JPH03296516A - シクロデキストリン被覆の固体基体 - Google Patents
シクロデキストリン被覆の固体基体Info
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は分離、精製工程において使用するに適した、高
分子シクロデキストリンで被覆した固体基体並びにそれ
を製造する方法に関する。
分子シクロデキストリンで被覆した固体基体並びにそれ
を製造する方法に関する。
シクロデキストリンは1−4結合のアルファD−グルコ
ビラノース単量体単位からなる環状分子である。6−1
7−及び8−グルコース単位が結合し環を形成してなる
シクロデキストリンは、それぞれアルファー、ベーター
及びガンマ−デキストリンとしてよく知られ。
ビラノース単量体単位からなる環状分子である。6−1
7−及び8−グルコース単位が結合し環を形成してなる
シクロデキストリンは、それぞれアルファー、ベーター
及びガンマ−デキストリンとしてよく知られ。
現在では最も重要なデキストリンである。これは、おそ
らくこれらデキストリンのリングの大きさの違いに関連
した利用性に基づくものである。これらデキストリンの
有用性は、多くの化合物との包接錯体またはキレート化
合物を可逆的に形成する性質によるものであり、包接錯
体は、ホスト分子たとえばデキストリンが内部に空胴を
持ち、これにゲスト分子がファンデルワールス力のよう
な弱い引力で結合することによって生ずるものである。
らくこれらデキストリンのリングの大きさの違いに関連
した利用性に基づくものである。これらデキストリンの
有用性は、多くの化合物との包接錯体またはキレート化
合物を可逆的に形成する性質によるものであり、包接錯
体は、ホスト分子たとえばデキストリンが内部に空胴を
持ち、これにゲスト分子がファンデルワールス力のよう
な弱い引力で結合することによって生ずるものである。
この引力は、一般に固体錯体を生ずるには充分な強さを
有するが、本錯体を容易にホストとゲストに解離できる
程度の掻く微弱な、近距離力である。
有するが、本錯体を容易にホストとゲストに解離できる
程度の掻く微弱な、近距離力である。
シクロデキストリンは、環を形成するグルコース単位の
数によって大きさと形が定まる。
数によって大きさと形が定まる。
内部空胴を有するドーナツ形の分子であり、アルファー
シクロデキストリンではその大部分の環状空胴は深さが
約7オングストローム、直径が約5オングストロームで
あり、ベーターシクロデキストリンでは深さは同じだが
。
シクロデキストリンではその大部分の環状空胴は深さが
約7オングストローム、直径が約5オングストロームで
あり、ベーターシクロデキストリンでは深さは同じだが
。
直径が7オングストロームであり、ガンマ−シクロデキ
ストリンでは深さが7オングストロームで、直径が9オ
ングストロームである。
ストリンでは深さが7オングストロームで、直径が9オ
ングストロームである。
シクロデキストリンは水溶性であるが、これはその空胴
の周縁にあるグルコースサブユニットの多数の水酸基に
よるものである。しかし空胴自身の内側は疎水性であり
、これら疎水性空胴は、有機分子を水溶液中から抽出す
るが、有機分子が適合した形を持ち、そして疎水性であ
ることが必要である。
の周縁にあるグルコースサブユニットの多数の水酸基に
よるものである。しかし空胴自身の内側は疎水性であり
、これら疎水性空胴は、有機分子を水溶液中から抽出す
るが、有機分子が適合した形を持ち、そして疎水性であ
ることが必要である。
シクロデキストリンには、その錯体形成力によって様々
な用途がある。たとえば、シクロデキストリンは、風味
や芳香のカプセル化に使用され、保存則が比較的長く、
食品製造時に添加することができる。逆に、シクロデキ
ストリンは食品から好ましくない風味や芳香を除去する
ために、これらと錯化させて使用することができる。ま
た食品の酸化、光化学分解、熱分解防止にも使用される
。これ等ならびに他の用途については、J、 5jxe
jtiliによる“5tarch、 34,379−3
115 (1982)”に要約されている。
な用途がある。たとえば、シクロデキストリンは、風味
や芳香のカプセル化に使用され、保存則が比較的長く、
食品製造時に添加することができる。逆に、シクロデキ
ストリンは食品から好ましくない風味や芳香を除去する
ために、これらと錯化させて使用することができる。ま
た食品の酸化、光化学分解、熱分解防止にも使用される
。これ等ならびに他の用途については、J、 5jxe
jtiliによる“5tarch、 34,379−3
115 (1982)”に要約されている。
ある場合には水溶性のシクロデキストリン自体を利用す
るのが適切であるが、別の場合には不溶性のシクロデキ
ストリンを利用してその用途を更に簡単に拡大できるよ
うにし、あるいは連続生産プロセスに組込めるようにす
ることが、−層望ましいことである。たとえば、ガスク
ロマトグラフィーや高圧液体クロマトグラフィーで種々
の成分を分離するのにシクロデキストリンを使用すると
きには。
るのが適切であるが、別の場合には不溶性のシクロデキ
ストリンを利用してその用途を更に簡単に拡大できるよ
うにし、あるいは連続生産プロセスに組込めるようにす
ることが、−層望ましいことである。たとえば、ガスク
ロマトグラフィーや高圧液体クロマトグラフィーで種々
の成分を分離するのにシクロデキストリンを使用すると
きには。
水溶性シクロデキストリンでは限界があり、ある種類の
固相併用シクロデキストリンを利用する必要がある。別
の例としてカンキツ類ジュースから苦味成分を除去する
例があるが、この場合ジュースをシクロデキストリンを
混ぜた固定床に流し苦味を減らしたジュースを得ること
が目的である。
固相併用シクロデキストリンを利用する必要がある。別
の例としてカンキツ類ジュースから苦味成分を除去する
例があるが、この場合ジュースをシクロデキストリンを
混ぜた固定床に流し苦味を減らしたジュースを得ること
が目的である。
こうした要請は早くから知られており、そのひとつの−
量的解決は、クロマトグラフィーの保持体または連続工
程における固定床としての利用に適した樹脂である高分
子シクロデキストリン誘導体を製造することである。
量的解決は、クロマトグラフィーの保持体または連続工
程における固定床としての利用に適した樹脂である高分
子シクロデキストリン誘導体を製造することである。
米国特許第3,472,835号においてバラフラー等
(Buckler、 et al、)は、分離工程や精
製工程において「モレキュラーシイーブ」として不溶性
シクロデキストリンの必要性を認め、その一つの解決と
して、シクロデキストリンを一分子に2個以上の反応性
水酸基がある化合物と反応させて得られる不溶性誘導体
を提案している。同特許権者はイソシアネート類を含む
多種類の適当な多官能性化合物を開示し、また多数用途
の使用に適した、若干の不溶性高分子シクロデキストリ
ン誘導体を例示している。
(Buckler、 et al、)は、分離工程や精
製工程において「モレキュラーシイーブ」として不溶性
シクロデキストリンの必要性を認め、その一つの解決と
して、シクロデキストリンを一分子に2個以上の反応性
水酸基がある化合物と反応させて得られる不溶性誘導体
を提案している。同特許権者はイソシアネート類を含む
多種類の適当な多官能性化合物を開示し、また多数用途
の使用に適した、若干の不溶性高分子シクロデキストリ
ン誘導体を例示している。
さらに最近、ミゾブチ(Mizobuti)は、芳香族
アミノ酸を含む多種類の物質を分離する場合の気相クロ
マトグラフカラム(J。
アミノ酸を含む多種類の物質を分離する場合の気相クロ
マトグラフカラム(J。
Chromatography、194,153 (1
980) ;同208.35(+981) )として
、また、低分子量有機物蒸気(Bull、Chem、S
oc、Jpn、54.2478 (1981) )及び
水中の芳香態化合物〔同、55.2611゜(1982
) )に対する収着剤として、シクロデキストリンポリ
ウレタン樹脂を製造し試験した。これらの樹脂は、普通
、溶剤としてピリジンまたはジメチルフォルムアミドを
用い80〜115℃でシクロデキストリンをモル比的3
.5〜約12.6のジイソシアネートと反応させ、後、
生成した樹脂を過剰量のメタノールまたはアセトを用い
て沈澱させて得ており、場合により樹脂中の未反応水酸
基はシラン処理をしている。ジイソシアネートとしては
へキサメチレンジイソシアネート、1,3−ビス(イソ
シアネートメチル)シフロブキサンおよび1゜3−ビス
(インシアネートメチル)ベンゼンを用いている。
980) ;同208.35(+981) )として
、また、低分子量有機物蒸気(Bull、Chem、S
oc、Jpn、54.2478 (1981) )及び
水中の芳香態化合物〔同、55.2611゜(1982
) )に対する収着剤として、シクロデキストリンポリ
ウレタン樹脂を製造し試験した。これらの樹脂は、普通
、溶剤としてピリジンまたはジメチルフォルムアミドを
用い80〜115℃でシクロデキストリンをモル比的3
.5〜約12.6のジイソシアネートと反応させ、後、
生成した樹脂を過剰量のメタノールまたはアセトを用い
て沈澱させて得ており、場合により樹脂中の未反応水酸
基はシラン処理をしている。ジイソシアネートとしては
へキサメチレンジイソシアネート、1,3−ビス(イソ
シアネートメチル)シフロブキサンおよび1゜3−ビス
(インシアネートメチル)ベンゼンを用いている。
高分子樹脂自体は固体吸着剤とし同様に有眉であるが、
多孔度と移動特性上限界がある。
多孔度と移動特性上限界がある。
すなわち、固体樹脂中のチャンネルの大きさと数が、溶
液中の各種の物質のシクロデキストリンへの移動を制限
し、これが分離効率を制限する。このような制限は、シ
クロデキストリン重合体が除去されずに薄膜として存在
するならば、この制限がかなり緩和されることを見出し
た。したがって本発明は、固体基質上に多官能性イソシ
アネートで架橋したシクロデキストリンの被覆を施す方
法を提供するものである。本方法は、非常に汎用性に富
んでおり、はとんど万能に近く、セラミックス、繊維、
金属、紙、木及びガラスのような材料の被覆に使用でき
る。
液中の各種の物質のシクロデキストリンへの移動を制限
し、これが分離効率を制限する。このような制限は、シ
クロデキストリン重合体が除去されずに薄膜として存在
するならば、この制限がかなり緩和されることを見出し
た。したがって本発明は、固体基質上に多官能性イソシ
アネートで架橋したシクロデキストリンの被覆を施す方
法を提供するものである。本方法は、非常に汎用性に富
んでおり、はとんど万能に近く、セラミックス、繊維、
金属、紙、木及びガラスのような材料の被覆に使用でき
る。
本発明の目的は、例えば分離、精製工程において使用す
るのに適した、高分子シクロデキストリン(不溶化した
シクロデキストリン)で被覆した物を製造することであ
る。
るのに適した、高分子シクロデキストリン(不溶化した
シクロデキストリン)で被覆した物を製造することであ
る。
本発明の一態様は固体基体をポリイソシアネートで架橋
したシクロデキストリンで被覆する方法である。基体を
、ポリイソシアネート架橋シクロデキストリンの非極性
非プロトン性有機溶剤溶液に接触させて湿潤させ、そし
て接触湿潤した基体から溶剤を蒸発させ架橋したシクロ
デキストリン膜を付着させることからなる実施態様であ
るが、この場合、架橋したシクロデキストリンはモル比
的1.3乃至1.9のトルエンジイソシアネートとシク
ロデキストリンとの反応生成物である。さらに特定な実
施例の場合、基体がセラミックであり、また別の実施例
ではシクロデキストリンはベーターシクロデキストリン
であり、架橋剤はトルエンジイソシアネートである。さ
らに別の実施例では架橋したシクロデキストリンは溶剤
としてピリジンを使用している。本発明のまた別の実施
例は被覆した基体自体に関するものである。他の実施例
は、以下の説明によって明らかにされる。
したシクロデキストリンで被覆する方法である。基体を
、ポリイソシアネート架橋シクロデキストリンの非極性
非プロトン性有機溶剤溶液に接触させて湿潤させ、そし
て接触湿潤した基体から溶剤を蒸発させ架橋したシクロ
デキストリン膜を付着させることからなる実施態様であ
るが、この場合、架橋したシクロデキストリンはモル比
的1.3乃至1.9のトルエンジイソシアネートとシク
ロデキストリンとの反応生成物である。さらに特定な実
施例の場合、基体がセラミックであり、また別の実施例
ではシクロデキストリンはベーターシクロデキストリン
であり、架橋剤はトルエンジイソシアネートである。さ
らに別の実施例では架橋したシクロデキストリンは溶剤
としてピリジンを使用している。本発明のまた別の実施
例は被覆した基体自体に関するものである。他の実施例
は、以下の説明によって明らかにされる。
本発明は若干の重要な発見に基づくものである。その一
つは、シクロデキストリンとポリイソシアネートの反応
において、特にジイソシアネートであるが、本反応生成
物の溶解度が、ジイソシアネートとシクロデキストリン
とのモル比によって変化することであり、とくに、この
比の値が低い場合には、均一反応の場合、架橋生成物は
水にも双極非プロトン性溶剤にも溶解することである。
つは、シクロデキストリンとポリイソシアネートの反応
において、特にジイソシアネートであるが、本反応生成
物の溶解度が、ジイソシアネートとシクロデキストリン
とのモル比によって変化することであり、とくに、この
比の値が低い場合には、均一反応の場合、架橋生成物は
水にも双極非プロトン性溶剤にも溶解することである。
この比が増大するにつれ、すなわち生成物の架橋が進む
につれて、双極非プロトン性溶剤に対してはそのまま溶
解性を維持しながら、水には溶解しなくなる。さらにこ
の比が、増大すると。
につれて、双極非プロトン性溶剤に対してはそのまま溶
解性を維持しながら、水には溶解しなくなる。さらにこ
の比が、増大すると。
生成物は水にも双極非プロトン性溶剤にも溶解しなくな
る。しかし、架橋したシクロデキストリンが水には溶解
しないが使用した有機溶剤には溶解する窓が、狭い窓で
あることが多いが、あることに注意することは重要であ
る。本発明の目的上、適切にポリイソシアネートによっ
て架橋したシクロデキストリン樹脂は、25℃では水に
対する溶解度が200ppm未満であり、双極非プロト
ン性溶剤溶解度は25℃で0,1wt%以上であること
である。
る。しかし、架橋したシクロデキストリンが水には溶解
しないが使用した有機溶剤には溶解する窓が、狭い窓で
あることが多いが、あることに注意することは重要であ
る。本発明の目的上、適切にポリイソシアネートによっ
て架橋したシクロデキストリン樹脂は、25℃では水に
対する溶解度が200ppm未満であり、双極非プロト
ン性溶剤溶解度は25℃で0,1wt%以上であること
である。
二番目に重要なことは、後述する「窓」で得た架橋した
シクロデキストリンはほとんどいかなる表面にも容易に
接着し、それによって、ポリマーを含有したシクロデキ
ストリンの均一な厚さの薄膜が得られる。こうした結果
、ポリイソシアネートで架橋したシクロデキストリン樹
脂は、どんな表面にも付着できそしてほとんど表面に塗
布したようになる。
シクロデキストリンはほとんどいかなる表面にも容易に
接着し、それによって、ポリマーを含有したシクロデキ
ストリンの均一な厚さの薄膜が得られる。こうした結果
、ポリイソシアネートで架橋したシクロデキストリン樹
脂は、どんな表面にも付着できそしてほとんど表面に塗
布したようになる。
そのため、このような均一な膜厚の被膜面が簡単に得ら
れる。この被膜はすぐれた接着性を有し、結合するのに
化学吸着の必要がない。
れる。この被膜はすぐれた接着性を有し、結合するのに
化学吸着の必要がない。
このような被覆面には、樹脂自体の離散粒子よりもいく
つかの長所がある。一つの長所は、その組成と製造が単
純なことであり、その製造コストと時間が実質的に低減
する。別の長所は被覆された基体が、実質的には制限が
なく、種々の形態の固相の種類と性質を持ったものが得
られることである。さらに別の長所は、被覆された表面
が、均一な厚さのシクロデキストリン樹脂薄膜を得るこ
とである。また別の重要な長所は、理由はともかく、も
し被覆したシクロデキストリンを不活性化すると、簡単
に剥がしたり、または分離でき、基体が再利用でき、こ
れは基体が比較的高価な場合とりわけ重要なことである
。
つかの長所がある。一つの長所は、その組成と製造が単
純なことであり、その製造コストと時間が実質的に低減
する。別の長所は被覆された基体が、実質的には制限が
なく、種々の形態の固相の種類と性質を持ったものが得
られることである。さらに別の長所は、被覆された表面
が、均一な厚さのシクロデキストリン樹脂薄膜を得るこ
とである。また別の重要な長所は、理由はともかく、も
し被覆したシクロデキストリンを不活性化すると、簡単
に剥がしたり、または分離でき、基体が再利用でき、こ
れは基体が比較的高価な場合とりわけ重要なことである
。
本発明による被覆を施す基体は、実質的にはどのような
固体であってもよい。親水性の表面でも疎水性の表面で
も被覆でき、どのような形の又は大きさの固体でも使用
できる。
固体であってもよい。親水性の表面でも疎水性の表面で
も被覆でき、どのような形の又は大きさの固体でも使用
できる。
表面の多孔性は、本発明を実施する場合、多孔性が指定
されようと非多孔性が指定されようと性能に問題はない
。樹脂がすぐれた接着性を持っているので、実質的には
基体に使用制限はなく、たとえばセラミックス、ガラス
、プラスチックス、金属、織物、セルロース系製品が使
用できる。固定床で使用する場合。
されようと非多孔性が指定されようと性能に問題はない
。樹脂がすぐれた接着性を持っているので、実質的には
基体に使用制限はなく、たとえばセラミックス、ガラス
、プラスチックス、金属、織物、セルロース系製品が使
用できる。固定床で使用する場合。
特に望ましい性質を持つ基体は耐火性無機酸化物であり
、とくに多孔性無機酸化物、たとえばアルミナ、チタニ
ア、シリカ、マグネシア、ボリア、トリア、ジルコニア
及びそれらの組合わせであるが、アルミナとシリカが特
に好ましい。セルロース系材料のうち2紙。
、とくに多孔性無機酸化物、たとえばアルミナ、チタニ
ア、シリカ、マグネシア、ボリア、トリア、ジルコニア
及びそれらの組合わせであるが、アルミナとシリカが特
に好ましい。セルロース系材料のうち2紙。
木材、および他の木工品が基材として本発明を実施する
場合容易に使用できる。たとえば、紙は、薄層クロマト
グラフィーの二次的用途において1本発明の樹脂で被覆
できる。
場合容易に使用できる。たとえば、紙は、薄層クロマト
グラフィーの二次的用途において1本発明の樹脂で被覆
できる。
次いで、基体はポリイソシアネートで架橋したシクロデ
キストリン樹脂で被覆される。
キストリン樹脂で被覆される。
ポリイソシアネートのなかではジイソシアネートが好適
である。広範囲にわたるポリイソシアネートが本発明を
実施する場合使用でき、次のようなものが例示できる。
である。広範囲にわたるポリイソシアネートが本発明を
実施する場合使用でき、次のようなものが例示できる。
すなわち、トルエンジイソシアネート、p−及びm−フ
ェニレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシア
ネート、1.6−ヘキサメチレンジイソシアネート、1
.4−シクロヘキシレンジイソシアネート、4.4′−
メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート、4,41
−メチレンジフェニルジイソシアネート、3.3′−ジ
メチル−4,41−ジフェニルメタンジイソシアネート
、1.5−テトラヒドロメチレンジイソシアネート、ジ
アニシジンジイソシアネート、ヒトリレンジイソシアネ
ート、ナフタレン−1,4−ジイソシアネート、ビス(
2−メチル−3−イソシアナトフェニル)メタン、ビス
(3−メチル−4−イソシアネートフェニル)メタン、
4.4′−ジフェニルプロパンジイソシアネート及びメ
チレン−橋かけポリフェニルポリイソシアネートであっ
てこれらは、米国特許第4,432,067号に記載さ
れているが、とくにメチレンジフェニルジイソシアネー
トを基にしたポリイソシアネートおよびウレトニミン変
性MDIが述べられている。なお強調すべきことは、前
記ポリイソシアネートは単に説明のためのものであるが
、そのなかに本発明の実施に使用できるものがあること
である。ポリイソシアネートのうち、トルエンジイソシ
アネート(TDI)とメチレンジフェニルジイソシアネ
ート(MDI)がとくに好ましいものである。
ェニレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシア
ネート、1.6−ヘキサメチレンジイソシアネート、1
.4−シクロヘキシレンジイソシアネート、4.4′−
メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート、4,41
−メチレンジフェニルジイソシアネート、3.3′−ジ
メチル−4,41−ジフェニルメタンジイソシアネート
、1.5−テトラヒドロメチレンジイソシアネート、ジ
アニシジンジイソシアネート、ヒトリレンジイソシアネ
ート、ナフタレン−1,4−ジイソシアネート、ビス(
2−メチル−3−イソシアナトフェニル)メタン、ビス
(3−メチル−4−イソシアネートフェニル)メタン、
4.4′−ジフェニルプロパンジイソシアネート及びメ
チレン−橋かけポリフェニルポリイソシアネートであっ
てこれらは、米国特許第4,432,067号に記載さ
れているが、とくにメチレンジフェニルジイソシアネー
トを基にしたポリイソシアネートおよびウレトニミン変
性MDIが述べられている。なお強調すべきことは、前
記ポリイソシアネートは単に説明のためのものであるが
、そのなかに本発明の実施に使用できるものがあること
である。ポリイソシアネートのうち、トルエンジイソシ
アネート(TDI)とメチレンジフェニルジイソシアネ
ート(MDI)がとくに好ましいものである。
本発明にはポリイソシアネート架橋のシクロデキストリ
ンだけでは不充分で、下記のように樹脂の溶解性が必要
である。一般に、シクロデキストリン溶液を適当なポリ
イソシアネートと反応させて架橋樹脂を得る。はとんど
の有機溶媒に対して溶解度が低いため、シクロデキスト
リンはピリジン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスポ
ルアミド及びジメチルアセトアミドのような双極非プロ
トン性溶媒に溶解するが、ピリジン、ジメチルホルムア
ミド及び少量のジエチルスルホキシドの使用が特にすす
められている。次いで、シクロデキストリンとポリイソ
シアネートを反応させて架橋シクロデキストリン樹脂を
得る。ただし、得られた架橋シクロデキストリン樹脂が
水には不溶であるが、反応を行うときの有機溶剤に溶解
しなくなるほど架橋は進めない。典型的には、反応は温
度範囲130〜140°Cで20〜30分間行う。しか
し反応は重大なものではなく、広い範囲で変化でき、熟
練者なら少し実験して簡単に条件が決められる0本発明
では、アルファー ベーター、ガンマ−いずれのシクロ
デキストリンを使用しても差支えない。変性シクロデキ
ストリンも使用できるが、結果は必ずしも同じではない
。
ンだけでは不充分で、下記のように樹脂の溶解性が必要
である。一般に、シクロデキストリン溶液を適当なポリ
イソシアネートと反応させて架橋樹脂を得る。はとんど
の有機溶媒に対して溶解度が低いため、シクロデキスト
リンはピリジン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスポ
ルアミド及びジメチルアセトアミドのような双極非プロ
トン性溶媒に溶解するが、ピリジン、ジメチルホルムア
ミド及び少量のジエチルスルホキシドの使用が特にすす
められている。次いで、シクロデキストリンとポリイソ
シアネートを反応させて架橋シクロデキストリン樹脂を
得る。ただし、得られた架橋シクロデキストリン樹脂が
水には不溶であるが、反応を行うときの有機溶剤に溶解
しなくなるほど架橋は進めない。典型的には、反応は温
度範囲130〜140°Cで20〜30分間行う。しか
し反応は重大なものではなく、広い範囲で変化でき、熟
練者なら少し実験して簡単に条件が決められる0本発明
では、アルファー ベーター、ガンマ−いずれのシクロ
デキストリンを使用しても差支えない。変性シクロデキ
ストリンも使用できるが、結果は必ずしも同じではない
。
ポリイソシアネートとシクロデキストリンとは、水に溶
解せず、ゲルは一切生ぜず、そして有機溶媒に可溶な架
橋樹脂が得られる程度の量で反応させる。「可溶」とは
約25℃で少なくとも0.1wt%溶解することを意味
し、「水に不溶」とは、25℃での溶解度が約200p
pm未満であることを意味する。ポリイソシアネートと
シクロデキストリンの相対的量は、主として、特定なポ
リイソシアネートとシクロデキストリン種類によって決
まるが、それよりむしろ以下に詳述するように簡単な実
験によって決めることができる。簡単に言えば、シクロ
デキストリンの一部をゲル状の樹脂が生ずるまで色々な
モル比でポリイソシアネートに添加する。これによって
使用できるポリイソシアネートの量の上限が示される。
解せず、ゲルは一切生ぜず、そして有機溶媒に可溶な架
橋樹脂が得られる程度の量で反応させる。「可溶」とは
約25℃で少なくとも0.1wt%溶解することを意味
し、「水に不溶」とは、25℃での溶解度が約200p
pm未満であることを意味する。ポリイソシアネートと
シクロデキストリンの相対的量は、主として、特定なポ
リイソシアネートとシクロデキストリン種類によって決
まるが、それよりむしろ以下に詳述するように簡単な実
験によって決めることができる。簡単に言えば、シクロ
デキストリンの一部をゲル状の樹脂が生ずるまで色々な
モル比でポリイソシアネートに添加する。これによって
使用できるポリイソシアネートの量の上限が示される。
これより少量のポリイソシアネートを用いて得た反応混
合物から架橋した樹脂を分離し、水に対する溶解度を試
験する。樹脂が水に溶解する点がポリイソシアネート使
用可能な下限を示す。ベーターシクロデキストリンとト
ルエンジイソシアネートを使用した場合、適当な反応生
成物は約1ないし2.5モル比のポリイソシアネートを
、好ましくは約1.3ないし1.9モル比のポリイソシ
アネートを使うと得られる。ベーターシクロデキストリ
ンと4. 4’−メチレンジフェニルイソシアネートを
使用した場合、好適な反応生成物は約0.3乃至1.3
モル比の同イソシアネートを、更に好ましくは約0.4
5乃至1.10モル比の同イソシアネートを使うと得ら
れる。しかし、大切なことは、本発明で使用する適切な
樹脂を得るために必要なポリイソシアネートの量は、使
用したポリイソシアネートとシクロデキストリンの種類
によって異なる。しかし普通の実験によって簡単に決め
ることができる。
合物から架橋した樹脂を分離し、水に対する溶解度を試
験する。樹脂が水に溶解する点がポリイソシアネート使
用可能な下限を示す。ベーターシクロデキストリンとト
ルエンジイソシアネートを使用した場合、適当な反応生
成物は約1ないし2.5モル比のポリイソシアネートを
、好ましくは約1.3ないし1.9モル比のポリイソシ
アネートを使うと得られる。ベーターシクロデキストリ
ンと4. 4’−メチレンジフェニルイソシアネートを
使用した場合、好適な反応生成物は約0.3乃至1.3
モル比の同イソシアネートを、更に好ましくは約0.4
5乃至1.10モル比の同イソシアネートを使うと得ら
れる。しかし、大切なことは、本発明で使用する適切な
樹脂を得るために必要なポリイソシアネートの量は、使
用したポリイソシアネートとシクロデキストリンの種類
によって異なる。しかし普通の実験によって簡単に決め
ることができる。
上述のように、水には溶解しないが、反応に使用する双
極非プロトン性有機溶媒には溶解する生成物を与えるモ
ル比の窓でポリイソシアネートを使用する。反応が終る
と、樹脂は、最も簡単には冷却した反応混合物に水を加
えれば沈澱する。水以外の沈澱剤として用いられる物質
には、必ずしも同一結果は得られないが、ヘキサノール
位までの低分子量のアルコール、炭素数的6までを含む
脂肪族ケトン及びベンゼン、トルエンなどの芳香族化金
物がある。しかし、場合によっては、沈澱固形物には、
シクロデキストリンの空胴内に含まれた溶剤を有するも
のがあるが、このような包接化合物の沈澱は好ましくな
い。
極非プロトン性有機溶媒には溶解する生成物を与えるモ
ル比の窓でポリイソシアネートを使用する。反応が終る
と、樹脂は、最も簡単には冷却した反応混合物に水を加
えれば沈澱する。水以外の沈澱剤として用いられる物質
には、必ずしも同一結果は得られないが、ヘキサノール
位までの低分子量のアルコール、炭素数的6までを含む
脂肪族ケトン及びベンゼン、トルエンなどの芳香族化金
物がある。しかし、場合によっては、沈澱固形物には、
シクロデキストリンの空胴内に含まれた溶剤を有するも
のがあるが、このような包接化合物の沈澱は好ましくな
い。
上記のようにして得られたポリイソシアネートで架橋し
たシクロデキストリンは乾燥して粉末として簡便に貯蔵
できる。反応生成混合物は直接基体に被覆できるが、固
体樹脂を製造し分離し使用するまでは粉末として貯蔵す
る方がはるかに便利である。基体を被覆するには、粉末
を製造用のと同じ種類の溶剤。
たシクロデキストリンは乾燥して粉末として簡便に貯蔵
できる。反応生成混合物は直接基体に被覆できるが、固
体樹脂を製造し分離し使用するまでは粉末として貯蔵す
る方がはるかに便利である。基体を被覆するには、粉末
を製造用のと同じ種類の溶剤。
すなわち双極非プロトン性溶剤に溶解する。
したがって、ピリジンとジメチルホルムアミド、そして
少量にジメチルスルホキシドが好ましい溶剤である。し
かしn−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミ
ド及びジメチルア七ドアミドも使用することができる。
少量にジメチルスルホキシドが好ましい溶剤である。し
かしn−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミ
ド及びジメチルア七ドアミドも使用することができる。
普通、溶液には少なくとも0.1重量%の樹脂が溶解し
ているが、約0.5乃至約5重量%のシクロデキストリ
ン樹脂が溶解していることが最も多い。
ているが、約0.5乃至約5重量%のシクロデキストリ
ン樹脂が溶解していることが最も多い。
基体に対する被覆は、噴霧、浸漬、または他の適当な方
法でよい。必要なことは、シクロデキストリン樹脂溶液
を基体に接触させることである。過剰な溶剤を除去する
ために滴下乾燥し、ついで蒸発によって乾燥除去する。
法でよい。必要なことは、シクロデキストリン樹脂溶液
を基体に接触させることである。過剰な溶剤を除去する
ために滴下乾燥し、ついで蒸発によって乾燥除去する。
普通、シクロデキストリン樹脂被覆は最終乾燥物の約0
.1乃至10.0重量%である。この範囲は本方法の限
界ではなく、実際面での限界である。もし、約0.1%
未満の樹脂で基体を被覆すると、実際の分離または精製
工程で使用するにはシクロデキストリン樹脂の量が少な
すぎる。すなわち被覆した基体の機能が低くなりすぎる
。一方、10.0重量%を越えると、シクロデキストリ
ン樹脂被膜が厚くなりすぎ、その効果が低下する。しか
しここで再度強調しなければならないことは、上記の%
は、本発明の方法に固有なものではなくむしろ実際面を
反映しているに過ぎない。
.1乃至10.0重量%である。この範囲は本方法の限
界ではなく、実際面での限界である。もし、約0.1%
未満の樹脂で基体を被覆すると、実際の分離または精製
工程で使用するにはシクロデキストリン樹脂の量が少な
すぎる。すなわち被覆した基体の機能が低くなりすぎる
。一方、10.0重量%を越えると、シクロデキストリ
ン樹脂被膜が厚くなりすぎ、その効果が低下する。しか
しここで再度強調しなければならないことは、上記の%
は、本発明の方法に固有なものではなくむしろ実際面を
反映しているに過ぎない。
次の実施例は本発明を説明するためのものであって、こ
れをいささかも制限するものではない。これら実施例で
ベーターシクロデキストリンとトルエンジイソシアネー
トを用いているが、これはそれぞれ単にシクロデキスト
リンとポリイソシアネートの代表に過ぎない。しかし本
発明を実施する場合、有効に使用できるものである。
れをいささかも制限するものではない。これら実施例で
ベーターシクロデキストリンとトルエンジイソシアネー
トを用いているが、これはそれぞれ単にシクロデキスト
リンとポリイソシアネートの代表に過ぎない。しかし本
発明を実施する場合、有効に使用できるものである。
実施例−11−ルエンジイソシアネートベーターシクロ
デキストリン塗布剤 の合成 一連の架橋したベーターシクロデキストリンオリゴマー
は、架橋剤とシクロデキストリンの比率を変化させて合
成し、得られた各オリゴマーの物理的性質を測定した。
デキストリン塗布剤 の合成 一連の架橋したベーターシクロデキストリンオリゴマー
は、架橋剤とシクロデキストリンの比率を変化させて合
成し、得られた各オリゴマーの物理的性質を測定した。
充分乾燥した1、0gのベーターシクロデキストリン(
BCD)を予め乾燥しておいた5mlのジメチルホルム
アミド(DMF)に溶解し、これをほぼ沸騰点まで加熱
した。一連の同じ様に用意した反応容器に種々の量の2
.4/2.6異性体の混合体であるトルエンジイソシア
ネート(TDI) 80/20混合液を加えた。この反
応は攪拌しながら20分間行い、得られた反応混合物を
氷冷水に注ぎ、生成物を決別した。沈澱を数回アセトン
で洗浄し、シクロデキストリン中に含まれた残存DMF
を完全に除去した。得られた固体は微粉砕し、乾燥し、
その物理的特性(ピリジン溶解度)や結合性を測定した
。
BCD)を予め乾燥しておいた5mlのジメチルホルム
アミド(DMF)に溶解し、これをほぼ沸騰点まで加熱
した。一連の同じ様に用意した反応容器に種々の量の2
.4/2.6異性体の混合体であるトルエンジイソシア
ネート(TDI) 80/20混合液を加えた。この反
応は攪拌しながら20分間行い、得られた反応混合物を
氷冷水に注ぎ、生成物を決別した。沈澱を数回アセトン
で洗浄し、シクロデキストリン中に含まれた残存DMF
を完全に除去した。得られた固体は微粉砕し、乾燥し、
その物理的特性(ピリジン溶解度)や結合性を測定した
。
ゲスト分子包接錯体を形成する架橋シクロデキストリン
の能力を、水溶液からフェノールを除去する粉末シクロ
デキストリンの能力によって測定した。この標準試験に
おいて、0.1gの粉末シクロデキストリンのサンプル
を200ppmのフェノールを含有した貯蔵液に接触さ
せた。この溶液を振とうさせまたはさせないで数時間か
けて平衡に達しささせた。上澄液と貯蔵液を一緒にした
サンプルのフェノール濃度を測定して樹脂0.1gあた
りのフェノール除去%を算出した。これらの結果は表1
に記録した。
の能力を、水溶液からフェノールを除去する粉末シクロ
デキストリンの能力によって測定した。この標準試験に
おいて、0.1gの粉末シクロデキストリンのサンプル
を200ppmのフェノールを含有した貯蔵液に接触さ
せた。この溶液を振とうさせまたはさせないで数時間か
けて平衡に達しささせた。上澄液と貯蔵液を一緒にした
サンプルのフェノール濃度を測定して樹脂0.1gあた
りのフェノール除去%を算出した。これらの結果は表1
に記録した。
表1 : TDI−BCDオリゴマーの一部性質これら
のデータから、適当な溶解度差を得るにはTDI/BC
D比が2.55未満であることが必要であることが明ら
かであり、また溶液からフェノールを除去するのにどの
オリゴマーも有効であることが示されている。
のデータから、適当な溶解度差を得るにはTDI/BC
D比が2.55未満であることが必要であることが明ら
かであり、また溶液からフェノールを除去するのにどの
オリゴマーも有効であることが示されている。
実施例−28CD!!!布剤(10g )の大量製造こ
の場合、よく乾燥したベーターシクロデキストリンを5
5m1の乾燥DMFに溶解し、これに2.2mlの新し
いTDIを添加した(TDI/BCDモル比1.41)
。実施例−1に準じた手順と後処理に従い、7.45g
の生成物を得た(収率61%)。
の場合、よく乾燥したベーターシクロデキストリンを5
5m1の乾燥DMFに溶解し、これに2.2mlの新し
いTDIを添加した(TDI/BCDモル比1.41)
。実施例−1に準じた手順と後処理に従い、7.45g
の生成物を得た(収率61%)。
生成物はフェノール除去率がよく、84.8%であり、
ピリジンにはよく溶解し、水には溶解しなかった。
ピリジンにはよく溶解し、水には溶解しなかった。
実施例−3各種表面に対するBCD塗布剤の塗布本一連
の実験により、種々の複雑な表面に被覆できることがわ
かった。BCDrfi布剤」(実施例−2参照のこと)
のピリジン5.0%(w/v)溶液を作製した。本塗布
剤を用いてアルミニウムホイール、多孔質アルミナ及び
スチール繊維をはじめ各種の材料を被覆した。
の実験により、種々の複雑な表面に被覆できることがわ
かった。BCDrfi布剤」(実施例−2参照のこと)
のピリジン5.0%(w/v)溶液を作製した。本塗布
剤を用いてアルミニウムホイール、多孔質アルミナ及び
スチール繊維をはじめ各種の材料を被覆した。
いずれの場合も、約1gの材料を10m1の「塗布剤」
に浸漬し、数分間放置した。次に、材料を取出し、余分
の液を滴下除去した。溶剤は徹底的に蒸発させ、CDポ
リマーの薄膜が残った。この薄膜を乾燥し強熱減量を測
定して可燃性有機物量を分析した。
に浸漬し、数分間放置した。次に、材料を取出し、余分
の液を滴下除去した。溶剤は徹底的に蒸発させ、CDポ
リマーの薄膜が残った。この薄膜を乾燥し強熱減量を測
定して可燃性有機物量を分析した。
以下余白
表2:TDl架橋BCDによる各種表面の被覆実施例−
4薄膜クロマトグラフィープレートの被覆 架橋したシクロデキストリンによる被覆は、セラミクま
たは紙固相を有する薄層クロマトグラフィーに利用でき
る。本実施例では、ガラスプレートで保持された市販シ
リカまたは市販の紙片を、希釈BCDfji布剤」液に
浸漬し被覆した。これら浸漬用材料を5%(w/v)T
DIで架橋したシクロデキストリン溶液に手早く浸漬し
、過剰な液は滴下除去し、溶液は完全に蒸発させた。ニ
トロアニリンの3種類の異性体で上記プレートをスポッ
トし、メタノール/水(50150)液の移動相を用い
、純粋なシクロデキストリン樹脂を用いて分離を行って
いる文献の方法に準じて分離を行った。
4薄膜クロマトグラフィープレートの被覆 架橋したシクロデキストリンによる被覆は、セラミクま
たは紙固相を有する薄層クロマトグラフィーに利用でき
る。本実施例では、ガラスプレートで保持された市販シ
リカまたは市販の紙片を、希釈BCDfji布剤」液に
浸漬し被覆した。これら浸漬用材料を5%(w/v)T
DIで架橋したシクロデキストリン溶液に手早く浸漬し
、過剰な液は滴下除去し、溶液は完全に蒸発させた。ニ
トロアニリンの3種類の異性体で上記プレートをスポッ
トし、メタノール/水(50150)液の移動相を用い
、純粋なシクロデキストリン樹脂を用いて分離を行って
いる文献の方法に準じて分離を行った。
他の多成分インキ染料について試験したが、そのなかの
あるものは、対照のプレートに比較して明らかに異なる
リテンションパターンを示した。
あるものは、対照のプレートに比較して明らかに異なる
リテンションパターンを示した。
実施例−5被膜の安定性
アルミナに対するTDI架橋BCD被覆の安定性試験を
行った。本実験においては、被膜を形成させ、ついでこ
れを沈澱用溶剤で洗浄し、そして被膜の一体性を測定し
た。
行った。本実験においては、被膜を形成させ、ついでこ
れを沈澱用溶剤で洗浄し、そして被膜の一体性を測定し
た。
実験的に1.5gの60/80メツシユの高表面積(h
igh 5urface area)ガンマ−アルミナ
試料を1時間、ピリジンに溶解した5%(w/v)BC
Dr@布剤」 (実施例−2参照のこと) 10m1に
接触させた。次に、アイミナを決別しピリジンを蒸発さ
せ、アルミナ表面上に架橋したシクロデキストリン薄膜
を形成させた。次に、シクロデキストリン配合量を尺度
として、本材料のフェノール除去力を測定した。この支
持体を長時間ピリジンで洗浄して付着した膜を除去した
。室温で1時間ピリジン洗浄してから、材料を乾燥しフ
ェノール除去力を試験した。最終に、この材料に対し、
最初の手順に準じ2度目のTDI架橋BCD被覆を行い
、そのフェノール除去力を測定し1次表の結果を得た。
igh 5urface area)ガンマ−アルミナ
試料を1時間、ピリジンに溶解した5%(w/v)BC
Dr@布剤」 (実施例−2参照のこと) 10m1に
接触させた。次に、アイミナを決別しピリジンを蒸発さ
せ、アルミナ表面上に架橋したシクロデキストリン薄膜
を形成させた。次に、シクロデキストリン配合量を尺度
として、本材料のフェノール除去力を測定した。この支
持体を長時間ピリジンで洗浄して付着した膜を除去した
。室温で1時間ピリジン洗浄してから、材料を乾燥しフ
ェノール除去力を試験した。最終に、この材料に対し、
最初の手順に準じ2度目のTDI架橋BCD被覆を行い
、そのフェノール除去力を測定し1次表の結果を得た。
表−3:TDI架橋BCD被膜の耐溶剤性データによれ
ば、被膜は非常に安定であり、膜を沈澱するのに使用し
た溶剤に対しても抵抗を示し、膜の結合が非常につよい
ことがわかる。
ば、被膜は非常に安定であり、膜を沈澱するのに使用し
た溶剤に対しても抵抗を示し、膜の結合が非常につよい
ことがわかる。
実施例−6シクロデキストリン膜の耐薬品性種々の環境
、水性酸化および酸中におけるシクロデキストリン膜の
化学的安定性を測定するために一連の実験を行った。T
DI架橋BCD膜を先に示した方法でアルミナ基体に被
覆し、フェノール除去力を測定した。この材料を次に、
0.1M−HClの40%エタノール溶液、1%NaC
l0溶液及びピリジン溶液からなる各種洗浄ステップで
洗浄した。剥離はすべて0.7gの支持体と30m1の
ストリッピング剤を用いて45℃で2時間行った。次い
で、試料を取出し、洗浄し、乾燥し、その能力を測定し
た。
、水性酸化および酸中におけるシクロデキストリン膜の
化学的安定性を測定するために一連の実験を行った。T
DI架橋BCD膜を先に示した方法でアルミナ基体に被
覆し、フェノール除去力を測定した。この材料を次に、
0.1M−HClの40%エタノール溶液、1%NaC
l0溶液及びピリジン溶液からなる各種洗浄ステップで
洗浄した。剥離はすべて0.7gの支持体と30m1の
ストリッピング剤を用いて45℃で2時間行った。次い
で、試料を取出し、洗浄し、乾燥し、その能力を測定し
た。
以下余白
表4:TDI架橋BCD被膜の耐薬品性重膜は化学的反
応物質水溶液に対して非常に安定であり、したがって各
種用途に対して全く安定であり、有用である。
応物質水溶液に対して非常に安定であり、したがって各
種用途に対して全く安定であり、有用である。
実施例−7他のTDI架橋シクロデキストリンの合成
5mlの乾燥DMFに溶解した、乾燥アルファーシクロ
デキストリン1.0g溶液は約100℃まで加熱でき、
そしてモル比1.5のTDlと反応させることかできる
。得られた反応混合物は。
デキストリン1.0g溶液は約100℃まで加熱でき、
そしてモル比1.5のTDlと反応させることかできる
。得られた反応混合物は。
10〜30分間高温に保持し、次いで冷却し、氷冷水に
注入した。固形物を濾過して集め、これによりTDIで
架橋したアルファーシクロデキストリンが得られる。T
DI架橋したガンマ−シクロデキストリンも類似の方法
で得られる。
注入した。固形物を濾過して集め、これによりTDIで
架橋したアルファーシクロデキストリンが得られる。T
DI架橋したガンマ−シクロデキストリンも類似の方法
で得られる。
実施例−8他のポリイソシアネート架橋シクロデキスト
リン撒布剤の製造= MDIに対する窓の決定 120〜140℃に維持した、1.0gの事前乾燥ペタ
ーシクロデキストリンの事前乾燥ジメチルフォリムアミ
ド溶液に1種々量を変えたMDIのDMF溶液を加えた
。反応は、10分間加熱して行ったが、これは、何が起
るとしてもゲル生成には充分な時間である。表5には、
適切な観察結果を要約した。
リン撒布剤の製造= MDIに対する窓の決定 120〜140℃に維持した、1.0gの事前乾燥ペタ
ーシクロデキストリンの事前乾燥ジメチルフォリムアミ
ド溶液に1種々量を変えたMDIのDMF溶液を加えた
。反応は、10分間加熱して行ったが、これは、何が起
るとしてもゲル生成には充分な時間である。表5には、
適切な観察結果を要約した。
表5=M旧架橋BCDの性質
これらのデータから、ゲル生成は樹脂不溶解性に対応し
ており、BCDに対するMIDのモル比が低くても樹脂
は水に溶解しないことが分る。したがって、本発明を実
施する上で役立つ樹脂を生成するには、MIDのモル比
上限は、1.35を幾分下まわっていることである。
ており、BCDに対するMIDのモル比が低くても樹脂
は水に溶解しないことが分る。したがって、本発明を実
施する上で役立つ樹脂を生成するには、MIDのモル比
上限は、1.35を幾分下まわっていることである。
(以下余白)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、シクロデキストリンとポリイソシアネートを水の溶
解度が約200ppm未満であり、そして一つの双極非
プロトン性溶剤の溶解度が0.1重量パーセント以上で
ある生成物を得ることができるモル比で反応させて得ら
れるポリイソシアネート架橋シクロデキストリンを最終
製品を基にして0.1乃至10重量パーセント被覆した
セラミックス、ガラス、プラスチックス、金属、織物及
び繊維製品よりなる群から選ばれたものよりなることを
特徴とするポリイソシアネート架橋シクロデキストリン
被覆固体基体。 2、シクロデキストリンが、ベーターシクロデキストリ
ン、またはアルファーシクロデキストリンまたはガンマ
ーシクロデキストリンであることを特徴とする請求項1
記載の被覆した基体。 3、基体が、アルミナ、チタニア、シリカ、マグネシア
、ボリア、トリア、ジルコニアおよびそれらの組合せ物
から選ばれることを特徴とする請求項1記載の被覆した
基体。 4、ポリイソシアネートが、トルエンジイソシアネート
、p−及びm−フェニレンジイソシアネート、テトラメ
チルジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソ
シアネート、1,4−シクロヘキシレンジイソシアネー
ト、4,4′−メチレンジシクロヘキシルジイソシアネ
ート、4,4′−メチレンジフェニルジイソシアネート
、3,3′−ジメチル−4,4′−ジフェニルメタンジ
イソシアネート、1,5−テトラヒドラメチレンジイソ
シアネート、ジアニソジンジイソシアネート、ヒトリレ
ンジイソシアネート、ナフタレン−1,4−ジイソシア
ネート、ビス(2−メチル−3−イソシアネートフェニ
ル)メタン、ビス(3−メチル−4−イソシアネートフ
ェニル)メタン、4,4′−ジフェニルプロパンジイソ
シアネート及びメチレン−橋かけポリフェニルポリイソ
シアネートからなる群から選ばれたジイソシアネートで
あることを特徴とする請求項1記載の被覆した基体。 5、ポリイソシアネートとシクロデキストリンを水の溶
解度が約200ppm未満であり、そして一つの双極非
プロトン性溶剤の溶解度が0.1パーセント以上である
生成物を得ることができるモル比において反応させて得
られるポリイソシアネート架橋シクロデキストリン樹脂
の双極非プロトン溶剤溶液中で湿潤した基体を接触させ
、その湿潤基体から溶剤を除きポリイソシアネート架橋
シクロデキストリン樹脂で被覆された基体を得ることを
特徴とするポリイソシアネート架橋シクロデキストリン
樹脂被覆固体基体の製法。 6、シクロデキストリンが、ベーターシクロデキストリ
ン、またはアルファーシクロデキストリン、またはガン
マーシクロデキストリンであることを特徴とする請求項
5記載の方法。 7、基体が、ガラス、プラスチックス、金属、織物、セ
ルロース系製品、アルミナ、チタニア、シリカ、マグネ
シア、ボリア、トリア、ジルコニア及びそれらの組合物
からなる群から選ばれることを特徴とする請求項5また
は請求項6記載の方法。 8、ポリイソシアネートが、トルエンジイソシアネート
、p−及びm−フェニレンジイソシアネート、テトラメ
チルジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソ
シアネート、1,4−シクロヘキシレンジイソシアネー
ト、4,4′−メチレンジシクロヘキシルジイソシアネ
ート、4,4′−メチレンジフェニルジイソシアネート
、3,3′−ジメチル−4,4′−ジフェニルメタンジ
イソシアネート、1,5−テトラヒドラメチレンジイソ
シアネート、ジアニソジンジイソシアネート、ヒトリレ
ンジイソシアネート、ナフタレン−1,4−ジイソシア
ネート、ビス(2−メチル−3−イソシアネートフェニ
ル)メタン、ビス(3−メチル−4−イソシアネートフ
ェニル)メタン、4,4′−ジフェニルプロパンジイソ
シアネート及びメチレン−橋かけポリフェニルポリイソ
シアネートからなる群から選ばれたジイソシアネートで
あることを特徴とする請求項5記載の方法。 9、双極非プロトン性溶剤が、ピリジン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、n−メチルピロリド
ン、ヘキサメチルホスホルアミド及びジメチルアセトア
ミドからなる群から選ばれることを特徴とする請求項5
記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2100150A JPH03296516A (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | シクロデキストリン被覆の固体基体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2100150A JPH03296516A (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | シクロデキストリン被覆の固体基体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03296516A true JPH03296516A (ja) | 1991-12-27 |
Family
ID=14266294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2100150A Pending JPH03296516A (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | シクロデキストリン被覆の固体基体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03296516A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07150072A (ja) * | 1993-11-29 | 1995-06-13 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 防曇剤および防曇性被膜形成基材 |
US5971695A (en) * | 1996-02-23 | 1999-10-26 | Bowe Systec Ag | Turner with adjustable feed means |
JP2001163806A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-06-19 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学異性体分離剤 |
WO2013180176A1 (ja) * | 2012-05-30 | 2013-12-05 | 国立大学法人熊本大学 | エンドトキシン吸着材 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60226504A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-11 | Makoto Komiyama | シクロデキストリン縮合重合体の合成法 |
JPS60232210A (ja) * | 1984-04-28 | 1985-11-18 | Makoto Komiyama | シクロデキストリン膜の作成法 |
-
1990
- 1990-04-16 JP JP2100150A patent/JPH03296516A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60226504A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-11 | Makoto Komiyama | シクロデキストリン縮合重合体の合成法 |
JPS60232210A (ja) * | 1984-04-28 | 1985-11-18 | Makoto Komiyama | シクロデキストリン膜の作成法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07150072A (ja) * | 1993-11-29 | 1995-06-13 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 防曇剤および防曇性被膜形成基材 |
US5971695A (en) * | 1996-02-23 | 1999-10-26 | Bowe Systec Ag | Turner with adjustable feed means |
JP2001163806A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-06-19 | Daicel Chem Ind Ltd | 光学異性体分離剤 |
WO2013180176A1 (ja) * | 2012-05-30 | 2013-12-05 | 国立大学法人熊本大学 | エンドトキシン吸着材 |
JPWO2013180176A1 (ja) * | 2012-05-30 | 2016-01-21 | 国立大学法人 熊本大学 | エンドトキシン吸着材 |
US9505850B2 (en) | 2012-05-30 | 2016-11-29 | National University Corporation Kumamoto University | Endotoxin adsorbent |
US10155217B2 (en) | 2012-05-30 | 2018-12-18 | National University Corporation Kumamoto | Endotoxin adsorbent |
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