JPH07153070A

JPH07153070A - 磁気ディスクの製造方法

Info

Publication number: JPH07153070A
Application number: JP29939293A
Authority: JP
Inventors: Noriyuki Takeo; 典幸武尾
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1993-11-30
Filing date: 1993-11-30
Publication date: 1995-06-16

Abstract

(57)【要約】【目的】基板の加工洗浄時表面に物理、又は化学吸着す
る有機膜をつけ、加工洗浄後成膜までの保管時間によら
ず、安定した磁気ディスクを得る製造方法。【構成】磁気ディスクの加工洗浄後、スパッタ方式で成
膜した場合保管時間の違いにより磁気特性（保持力、角
形比）が変化する。この原因の一つには、加工洗浄後空
気中のオイルミスト等による加工基板表面の２次汚染た
めであることがわかった。本発明はこの２次汚染を最小
限にするために、加工時等に加工基板表面に物理又は化
学吸着する有機薄膜を付け、磁気特性が安定な磁気ディ
スク製造法を記載したものである。【効果】本発明に依れば、信頼性の高い磁気ディスクを
与えることが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はスパッタ方式による磁気
磁気ディスクの加工洗浄及び表面処理法に関する。

【０００２】

【従来の技術】大容量の磁気磁気ディスク装置は記録密
度向上、装置信頼性から薄膜磁気ディスクが採用されて
いる。薄膜磁気ディスクの一般的構造は、非磁性基板に
表面形状形成加工処理を施し、スッパタ手法にて下地
膜、磁性膜、保護膜形成後潤滑膜を形成して構成されて
いる。従来のテクスチャー加工後の基板は、洗浄後スパ
ッタ法による成膜を行う。この際、特開平４−４２４３
７のように磁気特性（モジュレーション）を安定にする
ために、成膜前にＡｒスパッタにより物理的な再洗浄を
行なったりする。また、特開平４−１９５７１７のよう
に非磁性基板表面を化学処理することにより、磁気特性
を制御することができる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】磁気ディスクの高い信
頼性のために、磁気特性（保持力、角形比、モジュレー
ション）が面内一定であり、大量生産中一貫して安定し
ていることが望ましい。しかし実際は、テクスチャー加
工で基板表面が活性化したため、洗浄後の空気中のミス
トによる２次汚染が起こり、安定した一貫生産ができな
かった。本発明の目的は、基板表面に意図的に吸着物を
残し２次汚染を防ぎ、磁気特性を安定にする基板の加
工、洗浄、表面制御法を確立することであり、また基板
を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の目的である基板
表面の安定化するため、加工基板の加工時、洗浄時、ま
たは成膜前までに該加工基板表面に意図した有機膜を物
理または化学吸着で被覆させる。

【０００５】

【作用】この方法によって、磁気特性の安定した基板表
面を得た。

【０００６】

【実施例】以下、本発明の実施例を用いて詳細に説明す
る。

【０００７】（実施例１）図１にスパッタ方式による磁
性円板の断面図を示す。Ａｌ基板５の上にＮｉ−Ｐで被
覆した円板４にテクスチャー加工、洗浄、表面処理を行
なった後、この上にスパッタ方式によってクロム下地膜
３、磁性膜２、Ｃ保護膜１を形成する。図２に加工洗浄
装置の概略を示す。加工ユニット６、洗浄ユニット７、
表面処理ユニット８、乾燥ユニット９で構成されてい
る。図３に加工方式の一例を示す。回転する磁気記録基
板１０に加工液供給管１１より単結晶ダイヤを含む水を
主成分とする加工液をたらしゴムローラ１２で加工用布
１３を磁気記録基板におし付けて加工を行う。これにオ
レイン酸を添加した液（以下Ａ液）と添加をしなかった
液（以下Ｂ液）で加工した磁気記録基板をスパッタ法で
成膜した場合、前者の方が洗浄後成膜までの保管時間に
依らず安定した磁気特性を示した（図４）。このオレイ
ン酸を添加した液で加工した基板を洗浄後ＦＴ−ＩＲで
分析したところ、オレイン酸特有のピークを確認した
（図５）。

【０００８】（実施例２）図６にオレイン酸を添加した
液を使用し遊離砥粒、固定砥粒方式で行なった際の保管
時間に対する保磁力の変化を示す。加工方式によらず、
安定な磁気特性を。

【０００９】（実施例３）添加物としてオレイン酸の変
わりに、分子中の炭素数及び末端基を変化させたとこ
ろ、炭素数が８から２０及び末端基がカルボン酸、スル
フォン酸、アルコールにしても同様に安定した磁気特性
を得た。

【００１０】（実施例４）図２の表面処理ユニットを図
７のように準備する。槽１４に純水１５を入れる。次に
オレイン酸をクロロホルムに溶かし、これを注射器１６
に入れ、液面に静かに滴下する。この際、水表面１７に
対するオレイン酸の分子断面積が２０から４０Ａ²／分
子になるよう滴下量を調整する。次に表面がぬれた、ま
たは乾いた加工済み基板を昇降機１８に固定し、１ｍｍ
／秒以下のスピードで浸漬しまた引き上げる。このあと
加工済み基板を乾燥後成膜を行うと、成膜までの保管時
間によらず磁気特性が安定することを確認した。またこ
の表面をＦＴ−ＩＲで分析を行うと、オレイン酸特有の
ピークを確認した。オレイン酸以外に炭素数が８から２
０及び末端機カルボン酸、スルフォン酸、アルコールの
ものでも同様に安定した磁気特性が得た。

【００１１】（実施例５）図８に磁気記録装置の断面図
を示す。磁気ディスク１９は回転駆動体２０により回転
可能な支持具２１に取り付けられる。磁気ヘッド２１は
ボイスコイルにより磁気ディスク所望の位置に運ばれ
る。これらはケースに納められている。加工洗浄後の成
膜までの保管時間１時間と１２０時間の違いによる保持
力の変化は、今までの方法では１５０Ｏｅ前後の変化が
有ったが、この方法を用いると５０Ｏｅとなり品質が安
定した。

【００１２】

【発明の効果】本発明により、磁気特性が安定で信頼性
の高い磁気記録媒体を得ることができた。また、そのよ
うな磁気記録媒体を容易に製造することができた。さら
にそのような磁気記録媒体を有する磁気記録装置を得る
ことができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】磁性円板断面図。

【図２】加工洗浄装置概略図。

【図３】テクスチャー加工方法１。

【図４】磁気特性の経時変化（オレイン酸の有無の比
較）。

【図５】ＦＴ−ＩＲ分析チャート。

【図６】磁気特性の経時変化（加工方式による違い）。

【図７】表面処理ユニット概略図。

【図８】磁気記録装置断面概略図。

【符号の説明】１…Ｃ保護膜、２…磁性膜、３…クロム下地膜、４…Ｎｉ−Ｐ、５…Ａｌ基板、６…加工ユニット、７…洗浄ユニット、８…表面処理ユニット、９…乾燥ユニット、１０…磁気記録基板、１１…加工液供給管、１２…ゴムローラ、１３…加工用布、１４…槽、１５…純水、１６…注射器、１７…水表面、１８…昇降器、１９…磁気ディスク、２０…回転駆動体、２１…支持具、２２…磁気ヘッド、２３…ボイスコイル、２４…ケース。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気記録用基板表面に有機薄膜を吸着さ
せ、該基板にスパッタ方式によって成膜された磁気記録
媒体の磁気特性を制御する記録媒体の製造法。
【請求項２】磁気記録用基板として、表面材質がニッケ
ル−リン合金、炭素、ガラスであることを特徴とする請
求項第１項記載の基板。
【請求項３】有機薄膜として、炭素数が８から２０で構
成されている分子を特徴とする請求項第１項記載の製
法。
【請求項４】吸着として、有機薄膜と磁気記録用基板表
面が物理的または化学的エネルギー結合していることを
特徴とする請求項第１項記載の製法。
【請求項５】物理的または化学的エネルギーで吸着する
ものとして、分子の末端機にカルボン酸、スルフォン
酸、アルコールを有することを特徴とする請求項第４項
記載の製法。
【請求項６】製造方法として、テクスチャー加工及び液
体浸漬をともなう請求項第１項記載の製法。