JPH07156052A

JPH07156052A - ガラス基材の研摩方法

Info

Publication number: JPH07156052A
Application number: JP5326270A
Authority: JP
Inventors: Kinichiro Hiraishi; 欽一郎平石
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1993-11-30
Filing date: 1993-11-30
Publication date: 1995-06-20
Anticipated expiration: 2017-01-28
Also published as: JP3251751B2

Abstract

(57)【要約】【目的】研磨終了後、保護フィルム層及び低融点合金
からなるブロック層をガラス基材を手間を掛けずに容易
に除去できるガラス基材の研摩方法の提供。【構成】保護フィルム層及び低融点合金層を介して研
摩用取付皿に固定してガラス基材を研摩する方法であっ
て、前記保護フィルム層が、水溶性でかつ前記低融点合
金層と密着性を有するフィルム層であり、ガラス基材を
研摩した後に、前記保護フィルム層及び低融点合金層を
水洗することにより除去する方法。前記ガラス基材は、
例えばガラスレンズ用基材、レンズ成形用のガラス型用
基材である。前記保護フィルム層は、例えばポリビニル
ピロリドンを主成分とする層である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基材、例えばガ
ラスレンズ又はレンズ成形用のガラス型、の研摩方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、レンズやレンズ成形用のガラス型
のようなガラス製光学製品用のガラス基材の研摩は、例
えば、特開昭４７−１４７７６号公報に開示されている
ように、ガラス基材を低融点合金（アロイメタル）を用
いて研摩用取付皿（ホルダー）に固定し、研摩用取付皿
に固定したガラス基材を荒ずり加工機又は研摩加工機へ
装着して行われている。ガラス基材は、位置決めのため
に、非加工面を低融点合金のブロック層を介してホルダ
ーに固定される。さらに、研摩加工時のキズ発生の防止
等を目的として、ガラス基材の非加工面の表面に保護フ
ィルムを施し、その上に前記低融点合金からなるブロッ
ク層を施して、研摩用取付皿に固定している。前記の保
護フィルムの素材としては、ポリエチレン、ポリプロピ
レンなどのポリオレフイン系のポリマー、ポリエステ
ル、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、セルロース系フ
ィルムが用いられていた（特開昭５５−７７４６１号公
報）。上記の保護フィルムの素材は、研摩の加工性とい
う観点から、低融点合金層との密着性に優れたものが選
ばれている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】前記の保護フィルムは
アクリル系の粘着剤を用いてガラス基材に固定されてい
る。そして研摩の後に、研摩用取付皿と低融点合金層と
が取外され、さらに、保護フィルムは指または機械等で
剥がすことにより、除去される。しかし、そのような剥
離の作業は、手間のかかるものであり、大量生産には適
さない方法であった。

【０００４】そこで本発明の目的は、研摩終了後、前記
の保護フィルム層及び低融点合金層を容易に除去できる
ガラス基材の研摩方法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、保護フィルム
層及び低融点合金層を介して研摩用取付皿に固定してガ
ラス基材を研摩する方法であって、前記保護フィルム層
が、水溶性でかつ前記低融点合金層と密着性を有するフ
ィルム層であり、ガラス基材を研摩した後に、前記保護
フィルム層及び低融点合金層を水洗することにより除去
することを特徴とする、ガラス基材の研摩方法に関す
る。以下本発明について説明する。

【０００６】本発明の研摩方法は、保護フィルム層及び
低融点合金層を介して研摩用取付皿に固定したガラス基
材を研摩してガラスレンズやレンズ成形用のガラス型等
を得るものである。保護フィルム層は、水溶性でかつ前
記低融点合金層と密着性を有するフィルム層である。そ
のようなフィルム層として、ポリビニルピロリドンを主
成分とするものを挙げることができる。ポリビニルピロ
リドン（以下、ＰＶＰと略記することがある）を主成分
とする保護層は、ＰＶＰのみから構成されるか、又はＰ
ＶＰの有する物性を損なわない程度に第３成分を添加し
たものであることができる。ＰＶＰは、ガラス基材及び
低融点合金層と密着性があり、かつ水溶性も有する。従
って、ＰＶＰが水溶性であることから、水洗により、保
護フィルム層の除去を容易に行うことができる。さら
に、ＰＶＰは耐熱性を有するので、低融点合金層を形成
する際に、低融点合金融液との接触にも耐え得るため有
用である。ＰＶＰに要求されるこれら物性を考慮する
と、分子量１万〜３６万程度のものを用いることが適当
である。

【０００７】また、ＰＶＰを主成分とする保護層に添加
できる第３成分は、ＰＶＰの有する低融点合金層及びガ
ラス基材との密着性を維持し、かつ水溶性を維持する限
り、適宜使用できる。第３成分としては、例えば、ポリ
アクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンオキシド、アミロース、メチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性高分子
を挙げることができる。保護フィルム層の膜厚は、特に
制限はないが、例えば１００〜５００ミクロンの範囲で
あることが適当である。

【０００８】本発明で用いるＰＶＰ層を主成分とする保
護フィルムは、ＰＶＰを溶解又は分散した溶液をガラス
基材上に塗布乾燥することにより形成することができ
る。ＰＶＰの溶解又は分散には、例えば、アセトン、ア
ルコール類、セルソルブ類、エーテル類等の有機溶剤を
用いることができる。ＰＶＰの溶解液又は分散液中の濃
度は、例えば１〜５％程度とすることが適当である。

【０００９】本発明において研摩の対象となるガラス基
材は、ガラスレンズ及びレンズ成形用のガラス型等の研
摩を要するガラス製の光学製品用基材であれば、特に制
限はない。また、ガラス基材には、セミフィニッシュレ
ンズも含む。ここで、ガラスレンズとしては、カメラレ
ンズ、眼鏡レンズ等を例示でき、一般レンズ、中屈折率
レンズ、高屈折率レンズ、超高屈折率レンズ等であるこ
とができる。また、レンズ成形用のガラス型としては、
例えばプラスチックレンズの注型成形用のガラス型等を
例示できる。また、ガラス基材の材質には特に制限はな
いが、例えばクラウンガラス、重バリウムクラウンガラ
ス、フリントガラス、超重フリントガラス等を挙げるこ
とができる。但し、これらに限定されるものではない。

【００１０】本発明の方法においてガラス基材は研摩用
取付皿に固定されて研摩される。ガラス基材の研摩用取
付皿への固定は、ガラス基材の非研摩面に保護フィルム
を付着し、ガラス基材の非研摩面上の保護フィルムと研
摩用取付皿との間を低融点合金層を介して固定する。低
融点合金を用いてガラス基材を研摩用取付皿に固定する
方法は、例えば、特開昭４７−１４７７６号公報に開示
されている。合金層の厚さは、特に限定はないが、例え
ば約３〜１５ミリメートルとすることが適当である。本
発明では、従来用いられている低融点合金をそのまま用
いることができる。但し、水洗により低融点合金層を除
去するという観点からは、溶融点が比較的低いものを用
いることが好ましい。さらに、例えば、温水で溶解する
ことにより低融点合金層を除去するという観点からは、
溶融点が約８０℃以下のものを用いることが好ましい。
その例としては、ビスマス、鉛、カドミウム、スズ、イ
ンジウム等の合金を挙げられる。より具体的には、以下
の表１に示す合金を用いることができる。

【００１１】

【表１】 ─────────────────────────────────── 合金Ｎｏ．溶融点（℃）ＢｉＰｂＳｎＣｄＩｎ ─────────────────────────────────── １ 46.8 44.70 22.60 8.30 5.30 19.10 ２ 58 49.00 18.00 12.00 ---- 21.00 ３ 70 50.00 26.70 13.30 10.00 ---- ４ 70.5 50.50 27.80 12.40 9.30 ---- ５ 72.0 50.00 31.50 9.30 6.20 ---- ６ 72.5 50.72 30.91 14.97 3.40 ---- ７ 72.5 42.50 37.70 11.30 8.50 ---- ─────────────────────────────────── （単位％）

【００１２】研摩用取付皿に固定したガラス基板は、次
いで研摩する。研摩は、従来から公知の方法をそのまま
用いて行うことができる。即ち、ガラス基板を固定した
研摩用取付皿を、例えば、「眼鏡」（１９８６年５月２
２日発行、メディカル葵出版）のＰ７１〜Ｐ７３に開示
されているような研摩装置の上軸（研摩装置本体）に取
りつけ、研摩剤及び研摩皿を用いて研摩を行うことがで
きる。尚、本発明において研摩とは、前記「眼鏡」のＰ
７１〜Ｐ７３に記載されている荒摺り、砂かけ、研摩等
を含む。

【００１３】研摩用取付皿に固定されたガラス基板及び
研摩装置の様子を図１によりさらに説明する。ガラス基
材１の非研摩面上に、ＰＶＰ層を主成分とする保護層２
が形成され、さらに保護層２の上に低融点合金層３を介
して研摩用取付皿４が固定されている。このように研摩
用取付皿に固定されたガラス基板１を、研摩装置の上軸
５が研摩用取付皿４の上面を、また、研摩皿６を有する
下軸７がガラス基材１の研摩面をそれぞれ挟むようにし
て研摩装置（全体は図示せず）に取り付ける。研摩装置
に取り付けられたガラス基板は常法により研摩される。

【００１４】研摩終了後、前記研摩用取付皿を研摩装置
本体から取はずし、さらに、研摩用取付皿から研摩した
ガラス基板（ガラスレンズ）を取り外す。この取り外し
は、研摩用取付皿に固定されたガラス基板をそのまま
水、好ましくは温水に浸漬して、低融点合金層、及び保
護フィルム層を溶解して、研摩用取付皿からガラス基板
を取り外すことにより行うことができる。尚、温水を用
いる場合、温水の温度は、低融点合金の溶融点以上にす
ることが好ましいが、作業性の点からは、４０〜７０℃
であることが適当である。また、低融点合金の融点以下
の水を用いる場合、超音波などを併用することにより、
低融点合金層及び保護フィルム層の除去を促進すること
ができる。水洗時間は、水温等により変わるが、例えば
１０〜３６０秒の範囲とすることができる。

【００１５】

【発明の効果】本発明の研摩方法を用いることにより、
研摩終了後、手間を掛けず保護フィルム層及び低融点合
金層を除去でき、ガラスレンズ等をより容易に提供する
ことができる。特に、本発明において、水洗を温水浸漬
により行うことによって、手間をかけずに、取付皿から
研摩後のガラス基材を取り外しを容易に行うことができ
る。本発明によれば、研磨後のガラスレンズの取付皿か
らの取り外しを水洗によりできることから、研摩工程を
自動化できる可能性が大きくなった。

【００１６】

【実施例】以下、本発明を実施例を挙げてさらに説明す
る。実施例１屈折率が１．５２３のクラウンガラスのセミフィニシュ
レンズを以下に記す方法により、研摩加工を行った。ポ
リビニルピロリドンのＫ価（フィケンチャーの粘度式）
が３０と９０を混合比３．７５：１で混合したものを、
アセトンおよびメタノールの混合液中（混合比１：３）
に溶解させた。この溶液を、上記セミフィニシュレンズ
の非研摩面全体に塗布し、乾燥させてＰＶＰ層（厚さ約
０．１ｍｍ）を形成した。次に、上記セミフィニシュレ
ンズのＰＶＰ層と研摩用取付皿（ホルダー）との間に、
鋳型を用いて低融点合金層（厚さ５ｍｍ）を形成した。
尚、低融点合金としては、Ｂｉ：４４．７０、Ｐｂ：２
２．６０、Ｓｎ：８．３０、Ｃｄ：５．３０、Ｉｎ：１
９．１０、溶融点：４６．８℃の合金を用いた。

【００１７】低融点合金層で研摩用取付皿に固定された
上記セミフィニシュレンズを特開昭４７−１４７７６号
に記載の方法に従って、取付皿を研摩装置の上軸に取付
けて研摩を行った。研摩終了後、研摩装置の上軸から取
付皿を取り出し、約６０℃の温水中に超音波を加えなが
ら１２０秒間浸漬した。その結果、低融点合金層及びＰ
ＶＰ層が溶解し、ガラスレンズが取付皿より分離され
た。得られたガラスレンズはキズを有さず、良好に研摩
され、また光学歪み等もない優れたものであった。

【００１８】比較例１ＰＶＰフィルムの代わりに、水溶性粘着層を有し、非水
溶性のフィルム基材である主としてポリ塩化ビニルから
なる保護フィルムを用い、実施例１と同様にして低融点
合金層を設け、さらに実施例１と同様にして研摩を行っ
た。研摩終了後、水洗を行った。その結果、低融点合金
層は溶解したが、保護フィルムはガラスレンズに密着し
たままであった。そこで、保護フィルムを手で剥がし
て、ガラスレンズを得たが、手間がかかる結果となっ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】研摩用取付皿に固定されたガラス基板及び研摩
装置の軸の部分の説明図。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】保護フィルム層及び低融点合金層を介し
て研摩用取付皿に固定してガラス基材を研摩する方法で
あって、前記保護フィルム層が、水溶性でかつ前記低融点合金層
と密着性を有するフィルム層であり、ガラス基材を研摩した後に、前記保護フィルム層及び低
融点合金層を水洗することにより除去することを特徴と
する、ガラス基材の研摩方法。
【請求項２】ガラス基材が、ガラスレンズ用基材又は
レンズ成形用のガラス型用基材である請求項１記載の方
法。
【請求項３】保護フィルム層が、ポリビニルピロリド
ンを主成分とする層である請求項２又は３に記載の方
法。
【請求項４】水洗を４０℃以上の温水で行う、請求項
１〜３のいずれか１項記載の方法。