JPH0714641U - ステージ - Google Patents

ステージ

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JPH0714641U
JPH0714641U JP4755293U JP4755293U JPH0714641U JP H0714641 U JPH0714641 U JP H0714641U JP 4755293 U JP4755293 U JP 4755293U JP 4755293 U JP4755293 U JP 4755293U JP H0714641 U JPH0714641 U JP H0714641U
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JP
Japan
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retainer
upper plate
lower plate
moves
plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP4755293U
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English (en)
Inventor
剛 楢木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 リテーナがずれたとき、リテーナを変形・破
損させずに、その位置を修正する。 【構成】 リテーナ2の移動を制限するストッパ機構
を、リテーナ2に設けた移動方向に沿う長孔8と、下板
1に設けたピン4とで構成した。最初に設定した上板5
とリテーナ2との相対位置がずれたときに上板5を動か
すと、リテーナ2はピン4に当たって移動が規制される
が、上板5を更に動かすと、上板5がストロークエンド
に達して最初に設定した上板5とリテーナ2との相対位
置に戻る。上板5がストロークエンドに達するまでの
間、ピン4とリテーナ2の長孔8との係合部付近には上
板5の荷重がかかっているので、リテーナ2の変形が抑
制される。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
この考案はステージに関し、例えば半導体露光装置や液晶用露光装置等に用い るステージに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のこの種のステージは、下板と、この下板の上面に配置され、複数のニー ドルローラを回転可能に保持するリテーナと、このリテーナを介して前記下板の 上面に載せられ、前記下板に対して相対移動する上板とを備えている。
【0003】 上板には送りねじが螺合され、送りねじをモータで回転させと、上板はリテー ナを介して下板上を直線運動する。このとき上板の移動距離Lに対してリテーナ はL/2移動する。しかし、実際には、ステージの加工精度により、上板・下板 とリテーナとの間でごくわずかなすべりが発生し、リテーナは正確にL/2移動 しない。ただ、上板の移動方向に拘らずニードルローラのすべりが一定ならば、 上板・下板とリテーナとの相対位置関係は保たれるが、実際にはステージの加工 誤差があるため、長期間の使用によりリテーナがずれ、上板・下板とリテーナと の相対位置関係がくずれ、リテーナの端部が下板からはみ出したりして、ステー ジの精度が保たれなくなる。
【0004】 このような現象を防ぐステージとして、図2に示すように、下板101の端面 101aにリテーナ102のストローク量を制限するストッパ111を有するも のがある。
【0005】 このステージでは、上板105の通常使用時のストロークを制限しておき、通 常使用時にはリテーナ102がストッパ111に当たらないようにして使用し、 リテーナ102がずれた場合には、そのリテーナ102の位置を修正するために 、上板105のストロークを通常使用時のストロークよりも増やし、リテーナ1 02をストッパに当て、更に上板105を動かし、ニードルローラ103と上板 105との間で滑らせ(ニードルローラ103が回転した場合はニードルローラ 103と下板101との間で滑りが発生する。)、リテーナ102の位置を修正 していた。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
ところが、近年、半導体露光装置や液晶用露光装置において、基板の大型化に 伴なってステージも大きくなり、ステージの上板が大きくなって重量が増えるた め、上板105・下板101とニードルローラ103との間の滑りを起こさせる 力を大きくしなければならず(上板の重量w,摩擦係数μとすると、wμよりも 大きな力を発生させなければ滑りは生じない。)、その力によりリテーナ102 が変形したり、破損したりすることがあった(図2参照)。
【0007】 また、下板の端面にストッパを有するステージでは、リテーナ102の強度を 高くしなければならないので、リテーナ102の厚さが増し、その結果径の大き なニードルローラ103を使用しなければならず、コストが上昇するという問題 があった。
【0008】 この考案はこのような事情に鑑みてなされたもので、その課題はリテーナがず れたときリテーナを変形・破損させずに、その位置を修正することができるステ ージを提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
前述の課題を解決するため請求項1記載の考案のステージは、下板と、この下 板の上面に配置され、複数のローラを回転可能に保持するリテーナと、このリテ ーナの移動を制限するストッパ機構と、前記リテーナを介して前記下板の上面に 載せられ、前記下板に対して相対移動する上板とを有し、前記上板が移動すると 、前記リテーナが前記上板との相対位置を所定の関係で保ちながら前記上板の移 動距離のほぼ半分の距離だけ移動し、前記相対位置の所定の関係がずれたときに 、前記リテーナを前記上板の移動により前記ストッパ機構に押し当てることによ って前記相対位置を修正するステージにおいて、前記ストッパ機構は、前記上板 と前記リテーナとの互いの対向面の間に配置され、前記上板と前記リテーナとの 一方に、前記リテーナの移動方向に沿って所定距離隔てて設けた一対の制限部材 と、前記一対の制限部材に係合可能なように、前記上板と前記リテーナとの他方 に設けた突起部材とを有し、前記リテーナが前記移動方向に沿う前記所定距離の 間を移動する。
【0010】 また、請求項2記載の考案のステージは、下板と、この下板の上面に配置され 、複数のローラを回転可能に保持するリテーナと、このリテーナの移動を制限す るストッパ機構と、前記リテーナを介して前記下板の上面に載せられ、前記下板 に対して相対移動する上板とを有し、前記上板が移動すると、前記リテーナが前 記上板との相対位置を所定の関係で保ちながら前記上板の移動距離のほぼ半分の 距離だけ移動し、前記相対位置の所定の関係がずれたときに、前記リテーナを前 記上板の移動により前記ストッパ機構に押し当てることによって前記相対位置を 修正するステージにおいて、前記ストッパ機構は、前記下板と前記リテーナとの 互いの対向面の間に配置され、前記下板と前記リテーナとの一方に、前記リテー ナの移動方向に沿って所定距離隔てて設けた一対の制限部材と、前記一対の制限 部材に係合可能なように、前記下板と前記リテーナとの他方に設けた突起部材と を有し、前記リテーナが前記移動方向に沿う前記所定距離の間を移動する。
【0011】
【作用】
最初に設定した上板とリテーナとの相対位置がずれたときに上板を動かすと、 リテーナは突起部材に当たって移動が規制されるが、上板を更に動かし、上板が ストロークエンドに達して最初に設定した上板とリテーナとの相対位置に戻る。 上板がストロークエンドに達するまでの間、突起部材とリテーナの長溝との係合 部付近には上板の荷重がかかっているので、リテーナの変形が抑制される。
【0012】
【実施例】 以下この考案の実施例を図面に基づいて説明する。
【0013】 図1はこの考案の一実施例に係るステージを示し、同図(a)は上板が中立位 置にあるときのステージの断面図、同図(b)はリテーナの平面図、同図(c) はリテーナの位置修正時の状態を示すステージの断面図である。
【0014】 下板1の一端部にはモータ7が取り付けられ、モータ7の回転軸には送りねじ 6が設けられている。下板1の上面にはリテーナ2を介して上板5が載せられて いる。送りねじ6は上板5の端面のめねじ(図示せず)に螺合し、送りねじ6を 介してモータ7の駆動力が上板5に伝達され、上板5は下板1上を移動する。ま た、下板1の上面にはピン(突起部材)4が固定されている。
【0015】 前記リテーナ2は、複数のニードルローラ(ローラ)3を回転可能に保持する 。リテーナ2の長手方向の中間位置付近には長孔(長溝)8が設けられ、長孔8 にはピン4が係合している。長孔8の長手方向の長さdは、上板5のフルストロ ークL0 の半分(L0 /2)の長さに設定されている。もっとも、通常使用時の 上板5の通常ストロークL1 はL0 よりも短くしてあるので、長孔8aの長さd は、通常ストロークL1 の半分(L1 /2)より所定距離だけ長い。したがって 、通常使用時、リテーナ2がピン4に当たることはない。
【0016】 モータ7を回転させると送りねじ6が回転し、上板5が移動する。上板5は、 図1(a)及び(b)に示す中立位置からL1 /2移動したところで停止する。 このときリテーナ2は上板5に追随してL1 /4移動するが、上板5の通常スト ロークL1 はL0 よりも短いので、リテーナ2が若干ずれたとしても、リテーナ 2はピン4に当たらない。したがって、ステージの精度は保たれる。
【0017】 モータ7を逆回転させると、上板5は逆方向に移動する。
【0018】 リテーナ2が大きくずれたとき、又は一定回数以上上板5を動かしたためリテ ーナ2のずれが進行していることが予想されるとき等には、リテーナ2の位置修 正動作を行う。
【0019】 リテーナ2の位置修正を行うには、図1(c)に示すように、上板5をフルス トローク動かす。リテーナ2がずれていれば、まずリテーナ2の長孔8の端部8 aがピン4に当たってリテーナ2の動きが規制される。更に、上板5を同方向へ 動かすと、リテーナ2は動かずに、上板5だけがリテーナ2上を滑り、上板5が ストロークエンドに達し、最初に設定した上板5・下板1とリテーナ2との相対 位置に戻る。上板5がストロークエンドに達するまでの間、ピン4とリテーナ2 との係合部には上板5の荷重がかかっているので、上板5の荷重が大きくとも、 リテーナ2の浮き上がりが起きない。したがって、リテーナ2を変形、破損させ ずに、リテーナ2の位置修正を行うことができ、基板の大型化によるステージの 上板5の重量増に対応できる。
【0020】 上述の実施例で一対の制限部材とは図1(a)の長孔8の両端部8a,8bの ことである。
【0021】 なお、リテーナ2はどの方向にずれているかは分からないので、リテーナ2の 位置修正時、上板5を往復運動させることになる。
【0022】 この実施例では、構造が複雑でなく、リテーナ2の強度を高くする必要もない ので径の大きなニードルローラ3を使用する必要がなく、製造コストを抑えるこ とができる。
【0023】 前述の実施例では、下板1の上面に1本のピン4を設け、リテーナ2に移動方 向に沿う1個の長孔8を設けた場合について述べたが、これに代え、下板1の上 面にニードルローラ3を挟むようにして2本のピンを設け、これらのピンに対応 する2個の長孔をリテーナに設けるようにしてもよい。
【0024】 また、前述の実施例では、リテーナ2の位置修正をするタイミングを移動回数 で管理する場合について述べたが、これに代え、センサを取り付けてリテーナ2 のずれを検知して位置修正を行うようにしてもよいし、目視によりリテーナ2の ずれを確認したときに行うようにしてもよい。
【0025】 更に、前述の実施例では、ストッパ機構の長溝としてリテーナ2に移動方向に 沿う長孔8を設けた場合について述べたが、長孔8に代えて、リテーナ2の縁部 に移動方向に沿う切欠きを設けるようにしてもよい。また、リテーナ2に移動方 向に直角方向に突き出す2個の凸部若しくは駒を互いに対向するように設けても よい。この場合は2個の凸部若しくは駒の対向する面が一対の制限部材となる。
【0026】 また、前述の実施例では、ストッパ機構の突起部材として下板1の上面にピン 4を設けた場合について述べたが、これに代え、上板5の下面にピンを設け、そ のピンをリテーナの長孔に係合させるようにしてもよい。
【0027】 更に、前述の実施例では、本願考案をいわゆるフラットガイドに適用した場合 について述べたが、V字溝にV字型に配置されたニードルローラを保持するリテ ーナを組み付けたガイドに適用することもできるし、クロスローラガイドなどの ガイド一般に適用することができる。
【0028】
【考案の効果】
以上説明したようにこの考案のステージによれば、最初に設定した上板とリテ ーナとの相対位置がずれたときに上板を動かすと、リテーナは突起部材に当たっ て移動が規制されるが、上板を更に動かすと、上板がストロークエンドに達して 最初に設定した上板とリテーナとの相対位置に戻る。上板がストロークエンドに 達するまでの間、突起部材とリテーナの長溝との係合部付近には上板の荷重がか かっているので、リテーナの変形が抑制される。
【0029】 また、構造が複雑でなく、リテーナの強度を高くする必要もないので径の大き なニードルローラを使用する必要がなく、製造コストを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1はこの考案の一実施例に係るステージを説
明するための図である。
【図2】図2は従来のステージの側面図である。
【符号の説明】
1 下板 2 リテーナ 3 ニードルローラ 4 ピン 5 上板 8 長孔
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 8107−3C B23Q 1/26 D

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下板と、 この下板の上面に配置され、複数のローラを回転可能に
    保持するリテーナと、 このリテーナの移動を制限するストッパ機構と、 前記リテーナを介して前記下板の上面に載せられ、前記
    下板に対して相対移動する上板とを有し、 前記上板が移動すると、前記リテーナが前記上板との相
    対位置を所定の関係で保ちながら前記上板の移動距離の
    ほぼ半分の距離だけ移動し、 前記相対位置の所定の関係がずれたときに、前記リテー
    ナを前記上板の移動により前記ストッパ機構に押し当て
    ることによって前記相対位置を修正するステージにおい
    て、 前記ストッパ機構は、前記上板と前記リテーナとの互い
    の対向面の間に配置され、 前記上板と前記リテーナとの一方に、前記リテーナの移
    動方向に沿って所定距離隔てて設けた一対の制限部材
    と、 前記一対の制限部材に係合可能なように、前記上板と前
    記リテーナとの他方に設けた突起部材とを有し、 前記リテーナが前記移動方向に沿う前記所定距離の間を
    移動することを特徴とするステージ。
  2. 【請求項2】 下板と、 この下板の上面に配置され、複数のローラを回転可能に
    保持するリテーナと、 このリテーナの移動を制限するストッパ機構と、 前記リテーナを介して前記下板の上面に載せられ、前記
    下板に対して相対移動する上板とを有し、 前記上板が移動すると、前記リテーナが前記上板との相
    対位置を所定の関係で保ちながら前記上板の移動距離の
    ほぼ半分の距離だけ移動し、 前記相対位置の所定の関係がずれたときに、前記リテー
    ナを前記上板の移動により前記ストッパ機構に押し当て
    ることによって前記相対位置を修正するステージにおい
    て、 前記ストッパ機構は、前記下板と前記リテーナとの互い
    の対向面の間に配置され、 前記下板と前記リテーナとの一方に、前記リテーナの移
    動方向に沿って所定距離隔てて設けた一対の制限部材
    と、 前記一対の制限部材に係合可能なように、前記下板と前
    記リテーナとの他方に設けた突起部材とを有し、 前記リテーナが前記移動方向に沿う前記所定距離の間を
    移動することを特徴とするステージ。
JP4755293U 1993-08-09 1993-08-09 ステージ Pending JPH0714641U (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002227837A (ja) * 2001-01-31 2002-08-14 Toshiba Mach Co Ltd 有限型ころがり案内のずれ補正方法および装置
JP2006173316A (ja) * 2004-12-15 2006-06-29 Jeol Ltd 移動ブロック支持機構及びステージ装置並びに荷電粒子ビーム装置

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