JPH07176086A - 複屈折に優れた光ディスク成形基板の製造方法 - Google Patents
複屈折に優れた光ディスク成形基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH07176086A JPH07176086A JP32051393A JP32051393A JPH07176086A JP H07176086 A JPH07176086 A JP H07176086A JP 32051393 A JP32051393 A JP 32051393A JP 32051393 A JP32051393 A JP 32051393A JP H07176086 A JPH07176086 A JP H07176086A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical disk
- molding
- substrate
- polycarbonate resin
- disk substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
- B29C45/17—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C45/26—Moulds
- B29C45/263—Moulds with mould wall parts provided with fine grooves or impressions, e.g. for record discs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ポリカーボネート樹脂を、成形温度３７０〜
３９０℃、型温１２０〜１４０℃、型締圧５〜１０トン
の成形条件で板厚１．０ｍｍ以下のディスク基板を射出
圧縮成形することを特徴とする、複屈折に優れた光ディ
スク成形基板の製造方法。 【効果】 本発明の成形方法により、従来得られなかっ
た、透明なポリカーボネート樹脂を用い、薄型で、且
つ、複屈折に優れ、反りの小さな光ディスク成形基板を
得ることが可能となることから、量産性及びコスト面で
非常に優れており、画像の高密度入力が可能となり、次
世代の光ディスク基板として、その効果は極めて大きい
ものである。
３９０℃、型温１２０〜１４０℃、型締圧５〜１０トン
の成形条件で板厚１．０ｍｍ以下のディスク基板を射出
圧縮成形することを特徴とする、複屈折に優れた光ディ
スク成形基板の製造方法。 【効果】 本発明の成形方法により、従来得られなかっ
た、透明なポリカーボネート樹脂を用い、薄型で、且
つ、複屈折に優れ、反りの小さな光ディスク成形基板を
得ることが可能となることから、量産性及びコスト面で
非常に優れており、画像の高密度入力が可能となり、次
世代の光ディスク基板として、その効果は極めて大きい
ものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は射出圧縮成形法によるポ
リカーボネート樹脂系薄型光ディスク成形基板の製造方
法に関する。
リカーボネート樹脂系薄型光ディスク成形基板の製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】１９８０年代初頭にコンパクトディスク
（ＣＤ）とレーザーディスク（ＬＤ）が市販されて以
来、光ディスクは急速に普及してきているが、現在で
は、更に、ＣＤサイズの光ディスクにＬＤ並の動画をデ
ジタルで記録することが望まれており、薄型で高密度化
されたものの開発が種々検討されている。（１９９２年
秋の「応用物理学会」における講演１７ｐ−Ｔ−１１、
１７ｐ−Ｔ−１３、１９９３年春の「応用物理学会」に
おける講演２９ａ−Ｂ−８、２９ａ−Ｂ−５等） 従来、薄型高密度ディスクの製造方法としては、転写法
の１つである２Ｐ法によって、ガラス基板や樹脂板上に
硬化性樹脂を塗布又は注入し、ピット又は溝を形成させ
た原盤を重ね合わせた後に硬化性樹脂を硬化させる方
法、又は、エッチング法によって基板上にピット又は溝
を形成していた。しかしながら、これらの方法は量産性
とコスト面では優れているとは言えない。
（ＣＤ）とレーザーディスク（ＬＤ）が市販されて以
来、光ディスクは急速に普及してきているが、現在で
は、更に、ＣＤサイズの光ディスクにＬＤ並の動画をデ
ジタルで記録することが望まれており、薄型で高密度化
されたものの開発が種々検討されている。（１９９２年
秋の「応用物理学会」における講演１７ｐ−Ｔ−１１、
１７ｐ−Ｔ−１３、１９９３年春の「応用物理学会」に
おける講演２９ａ−Ｂ−８、２９ａ−Ｂ−５等） 従来、薄型高密度ディスクの製造方法としては、転写法
の１つである２Ｐ法によって、ガラス基板や樹脂板上に
硬化性樹脂を塗布又は注入し、ピット又は溝を形成させ
た原盤を重ね合わせた後に硬化性樹脂を硬化させる方
法、又は、エッチング法によって基板上にピット又は溝
を形成していた。しかしながら、これらの方法は量産性
とコスト面では優れているとは言えない。
【０００３】このような状況において、量産性とコスト
面で優れている製造方法として、透明な熱可塑性樹脂を
射出成形法又は射出圧縮成形法によって薄型高密度ディ
スク成形基板を得る方法の開発が強く望まれている。
面で優れている製造方法として、透明な熱可塑性樹脂を
射出成形法又は射出圧縮成形法によって薄型高密度ディ
スク成形基板を得る方法の開発が強く望まれている。
【０００４】また、光ディスクは、基板を通過したレー
ザー光線がピットや溝で反射され、これらの凹凸により
反射光に光路差が生じるために、干渉が発生し、読み取
り信号やトラッキング信号が求められる。しかしなが
ら、光ディスク基板に複屈折があると、光ディスクから
反射する光の偏光が直線偏光から楕円偏光になってしま
う。そのため、読み取り信号やトラッキング信号の振幅
が小さくなると同時にノイズが重畳してしまい、データ
エラー率が高くなったり、トラッキングが不安定になる
という問題が発生する。また、反りが大きいとトラッキ
ングやフォーカスが不安定となり、光ディスクに記録さ
れているデータの正確な読み取りが不可能となってしま
う。
ザー光線がピットや溝で反射され、これらの凹凸により
反射光に光路差が生じるために、干渉が発生し、読み取
り信号やトラッキング信号が求められる。しかしなが
ら、光ディスク基板に複屈折があると、光ディスクから
反射する光の偏光が直線偏光から楕円偏光になってしま
う。そのため、読み取り信号やトラッキング信号の振幅
が小さくなると同時にノイズが重畳してしまい、データ
エラー率が高くなったり、トラッキングが不安定になる
という問題が発生する。また、反りが大きいとトラッキ
ングやフォーカスが不安定となり、光ディスクに記録さ
れているデータの正確な読み取りが不可能となってしま
う。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、従来得られなかった、透明なポリカーボネート
樹脂を用い、射出圧縮成形法により、薄型で、且つ、複
屈折が低く、反りの小さな光ディスク成形基板を得るた
めの成形方法を提供することにある。
ころは、従来得られなかった、透明なポリカーボネート
樹脂を用い、射出圧縮成形法により、薄型で、且つ、複
屈折が低く、反りの小さな光ディスク成形基板を得るた
めの成形方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨とするとこ
ろは、ポリカーボネート樹脂を、成形温度３７０〜３９
０℃、型温１２０〜１４０℃、型締圧５〜１０トンの成
形条件で板厚１．０ｍｍ以下のディスク基板を射出圧縮
成形することを特徴とする、複屈折に優れた光ディスク
成形基板の製造方法にある。
ろは、ポリカーボネート樹脂を、成形温度３７０〜３９
０℃、型温１２０〜１４０℃、型締圧５〜１０トンの成
形条件で板厚１．０ｍｍ以下のディスク基板を射出圧縮
成形することを特徴とする、複屈折に優れた光ディスク
成形基板の製造方法にある。
【０００７】本発明に用いられるポリカーボネート樹脂
としては、ビスフェノールＡとホスゲン、又はビスフェ
ノールＡとジフェニルカーボネートから得られるもの等
が挙げられる。
としては、ビスフェノールＡとホスゲン、又はビスフェ
ノールＡとジフェニルカーボネートから得られるもの等
が挙げられる。
【０００８】本発明においては、得られる光ディスク成
形基板の厚みは１．０ｍｍ以下であることが好ましい。
即ち、「光学技術コンタクト」２３，Ｎｏ．７，１９８
５の４５１頁の（４）式に記載されているように、傾い
た光ディスク成形基板上には板厚と開口数の３乗に比例
した大きさのコマ収差が発生する。従って、厚みが１．
０ｍｍを越えると、光ディスクを高密度化するために開
口数の高い対物レンズを使った場合、コマ収差が大きく
なり、その結果、ディスク基板が傾いたときにクロスト
ークが大きくなると同時に、ディスクからの戻り光量が
減少するため、Ｓ／Ｎ比が劣化すると共に、ジッターが
増大し過ぎ、好ましくない。
形基板の厚みは１．０ｍｍ以下であることが好ましい。
即ち、「光学技術コンタクト」２３，Ｎｏ．７，１９８
５の４５１頁の（４）式に記載されているように、傾い
た光ディスク成形基板上には板厚と開口数の３乗に比例
した大きさのコマ収差が発生する。従って、厚みが１．
０ｍｍを越えると、光ディスクを高密度化するために開
口数の高い対物レンズを使った場合、コマ収差が大きく
なり、その結果、ディスク基板が傾いたときにクロスト
ークが大きくなると同時に、ディスクからの戻り光量が
減少するため、Ｓ／Ｎ比が劣化すると共に、ジッターが
増大し過ぎ、好ましくない。
【０００９】本発明においては、光ディスク基板は射出
圧縮成形法によって成形されるが、成形条件としては、
成形温度３７０〜３９０℃、型温１２０〜１４０℃、型
締圧５〜１０トンであることが必要である。
圧縮成形法によって成形されるが、成形条件としては、
成形温度３７０〜３９０℃、型温１２０〜１４０℃、型
締圧５〜１０トンであることが必要である。
【００１０】成形温度が３７０℃未満では、薄型ディス
ク基板を成形すると基板の反りが大きくなるため好まし
くない。また、成形温度が３９０℃を越えると成形材料
が熱分解するため好ましくない。
ク基板を成形すると基板の反りが大きくなるため好まし
くない。また、成形温度が３９０℃を越えると成形材料
が熱分解するため好ましくない。
【００１１】型温が１２０℃未満では基板の複屈折が大
きくなり、好ましくない。また、型温が１４０℃を越え
ると反りが大きくなるため好ましくない。
きくなり、好ましくない。また、型温が１４０℃を越え
ると反りが大きくなるため好ましくない。
【００１２】また、型締圧が５トン未満では充分な成形
ができず、逆に１０トンを越えると複屈折が大きくなる
ため好ましくない。
ができず、逆に１０トンを越えると複屈折が大きくなる
ため好ましくない。
【００１３】
【実施例】以下に、実施例により本発明を更に詳しく説
明する。
明する。
【００１４】本発明では、射出成形機（名機製作所
（株）製ダイナメルタＭ−７０Ａ−ＤＭ）を用い、０．
６〜１．０μｍのピッチを有するピット及び溝が形成さ
れたスタンパーを装着した金型を用い、外径１２０ｍ
ｍ、厚さ０．６ｍｍの光ディスク成形基板を射出圧縮成
形し、その基板について複屈折及び反りの状態について
評価を行った。
（株）製ダイナメルタＭ−７０Ａ−ＤＭ）を用い、０．
６〜１．０μｍのピッチを有するピット及び溝が形成さ
れたスタンパーを装着した金型を用い、外径１２０ｍ
ｍ、厚さ０．６ｍｍの光ディスク成形基板を射出圧縮成
形し、その基板について複屈折及び反りの状態について
評価を行った。
【００１５】基板の複屈折測定には偏光顕微鏡を用い、
波長５４６ｎｍの光線で測定した。また、光ディスクの
反りについては、成形後１日以上室温放置した基板につ
いて、ディスク基板の中心部分に対する、最外周におけ
る垂直方向の変位量を反り量として測定した。
波長５４６ｎｍの光線で測定した。また、光ディスクの
反りについては、成形後１日以上室温放置した基板につ
いて、ディスク基板の中心部分に対する、最外周におけ
る垂直方向の変位量を反り量として測定した。
【００１６】［実施例１〜４、比較例１〜３］透明熱可
塑性樹脂として、帝人化成（株）製ポリカーボネート樹
脂ＡＤ９０００ＴＧを用い、表１に示すシリンダー温
度、型温、型締圧の成形条件にて各種光ディスク成形基
板を成形した。この基板の複屈折及び反りについての評
価結果を表１に示した。
塑性樹脂として、帝人化成（株）製ポリカーボネート樹
脂ＡＤ９０００ＴＧを用い、表１に示すシリンダー温
度、型温、型締圧の成形条件にて各種光ディスク成形基
板を成形した。この基板の複屈折及び反りについての評
価結果を表１に示した。
【００１７】
【表１】
【００１８】
【発明の効果】本発明の成形方法により、従来得られな
かった、透明なポリカーボネート樹脂を用い、薄型で、
且つ、複屈折に優れ、反りの小さな光ディスク成形基板
を得ることが可能となることから、量産性及びコスト面
で非常に優れており、画像の高密度入力が可能となり、
次世代の光ディスク基板として、その効果は極めて大き
いものである。
かった、透明なポリカーボネート樹脂を用い、薄型で、
且つ、複屈折に優れ、反りの小さな光ディスク成形基板
を得ることが可能となることから、量産性及びコスト面
で非常に優れており、画像の高密度入力が可能となり、
次世代の光ディスク基板として、その効果は極めて大き
いものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｌ 11:00
Claims (1)
- 【請求項１】 ポリカーボネート樹脂を、成形温度３７
０〜３９０℃、型温１２０〜１４０℃、型締圧５〜１０
トンの成形条件で板厚１．０ｍｍ以下のディスク基板を
射出圧縮成形することを特徴とする、複屈折に優れた光
ディスク成形基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32051393A JPH07176086A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 複屈折に優れた光ディスク成形基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32051393A JPH07176086A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 複屈折に優れた光ディスク成形基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07176086A true JPH07176086A (ja) | 1995-07-14 |
Family
ID=18122291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32051393A Pending JPH07176086A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 複屈折に優れた光ディスク成形基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07176086A (ja) |
-
1993
- 1993-12-20 JP JP32051393A patent/JPH07176086A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100406478B1 (ko) | 광학기록매체및그제조방법 | |
| JP2517341B2 (ja) | 光学式情報記録ディスクの製造方法 | |
| JPH07176086A (ja) | 複屈折に優れた光ディスク成形基板の製造方法 | |
| KR20050091757A (ko) | 액정부품 | |
| JPH08142144A (ja) | 複屈折に優れた光ディスク成形基板の製造方法及びこの成形基板を用いて得られる光ディスク | |
| JP2001200065A (ja) | 透明成形体及びそれを用いた記録媒体 | |
| JPH07130003A (ja) | 光ディスク成形基板 | |
| JPH07176085A (ja) | 転写性に優れた光ディスク成形基板の製造方法 | |
| JPH07171903A (ja) | 転写性及び複屈折に優れた光ディスク成形基板の製造方法 | |
| JPH08132497A (ja) | 転写性に優れた光ディスク成形基板の製造方法及びこの成形基板を用いて得られる光ディスク | |
| JPH09282727A (ja) | 光磁気記録再生装置と再生方法 | |
| JPH08132496A (ja) | 複屈折に優れた光ディスク成形基板の製造方法及びこの成形基板を用いて得られる光ディスク | |
| JP2000322767A (ja) | 光ディスク | |
| JPH07161081A (ja) | 複屈折に優れた光ディスク成形基板の製造方法 | |
| US6428872B1 (en) | Preparation of a recording carrier | |
| JPH10334518A (ja) | 光ディスク及びスタンパー | |
| JPH06131696A (ja) | 光ディスク基板及びこれを用いた光ディスク | |
| RU2191695C2 (ru) | Способ изготовления носителя для записи информации | |
| JP2963516B2 (ja) | 光学的情報記録媒体用基板およびその製造方法 | |
| JPH05151624A (ja) | 光デイスク用スタンパの測定法 | |
| JPH09123223A (ja) | 射出成型用金型装置及び樹脂成形品の製法 | |
| JPS63225941A (ja) | 光学式デイスク用基盤成形方法 | |
| AU744670B2 (en) | Optical recording medium and method of producing same | |
| JPH08132495A (ja) | 転写性に優れた光ディスク成形基板の製造方法及びこの成形基板を用いて得られる光ディスク | |
| JPH07144351A (ja) | 転写性に優れた光ディスク成形基板の製造方法 |