JPH03221504A - シクロデキストリンポリマーの合成方法及びシクロデキストリン膜の製造方法 - Google Patents

シクロデキストリンポリマーの合成方法及びシクロデキストリン膜の製造方法

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JPH03221504A
JPH03221504A JP1870590A JP1870590A JPH03221504A JP H03221504 A JPH03221504 A JP H03221504A JP 1870590 A JP1870590 A JP 1870590A JP 1870590 A JP1870590 A JP 1870590A JP H03221504 A JPH03221504 A JP H03221504A
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JP
Japan
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cyclodextrin
polymer
film
present
membrane
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Application number
JP1870590A
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English (en)
Inventor
Masanobu Yoshinaga
雅信 吉永
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はシクロデキストリンポリマーの合成方法及びシ
クロデキストリン膜の製造方法に関する。
[従来の技術] シクロデキストリンは水溶液中で種々のゲスト化合物と
構造特異的な包接化合物を形成する。したがって、シク
ロデキストリンを含む固体膜には、特異的な分離能と透
過能などが期待され、またシクロデキストリンが高分子
に担持されることにより単体として威し得なかった種々
の物性を期待することができ、利用面も広がるため、シ
クロデキストリンを含む膜を自由に作成しうる方法が望
まれていた。
このようなシクロデキストリン膜の作成に関して、例え
ば特開昭60−232210号公報には、シクロデキス
トリンの包接化合物の結晶とイソシアネート基を有する
化合物からなる高分子を市販の限外濾過膜上にキャスト
する方法が開示されており、また、特開昭62−258
702号公報にはシクロデキストリンと各種モノマーを
反応させた後アクリロニトリル誘導体と共重合して得ら
れた高分子を公知の方法を用いて製膜する方法が開示さ
れている。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、前記特開昭60−232210号開示の
方法はシクロデキストリン膜を高分子自体の膜として利
用されるものではなく、また、特開昭62−25870
2号開示の方法は、得られる高分子膜中のシクロデキス
トリンの導入率が3〜4%と低く十分なものではなかっ
た。
従って本発明の目的は、シクロデキストリンを高い導入
率で含有することができるシクロデキストリンポリマー
の合成方法を提供することにある。
また、本発明の目的は、シクロデキストリンを高い導入
率で含有し、かつ単体の膜として使用しうるシクロデキ
ストリン膜の製造方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明者等は前記課題に鑑みて鋭意研究の結果、本発明
の上記目的は、ポリアリルアミン塩酸塩にシクロデキス
トリンの誘導体を反応させることを特徴とするシクロデ
キストリンポリマーの合成方法、及び該シクロデキスト
リンポリマーを用いたシクロデキストリン膜の製造方法
により達成されることを見出した。
以下に、本発明を更に詳細に説明する。
本発明においては、シクロデキストリンユニットの導入
率が高く、かつ製膜特性に優れ、かつ種々の特異機能を
有するポリアリルアミンff1l塩を用い、これに例え
ばヨードβ−シクロデキストリン等のシクロデキストリ
ン誘導体を反応させることによって高い割合でシクロデ
キストリンユニットを含むポリアリルアミン−シクロデ
キストリンポリマー(以下、シクロデキストリンポリマ
ーと称す〉を得ることができる。
本発明におけるシクロデキストリンの誘導体を形成する
シクロデキストリンとしては、例えばαシクロデキスト
リン、β−シクロデキストリン及びγ−シクロデキスト
リンが挙げられる。
本発明においてポリアリルアミン塩酸塩とシクロデキス
トリンの誘導体との反応は例えば下記のCI CI (但し、CDはシクロデキストリンを表わす。)上記反
応に用いられるポリアリルアミンff1l塩としては例
えば以下の方法により得られるものが用いられる。
ポリアリルアミン堪酸塩会或法 (塩化アリル) (アリルアミン) CJ (アリルアミン 塩酸塩) H(J (ポリアリルアミン塩酸塩) 本発明において用いられるポリアリルアミン塩酸塩は製
膜性の点から好ましくは分子11万以上のものが用いら
れる。
また本発明におけるポリアリルアミン塩酸塩とシクロデ
キストリン誘導体の反応における反応条件はシクロデキ
ストリン誘導体の種類又は使用目的等により任意に選択
しうるが、好ましくはポリアリルアミン塩酸塩とシクロ
デキストリン誘導体の反応組成比がモル比で1:10〜
1:1000で、反応温度40〜100℃で6〜48時
間で行なわれる。
本発明のシクロデキストリンポリマーは、例えば慶とし
て透過又は吸看分1Ill1等に、粉体あるいはビーズ
状にしてガスクロマトグラフィー又は液体クロマトグラ
フィーの分離カラム用充填剤に、更にビーズ状あるいは
ベレット状にして吸着剤、捕集剤等に用いられる。
本発明においては上記得られたポリマーを用いて製膜を
行なう。!11膜には種々の公知の方法が用いられるが
、例えば具体的には以下の方法で行なわれる。
すなわち、本発明のシクロデキストリンポリマーを溶媒
に溶解して得られた溶液を支持体上に展延した後、溶媒
を除去して製膜するキャスト方法。
例えば、得られたポリマーをジメチルホルムアミド(D
MF)またはジメチルスルホオキサイド(DMSO)に
溶解した溶液をテフロン板、ガラス板、金属板などの支
持体の上に展延した後、溶媒を除去(例えば蒸発〉させ
、膜を形成する。この際DMF、DMSOとも沸点が高
く蒸発しにくいため、40〜60℃の熱をかけ、ある程
度蒸発した時点で水中に入れて膜を剥離し、水洗、乾燥
してシクロデキストリン膜を得る方法をとることが出来
る。
また、別の方法として、本発明のシクロデキストリンポ
リマーを加熱して溶融し、押出し、延伸してフィルムに
成型する押出し法をとることもできる。
[実施例] 以下に本発明を実施例により更に具体的に説明する。
N80口の1Mメタノール溶液501党中に分子量1万
(又は6万)のポリアリルアミン塩It塩0.5gを加
え、分散させながら50〜60℃で5時間撹拌した。ポ
リアリルアミン塩酸塩はすべて溶解し、中和により塩が
析出した。この分散液を減圧下20〜3o112まで濃
縮し、塩を濾別し、さらに濾液を減圧下濃縮しメタノー
ルを全て留去した。次いで減圧状態のまま窒素雰囲気下
とし、DMFを加え、得られた溶液に別途合成したモノ
6−ジオキシ−6−ヨードβ−CD6111を加え60
〜70℃で24時間撹拌した。
次いでDMFを減圧下留去し濃縮して、残漬をアセトン
中で再沈澱させた。沈澱物はよく水洗し、その後乾燥し
て、ポリアリルアミン−シクロデキストリンポリマーを
得た。得られたポリマーを元素分析及びNMRで測定し
たところβ−CDの導入率は24%であった。
尚、本発明においてCD導入率は全アミン基から未反応
のアミノ基量を差し引いた価と定義される。
得られたCD−ポリマーをDMF中に加熱溶解した後ガ
ラス板の上に展延し、これを40〜60℃のオーブン中
で加熱し、はとんどDMFがなくなる際にガラス板とと
もに水中に浸漬し、CDIIをガラス板から剥離した。
剥離した膜を水で洗浄し乾燥したところ、良好なβ−C
Dポリマー膜が得られた。
[発明の効果] 以上詳細に説明したように、本発明により得られるシク
ロデキストリンポリマーは高い導入率でシクロデキスト
リンを含有することができ、また、本発明のシクロデキ
ストリンポリマーを用いて得られるシクロデキストリン
膜は、ポリマー自身が製膜能を有しているため他の支持
体を使用する必要がなく単体膜として使用できる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ポリアリルアミン塩酸塩にシクロデキストリンの
    誘導体を反応させることを特徴とするシクロデキストリ
    ンポリマーの合成方法。
  2. (2)ポリアリルアミン塩酸塩にシクロデキストリンの
    誘導体を反応させて得られるポリマーを用いて製膜する
    ことを特徴とするシクロデキストリン膜の製造方法。
JP1870590A 1990-01-29 1990-01-29 シクロデキストリンポリマーの合成方法及びシクロデキストリン膜の製造方法 Pending JPH03221504A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016098314A (ja) * 2014-11-21 2016-05-30 セイコーエプソン株式会社 セルロース系材料、造形物製造用組成物セット、造形物、ダイアライザー、透析装置、透析方法および造形物の製造方法

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