JPH0119236Y2 - - Google Patents
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- JPH0119236Y2 JPH0119236Y2 JP19908282U JP19908282U JPH0119236Y2 JP H0119236 Y2 JPH0119236 Y2 JP H0119236Y2 JP 19908282 U JP19908282 U JP 19908282U JP 19908282 U JP19908282 U JP 19908282U JP H0119236 Y2 JPH0119236 Y2 JP H0119236Y2
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(a) 考案の技術分野
本考案は、電子計算機システムの外部記憶装置
として使用される磁気デイスク装置の記憶媒体で
ある磁気デイスクの製造工程で、該磁気デイスク
やその吸着面などをクリーニングするのに適する
装置に関する。
として使用される磁気デイスク装置の記憶媒体で
ある磁気デイスクの製造工程で、該磁気デイスク
やその吸着面などをクリーニングするのに適する
装置に関する。
(b) 技術の背景
磁気デイスク装置は、磁気デイスク(デイス
ク)を高速回転させながら、磁気ヘツドで情報の
読書きを行なうが、その際磁気ヘツドをデイスク
面に接触させた状態で情報の読書きを行なう方式
と、磁気ヘツドを数μ程度デイスク面から浮上さ
せて読書きする方式がある。浮上式の場合、磁気
ヘツドが浮上した状態でデイスク面上にロードし
たりアンロードしたりする方式と、デイスクの回
転開始および終了時には、磁気ヘツドがデイスク
面と接触し、デイスクが高速回転している最中の
みデイスク面から浮上する方式とがある。
ク)を高速回転させながら、磁気ヘツドで情報の
読書きを行なうが、その際磁気ヘツドをデイスク
面に接触させた状態で情報の読書きを行なう方式
と、磁気ヘツドを数μ程度デイスク面から浮上さ
せて読書きする方式がある。浮上式の場合、磁気
ヘツドが浮上した状態でデイスク面上にロードし
たりアンロードしたりする方式と、デイスクの回
転開始および終了時には、磁気ヘツドがデイスク
面と接触し、デイスクが高速回転している最中の
みデイスク面から浮上する方式とがある。
浮上式の場合でも、デイスク面と磁気ヘツドと
のギヤツプは極めて小さいため、デイスク面に異
物が有つたりすると、ヘツドクラツシユを招いた
り、異物が磁気ヘツドとデイスク面との間に挾ま
つてデイスク面を傷つける恐れがある。このよう
にして磁気塗膜に傷が発生すると、情報書込みの
際の磁化が不安定で書込みが確実に行なわれなく
なつたり、書込まれた情報が破壊されたりして、
情報の読書きのエラーを引き起す恐れがある。
のギヤツプは極めて小さいため、デイスク面に異
物が有つたりすると、ヘツドクラツシユを招いた
り、異物が磁気ヘツドとデイスク面との間に挾ま
つてデイスク面を傷つける恐れがある。このよう
にして磁気塗膜に傷が発生すると、情報書込みの
際の磁化が不安定で書込みが確実に行なわれなく
なつたり、書込まれた情報が破壊されたりして、
情報の読書きのエラーを引き起す恐れがある。
最近は高密度記録媒体を得るべく、媒体塗膜を
薄膜化し磁気ヘツドの浮上ギヤツプも微小化する
傾向にあるので、前記のようなデイスク面での傷
やスクラツチを招く恐れのある切粉やエラー原因
となるゴミ、汚れなどは完全に除去する必要があ
る。このような要求に対応できるように、平面加
工された面精度の高いアルミニウム円盤に、磁性
塗膜を塗布、乾燥させ、焼付を行なつてから、塗
膜の平面仕上げを行ない、洗浄乾燥させることに
よつて磁気デイスクを完成する方法が一般に採ら
れている。
薄膜化し磁気ヘツドの浮上ギヤツプも微小化する
傾向にあるので、前記のようなデイスク面での傷
やスクラツチを招く恐れのある切粉やエラー原因
となるゴミ、汚れなどは完全に除去する必要があ
る。このような要求に対応できるように、平面加
工された面精度の高いアルミニウム円盤に、磁性
塗膜を塗布、乾燥させ、焼付を行なつてから、塗
膜の平面仕上げを行ない、洗浄乾燥させることに
よつて磁気デイスクを完成する方法が一般に採ら
れている。
第1図は磁気デイスクを加工したり処理したり
する状態を示すもので、多数の真空吸引孔2…を
有する面板1に、ワークとなる磁気デイスクWを
真空吸着した状態で、旋盤のテーブル3上でスラ
イドする刃物台4に取付けられた工具5によつ
て、面板1を回転させながら磁気デイスクWの加
工を行なう。また加工時の切粉や汚れを除去する
ために、ワークWを面板1に吸着させた状態で、
溶剤をつけてワーク面を拭き取ることが行なわれ
る。面板1とワークW間に切粉などが挾まると、
ワークの表面を傷つける恐れがあるので、ワーク
Wを吸着させる前に、面板1の表面も拭き取る必
要がある。
する状態を示すもので、多数の真空吸引孔2…を
有する面板1に、ワークとなる磁気デイスクWを
真空吸着した状態で、旋盤のテーブル3上でスラ
イドする刃物台4に取付けられた工具5によつ
て、面板1を回転させながら磁気デイスクWの加
工を行なう。また加工時の切粉や汚れを除去する
ために、ワークWを面板1に吸着させた状態で、
溶剤をつけてワーク面を拭き取ることが行なわれ
る。面板1とワークW間に切粉などが挾まると、
ワークの表面を傷つける恐れがあるので、ワーク
Wを吸着させる前に、面板1の表面も拭き取る必
要がある。
アルミニウム基板の平面仕上げや磁性塗膜の平
面仕上げが良好に行なわれても、ワークWをセツ
トする前の面板1のクリーニングが不完全なため
に間にゴミが挾まつてワークWを傷つけたり、各
加工後のワークWのクリーニングが不完全なため
に切粉やゴミ、汚れなどが残ると、それまでの精
密仕上げが水泡に帰してしまう。
面仕上げが良好に行なわれても、ワークWをセツ
トする前の面板1のクリーニングが不完全なため
に間にゴミが挾まつてワークWを傷つけたり、各
加工後のワークWのクリーニングが不完全なため
に切粉やゴミ、汚れなどが残ると、それまでの精
密仕上げが水泡に帰してしまう。
(c) 従来技術とその問題点
従つて面板1やワークWのクリーニングは確実
に行なわなければならないが、従来はこの作業を
作業者の熟練と勘に頼つて、手作業で丁寧に行な
つている。ところが作業者の熟練度などによつて
洗浄効果にバラツキが発生し、また全面を均一に
クリーニングするのは困難である。しかも人手で
行なうので作業時間も長くなり、自動化が要請さ
れている。
に行なわなければならないが、従来はこの作業を
作業者の熟練と勘に頼つて、手作業で丁寧に行な
つている。ところが作業者の熟練度などによつて
洗浄効果にバラツキが発生し、また全面を均一に
クリーニングするのは困難である。しかも人手で
行なうので作業時間も長くなり、自動化が要請さ
れている。
(d) 考案の目的
本考案は、従来のワーク取付け面やワークをク
リーニングする工程におけるこのような問題を解
消し、自動的にかつ均一、確実にクリーニングで
きるようにすることを目的とする。
リーニングする工程におけるこのような問題を解
消し、自動的にかつ均一、確実にクリーニングで
きるようにすることを目的とする。
(e) 考案の構成
この目的を達成するために本考案は、帯状のワ
イパーが巻かれた繰出しスプールと、使用済みの
部分を巻取る巻取りスプールと、巻取りスプール
を駆動するモータと、繰出しスプールから繰出さ
れたワイパーを被クリーニング面側に押し付ける
押し付けロールと、この押し付けロールと繰出し
スプールとの間に位置において、ワイパーに洗浄
液を供給する溶剤供給パイプと、溶剤を貯蔵する
溶剤タンクと、吐出口に前記の溶剤供給パイプが
接続され、溶剤タンクから溶剤を供給するポンプ
とを組み立てて1つのユニツトとした構成を採つ
ている。
イパーが巻かれた繰出しスプールと、使用済みの
部分を巻取る巻取りスプールと、巻取りスプール
を駆動するモータと、繰出しスプールから繰出さ
れたワイパーを被クリーニング面側に押し付ける
押し付けロールと、この押し付けロールと繰出し
スプールとの間に位置において、ワイパーに洗浄
液を供給する溶剤供給パイプと、溶剤を貯蔵する
溶剤タンクと、吐出口に前記の溶剤供給パイプが
接続され、溶剤タンクから溶剤を供給するポンプ
とを組み立てて1つのユニツトとした構成を採つ
ている。
(f) 考案の実施例
次に本考案による自動クリーニング装置が実際
上どのように具体化されるかを実施例で説明す
る。第2図は自動クリーニング装置の実施例を示
すもので、イは内部構成を示す側面図、ロは正面
図すなわちイ図の矢印ロ方向から見た図である。
Wはクリーニングされる磁気デイスクで、面板1
に真空吸着されている。6が自動クリーニング装
置で、クリーニングを行なう帯状のワイパー7と
洗浄液となる溶剤の供給装置を内蔵している。ワ
イパー7は、コツトン(綿)、シルボン紙などの
ような紙、ナイロン布などを帯状に形成し、繰出
しスプール8に巻いてある。この繰出しスプール
8から繰出されたワイパー7は、ガイドロール
9,10にガイドされて押し付けロール11に供
給される。そして押し付けロール11を通過する
と、ガイドロール12を経由して巻取りスプール
13に巻取られる。Mはこの巻取りスプール13
を回転させる駆動モータで、ベルト14を介して
巻取りスプール13と連結されている。
上どのように具体化されるかを実施例で説明す
る。第2図は自動クリーニング装置の実施例を示
すもので、イは内部構成を示す側面図、ロは正面
図すなわちイ図の矢印ロ方向から見た図である。
Wはクリーニングされる磁気デイスクで、面板1
に真空吸着されている。6が自動クリーニング装
置で、クリーニングを行なう帯状のワイパー7と
洗浄液となる溶剤の供給装置を内蔵している。ワ
イパー7は、コツトン(綿)、シルボン紙などの
ような紙、ナイロン布などを帯状に形成し、繰出
しスプール8に巻いてある。この繰出しスプール
8から繰出されたワイパー7は、ガイドロール
9,10にガイドされて押し付けロール11に供
給される。そして押し付けロール11を通過する
と、ガイドロール12を経由して巻取りスプール
13に巻取られる。Mはこの巻取りスプール13
を回転させる駆動モータで、ベルト14を介して
巻取りスプール13と連結されている。
これらの各ロール、スプールは、左右のフレー
ム15,16に回転可能に軸支されており、モー
タMはフレーム15に固定されている。
ム15,16に回転可能に軸支されており、モー
タMはフレーム15に固定されている。
押し付けロール11は、ゴムなどの軟質体で構
成されており、また押し付けバネ17で、ワーク
W側に弾圧されている。18はバネ受けで、フレ
ーム15,16間に配設されている。
成されており、また押し付けバネ17で、ワーク
W側に弾圧されている。18はバネ受けで、フレ
ーム15,16間に配設されている。
溶剤ユニツト19中には、溶剤タンク20と、
ポンプ21が設けられており、ポンプ21の吐出
口にはパイプ22が接続され、溶剤タンク20か
らポンプ21によつて溶剤がノズル23に導かれ
る。ノズル23は、押し付けロール11の手前の
位置、すなわち押し付けロール11より繰出しス
プール8側の位置に配置され、ワイパー7に向け
られている。このようにして、ワイパー7には常
時溶剤が供給され、染み込んでいる。なお溶剤と
しては、パークレン、フレオン、イソプロピルア
ルコール、エチルアルコール、トリクレンなどが
使用される。そして溶剤ユニツト19も、フレー
ム15,16に取付けられ、全体で自動クリーニ
ング装置のユニツトを構成している。
ポンプ21が設けられており、ポンプ21の吐出
口にはパイプ22が接続され、溶剤タンク20か
らポンプ21によつて溶剤がノズル23に導かれ
る。ノズル23は、押し付けロール11の手前の
位置、すなわち押し付けロール11より繰出しス
プール8側の位置に配置され、ワイパー7に向け
られている。このようにして、ワイパー7には常
時溶剤が供給され、染み込んでいる。なお溶剤と
しては、パークレン、フレオン、イソプロピルア
ルコール、エチルアルコール、トリクレンなどが
使用される。そして溶剤ユニツト19も、フレー
ム15,16に取付けられ、全体で自動クリーニ
ング装置のユニツトを構成している。
この自動クリーニング装置でワークWのクリー
ニングを行なうには、第3図のように軸24を中
心に回転するアーム25に自動クリーニング装置
6を取付ける。そして押し付けロール11の部分
をワークWの中心に位置させ、押し付けロール1
1でワイパー7をワークWに押し付ける。この状
態で、ワークWを回転させながら、図示されてい
ない駆動装置でアーム25を回転させ、自動クリ
ーニング装置6を矢印a1方向に移動させる。する
と、ワークWの回転速度とアーム25の回転速度
を適度に設定することにより、ワークWの全面を
ワイパー7で拭き取ることができる。このときワ
イパー7は、押し付けロール11を介してバネ1
7で押し付けられ、均一の圧力で拭き取りが行な
われる。
ニングを行なうには、第3図のように軸24を中
心に回転するアーム25に自動クリーニング装置
6を取付ける。そして押し付けロール11の部分
をワークWの中心に位置させ、押し付けロール1
1でワイパー7をワークWに押し付ける。この状
態で、ワークWを回転させながら、図示されてい
ない駆動装置でアーム25を回転させ、自動クリ
ーニング装置6を矢印a1方向に移動させる。する
と、ワークWの回転速度とアーム25の回転速度
を適度に設定することにより、ワークWの全面を
ワイパー7で拭き取ることができる。このときワ
イパー7は、押し付けロール11を介してバネ1
7で押し付けられ、均一の圧力で拭き取りが行な
われる。
こうしてワークWのクリーニングを行なうと、
モータMにワイパー7の送り信号が入力して該モ
ータを所定角回転させることにより、先にクリー
ニングを行なつて汚れた部分が、巻取りスプール
13で巻取られ、ワイパー7の新しい面が押し付
けロール11位置に供給される。このように拭き
取りを行なうたびに、ワイパー7を少しずつ送つ
て、常に新しい面でクリーニングを行なう。なお
モータMを常時低速回転させて、クリーニング動
作中もワイパー7が送られるようにしてもよい。
またポンプ21で、ワイパー7には常時溶剤が供
給され、ワイパー7に溶剤が染み込んだ状態とな
る。
モータMにワイパー7の送り信号が入力して該モ
ータを所定角回転させることにより、先にクリー
ニングを行なつて汚れた部分が、巻取りスプール
13で巻取られ、ワイパー7の新しい面が押し付
けロール11位置に供給される。このように拭き
取りを行なうたびに、ワイパー7を少しずつ送つ
て、常に新しい面でクリーニングを行なう。なお
モータMを常時低速回転させて、クリーニング動
作中もワイパー7が送られるようにしてもよい。
またポンプ21で、ワイパー7には常時溶剤が供
給され、ワイパー7に溶剤が染み込んだ状態とな
る。
面板1をクリーニングする場合は、ワークWが
装着される前に、自動クリーニング装置6を第3
図と同様にして面板中央位置にセツトし、面板1
を回転させながら、自動クリーニング装置6を矢
印a1方向に移動させる。
装着される前に、自動クリーニング装置6を第3
図と同様にして面板中央位置にセツトし、面板1
を回転させながら、自動クリーニング装置6を矢
印a1方向に移動させる。
なお自動クリーニング装置6は、自動機などに
取付けてもよく、あるいはロボツトハンドに取付
けてもよい。
取付けてもよく、あるいはロボツトハンドに取付
けてもよい。
(g) 考案の効果
以上のように本考案によれば、自動クリーニン
グ装置を被クリーニング面にセツトして、被クリ
ーニング面の半径方向に移動させるだけで、被ク
リーニングワークの全面をクリーニングできる。
また自動クリーニング装置は、溶剤タンクからワ
イパーに自動的に溶剤が供給され、ワイパーは自
動的に送られるので、常にワイパーの新しい面で
磁気デイスクや面板などを自動的にクリーニング
することが可能となる。そのため、人手で拭き取
る場合に比べて、被クリーニング面を全面にわた
つて均一、かつ確実にクリーニングすることがで
き、信頼性の高い磁気デイスクを得ることができ
る。
グ装置を被クリーニング面にセツトして、被クリ
ーニング面の半径方向に移動させるだけで、被ク
リーニングワークの全面をクリーニングできる。
また自動クリーニング装置は、溶剤タンクからワ
イパーに自動的に溶剤が供給され、ワイパーは自
動的に送られるので、常にワイパーの新しい面で
磁気デイスクや面板などを自動的にクリーニング
することが可能となる。そのため、人手で拭き取
る場合に比べて、被クリーニング面を全面にわた
つて均一、かつ確実にクリーニングすることがで
き、信頼性の高い磁気デイスクを得ることができ
る。
第1図は磁気デイスクの加工装置を示す部分断
面側面図、第2図は本考案による自動クリーニン
グ装置の内部構成を示す側面図と正面図、第3図
は本考案の自動クリーニング装置によるクリーニ
ング工程を示す図である。 図において、1は面板、Wはワーク(磁気デイ
スク)6は自動クリーニング装置、7はワイパ
ー、8は繰出しスプール、11は押し付けロー
ル、13は巻取りスプール、Mはモータ、20は
溶剤タンク、21はポンプ、23はノズルをそれ
ぞれ示す。
面側面図、第2図は本考案による自動クリーニン
グ装置の内部構成を示す側面図と正面図、第3図
は本考案の自動クリーニング装置によるクリーニ
ング工程を示す図である。 図において、1は面板、Wはワーク(磁気デイ
スク)6は自動クリーニング装置、7はワイパ
ー、8は繰出しスプール、11は押し付けロー
ル、13は巻取りスプール、Mはモータ、20は
溶剤タンク、21はポンプ、23はノズルをそれ
ぞれ示す。
Claims (1)
- 帯状のワイパーが巻かれた繰出しスプールと、
使用済みの部分を巻取る巻取りスプールと、巻取
りスプールを駆動するモータと、繰出しスプール
から繰出されたワイパーを被クリーニング面側に
押し付ける押し付けロールと、この押し付けロー
ルと繰出しスプールとの間の位置において、ワイ
パーに洗浄液を供給する溶剤供給パイプと、溶剤
を貯蔵する溶剤タンクと、吐出口に前記の溶剤供
給パイプが接続され、溶剤タンクから溶剤を供給
するポンプとを組み立てて1つのユニツトとした
ことを特徴とする自動クリーニング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19908282U JPS59107720U (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 自動クリ−ニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19908282U JPS59107720U (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 自動クリ−ニング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59107720U JPS59107720U (ja) | 1984-07-20 |
JPH0119236Y2 true JPH0119236Y2 (ja) | 1989-06-05 |
Family
ID=33307794
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19908282U Granted JPS59107720U (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | 自動クリ−ニング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59107720U (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103611694A (zh) * | 2013-11-22 | 2014-03-05 | 日商株式会社雷恩工业 | 工件表面擦拭装置和工件表面擦拭方法 |
-
1982
- 1982-12-29 JP JP19908282U patent/JPS59107720U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59107720U (ja) | 1984-07-20 |
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