JPH07151983A - 光投射システム用エレクトロストリクティブミラーアクチュエータ - Google Patents
光投射システム用エレクトロストリクティブミラーアクチュエータInfo
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- JPH07151983A JPH07151983A JP6108469A JP10846994A JPH07151983A JP H07151983 A JPH07151983 A JP H07151983A JP 6108469 A JP6108469 A JP 6108469A JP 10846994 A JP10846994 A JP 10846994A JP H07151983 A JPH07151983 A JP H07151983A
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- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
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- H04N5/00—Details of television systems
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
- G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
- G02B26/0858—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD the reflecting means being moved or deformed by piezoelectric means
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 分極を必要とせずヒステリシスを表さないミ
ラーアレーを提供すること。 【構成】 能動マトリックス基板61(基板65、トラ
ンジスタおよび接続端子66)と、能動マトリックス基
板上に装着されたエレクトロストリクティブアクチュエ
ータ62(上面68及び下面69を有するエレクトロス
トリクティブ部材67、共通信号電極70、バイアス電
極71、基準電極81)と、電歪部材上に形成されたト
レンチ73に嵌合する突出部80を有する下面79およ
び平坦な上面78が設けられたヒンジ63と、ヒンジの
上面上に装着されたミラー64とを含み、電歪部材の上
面はその上に形成されたトレンチにより分離され、これ
によって各第1,第2アクチュエーチング部材74,7
6が形成され、共通信号電極70はエレクトロストリク
ティブ部材の下面上に位置し、バイアスおよび基準電極
は各第1,第2アクチュエーチング部材上面に各々位置
する構成。
ラーアレーを提供すること。 【構成】 能動マトリックス基板61(基板65、トラ
ンジスタおよび接続端子66)と、能動マトリックス基
板上に装着されたエレクトロストリクティブアクチュエ
ータ62(上面68及び下面69を有するエレクトロス
トリクティブ部材67、共通信号電極70、バイアス電
極71、基準電極81)と、電歪部材上に形成されたト
レンチ73に嵌合する突出部80を有する下面79およ
び平坦な上面78が設けられたヒンジ63と、ヒンジの
上面上に装着されたミラー64とを含み、電歪部材の上
面はその上に形成されたトレンチにより分離され、これ
によって各第1,第2アクチュエーチング部材74,7
6が形成され、共通信号電極70はエレクトロストリク
ティブ部材の下面上に位置し、バイアスおよび基準電極
は各第1,第2アクチュエーチング部材上面に各々位置
する構成。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光投射システムに関
し、特に、光投射システムに用いられるエレクトロスト
リクティブミラーアクチュエータに関するものである。
し、特に、光投射システムに用いられるエレクトロスト
リクティブミラーアクチュエータに関するものである。
【0002】
【従来の技術】当分野で知られている多様なビデオディ
スプレイシステムの中、光投射システムは高品質の大画
面ディスプレイを提供し得るシステムということで知ら
れている。かかる光投射システムにおいては、ランプか
らの光が、例えばM×N個のアクチュエィテッドミラー
に均一に照明され、これらミラーを介した各々の光はア
クチュエータの各々に結合される。これらのアクチュエ
ータは、印加された電気信号によって変形される圧電物
質、またはエレクトロストリクティブ(electrostrictiv
e,電歪)物質のようなエレクトロディスプレイシブ(el
ectrodisplacive)物質から成っている。
スプレイシステムの中、光投射システムは高品質の大画
面ディスプレイを提供し得るシステムということで知ら
れている。かかる光投射システムにおいては、ランプか
らの光が、例えばM×N個のアクチュエィテッドミラー
に均一に照明され、これらミラーを介した各々の光はア
クチュエータの各々に結合される。これらのアクチュエ
ータは、印加された電気信号によって変形される圧電物
質、またはエレクトロストリクティブ(electrostrictiv
e,電歪)物質のようなエレクトロディスプレイシブ(el
ectrodisplacive)物質から成っている。
【0003】各々のミラーから反射された光は、バフル
(baffle)の開口(aperture)へ入射される。各々のアクチ
ュエータへ電気信号を印加することによって、各々のミ
ラーの入射光束に対する相対的な位置が変化されて、各
々のミラーから反射された光の光路が変更される。各々
の反射された光の光路が変わって開口を通過する各々の
ミラーから反射された光量が変わることによって、光束
の強さが変調される。開口を通過して変調された光は、
投射レンズのような光装置を通して投射スクリーン上へ
伝達されて映像を表すことになる。
(baffle)の開口(aperture)へ入射される。各々のアクチ
ュエータへ電気信号を印加することによって、各々のミ
ラーの入射光束に対する相対的な位置が変化されて、各
々のミラーから反射された光の光路が変更される。各々
の反射された光の光路が変わって開口を通過する各々の
ミラーから反射された光量が変わることによって、光束
の強さが変調される。開口を通過して変調された光は、
投射レンズのような光装置を通して投射スクリーン上へ
伝達されて映像を表すことになる。
【0004】図2は、従来のM×N圧電アクチュエィテ
ッドミラーアレーに用いられた圧電ミラーアクチュエー
タ10の断面図である。この圧電アクチュエィテッドミ
ラーアレーは、米国特許第5,159,225 号(発明の名称
「圧電アクチュエータ」)公報に記載されているよう
に、基板14、ミラー12, 一対の圧電部材16a,1
6bおよびヒンジ18から構成されている。
ッドミラーアレーに用いられた圧電ミラーアクチュエー
タ10の断面図である。この圧電アクチュエィテッドミ
ラーアレーは、米国特許第5,159,225 号(発明の名称
「圧電アクチュエータ」)公報に記載されているよう
に、基板14、ミラー12, 一対の圧電部材16a,1
6bおよびヒンジ18から構成されている。
【0005】各々の圧電部材16a,16bは第1側面
20a,20bと、第2側面22a,22bと、上面2
4a,24bと、下面26a,26bとを備える。下面
26a,26bは基板14上に装着される。この実施例
において、各々の圧電部材の第1側面20a,20bは
向き合う関係にあり、第2側面22a,22bはそれら
の外側で対向している。
20a,20bと、第2側面22a,22bと、上面2
4a,24bと、下面26a,26bとを備える。下面
26a,26bは基板14上に装着される。この実施例
において、各々の圧電部材の第1側面20a,20bは
向き合う関係にあり、第2側面22a,22bはそれら
の外側で対向している。
【0006】各々の第1側面20a,20bと第2側面
22a,22bの間に電圧が印加される時、各圧電部材
16a,16bが分極化され、電圧の極性によって定め
られた方向で変形(shear) される。各圧電部材16a,
16bの第1側面20a,20bを互いに向き合う関係
に位置させることによって、同一電圧を印加すれば、各
圧電部材16a,16bの上面24a,24bは第1極
性の印加電圧に対して互いに近づくように変形され、第
1極性と反対の第2極性の印加電圧に対して互いに離れ
るように変形される。また、他の変形方向および分極化
が、圧電部材16a,16bの分極とこれらにに印加さ
れる電圧とによって可能となる。
22a,22bの間に電圧が印加される時、各圧電部材
16a,16bが分極化され、電圧の極性によって定め
られた方向で変形(shear) される。各圧電部材16a,
16bの第1側面20a,20bを互いに向き合う関係
に位置させることによって、同一電圧を印加すれば、各
圧電部材16a,16bの上面24a,24bは第1極
性の印加電圧に対して互いに近づくように変形され、第
1極性と反対の第2極性の印加電圧に対して互いに離れ
るように変形される。また、他の変形方向および分極化
が、圧電部材16a,16bの分極とこれらにに印加さ
れる電圧とによって可能となる。
【0007】電圧を印加する方法としては、通常なわれ
ているように、各圧電部材16a,16bの第1側面2
0a,20bを互いに連結させるように第1金属層28
を沈積させるとともに、同様に第2金属層30を第2側
面22a,22bの各々に設ける。第2金属層30は共
通接地に結合されてもよい。したがって、第1金属層2
8に電圧を印加すると、各々の圧電部材16a,16b
が変形されることになる。
ているように、各圧電部材16a,16bの第1側面2
0a,20bを互いに連結させるように第1金属層28
を沈積させるとともに、同様に第2金属層30を第2側
面22a,22bの各々に設ける。第2金属層30は共
通接地に結合されてもよい。したがって、第1金属層2
8に電圧を印加すると、各々の圧電部材16a,16b
が変形されることになる。
【0008】ヒンジ18は一対の設置部材32a,32
bと、一対の変換部材34a,34bと、回転部材36
と、駆動部材38とを備える。各々の設置部材32a,
32bは圧電部材16a,16b各々の上面24a,2
4b上に装着される。回転部材36は各設置部材32
a,32b間に位置し、各変換部材34a,34bによ
り各設置部材32a,32bに付着される。具体的に
は、第1の変換部材34aは回転部材36の上部42の
末端40aに装着され、第2の変換部材34bは回転部
材36の下部44の末端40bに装着される。駆動部材
38は回転部材36に付着され、回転軸から外側へ放射
状に延長する。
bと、一対の変換部材34a,34bと、回転部材36
と、駆動部材38とを備える。各々の設置部材32a,
32bは圧電部材16a,16b各々の上面24a,2
4b上に装着される。回転部材36は各設置部材32
a,32b間に位置し、各変換部材34a,34bによ
り各設置部材32a,32bに付着される。具体的に
は、第1の変換部材34aは回転部材36の上部42の
末端40aに装着され、第2の変換部材34bは回転部
材36の下部44の末端40bに装着される。駆動部材
38は回転部材36に付着され、回転軸から外側へ放射
状に延長する。
【0009】駆動部材38の末端46はミラー12が装
着された平面プラットホーム48を備える。電圧が印加
されると、前述したように変形が発生されて、回転部材
36の回転によってミラー12の平面が傾けられる。
着された平面プラットホーム48を備える。電圧が印加
されると、前述したように変形が発生されて、回転部材
36の回転によってミラー12の平面が傾けられる。
【0010】このように構成されるアクチュエータ10
のアレーにおいては、各々のアクチュエータが独立的に
作動されるように成されることができる。開口50はア
レーにおいて一対の圧電部材16a,16bの中間に位
置し、基板14を貫通する形態から成っている。開口5
0は金属52で満たされ、第1金属層28と電気的に接
続されている。アドレシブルドライバ(adressable driv
er) 54は、基板14の下面に位置し、金属52に電圧
を印加する。アレー上で各双に印加される電圧は、光変
調投射装置における画素の強さによって変化される。ま
た、各第2側面22a,22bに設けられる第2金属層
30は、基板14の上面において共通に接続されること
もできる。
のアレーにおいては、各々のアクチュエータが独立的に
作動されるように成されることができる。開口50はア
レーにおいて一対の圧電部材16a,16bの中間に位
置し、基板14を貫通する形態から成っている。開口5
0は金属52で満たされ、第1金属層28と電気的に接
続されている。アドレシブルドライバ(adressable driv
er) 54は、基板14の下面に位置し、金属52に電圧
を印加する。アレー上で各双に印加される電圧は、光変
調投射装置における画素の強さによって変化される。ま
た、各第2側面22a,22bに設けられる第2金属層
30は、基板14の上面において共通に接続されること
もできる。
【0011】圧電ミラーアクチュエータに係わる従来技
術には、多くの問題点がある。即ち、a)圧電物質、例
えば、リードジルコニウムチタネート(lead zirconium
titanate,PZT) がヒステリシスを表すので、与えられた
電気信号に対して一貫で正確な機械的な応答を得ること
が極めて難しい、b)非常に面倒な工程で圧電物質を分
極化しなければならない、c)圧電ミラーアクチュエー
タが、例えば、ソーイング(sawing)のような機械的手段
を用いて製造されるので、所望の生産性を得ることが難
しく、小型化にも制限があることである。
術には、多くの問題点がある。即ち、a)圧電物質、例
えば、リードジルコニウムチタネート(lead zirconium
titanate,PZT) がヒステリシスを表すので、与えられた
電気信号に対して一貫で正確な機械的な応答を得ること
が極めて難しい、b)非常に面倒な工程で圧電物質を分
極化しなければならない、c)圧電ミラーアクチュエー
タが、例えば、ソーイング(sawing)のような機械的手段
を用いて製造されるので、所望の生産性を得ることが難
しく、小型化にも制限があることである。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、分極を必要としなくてヒステリシスを表さない
光投射システム用エレクトロストリクティブミラーアレ
ーを提供することにある。
目的は、分極を必要としなくてヒステリシスを表さない
光投射システム用エレクトロストリクティブミラーアレ
ーを提供することにある。
【0013】本発明の他の目的は、半導体の製造に用い
られる製造技術を用いることによって製造し得る光投射
システム用エレクトロストリクティブミラーアクチュエ
ータを提供することにある。
られる製造技術を用いることによって製造し得る光投射
システム用エレクトロストリクティブミラーアクチュエ
ータを提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、光投射システムに用いられるエレクトロ
ストリクティブミラーアクチュエータにおいて、基板、
トランジスタおよび接続端子を有する能動マトリックス
基板と、上面および下面を有するエレクトロストリクテ
ィブ部材、共通信号電極、バイアス電極および基準電極
を有し、前記能動マトリックス基板上に装着されたエレ
クトロストリクティブアクチュエータと、前記エレクト
ロストリクティブ部材上に形成されたトレンチに当ては
めるように形成された突出部を有する下面および平坦な
上面が設けられたヒンジと、前記ヒンジの平坦な上面上
に装着されたミラーとを含み、前記エレクトロストリク
ティブ部材の上面は、その上に形成された固定された深
さのトレンチにより均一に分離され、これによって第1
上面を有する第1アクチュエーチング部材と第2上面を
有する第2アクチュエーチング部材とが形成され、前記
共通信号電極は前記エレクトロストリクティブ部材の下
面上に位置し、前記バイアスおよび基準電極は前記第1
上面および第2上面上に各々位置することを特徴とす
る。
に、本発明は、光投射システムに用いられるエレクトロ
ストリクティブミラーアクチュエータにおいて、基板、
トランジスタおよび接続端子を有する能動マトリックス
基板と、上面および下面を有するエレクトロストリクテ
ィブ部材、共通信号電極、バイアス電極および基準電極
を有し、前記能動マトリックス基板上に装着されたエレ
クトロストリクティブアクチュエータと、前記エレクト
ロストリクティブ部材上に形成されたトレンチに当ては
めるように形成された突出部を有する下面および平坦な
上面が設けられたヒンジと、前記ヒンジの平坦な上面上
に装着されたミラーとを含み、前記エレクトロストリク
ティブ部材の上面は、その上に形成された固定された深
さのトレンチにより均一に分離され、これによって第1
上面を有する第1アクチュエーチング部材と第2上面を
有する第2アクチュエーチング部材とが形成され、前記
共通信号電極は前記エレクトロストリクティブ部材の下
面上に位置し、前記バイアスおよび基準電極は前記第1
上面および第2上面上に各々位置することを特徴とす
る。
【0015】この構成において、前記共通信号電極は、
前記能動マトリックス基板の接続端子と電気的に接続さ
れることがきでる。また、前記トレンチはウエットエッ
チング法によって形成されることができる。
前記能動マトリックス基板の接続端子と電気的に接続さ
れることがきでる。また、前記トレンチはウエットエッ
チング法によって形成されることができる。
【0016】また、上記のような構成構造を有するエレ
クトロストリクティブミラーアクチュエータを含む光投
射システムも本発明に含まれる。
クトロストリクティブミラーアクチュエータを含む光投
射システムも本発明に含まれる。
【0017】
【実施例】図1は、本発明の原理によって製造された光
投射システム用エレクトロストリクティブミラーアクチ
ュエータ1の断面図を示したものである。
投射システム用エレクトロストリクティブミラーアクチ
ュエータ1の断面図を示したものである。
【0018】エレクトロストリクティブミラーアクチュ
エータ1は、能動マトリックス基板61,エレクトロス
トリクティブアクチュエータ62,ヒンジ63およびミ
ラー64から構成される。
エータ1は、能動マトリックス基板61,エレクトロス
トリクティブアクチュエータ62,ヒンジ63およびミ
ラー64から構成される。
【0019】能動マトリックス基板61は、Al2O3 や
ガラスなどの絶縁体あるいはSiからなる半導体により
形成された基板65と、トランジスタ(図示せず)と、
Alのような導電性金属から成る接続端子66とを備え
る。
ガラスなどの絶縁体あるいはSiからなる半導体により
形成された基板65と、トランジスタ(図示せず)と、
Alのような導電性金属から成る接続端子66とを備え
る。
【0020】能動マトリックス基板61上に装着された
エレクトロストリクティブアクチュエータ62は、上面
および下面68,69を有するエレクトロストリクティ
ブ部材67、共通信号電極70、バイアス電極71、お
よび基準電極81から構成される。ここで、エレクトロ
ストリクティブ部材67の上面68は、上面68を横切
って固定された深さで形成されたトレンチ73によって
図面における左右均等に分離される。したがって、第1
上面75を有する第1アクチュエーチング部材74と第
2上面77を有する第2アクチュエーチング部材76と
が形成され、共通信号電極70は下面69上に位置し、
バイアス電極71及び基準電極81は各々第1上面75
及び第2上面77上に位置する。
エレクトロストリクティブアクチュエータ62は、上面
および下面68,69を有するエレクトロストリクティ
ブ部材67、共通信号電極70、バイアス電極71、お
よび基準電極81から構成される。ここで、エレクトロ
ストリクティブ部材67の上面68は、上面68を横切
って固定された深さで形成されたトレンチ73によって
図面における左右均等に分離される。したがって、第1
上面75を有する第1アクチュエーチング部材74と第
2上面77を有する第2アクチュエーチング部材76と
が形成され、共通信号電極70は下面69上に位置し、
バイアス電極71及び基準電極81は各々第1上面75
及び第2上面77上に位置する。
【0021】エレクトロストリクティブ部材67は、エ
レクトロストリクティブ材料、例えば、リードマグネシ
ウムニオベートーリードチタネート(PMN-PT)からなり、
その上に形成されたトレンチ73はウエットエッチング
方法を用いて得られる。さらに、接続端子66に電気的
に接続された共通信号電極70は、共通信号電極70の
中心線がトレンチ73の中心線に合致し、且つ第1およ
び第2アクチュエーチング部材74,76に共通にかか
るように、エレクトロストリクティブ部材67の下面6
9上に位置する。
レクトロストリクティブ材料、例えば、リードマグネシ
ウムニオベートーリードチタネート(PMN-PT)からなり、
その上に形成されたトレンチ73はウエットエッチング
方法を用いて得られる。さらに、接続端子66に電気的
に接続された共通信号電極70は、共通信号電極70の
中心線がトレンチ73の中心線に合致し、且つ第1およ
び第2アクチュエーチング部材74,76に共通にかか
るように、エレクトロストリクティブ部材67の下面6
9上に位置する。
【0022】絶縁性エポキシから成るヒンジ63は、エ
レクトロストリクティブ部材67に形成されたトレンチ
73に合うように突出部80が設けられた下面79と、
上面78とを有している。また、例えばAlのような光
反射体から成るミラー64は、ヒンジ63の上面78上
に装着される。ミラー64は、一般にスパッタリング方
法を用いて形成される。アクチュエータにミラー64を
付着する方法は、本出願人に出願されて係留中である米
国特許第 号、発明の名称“ミラーアレーおよび
その製造方法”に記載されている。
レクトロストリクティブ部材67に形成されたトレンチ
73に合うように突出部80が設けられた下面79と、
上面78とを有している。また、例えばAlのような光
反射体から成るミラー64は、ヒンジ63の上面78上
に装着される。ミラー64は、一般にスパッタリング方
法を用いて形成される。アクチュエータにミラー64を
付着する方法は、本出願人に出願されて係留中である米
国特許第 号、発明の名称“ミラーアレーおよび
その製造方法”に記載されている。
【0023】エレクトロストリクティブアクチュエータ
62において、一定な大きさのバイアス電圧Vbがバイ
アス電極71に印加され、基準電極81は接地に接続さ
れる。信号電圧Vpが、例えば光投射システムにおいて
相応する画素の強さによって共通信号電極70に印加さ
れると、第1アクチュエーチング部材74および第2ア
クチュエーチング部材76のエレクトロストリクティブ
物質は機械的に変形され。この変形の大きさは、バイア
ス電圧Vbと、基準および信号電圧Vpに比例し、ミラ
ー64が傾斜される。前記バイアス電圧Vbは、常に信
号電圧Vpより大きいか同じでなければならない。
62において、一定な大きさのバイアス電圧Vbがバイ
アス電極71に印加され、基準電極81は接地に接続さ
れる。信号電圧Vpが、例えば光投射システムにおいて
相応する画素の強さによって共通信号電極70に印加さ
れると、第1アクチュエーチング部材74および第2ア
クチュエーチング部材76のエレクトロストリクティブ
物質は機械的に変形され。この変形の大きさは、バイア
ス電圧Vbと、基準および信号電圧Vpに比例し、ミラ
ー64が傾斜される。前記バイアス電圧Vbは、常に信
号電圧Vpより大きいか同じでなければならない。
【0024】
【発明の効果】以上、説明した通り、本発明に係る光投
射システム用エレクトロストリクティブミラーアレーに
よれば、エレクトロストリクティブ部材の上面は、トレ
ンチによって分離されて、第1上面を有する第1アクチ
ュエーチング部材と第2上面を有する第2アクチュエー
チング部材とを形成し、共通信号電極はエレクトロスト
リクティブ部材の下面上に位置し、バイアスおよび基準
電極は前記第1上面および第2上面上に各々位置するた
め、分極を必要とせずヒステリシスを表すことがなく、
このため、与えられた電気信号に対して一貫して正確な
機械的な応答を得ることができる。また、本発明に係る
光投射システム用エレクトロストリクティブミラーアク
チュエータは、半導体の製造に用いられる製造技術を用
いることによって製造することができる。
射システム用エレクトロストリクティブミラーアレーに
よれば、エレクトロストリクティブ部材の上面は、トレ
ンチによって分離されて、第1上面を有する第1アクチ
ュエーチング部材と第2上面を有する第2アクチュエー
チング部材とを形成し、共通信号電極はエレクトロスト
リクティブ部材の下面上に位置し、バイアスおよび基準
電極は前記第1上面および第2上面上に各々位置するた
め、分極を必要とせずヒステリシスを表すことがなく、
このため、与えられた電気信号に対して一貫して正確な
機械的な応答を得ることができる。また、本発明に係る
光投射システム用エレクトロストリクティブミラーアク
チュエータは、半導体の製造に用いられる製造技術を用
いることによって製造することができる。
【図1】本発明の原理によって製造されたエレクトロス
トリクティブミラーアクチュエータの断面図である。
トリクティブミラーアクチュエータの断面図である。
【図2】従来の圧電ミラーアクチュエータの断面図であ
る。
る。
61 能動マトリックス基板 62 エレクトロストリクティブアクチュエータ 63 ヒンジ 64 ミラー 65 基板 66 接続端子 67 エレクトロストリクティブ部材 68 上面 69 下面 70 共通信号電極 71 バイアス電極 73 トレンチ 74 第1アクチュエーチング部材 75 第1上面 76 第2アクチュエーチング部材 77 第2上面7 78 上面 79 下面 80 突出部 81 基準電極
Claims (4)
- 【請求項1】 光投射システムに用いられるエレクトロ
ストリクティブミラーアクチュエータにおいて、 基板、トランジスタおよび接続端子を有する能動マトリ
ックス基板と、 上面および下面を有するエレクトロストリクティブ部
材、共通信号電極、バイアス電極および基準電極を有
し、前記能動マトリックス基板上に装着されたエレクト
ロストリクティブアクチュエータと、 前記エレクトロストリクティブ部材上に形成されたトレ
ンチに当てはめるように形成された突出部を有する下面
および平坦な上面が設けられたヒンジと、 前記ヒンジの平坦な上面上に装着されたミラーとを含
み、 前記エレクトロストリクティブ部材の上面は、その上に
形成された固定された深さのトレンチにより均一に分離
され、これによって第1上面を有する第1アクチュエー
チング部材と第2上面を有する第2アクチュエーチング
部材とが形成され、前記共通信号電極は前記エレクトロ
ストリクティブ部材の下面上に位置し、前記バイアスお
よび基準電極は前記第1上面および第2上面上に各々位
置するエレクトロストリクティブミラーアクチュエー
タ。 - 【請求項2】 前記共通信号電極は、前記能動マトリッ
クス基板の接続端子と電気的に接続される請求項1記載
のエレクトロストリクティブミラーアクチュエータ。 - 【請求項3】 前記トレンチはウエットエッチング法に
よって形成される請求項1記載のエレクトロストリクテ
ィブミラーアクチュエータ。 - 【請求項4】 請求項1記載の構造を有するエレクトロ
ストリクティブミラーアクチュエータを含む光投射シス
テム。
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