JPH0716575B2 - 使用済キセノンガスの回収精製装置 - Google Patents
使用済キセノンガスの回収精製装置Info
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- JPH0716575B2 JPH0716575B2 JP2268881A JP26888190A JPH0716575B2 JP H0716575 B2 JPH0716575 B2 JP H0716575B2 JP 2268881 A JP2268881 A JP 2268881A JP 26888190 A JP26888190 A JP 26888190A JP H0716575 B2 JPH0716575 B2 JP H0716575B2
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Landscapes
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 本発明は、Ｘ線CTシステム等のＸ線検査装置の検出器内
のキセノンガスを精製しながら回収するようにした、使
用済キセノンガスの回収精製装置に関する。
のキセノンガスを精製しながら回収するようにした、使
用済キセノンガスの回収精製装置に関する。
《従来の技術》 従来Ｘ線検査装置では、検出器の部品交換やメンテナン
ス時に、検出器内に封入してある高価なキセノンガスを
そのまま空気中に放出して捨てていた。
ス時に、検出器内に封入してある高価なキセノンガスを
そのまま空気中に放出して捨てていた。
《発明が解決しようとする課題》 上記の従来技術では検出器の部品交換やメンテナンスご
とに高価なキセノンガスをそのまま空気中に放出して捨
てていたので、装置の保守コストが高くついていた。
とに高価なキセノンガスをそのまま空気中に放出して捨
てていたので、装置の保守コストが高くついていた。
本発明は従来技術のこのような問題点を解決し、Ｘ線検
査装置の保守コストを安価にすることを目的とする。
査装置の保守コストを安価にすることを目的とする。
《課題を解決するための手段》 本発明は上記目的を達成するために、例えば第１図に示
すように、Ｘ線検査装置の検出器１とキセノンガス回収
器６とをキセノンガス導出路２を介して接続し、このキ
セノンガス導出路２に検出器１側から順に、検出器１か
らのキセノンガス中の不純物を吸着してキセノンガスを
精製する吸着槽３と、精製されたキセノンガスを冷却す
る放熱器４と、キセノンガス回収器６側から放熱器４側
へのキセノンガスの逆流を防ぐ逆止弁５とを配置し、キ
セノンガス回収器６を液体窒素の入った液体窒素槽７に
浸漬させて配置したものである。
すように、Ｘ線検査装置の検出器１とキセノンガス回収
器６とをキセノンガス導出路２を介して接続し、このキ
セノンガス導出路２に検出器１側から順に、検出器１か
らのキセノンガス中の不純物を吸着してキセノンガスを
精製する吸着槽３と、精製されたキセノンガスを冷却す
る放熱器４と、キセノンガス回収器６側から放熱器４側
へのキセノンガスの逆流を防ぐ逆止弁５とを配置し、キ
セノンガス回収器６を液体窒素の入った液体窒素槽７に
浸漬させて配置したものである。
《作用》 本発明は次のように作用する。
キセノンガス導出路２により検出器１から導かれたキセ
ノンガスは、吸着槽３に入って、この吸着槽３で水分や
炭酸ガス等の不純物が吸着（吸収）されて精製される。
ノンガスは、吸着槽３に入って、この吸着槽３で水分や
炭酸ガス等の不純物が吸着（吸収）されて精製される。
上記精製されたキセノンガスは、放熱器４で冷却され、
逆止弁５を介して逆流することなくキセノンガス回収器
６に流入する。キセノンガス回収器６は液体窒素槽７の
中の液体窒素によってキセノンガスの融点以下に冷却さ
れており、放熱器４からのキセノンガスはさらに冷却さ
れて固化した状態で回収され、そのまま貯蔵される。
逆止弁５を介して逆流することなくキセノンガス回収器
６に流入する。キセノンガス回収器６は液体窒素槽７の
中の液体窒素によってキセノンガスの融点以下に冷却さ
れており、放熱器４からのキセノンガスはさらに冷却さ
れて固化した状態で回収され、そのまま貯蔵される。
尚、第２項の発明では、検出器１からのキセノンガス
は、ゼオライトを充填した第１吸着槽3aによってキセノ
ンガス中の不純物である水分と炭酸ガスとが吸収され、
更に、ゲッタを充填し高温に加熱された第２吸着槽3bに
よってキセノンガス中の稀ガス（キセノンガス等）以外
の不純物のガスが化学吸着されることにより、不純物を
ほとんど含まない状態に精製される。
は、ゼオライトを充填した第１吸着槽3aによってキセノ
ンガス中の不純物である水分と炭酸ガスとが吸収され、
更に、ゲッタを充填し高温に加熱された第２吸着槽3bに
よってキセノンガス中の稀ガス（キセノンガス等）以外
の不純物のガスが化学吸着されることにより、不純物を
ほとんど含まない状態に精製される。
《発明の効果》 本発明は、上記のように構成され作用することから次の
効果を奏する。
効果を奏する。
従来技術では検出器の部品交換やメンテナンスごとに、
高価なキセノンガスをそのまま空気中に放出して捨てて
いたので装置の保守コストが高くついていたが、本発明
では検出器内から導出したキセノンガスを、吸着槽と放
熱器及び逆止弁とを通して精製しながら、液体窒素槽に
浸漬したキセノンガス回収器で冷却固化して回収貯蔵す
るので、検出器で使用されることにより水分や炭酸ガス
等の不純物が混入したキセノンガスから上記不純物を除
去でき、従って、このキセノンガスを検出器に再度充填
して使用することができる。これにより、検出器の部品
交換やメンテナンス時に検出器内に封入してある高価な
キセノンガスを捨てることがなくなり、Ｘ線検査装置の
保守コストを安価にすることができる。
高価なキセノンガスをそのまま空気中に放出して捨てて
いたので装置の保守コストが高くついていたが、本発明
では検出器内から導出したキセノンガスを、吸着槽と放
熱器及び逆止弁とを通して精製しながら、液体窒素槽に
浸漬したキセノンガス回収器で冷却固化して回収貯蔵す
るので、検出器で使用されることにより水分や炭酸ガス
等の不純物が混入したキセノンガスから上記不純物を除
去でき、従って、このキセノンガスを検出器に再度充填
して使用することができる。これにより、検出器の部品
交換やメンテナンス時に検出器内に封入してある高価な
キセノンガスを捨てることがなくなり、Ｘ線検査装置の
保守コストを安価にすることができる。
また、液体窒素の冷熱を利用してキセノンガスを冷却固
化させて貯蔵するので、気体のままキセノンガス回収器
に貯蔵する場合よりもキセノンガス回収器の容量を小さ
くでき、本回収精製装置の小型化を図ることができる。
しかも、気体のままキセノンガス回収器に貯蔵した場合
には、キセノンガス回収器内に侵入した空気を真空ポン
プで排出することは困難であるが、本発明ではキセノン
ガスを固化させてキセノンガス回収器に貯蔵しているの
で、上記侵入空気のみを真空ポンプで容易に排出するこ
とができ、キセノンガス回収器内のキセノンガスの純度
を確実に保つことができる。
化させて貯蔵するので、気体のままキセノンガス回収器
に貯蔵する場合よりもキセノンガス回収器の容量を小さ
くでき、本回収精製装置の小型化を図ることができる。
しかも、気体のままキセノンガス回収器に貯蔵した場合
には、キセノンガス回収器内に侵入した空気を真空ポン
プで排出することは困難であるが、本発明ではキセノン
ガスを固化させてキセノンガス回収器に貯蔵しているの
で、上記侵入空気のみを真空ポンプで容易に排出するこ
とができ、キセノンガス回収器内のキセノンガスの純度
を確実に保つことができる。
また、キセノンガス回収器内でのキセノンガスの固化に
よってキセノンガス回収器内は常に低圧になる。このた
め、検出器に対してキセノンガス回収器側が常に負圧と
なって、キセノンガス導出路にポンプ等を設けなくても
検出器内のキセノンガスを吸着槽と放熱器と逆止弁とを
介してキセノンガス回収器に流すことができる。つま
り、上記ポンプ等を省略できる分だけ本回収精製装置の
低コスト化を図ることができる。
よってキセノンガス回収器内は常に低圧になる。このた
め、検出器に対してキセノンガス回収器側が常に負圧と
なって、キセノンガス導出路にポンプ等を設けなくても
検出器内のキセノンガスを吸着槽と放熱器と逆止弁とを
介してキセノンガス回収器に流すことができる。つま
り、上記ポンプ等を省略できる分だけ本回収精製装置の
低コスト化を図ることができる。
また、液体窒素による冷却の前に、放熱器によって吸着
槽からのキセノンガスの温度をある程度低下させるの
で、キセノンガスの熱によって消費される液体窒素の量
を低減でき、本回収精製装置の運転コストを低減でき
る。
槽からのキセノンガスの温度をある程度低下させるの
で、キセノンガスの熱によって消費される液体窒素の量
を低減でき、本回収精製装置の運転コストを低減でき
る。
《実施例》 以下、本発明の実施例を図面で説明する。
例えば第１図に示すように、Ｘ線検査装置の検出器１
を、第１の圧力調整器８と、吸着槽３と、放熱器４及び
逆止弁５とをキセノンガス導出路２でキセノンガス回収
器６に接続し、このキセノンガス回収器６は液体窒素の
入った液体窒素槽７に浸漬させてある。
を、第１の圧力調整器８と、吸着槽３と、放熱器４及び
逆止弁５とをキセノンガス導出路２でキセノンガス回収
器６に接続し、このキセノンガス回収器６は液体窒素の
入った液体窒素槽７に浸漬させてある。
そして、吸着槽３はゼオライトを充填した第１吸着槽3a
と、Fe−Zr−Niなどのゲッタを充填し高温に加熱された
第２吸着槽3bとで構成されている。
と、Fe−Zr−Niなどのゲッタを充填し高温に加熱された
第２吸着槽3bとで構成されている。
さらに、逆止弁５とキセノンガス回収器６との間に第２
の圧力調整器９と、フィルタ10とを介して充填用検出器
１′を同様に接続してある。
の圧力調整器９と、フィルタ10とを介して充填用検出器
１′を同様に接続してある。
尚、18は連成計、19は安全バルブである。
このような本発明実施例では、まず、検出器１の元バル
ブ20、充填用検出器１′の元バルブ21、及び放熱器４と
逆止弁５との間のバルブ17を閉じて置き、次に、キセノ
ンガス回収器６と逆止弁５との間のバルブ14に真空ポン
プV.P.を接続して、キセノンガス回収器６と逆止弁５及
びフィルタ10間の空気を排気してからバルブ14を閉じて
置く。さらに、真空ポンプ11を放熱器４と逆止弁５との
間のバルブ15に接続し、第１の圧力調整器８から放熱器
４までの全装置内を排気した後バルブ15を閉じる。この
状態で検出器１及び充填用検出器１′以外の全装置が真
空に保たれている。
ブ20、充填用検出器１′の元バルブ21、及び放熱器４と
逆止弁５との間のバルブ17を閉じて置き、次に、キセノ
ンガス回収器６と逆止弁５との間のバルブ14に真空ポン
プV.P.を接続して、キセノンガス回収器６と逆止弁５及
びフィルタ10間の空気を排気してからバルブ14を閉じて
置く。さらに、真空ポンプ11を放熱器４と逆止弁５との
間のバルブ15に接続し、第１の圧力調整器８から放熱器
４までの全装置内を排気した後バルブ15を閉じる。この
状態で検出器１及び充填用検出器１′以外の全装置が真
空に保たれている。
そして、元バルブ20とバルブ17とを開放すると検出器１
内のキセノンガスは吸着槽３に入り、まず、ゼオライト
を充填した第１吸着槽3aによって水分と炭酸ガスとを吸
収され、次に、Fe−Zr−Niなどのゲッタを充填し高温に
加熱された第２吸着槽3bによってキセノンガス以外のガ
スを化学吸着されて精製される。
内のキセノンガスは吸着槽３に入り、まず、ゼオライト
を充填した第１吸着槽3aによって水分と炭酸ガスとを吸
収され、次に、Fe−Zr−Niなどのゲッタを充填し高温に
加熱された第２吸着槽3bによってキセノンガス以外のガ
スを化学吸着されて精製される。
精製されたキセノンガスは、放熱器４で室温まで冷却さ
れ、バルブ17と逆止弁５とを介して液体窒素槽７の中の
液体窒素に浸漬したキセノンガス回収器６で冷却固化し
て回収貯蔵される。
れ、バルブ17と逆止弁５とを介して液体窒素槽７の中の
液体窒素に浸漬したキセノンガス回収器６で冷却固化し
て回収貯蔵される。
この場合、キセノンガス回収器６内に空気が侵入した恐
れがあれば、バルブ14に真空ポンプV.P.を接続するとと
もにバルブ16とバルブ17とを閉じてから、バルブ14を開
いて真空ポンプV.P.を作動させれば、キセノンガス回収
器６内の侵入空気を排出する事ができる。このあとバル
ブ14は閉じて置く。
れがあれば、バルブ14に真空ポンプV.P.を接続するとと
もにバルブ16とバルブ17とを閉じてから、バルブ14を開
いて真空ポンプV.P.を作動させれば、キセノンガス回収
器６内の侵入空気を排出する事ができる。このあとバル
ブ14は閉じて置く。
次に、バルブ17を閉じてから検出器１を取り外し部品交
換やメンテナンスをした後、別途排気した充填用検出器
１′をバルブ13に接続してからバルブ13及び元バルブ21
を開放すると、キセノンガス回収器６から気化したキセ
ノンガスが第２の圧力調整器９とフィルタ10とを介して
充填用検出器１′に再度充填される。
換やメンテナンスをした後、別途排気した充填用検出器
１′をバルブ13に接続してからバルブ13及び元バルブ21
を開放すると、キセノンガス回収器６から気化したキセ
ノンガスが第２の圧力調整器９とフィルタ10とを介して
充填用検出器１′に再度充填される。
上記の通り本発明実施例では、検出器内のキセノンガス
を前記第１の圧力調整器、第１吸着槽、第２吸着槽、放
熱器、逆止弁を通して精製しながら、キセノンガス回収
器で固化して回収貯蔵し、次にキセノンガス回収器から
気化したキセノンガスを第２の圧力調整器とフィルタと
を介して検出器に再度充填するようにしたから、従来技
術で検出器の部品交換やメンテナンスごとに、高価なキ
セノンガスをそのまま空気中に放出して捨てていたので
装置の保守コストが高くついていたものを、高価なキセ
ノンガスを捨てることなく、Ｘ線検査装置の保守コスト
を安価にすることができる。
を前記第１の圧力調整器、第１吸着槽、第２吸着槽、放
熱器、逆止弁を通して精製しながら、キセノンガス回収
器で固化して回収貯蔵し、次にキセノンガス回収器から
気化したキセノンガスを第２の圧力調整器とフィルタと
を介して検出器に再度充填するようにしたから、従来技
術で検出器の部品交換やメンテナンスごとに、高価なキ
セノンガスをそのまま空気中に放出して捨てていたので
装置の保守コストが高くついていたものを、高価なキセ
ノンガスを捨てることなく、Ｘ線検査装置の保守コスト
を安価にすることができる。
第１図は本発明の実施例を示し、使用済キセノンガスの
回収精製装置の構成説明図である。 １……検出器、１′……充填用検出器、２……キセノン
ガス導出路、３……吸着槽、3a……第１吸着槽、3b……
第２吸着槽、４……放熱器、５……逆止弁、６……キセ
ノンガス回収器、７……液体窒素槽、８・９……圧力調
整器、10……フィルタ、11・V.P.……真空ポンプ。
回収精製装置の構成説明図である。 １……検出器、１′……充填用検出器、２……キセノン
ガス導出路、３……吸着槽、3a……第１吸着槽、3b……
第２吸着槽、４……放熱器、５……逆止弁、６……キセ
ノンガス回収器、７……液体窒素槽、８・９……圧力調
整器、10……フィルタ、11・V.P.……真空ポンプ。
Claims (2)
- 【請求項１】Ｘ線検査装置の検出器（１）とキセノンガ
ス回収器（６）とをキセノンガス導出路（２）を介して
接続し、このキセノンガス導出路（２）に上記検出器
（１）側から順に、上記検出器（１）からのキセノンガ
ス中の不純物を吸着してキセノンガスを精製する吸着槽
（３）と、精製されたキセノンガスを冷却する放熱器
（４）と、上記キセノンガス回収器（６）側から上記放
熱器（４）側へのキセノンガスの逆流を防ぐ逆止弁
（５）とを配置し、上記キセノンガス回収器（６）を液
体窒素の入った液体窒素槽（７）に浸漬させて配置し
た、使用済キセノンガスの回収精製装置。 - 【請求項２】前記吸着槽（３）をゼオライトで充填した
第１吸着槽（3a）とゲッタで充填した第２吸着槽（3b）
とで構成した特許請求の範囲第１項に記載の使用済キセ
ノンガスの回収精製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2268881A JPH0716575B2 (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 使用済キセノンガスの回収精製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2268881A JPH0716575B2 (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 使用済キセノンガスの回収精製装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04145921A JPH04145921A (ja) | 1992-05-19 |
| JPH0716575B2 true JPH0716575B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=17464560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2268881A Expired - Lifetime JPH0716575B2 (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 使用済キセノンガスの回収精製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0716575B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4860206B2 (ja) * | 2005-08-09 | 2012-01-25 | 日本パイオニクス株式会社 | 水素ガスの精製方法及び精製装置 |
| KR20120049330A (ko) | 2009-09-09 | 2012-05-16 | 파나소닉 주식회사 | 흡착재 및 그를 이용한 제논 흡착 디바이스 |
| JP2011057491A (ja) | 2009-09-09 | 2011-03-24 | Panasonic Corp | ガス回収方法 |
| CN104310325B (zh) * | 2014-10-24 | 2016-06-29 | 武汉钢铁(集团)公司 | 氪、氙气体净化方法及装置 |
| WO2017072863A1 (ja) * | 2015-10-27 | 2017-05-04 | ギガフォトン株式会社 | レーザガス精製システム |
| US11679979B2 (en) | 2018-05-08 | 2023-06-20 | Curium Us Llc | Systems and methods for production of Xenon-133 |
| JP6721020B2 (ja) * | 2018-10-01 | 2020-07-08 | 日立化成株式会社 | Ｃｏ２除去装置 |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP2268881A patent/JPH0716575B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04145921A (ja) | 1992-05-19 |
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