３ レーザ発振器 １４４ 集光光学系 １４５ 投光体 １４６ 乱反射光検出体 １４７ 検出光 １４７ａ レーザ光 １４８ 正反射光 １４９ 開口 １５２ 透過集光器 １５３ 透過光検出体 １５４ 透過光
Claims (3)
- 【請求項１】 被検査物を一軸方向に送る検査ステージ
と、前記被検査物の被検査面に対しレーザ光を前記検査
ステージの送り方向と直交する方向に一定周期で走査す
るレーザ投光手段と、前記レーザ投光手段によるレーザ
光のガラス基板からの正反射方向近傍の正反射光が直接
入らない位置に前記レーザ投光手段に対向して置かれ前
記被検査面からの乱反射光を受光素子に受光させる受光
手段と、前記受光素子の光電変換出力信号を前記投光手
段の走査周期に同期し各走査毎に一定サンプリング時間
で読み込み順次シフトさせながら格納するメモリと、前
記メモリで格納された隣接する複走査分の同一走査位置
におけるデータを加算する加算器とを含むことを特徴と
する鏡面上の異物検査装置。 - 【請求項２】 加算器の出力を微分する微分器を有する
請求項１記載の鏡面上の異物検査装置。 - 【請求項３】 前記レーザ投光手段の前記被検査面に対
するレーザ入射角度を極力大きくした請求項１又は２記
載の鏡面上の異物検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32914693A JPH07190942A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 鏡面上の異物検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32914693A JPH07190942A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 鏡面上の異物検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07190942A true JPH07190942A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18218158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32914693A Pending JPH07190942A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 鏡面上の異物検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07190942A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130224963A1 (en) * | 2012-02-27 | 2013-08-29 | Masayuki Hatano | Semiconductor manufacturing apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
| WO2015184086A1 (en) * | 2014-05-29 | 2015-12-03 | Corning Incorporated | Method for particle detection on flexible substrates |
| CN107219229A (zh) * | 2017-05-16 | 2017-09-29 | 武汉精测电子技术股份有限公司 | 一种面板灰尘过滤方法及装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6211151A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 表面欠陥検査装置 |
| JPS62291550A (ja) * | 1986-06-12 | 1987-12-18 | Canon Inc | 光デイスク検査装置 |
| JPH0552762A (ja) * | 1990-12-27 | 1993-03-02 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | ガラス板の異物検出装置 |
-
1993
- 1993-12-24 JP JP32914693A patent/JPH07190942A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6211151A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 表面欠陥検査装置 |
| JPS62291550A (ja) * | 1986-06-12 | 1987-12-18 | Canon Inc | 光デイスク検査装置 |
| JPH0552762A (ja) * | 1990-12-27 | 1993-03-02 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | ガラス板の異物検出装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130224963A1 (en) * | 2012-02-27 | 2013-08-29 | Masayuki Hatano | Semiconductor manufacturing apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
| US8901012B2 (en) * | 2012-02-27 | 2014-12-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor manufacturing apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
| WO2015184086A1 (en) * | 2014-05-29 | 2015-12-03 | Corning Incorporated | Method for particle detection on flexible substrates |
| CN106461571A (zh) * | 2014-05-29 | 2017-02-22 | 康宁股份有限公司 | 用于柔性基板上的颗粒检测的方法 |
| US9588056B2 (en) | 2014-05-29 | 2017-03-07 | Corning Incorporated | Method for particle detection on flexible substrates |
| CN107219229A (zh) * | 2017-05-16 | 2017-09-29 | 武汉精测电子技术股份有限公司 | 一种面板灰尘过滤方法及装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19961203 |