JPH07150072A - 防曇剤および防曇性被膜形成基材 - Google Patents
防曇剤および防曇性被膜形成基材Info
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- JPH07150072A JPH07150072A JP5320832A JP32083293A JPH07150072A JP H07150072 A JPH07150072 A JP H07150072A JP 5320832 A JP5320832 A JP 5320832A JP 32083293 A JP32083293 A JP 32083293A JP H07150072 A JPH07150072 A JP H07150072A
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- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 加水分解性の有機ケイ素化合物、ケイ酸液、
水溶性樹脂などの被膜形成用マトリックスおよびシクロ
デキストリンを主成分とするものであり、シクロデキス
トリンは、前記マトリックス１００重量部当り、４０〜
１５００重量部含有される防曇剤。 【効果】 この防曇剤は、ガラス、プラスチックシー
ト、フィルム等の表面に薄く均一に塗布することがで
き、塗布加工が容易であり、塗布して形成される被膜
は、防曇性および透明性に優れている。
水溶性樹脂などの被膜形成用マトリックスおよびシクロ
デキストリンを主成分とするものであり、シクロデキス
トリンは、前記マトリックス１００重量部当り、４０〜
１５００重量部含有される防曇剤。 【効果】 この防曇剤は、ガラス、プラスチックシー
ト、フィルム等の表面に薄く均一に塗布することがで
き、塗布加工が容易であり、塗布して形成される被膜
は、防曇性および透明性に優れている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス、プラスチック
シート、フィルム等の表面に塗布することにより、これ
らに耐久性のある防曇性を付与し得る被膜を形成するた
めの防曇剤および防曇性被膜が形成された基材に関す
る。
シート、フィルム等の表面に塗布することにより、これ
らに耐久性のある防曇性を付与し得る被膜を形成するた
めの防曇剤および防曇性被膜が形成された基材に関す
る。
【０００２】
【従来技術およびその問題点】ガラス板、プラスチック
製の透明シート、フィルム等の表面の曇りを防止する方
法として、ガラス等の表面に親水性の被膜を形成するこ
とが行われている。このような親水性被膜を形成する塗
布液としては種々の界面活性剤を含む塗布液が使われて
いる。
製の透明シート、フィルム等の表面の曇りを防止する方
法として、ガラス等の表面に親水性の被膜を形成するこ
とが行われている。このような親水性被膜を形成する塗
布液としては種々の界面活性剤を含む塗布液が使われて
いる。
【０００３】しかし、これら従来の方法による防曇性被
膜は、当初の防曇性は良好であっても、使用中に界面
活性剤等が洗い流されて、防曇性が持続しにくく、ま
た、塗布液とプラスチック等との濡れ性が悪く、均一
に塗布することが困難である、等の問題点を有してい
る。
膜は、当初の防曇性は良好であっても、使用中に界面
活性剤等が洗い流されて、防曇性が持続しにくく、ま
た、塗布液とプラスチック等との濡れ性が悪く、均一
に塗布することが困難である、等の問題点を有してい
る。
【０００４】
【発明の目的】本発明は、従来とは全く異なる親水性の
化合物を含む防曇剤およびこの防曇性被膜が形成された
基材を提供することにより、基材の表面に親水性の被膜
を形成し、防曇効果を長期に亘って持続させることを目
的とするものである。
化合物を含む防曇剤およびこの防曇性被膜が形成された
基材を提供することにより、基材の表面に親水性の被膜
を形成し、防曇効果を長期に亘って持続させることを目
的とするものである。
【０００５】
【発明の概要】本発明に係る防曇剤は、被膜形成用マト
リックスおよびシクロデキストリンを主成分とするもの
であり、シクロデキストリンは、前記マトリックス１０
０重量部当り、４０〜１５００重量部含有されることが
好ましい。この防曇剤は、ガラス、プラスチック等の基
材表面に塗布される。
リックスおよびシクロデキストリンを主成分とするもの
であり、シクロデキストリンは、前記マトリックス１０
０重量部当り、４０〜１５００重量部含有されることが
好ましい。この防曇剤は、ガラス、プラスチック等の基
材表面に塗布される。
【０００６】
【発明の具体的な説明】以下に本発明について具体的に
説明する。シクロデキストリンは、６、７、８個のグル
コースが環状に結合したデキストリンであり、使用する
生成酵素の種類や反応条件によって重合度の異なるα、
β、γの３種のシクロデキストリンが生成される。従
来、シクロデキストリンはその環内に、親油基を有する
化合物を取り込んで包接化合物を形成するという性質を
利用して、香料、色素の安定化、医薬品類や農薬類の分
子カプセル化などが行われている。本発明では、これら
シクロデキストリンの単一物または混合物を用いる。
説明する。シクロデキストリンは、６、７、８個のグル
コースが環状に結合したデキストリンであり、使用する
生成酵素の種類や反応条件によって重合度の異なるα、
β、γの３種のシクロデキストリンが生成される。従
来、シクロデキストリンはその環内に、親油基を有する
化合物を取り込んで包接化合物を形成するという性質を
利用して、香料、色素の安定化、医薬品類や農薬類の分
子カプセル化などが行われている。本発明では、これら
シクロデキストリンの単一物または混合物を用いる。
【０００７】一方、シクロデキストリンは、その環状構
造の外側部分にＯＨ基を有しており親水性を発揮する。
従って、本発明の防曇剤の如くシクロデキストリンを含
む塗布液を用いて得られる被膜は、その表面が水との親
和性に優れたものとなる。また、シクロデキストリンに
より被膜の表面に微細な凹凸が形成され、このような凹
凸の表面に付着した水滴は、平坦な表面に比べて容易に
拡散し易く、水との濡れ性が良くなるものと考えられ
る。本発明においては、上記のような相互作用により、
被膜の表面が水蒸気などに触れて微小な水滴が付いても
凝結することがなく、防曇性に優れた被膜となる。
造の外側部分にＯＨ基を有しており親水性を発揮する。
従って、本発明の防曇剤の如くシクロデキストリンを含
む塗布液を用いて得られる被膜は、その表面が水との親
和性に優れたものとなる。また、シクロデキストリンに
より被膜の表面に微細な凹凸が形成され、このような凹
凸の表面に付着した水滴は、平坦な表面に比べて容易に
拡散し易く、水との濡れ性が良くなるものと考えられ
る。本発明においては、上記のような相互作用により、
被膜の表面が水蒸気などに触れて微小な水滴が付いても
凝結することがなく、防曇性に優れた被膜となる。
【０００８】本発明において被膜形成用マトリックスと
は、基材の表面に被膜を形成し得る成分をいい、従来か
ら塗布液として用いられているもののうち、水との親和
性を有するマトリックスが好ましい。このようなマトリ
ックスはシクロデキストリンとの親和性にも優れ、被膜
中でシクロデキストリンがマトリックスと良く密着する
ため、防曇効果の持続性が良好で耐久性のある被膜が得
られる。被膜形成用マトリックスとして、具体的には、
加水分解性の有機ケイ素化合物、ケイ酸液、水溶性樹脂
などを挙げることができる。
は、基材の表面に被膜を形成し得る成分をいい、従来か
ら塗布液として用いられているもののうち、水との親和
性を有するマトリックスが好ましい。このようなマトリ
ックスはシクロデキストリンとの親和性にも優れ、被膜
中でシクロデキストリンがマトリックスと良く密着する
ため、防曇効果の持続性が良好で耐久性のある被膜が得
られる。被膜形成用マトリックスとして、具体的には、
加水分解性の有機ケイ素化合物、ケイ酸液、水溶性樹脂
などを挙げることができる。
【０００９】加水分解性の有機ケイ素化合物としては、
一般式Ｒn Ｓｉ（ＯＲ′）4-n 〔Ｒ、Ｒ′：アルキル
基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素
基、ｎ＝０、１、２または３〕で表されるアルコキシシ
ランを用いることができ、特に、テロラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラ
ン等のテトラアルコキシシランが好ましい。
一般式Ｒn Ｓｉ（ＯＲ′）4-n 〔Ｒ、Ｒ′：アルキル
基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素
基、ｎ＝０、１、２または３〕で表されるアルコキシシ
ランを用いることができ、特に、テロラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラ
ン等のテトラアルコキシシランが好ましい。
【００１０】ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属
ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリした
ケイ酸の低重合物の水溶液である。
ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリした
ケイ酸の低重合物の水溶液である。
【００１１】水溶性樹脂としては、特に制限はなく、例
えば、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、ＰＶＡ系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、また
は、アクリル−シリコン系樹脂、アクリル−酢酸ビニル
系樹脂のような光重合樹脂等を用いることができる。
えば、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、ＰＶＡ系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、また
は、アクリル−シリコン系樹脂、アクリル−酢酸ビニル
系樹脂のような光重合樹脂等を用いることができる。
【００１２】シクロデキストリンとマトリックスの混合
割合は、マトリックス１００重量部に対して、シクロデ
キストリン４０〜１５００重量部、特に、１００〜６０
０重量部が好ましい。４０重量部未満では防曇性効果が
十分に発揮されず、他方、１５００重量部を越すと、被
膜の強度が低下する虞がある。
割合は、マトリックス１００重量部に対して、シクロデ
キストリン４０〜１５００重量部、特に、１００〜６０
０重量部が好ましい。４０重量部未満では防曇性効果が
十分に発揮されず、他方、１５００重量部を越すと、被
膜の強度が低下する虞がある。
【００１３】本発明の防曇剤を調製するには、シクロデ
キストリンまたはその水溶液と、前記マトリックスの水
分散液を混合することにより得ることができる。マトリ
ックスとして加水分解性有機ケイ素化合物を用いる場合
には、混合液に触媒として、少量の酸またはアルカリを
加えて、アルコキシシラン等を加水分解する。
キストリンまたはその水溶液と、前記マトリックスの水
分散液を混合することにより得ることができる。マトリ
ックスとして加水分解性有機ケイ素化合物を用いる場合
には、混合液に触媒として、少量の酸またはアルカリを
加えて、アルコキシシラン等を加水分解する。
【００１４】本発明の防曇剤には防曇性以外の機能を併
有させることも可能であり、そのためには、当該機能に
応じた種々の添加剤を混合する。例えば、導電性酸化錫
等の導電性物質を添加することにより、防曇性と帯電防
止効果を共に阻害されることなく帯電防止性被膜を得る
ことができる。また、防曇剤の用途に応じて紫外線吸収
剤、熱安定剤、光安定剤等も添加することができる。
有させることも可能であり、そのためには、当該機能に
応じた種々の添加剤を混合する。例えば、導電性酸化錫
等の導電性物質を添加することにより、防曇性と帯電防
止効果を共に阻害されることなく帯電防止性被膜を得る
ことができる。また、防曇剤の用途に応じて紫外線吸収
剤、熱安定剤、光安定剤等も添加することができる。
【００１５】本発明の防曇剤は、ガラス、プラスチック
等の基材に塗布し、乾燥することにより被膜付基材を得
ることができる。即ち、この被膜付基材は、ガラス、ま
たは、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのオレフィン
系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、四
フッ化エチレン系樹脂などの含フッ素樹脂などの合成樹
脂フィルムおよびシート等の基材の表面に被膜を形成し
たものであり、前記防曇剤を塗布液としてディップ法、
スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコータ
ー法、ハケ塗り法などの通常の塗布方法で基材に塗布
し、乾燥するものである。
等の基材に塗布し、乾燥することにより被膜付基材を得
ることができる。即ち、この被膜付基材は、ガラス、ま
たは、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのオレフィン
系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、四
フッ化エチレン系樹脂などの含フッ素樹脂などの合成樹
脂フィルムおよびシート等の基材の表面に被膜を形成し
たものであり、前記防曇剤を塗布液としてディップ法、
スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコータ
ー法、ハケ塗り法などの通常の塗布方法で基材に塗布
し、乾燥するものである。
【００１６】
【実施例】以下に実施例を示し、本発明を更に具体的に
説明する。
説明する。
【００１７】実施例１ シクロデキストリン（三楽オーシャン（株）製）２ｇを
純水９８ｇに加えて、２時間撹拌し、シクロデキストリ
ン水溶液（Ａ液）を調製した。水ガラス（ＳｉＯ2 濃度
２４重量％）９０ｇと純水９１０ｇの混合溶液を、陽イ
オン交換樹脂のカラムを通して脱アルカリして、ＳｉＯ
2 濃度２重量％の酸性ケイ酸液からなるマトリックス溶
液（Ｂ液）を得た。上記Ａ液８０ｇとＢ液２０ｇを十分
混合することにより、マトリックス（ＳｉＯ2 ）１００
重量部当たりシクロデキストリン４００重量部を含む防
曇剤を得た。
純水９８ｇに加えて、２時間撹拌し、シクロデキストリ
ン水溶液（Ａ液）を調製した。水ガラス（ＳｉＯ2 濃度
２４重量％）９０ｇと純水９１０ｇの混合溶液を、陽イ
オン交換樹脂のカラムを通して脱アルカリして、ＳｉＯ
2 濃度２重量％の酸性ケイ酸液からなるマトリックス溶
液（Ｂ液）を得た。上記Ａ液８０ｇとＢ液２０ｇを十分
混合することにより、マトリックス（ＳｉＯ2 ）１００
重量部当たりシクロデキストリン４００重量部を含む防
曇剤を得た。
【００１８】この防曇剤をウェット膜厚６μｍのバーコ
ーターを用いてガラス基板に塗布し、１２０℃で１０分
間乾燥硬化し、防曇性被膜付ガラス基板を得た。上記ガ
ラス基板を、９０℃に保持された熱水の入ったビーカー
上に塗布面を下にして静置し、ガラス基板の曇りの有無
を目視で観察した。
ーターを用いてガラス基板に塗布し、１２０℃で１０分
間乾燥硬化し、防曇性被膜付ガラス基板を得た。上記ガ
ラス基板を、９０℃に保持された熱水の入ったビーカー
上に塗布面を下にして静置し、ガラス基板の曇りの有無
を目視で観察した。
【００１９】また、被膜の耐久性を評価するために、上
記ガラス基板を常温の水中に２４時間放置後、引き上げ
て１２０℃で１０分間乾燥した。この基板の防曇性を上
記と同様に目視観察した。更に、被膜付ガラスの光線透
過率（５５０ｎｍ）を分光光度計で測定した。これらの
観察結果と測定結果を表１に示すが、表１の防曇性の欄
において、記号○は曇が観察されなかったことを、記号
×は曇が観察されたことを、それぞれ示す。
記ガラス基板を常温の水中に２４時間放置後、引き上げ
て１２０℃で１０分間乾燥した。この基板の防曇性を上
記と同様に目視観察した。更に、被膜付ガラスの光線透
過率（５５０ｎｍ）を分光光度計で測定した。これらの
観察結果と測定結果を表１に示すが、表１の防曇性の欄
において、記号○は曇が観察されなかったことを、記号
×は曇が観察されたことを、それぞれ示す。
【００２０】実施例２ 実施例１のＢ液の代わりに、水溶性ポリウレタン溶液
（樹脂濃度３０重量％、第１工業製薬（株）製、スーパ
ーフレックス１００）を純水で２重量％に希釈したマト
リックス溶液を用いた以外は実施例１と同様にして防曇
剤を調製し、前記同様の評価を行った。
（樹脂濃度３０重量％、第１工業製薬（株）製、スーパ
ーフレックス１００）を純水で２重量％に希釈したマト
リックス溶液を用いた以外は実施例１と同様にして防曇
剤を調製し、前記同様の評価を行った。
【００２１】実施例３ テトラエトキシシラン（ＳｉＯ2 換算濃度、２８重量
％）３４．７ｇとイソプロパノール４１．３ｇの混合溶
液に０．１重量％ＨＣｌ水溶液２４ｇを添加した後、４
０℃、６０分間保持し、テトラエトキシシランの部分加
水分解物を調製した。この溶液をエタノール４００ｇで
希釈しＳｉＯ2 濃度２重量％のマトリックス溶液を得
た。この溶液と実施例１のＡ液を、実施例１と同様の割
合で混合して防曇剤を得た。この防曇剤を実施例１と同
様に評価した。
％）３４．７ｇとイソプロパノール４１．３ｇの混合溶
液に０．１重量％ＨＣｌ水溶液２４ｇを添加した後、４
０℃、６０分間保持し、テトラエトキシシランの部分加
水分解物を調製した。この溶液をエタノール４００ｇで
希釈しＳｉＯ2 濃度２重量％のマトリックス溶液を得
た。この溶液と実施例１のＡ液を、実施例１と同様の割
合で混合して防曇剤を得た。この防曇剤を実施例１と同
様に評価した。
【００２２】実施例４、５、６ 実施例１において、マトリックスとシクロデキストリン
の割合を、マトリックス１００重量部当たり、１００重
量部（実施例４）、４０重量部（実施例５）、１２００
重量部（実施例６）とした以外は実施例１と同様の防曇
剤を調製し、同様の評価を行った。
の割合を、マトリックス１００重量部当たり、１００重
量部（実施例４）、４０重量部（実施例５）、１２００
重量部（実施例６）とした以外は実施例１と同様の防曇
剤を調製し、同様の評価を行った。
【００２３】比較例 実施例３のマトリックス溶液のみを用いてガラス基板に
被膜を形成し、この基板の防曇性を評価した。結果を表
１に示す。
被膜を形成し、この基板の防曇性を評価した。結果を表
１に示す。
【００２４】
【表１】 (*1) シクロデキストリン／マトリックス
【００２５】
【発明の効果】本発明の防曇剤は、ガラス、プラスチッ
クシート、フィルム等の表面に薄く均一に塗布すること
ができ、塗布加工が容易であり、塗布して形成される被
膜は、防曇性および透明性に優れている。また、この防
曇剤は長期にわたって防曇性を持続することができる。
クシート、フィルム等の表面に薄く均一に塗布すること
ができ、塗布加工が容易であり、塗布して形成される被
膜は、防曇性および透明性に優れている。また、この防
曇剤は長期にわたって防曇性を持続することができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｄ 105/16 ＰＣＳ Ｃ０９Ｋ 3/18
Claims (3)
- 【請求項１】 被膜形成用マトリックスおよびシクロデ
キストリンを主成分とする防曇剤。 - 【請求項２】 前記マトリックス１００重量部当り、シ
クロデキストリンが４０〜１５００重量部含有される請
求項１記載の防曇剤。 - 【請求項３】 シクロデキストリンを含む防曇性被膜が
表面に形成された基材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32083293A JP3498986B2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 防曇剤および防曇性被膜形成基材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32083293A JP3498986B2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 防曇剤および防曇性被膜形成基材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07150072A true JPH07150072A (ja) | 1995-06-13 |
| JP3498986B2 JP3498986B2 (ja) | 2004-02-23 |
Family
ID=18125739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32083293A Expired - Lifetime JP3498986B2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 防曇剤および防曇性被膜形成基材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3498986B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002053838A (ja) * | 2000-08-09 | 2002-02-19 | Nankyou Efunika Kk | アルデヒド除去用組成物 |
| WO2014065297A1 (ja) * | 2012-10-22 | 2014-05-01 | ジェクス株式会社 | ケイ素含有化合物水溶液及び該水溶液を含む抗菌・抗ウィルス剤 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5040726A (ja) * | 1973-07-27 | 1975-04-14 | ||
| JPS62236860A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-16 | Seitetsu Kagaku Co Ltd | 吸水性組成物 |
| JPS63237932A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-04 | Chikahisa Shoten:Kk | 結露防止フイルム |
| JPH03296516A (ja) * | 1990-04-16 | 1991-12-27 | Uop Inc | シクロデキストリン被覆の固体基体 |
| JPH05287097A (ja) * | 1992-04-06 | 1993-11-02 | Daicel Chem Ind Ltd | 表面処理剤、被覆ポリマーフィルムとその製造方法 |
-
1993
- 1993-11-29 JP JP32083293A patent/JP3498986B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2014065297A1 (ja) * | 2012-10-22 | 2014-05-01 | ジェクス株式会社 | ケイ素含有化合物水溶液及び該水溶液を含む抗菌・抗ウィルス剤 |
| JP2014084287A (ja) * | 2012-10-22 | 2014-05-12 | Jex Inc | ケイ素含有化合物水溶液及び該水溶液を含む抗菌・抗ウィルス剤 |
| CN104754944A (zh) * | 2012-10-22 | 2015-07-01 | 捷古斯有限公司 | 含硅化合物水溶液及含有该水溶液的抗菌/抗病毒剂 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3498986B2 (ja) | 2004-02-23 |
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