JPH07170112A - 静磁波装置 - Google Patents
静磁波装置Info
- Publication number
- JPH07170112A JPH07170112A JP34312793A JP34312793A JPH07170112A JP H07170112 A JPH07170112 A JP H07170112A JP 34312793 A JP34312793 A JP 34312793A JP 34312793 A JP34312793 A JP 34312793A JP H07170112 A JPH07170112 A JP H07170112A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetostatic wave
- wave device
- yoke
- magnetic field
- permanent magnets
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- Pending
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- Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単に周波数調整ができ、しかも小型化が可
能な静磁波装置を得る。 【構成】 静磁波装置10は、ケース12を含む。ケー
ス12内に、アース電極およびストリップライン電極1
8,20を形成した誘電体基板14を配置する。ストリ
ップライン電極18,20上に、GGG基板とYIG薄
膜からなるフェリ磁性基体22を配置する。ヨーク32
に永久磁石34a,34b,36a,36bおよびポー
ルピース38,40を取り付ける。ポールピース38,
40間に、ケース12を配置する。ヨーク32の外壁面
から永久磁石34a,34bの間および永久磁石36
a,36bの間に向かって、調整部材としての螺子4
2,44を螺入する。螺子42,44の挿入量は可変と
する。
能な静磁波装置を得る。 【構成】 静磁波装置10は、ケース12を含む。ケー
ス12内に、アース電極およびストリップライン電極1
8,20を形成した誘電体基板14を配置する。ストリ
ップライン電極18,20上に、GGG基板とYIG薄
膜からなるフェリ磁性基体22を配置する。ヨーク32
に永久磁石34a,34b,36a,36bおよびポー
ルピース38,40を取り付ける。ポールピース38,
40間に、ケース12を配置する。ヨーク32の外壁面
から永久磁石34a,34bの間および永久磁石36
a,36bの間に向かって、調整部材としての螺子4
2,44を螺入する。螺子42,44の挿入量は可変と
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は静磁波装置に関し、特
にたとえば、フィルタなどとして用いられる静磁波装置
に関する。
にたとえば、フィルタなどとして用いられる静磁波装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】図7は従来の静磁波装置の一例を示す図
解図である。静磁波装置1は、ケース2を含む。ケース
2内には、誘電体基板3が形成される。誘電体基板3の
一方面上にはアース電極が形成され、誘電体基板3の他
方面上には2つのストリップライン電極4a,4bが形
成される。これらのストリップライン電極4a,4bの
一端はアース電極に接続され、トランスデューサとして
のマイクロストリップラインが形成される。そして、ス
トリップライン電極4a,4bの他端にコネクタ5a,
5bが取り付けられ、入力端および出力端として用いら
れる。ストリップライン電極4a,4b上には、フェリ
磁性基体6が配置される。フェリ磁性基体6は、GGG
(ガドリニウム−ガリウム−ガーネット)基板上にYI
G(イットリウム−鉄−ガーネット)薄膜を形成したも
のである。
解図である。静磁波装置1は、ケース2を含む。ケース
2内には、誘電体基板3が形成される。誘電体基板3の
一方面上にはアース電極が形成され、誘電体基板3の他
方面上には2つのストリップライン電極4a,4bが形
成される。これらのストリップライン電極4a,4bの
一端はアース電極に接続され、トランスデューサとして
のマイクロストリップラインが形成される。そして、ス
トリップライン電極4a,4bの他端にコネクタ5a,
5bが取り付けられ、入力端および出力端として用いら
れる。ストリップライン電極4a,4b上には、フェリ
磁性基体6が配置される。フェリ磁性基体6は、GGG
(ガドリニウム−ガリウム−ガーネット)基板上にYI
G(イットリウム−鉄−ガーネット)薄膜を形成したも
のである。
【0003】ケース2は、ヨーク7の内部に配置され
る。ヨーク7は鉄を用いてコ字状に形成され、その内側
の対向する部分に永久磁石8a,8bが形成される。そ
して、ケース2は、永久磁石8a,8bの間に配置され
る。これらの永久磁石8a,8bにより、フェリ磁性基
体6の主面に平行に、直流磁界が印加される。この状態
で、入力側のストリップライン電極4aに信号が与えら
れる。この入力信号によって静磁波が励起され、この静
磁波がYIG薄膜を伝播する。そして、伝達された静磁
波を受信することによって、出力側のストリップライン
電極4bから出力信号が得られる。このような静磁波装
置1は、たとえばフィルタ特性を有する。
る。ヨーク7は鉄を用いてコ字状に形成され、その内側
の対向する部分に永久磁石8a,8bが形成される。そ
して、ケース2は、永久磁石8a,8bの間に配置され
る。これらの永久磁石8a,8bにより、フェリ磁性基
体6の主面に平行に、直流磁界が印加される。この状態
で、入力側のストリップライン電極4aに信号が与えら
れる。この入力信号によって静磁波が励起され、この静
磁波がYIG薄膜を伝播する。そして、伝達された静磁
波を受信することによって、出力側のストリップライン
電極4bから出力信号が得られる。このような静磁波装
置1は、たとえばフィルタ特性を有する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような静磁波装置
では、フェリ磁性基体に印加される直流磁界の強さによ
って、その周波数特性を変えることができる。フェリ磁
性基体に印加される直流磁界は、永久磁石を着磁または
減磁することにより、その強さを変えることができる。
しかしながら、このような方法では、静磁波装置の周波
数特性を微調整するとき、着磁や減磁などの作業に手間
がかかり、生産性に問題がある。
では、フェリ磁性基体に印加される直流磁界の強さによ
って、その周波数特性を変えることができる。フェリ磁
性基体に印加される直流磁界は、永久磁石を着磁または
減磁することにより、その強さを変えることができる。
しかしながら、このような方法では、静磁波装置の周波
数特性を微調整するとき、着磁や減磁などの作業に手間
がかかり、生産性に問題がある。
【0005】そこで、電磁石を用いて直流磁界をつく
り、フェリ磁性基体に印加することが考えられる。この
ような静磁波装置では、電磁石に流れる電流を調整する
ことにより、所望の強さの直流磁界を得ることができ、
静磁波装置の周波数特性を調整することができる。しか
しながら、このような静磁波装置では、電磁石の電流を
調整するための回路が必要であり、静磁波装置の小型化
には不向きであった。
り、フェリ磁性基体に印加することが考えられる。この
ような静磁波装置では、電磁石に流れる電流を調整する
ことにより、所望の強さの直流磁界を得ることができ、
静磁波装置の周波数特性を調整することができる。しか
しながら、このような静磁波装置では、電磁石の電流を
調整するための回路が必要であり、静磁波装置の小型化
には不向きであった。
【0006】それゆえに、この発明の主たる目的は、簡
単に周波数調整ができ、しかも小型化が可能な静磁波装
置を提供することである。
単に周波数調整ができ、しかも小型化が可能な静磁波装
置を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明は、フェリ磁性
基体と、フェリ磁性基体の主面上に形成されるのトラン
スデューサと、フェリ磁性基体に磁界を与えるための永
久磁石と、磁界内に存在して磁界内の磁力線の分布状態
を変化させる調整部材とを有する、静磁波装置である。
基体と、フェリ磁性基体の主面上に形成されるのトラン
スデューサと、フェリ磁性基体に磁界を与えるための永
久磁石と、磁界内に存在して磁界内の磁力線の分布状態
を変化させる調整部材とを有する、静磁波装置である。
【0008】
【作用】調整部材によって、永久磁石による磁界内の磁
力線の分布状態が変化する。それにより、フェリ磁性基
体に印加される直流磁界の強さが変化する。
力線の分布状態が変化する。それにより、フェリ磁性基
体に印加される直流磁界の強さが変化する。
【0009】
【発明の効果】この発明によれば、調整部材により、フ
ェリ磁性基体に印加される直流磁界の強さを変えること
ができる。フェリ磁性基体に印加される直流磁界の強さ
が変わると、静磁波装置の周波数特性が変わる。したが
って、調整部材により、簡単に静磁波装置の周波数特性
を調整することができる。しかも、電磁石を用いた静磁
波装置のような周辺回路が不要であり、静磁波装置を小
型化することができる。
ェリ磁性基体に印加される直流磁界の強さを変えること
ができる。フェリ磁性基体に印加される直流磁界の強さ
が変わると、静磁波装置の周波数特性が変わる。したが
って、調整部材により、簡単に静磁波装置の周波数特性
を調整することができる。しかも、電磁石を用いた静磁
波装置のような周辺回路が不要であり、静磁波装置を小
型化することができる。
【0010】この発明の上述の目的,その他の目的,特
徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施例の詳
細な説明から一層明らかとなろう。
徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施例の詳
細な説明から一層明らかとなろう。
【0011】
【実施例】図1はこの発明の一実施例を示す図解図であ
る。静磁波装置10は、ケース12を含む。ケース12
内には、誘電体基板14が形成される。図2および図3
に示すように、誘電体基板14の一方主面の全面には、
アース電極16が形成される。また、誘電体基板14の
他方主面上には、2つのストリップライン電極18,2
0が形成される。ストリップライン電極18,20は、
誘電体基板14の対向する端部から中央方向へ延び、そ
れぞれ同じ方向に折れ曲がって誘電体基板14の同じ端
部に導かれる。そして、この端部から誘電体基板14の
端面を通って、ストリップライン電極18,20がアー
ス電極16に接続される。これらのストリップライン電
極18,20とアース電極16とで、トランスデューサ
としてのマイクロストリップラインが形成される。
る。静磁波装置10は、ケース12を含む。ケース12
内には、誘電体基板14が形成される。図2および図3
に示すように、誘電体基板14の一方主面の全面には、
アース電極16が形成される。また、誘電体基板14の
他方主面上には、2つのストリップライン電極18,2
0が形成される。ストリップライン電極18,20は、
誘電体基板14の対向する端部から中央方向へ延び、そ
れぞれ同じ方向に折れ曲がって誘電体基板14の同じ端
部に導かれる。そして、この端部から誘電体基板14の
端面を通って、ストリップライン電極18,20がアー
ス電極16に接続される。これらのストリップライン電
極18,20とアース電極16とで、トランスデューサ
としてのマイクロストリップラインが形成される。
【0012】ストリップライン電極18,20上には、
フェリ磁性基体22が配置される。フェリ磁性基体22
は、GGG(ガドリニウム−ガリウム−ガーネット)基
板24を含む。このGGG基板24上に、YIG(イッ
トリウム−鉄−ガーネット)薄膜26が形成されてい
る。そして、ストリップライン電極18,20側には、
YIG薄膜26側が配置される。さらに、ケース12に
は、ストリップライン電極18,20に接続されるコネ
クタ28,30が取り付けられる。これらのコネクタ2
8,30が、入出力端子となる。
フェリ磁性基体22が配置される。フェリ磁性基体22
は、GGG(ガドリニウム−ガリウム−ガーネット)基
板24を含む。このGGG基板24上に、YIG(イッ
トリウム−鉄−ガーネット)薄膜26が形成されてい
る。そして、ストリップライン電極18,20側には、
YIG薄膜26側が配置される。さらに、ケース12に
は、ストリップライン電極18,20に接続されるコネ
クタ28,30が取り付けられる。これらのコネクタ2
8,30が、入出力端子となる。
【0013】ケース12は、ヨーク32の内部に配置さ
れる。ヨーク32は、図4に示すように、鉄を用いてコ
字状に形成される。そして、ヨーク32の内側の対向す
る部分に、永久磁石34a,34bおよび永久磁石36
a,36bが取り付けられる。永久磁石34a,34b
は、たとえば直方体状に形成され、ヨーク32の一方の
内壁部に間隔を隔てて取り付けられる。これらの永久磁
石34a,34bは、たとえばそのN極がヨーク32の
中央方向となるように取り付けられる。同様に、永久磁
石36a,36bは直方体状に形成され、ヨーク32の
他方の内壁部に間隔を隔てて取り付けられる。これらの
永久磁石36a,36bは、そのS極がヨーク32の中
央方向となるように取り付けられる。永久磁石34a,
34bの内側および永久磁石36a,36bの内側に
は、板状のポールピース38,40が取り付けられる。
ポールピース38,40は磁性体材料で形成され、これ
らのポールピース38,40によって、ヨーク32の中
央部にほぼ一様な磁界分布を得ることができる。そし
て、2つのポールピース38,40間に、ケース12が
配置される。
れる。ヨーク32は、図4に示すように、鉄を用いてコ
字状に形成される。そして、ヨーク32の内側の対向す
る部分に、永久磁石34a,34bおよび永久磁石36
a,36bが取り付けられる。永久磁石34a,34b
は、たとえば直方体状に形成され、ヨーク32の一方の
内壁部に間隔を隔てて取り付けられる。これらの永久磁
石34a,34bは、たとえばそのN極がヨーク32の
中央方向となるように取り付けられる。同様に、永久磁
石36a,36bは直方体状に形成され、ヨーク32の
他方の内壁部に間隔を隔てて取り付けられる。これらの
永久磁石36a,36bは、そのS極がヨーク32の中
央方向となるように取り付けられる。永久磁石34a,
34bの内側および永久磁石36a,36bの内側に
は、板状のポールピース38,40が取り付けられる。
ポールピース38,40は磁性体材料で形成され、これ
らのポールピース38,40によって、ヨーク32の中
央部にほぼ一様な磁界分布を得ることができる。そし
て、2つのポールピース38,40間に、ケース12が
配置される。
【0014】さらに、ヨーク32の対向する壁面には、
調整部材として、たとえば金属で形成された螺子42,
44が取り付けられる。螺子42は、ヨーク32の外壁
面から永久磁石34aと34bとの間に向かって螺入さ
れる。また、螺子44は、ヨーク32の外壁面から永久
磁石36aと36bとの間に向かって螺入される。これ
らの螺子42,44の挿入量を調整することによって、
ヨーク32内の磁界の強さを調整することができる。
調整部材として、たとえば金属で形成された螺子42,
44が取り付けられる。螺子42は、ヨーク32の外壁
面から永久磁石34aと34bとの間に向かって螺入さ
れる。また、螺子44は、ヨーク32の外壁面から永久
磁石36aと36bとの間に向かって螺入される。これ
らの螺子42,44の挿入量を調整することによって、
ヨーク32内の磁界の強さを調整することができる。
【0015】この静磁波装置10では、コネクタ28か
らストリップライン電極18に高周波信号を入力するこ
とによって、静磁波が励起される。この静磁波がYIG
薄膜26を伝播し、別のストリップライン電極20に伝
達されると、コネクタ30から出力信号が得られる。こ
のような静磁波装置10では、たとえばフィルタ特性を
得ることができる。
らストリップライン電極18に高周波信号を入力するこ
とによって、静磁波が励起される。この静磁波がYIG
薄膜26を伝播し、別のストリップライン電極20に伝
達されると、コネクタ30から出力信号が得られる。こ
のような静磁波装置10では、たとえばフィルタ特性を
得ることができる。
【0016】この静磁波装置10の周波数特性を調整す
るには、フェリ磁性基体22に印加される直流磁界の強
さを変える必要がある。そのために、螺子42,44の
挿入量が調整される。螺子42,44の挿入量が少ない
場合、図5に示すように、ヨーク32の内側の磁束が多
く、フェリ磁性基体22に印加される直流磁界の強さが
大きくなる。また、螺子42,44の挿入量が多い場
合、図6に示すように、永久磁石34a,34b間およ
び永久磁石36a,36b間に磁路が形成され、その磁
路に磁束が集まるため、ヨーク32の内側の磁束が少な
くなる。そのため、フェリ磁性基体22に印加される直
流磁界の強さが小さくなる。このように、螺子42,4
4の挿入量を調整することによって、フェリ磁性基体2
2に印加される直流磁界の強さを変えることができる。
それによって、静磁波装置10の周波数特性を調整する
ことができる。
るには、フェリ磁性基体22に印加される直流磁界の強
さを変える必要がある。そのために、螺子42,44の
挿入量が調整される。螺子42,44の挿入量が少ない
場合、図5に示すように、ヨーク32の内側の磁束が多
く、フェリ磁性基体22に印加される直流磁界の強さが
大きくなる。また、螺子42,44の挿入量が多い場
合、図6に示すように、永久磁石34a,34b間およ
び永久磁石36a,36b間に磁路が形成され、その磁
路に磁束が集まるため、ヨーク32の内側の磁束が少な
くなる。そのため、フェリ磁性基体22に印加される直
流磁界の強さが小さくなる。このように、螺子42,4
4の挿入量を調整することによって、フェリ磁性基体2
2に印加される直流磁界の強さを変えることができる。
それによって、静磁波装置10の周波数特性を調整する
ことができる。
【0017】このように、この発明の静磁波装置10で
は、螺子42,44の挿入量を調整することにより周波
数特性を調整することができる。したがって、静磁波装
置10の周波数特性を測定しながら、簡単に微調整する
ことができる。しかも、電磁石を用いて微調整する場合
のような電流を調整するための周辺回路などは不要であ
り、静磁波装置を小型化することができる。
は、螺子42,44の挿入量を調整することにより周波
数特性を調整することができる。したがって、静磁波装
置10の周波数特性を測定しながら、簡単に微調整する
ことができる。しかも、電磁石を用いて微調整する場合
のような電流を調整するための周辺回路などは不要であ
り、静磁波装置を小型化することができる。
【図1】この発明の一実施例を示す図解図である。
【図2】図1に示す静磁波装置の誘電体基板およびフェ
リ磁性基体の周辺を示す平面図である。
リ磁性基体の周辺を示す平面図である。
【図3】図2に示す誘電体基板およびフェリ磁性基体の
周辺を示す側面図である。
周辺を示す側面図である。
【図4】図1に示す静磁波装置のヨークとその周辺を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図5】螺子の挿入量が少ない場合の磁路を示す図解図
である。
である。
【図6】螺子の挿入量が多い場合の磁路を示す図解図で
ある。
ある。
【図7】従来の静磁波装置の一例を示す図解図である。
10 静磁波装置 12 ケース 14 誘電体基板 16 アース電極 18 ストリップライン電極 20 ストリップライン電極 22 フェリ磁性基体 24 GGG基板 26 YIG薄膜 32 ヨーク 34a,34b 永久磁石 36a,36b 永久磁石 42 螺子 44 螺子
Claims (1)
- 【請求項1】 フェリ磁性基体、 前記フェリ磁性基体の主面上に形成されるトランスデュ
ーサ、 前記フェリ磁性基体に磁界を与えるための永久磁石、お
よび前記磁界内に存在して前記磁界内の磁力線の分布状
態を変化させる調整部材を有する、静磁波装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34312793A JPH07170112A (ja) | 1993-12-14 | 1993-12-14 | 静磁波装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34312793A JPH07170112A (ja) | 1993-12-14 | 1993-12-14 | 静磁波装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07170112A true JPH07170112A (ja) | 1995-07-04 |
Family
ID=18359132
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34312793A Pending JPH07170112A (ja) | 1993-12-14 | 1993-12-14 | 静磁波装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07170112A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100329369B1 (ko) * | 1999-12-21 | 2002-03-22 | 오길록 | 고주파 신호처리용 정자파 소자 |
-
1993
- 1993-12-14 JP JP34312793A patent/JPH07170112A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100329369B1 (ko) * | 1999-12-21 | 2002-03-22 | 오길록 | 고주파 신호처리용 정자파 소자 |
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