TWM552596U - 擬真可撓式基材彎曲測試系統 - Google Patents

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TWM552596U
TWM552596U TW106203057U TW106203057U TWM552596U TW M552596 U TWM552596 U TW M552596U TW 106203057 U TW106203057 U TW 106203057U TW 106203057 U TW106203057 U TW 106203057U TW M552596 U TWM552596 U TW M552596U
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Taiwan
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bending test
test system
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flexible substrate
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TW106203057U
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Inventor
Ko Shun Wang
Shr Yu Chen
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Iboson Technology Co Ltd
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Description

擬真可撓式基材彎曲測試系統
本創作是關於彎曲測試的技術領域,特別是一種模擬真實環境下基板彎曲的擬真可撓式基材彎曲測試系統。
傳統中,為能夠測試基材的使用壽命與使用次數,需要借助機台進行長時間的重複性操作,例如針對可撓性的基材進行彎曲測試。
傳統的機台採用的方式是固定基材的兩端,並藉由單端推擠基材以達成彎折基材的目的,且還需要透過金屬棒控制彎折曲率。然而,在彎折過程中,由於需要透過金屬棒,因此在基材上會產生相關的應力,其有可能在測試過程中造成基材的損壞。
有鑑於此,本創作提出一種擬真可撓式基材彎曲測試系統,以解決習知技術的缺失。
本創作之第一目的係提供一種擬真可撓式基材彎曲測試系統,包含第一承載部與第二承載部,藉由旋轉讓第二承載部之上表面朝第一承載部之 上表面移動,以達到彎曲設置在第一承載部之表面與第二承載部之表面的一基材的目的。
本創作之第二目的係根據上述擬真可撓式基材彎曲測試系統,係讓基材在第二承載部之表面自由滑動,以達到減少或避免拉扯應力現象產生的目的。
本創作之第三目的係根據上述擬真可撓式基材彎曲測試系統,係可根據不同的曲率半徑的需求,以達到任意調整曲率半徑的目的。
為達上述目的,本創作係提供一種擬真可撓式基材彎曲測試系統,供測試一基材。基材包含一第一部分、一第二部分與一第三部分。擬真可撓式基材彎曲測試系統包含一承載台、一第一承載部、一驅動單元與一第二承載部。第一承載部設置於承載台。第一承載部供設置基材之第一部分。驅動單元包含一電機與一旋轉臂。電機連接旋轉臂。驅動單元根據一驅動訊號驅動電機,使得旋轉臂以一預定角度旋轉。第二承載部連接旋轉臂。第二承載部與第一承載部相距一間隙。第二承載部供設置基材之第二部分。其中,間隙相關於基材受力彎曲的一弧長。其中,旋轉臂根據預定角度旋轉讓第二承載部之上表面朝第一承載部之上表面移動,進而使得基材之第三部分在間隙產生形變而彎曲。
相較習知技術,本創作提供擬真可撓式基材彎曲測試系統能夠選擇任意角度讓基板產生相應的彎曲,以模擬真實的彎曲行為。
2‧‧‧基材
22‧‧‧第一部分
24‧‧‧第二部分
26‧‧‧第三部分
10‧‧‧擬真可撓式基材彎曲測試系統
12‧‧‧承載台
122、124‧‧‧柱狀體
14‧‧‧第一承載部
142‧‧‧第一固定件
144‧‧‧定位孔
146‧‧‧第一調整組
146a、146b‧‧‧調整桿
16‧‧‧驅動單元
162‧‧‧電機
164‧‧‧旋轉臂
18‧‧‧第二承載部
188a、188b‧‧‧調整桿
182‧‧‧第二固定件
1822‧‧‧開孔
184‧‧‧第三固定件
186‧‧‧定位孔
188‧‧‧第二調整組
DS‧‧‧驅動訊號
θ‧‧‧預定角度
d‧‧‧間隙
CR‧‧‧旋轉中心
圖1係本創作一實施例之擬真可撓式基材彎曲測試系統的立體圖。
圖2係說明本創作之圖1中基材受彎曲的示意圖。
圖3係說明圖1中第一承載部的另一實施例的立體圖。
圖4係說明圖1中第二承載部的另一實施例的立體圖。
圖5係說明圖1中第一承載部與第二承載部的另一實施例的立體圖。
為充分瞭解本創作之目的、特徵及功效,茲藉由下述具體之實施例,並配合所附之圖式,對本創作做一詳細說明,說明如後:於本創作中,係使用「一」或「一個」來描述本文所述的單元、元件和組件。此舉只是為了方便說明,並且對本創作之範疇提供一般性的意義。因此,除非很明顯地另指他意,否則此種描述應理解為包括一個、至少一個,且單數也同時包括複數。
於本創作中,用語「包含」、「包括」、「具有」、「含有」或其他任何類似用語意欲涵蓋非排他性的包括物。舉例而言,含有複數要件的一元件、結構、製品或裝置不僅限於本文所列出的此等要件而已,而是可以包括未明確列出但卻是該元件、結構、製品或裝置通常固有的其他要件。除此之外,除非有相反的明確說明,用語「或」是指涵括性的「或」,而不是指排他性的「或」。
請參考圖1,係本創作一實施例之擬真可撓式基材彎曲測試系統的立體圖。於圖1中,擬真可撓式基材彎曲測試系統10能夠測試一基材2,例如基材2為可撓性顯示面板(flexible display)。為便於說明,按基材2設置在擬真可撓式基材彎曲測試系統10的位置,進一步區分為三個部分,分別地為一第一部分22、一第二部分24與一第三部分26。
擬真可撓式基材彎曲測試系統10包含一承載台12、一第一承載部14、一驅動單元16與一第二承載部18。
承載台12係供承載與整合第一承載部14、驅動單元16與第二承載部18,以形成擬真可撓式基材彎曲測試系統10。承載台12並無特定的形式或樣式。於本實施例中,承載台12係形成二柱狀體122、124。
第一承載部14設置於承載台12,特別是設置在柱狀體122。第一承載部14能夠設置基材2之第一部分22。
驅動單元16包含一電機162與一旋轉臂164。驅動單元16係設置於承載台12,特別是設置在柱狀體124。其中,電機162接收外部的一驅動訊號DS,並且根據驅動訊號DS產生一順向扭力或一逆向扭力,例如電機162可為步進馬達、伺服馬達等。旋轉臂164連接電機162。當電機162產生順向扭力或逆向扭力時,旋轉臂164將朝一順時針方向旋轉或朝一逆時針方向旋轉。再者,電機162將根據驅動訊號DS的驅動時間、工作週期等,使得旋轉臂164能夠在一預定角度θ反覆地進行順時針方向旋轉或逆時針方向旋轉。其中,預定角度θ的範圍係介於0度至180度之間。
第二承載部18連接旋轉臂164。第二承載部18與第一承載部14相距一間隙d。第二承載部18設置基材2之第二部分24。其中,間隙d相關於基材2受力彎曲的一弧長。其中,間隙d的範圍係介於10釐米至100釐米之間。一併可參考圖2,係說明本創作之圖1中基材2受彎曲的示意圖。弧長指的是在圓周上2點一段弧的長度叫做弧長。
旋轉臂164根據預定角度θ旋轉讓第二承載部18之上表面朝第一承載部14之上表面移動(或覆蓋),進而使得基材2之第三部分26在間隙d產生形 變而彎曲。前述彎曲具有一曲率半徑,其指的是用來描述基材2受彎曲時之曲線上某處曲線彎曲變化的程度。藉由旋轉臂164以順時針方向或逆時針方向的反覆作動,可以反覆地產生形變,進而可以達成彎曲壽命與次數的測試。
請參考圖3,係說明圖1中第一承載部的另一實施例的立體圖。於圖3中,第一承載部14包含第一固定件142。
第一固定件142設置於第一承載部14之表面,係能夠將基材2之第一部分22固定在第一承載部142之表面。於本實施例中,第一固定件142係以一壓片體為例說明,於其他實施例中,壓片體也可以改為其他的形體或結構替代。前述壓片體將基材2之第一部份22夾設在第一承載部14之表面,讓基材2之第一部份22不移動。此外,於本實施例中,第一固定件142係鄰近於第一承載部14的周緣及鄰近於間隙d的位置。於另一實施例中,第一固定件142可設置在邊緣。值得注意的是,第一固定件142設置於第一承載部14的方式係可以透過鎖固、磁吸、夾持等方式進行配置,於此不贅述。
於另一實施例中,第一承載部14更還可以形成複數定位孔144。該等定位孔144係以等距或非等距的方式形成在第一承載部14之表面,供第一固定件142與基材2之至少一者能夠進行定位設置。
請參考圖4,係說明圖1中第二承載部的另一實施例的立體圖。於圖4中,第二承載部18包含第二固定件182與第三固定件184。
第二固定件182設置於第二承載部18之表面,能夠將基材2之第二部分24限制在第二承載部18之表面。於本實施例中,第二固定件182以一C形片為例說明。基材2之第二部分24可以透過C形片的開孔1822自由地進行滑動,以避免產生拉扯應力,以及第二固定件182會將基材2之第二部分限制在開孔 1822。其中,開孔1822的孔高大於或等於基材2的厚度,以及開孔1822的孔寬大於或等於基材2的寬度,前述寬度指基材2中較短之一邊。若基材2的邊長皆相同,則寬度可為任何一邊。
第三固定件184設置於第二承載部18之表面,供止擋基材2之第二部分24滑動。第三固定件184可避免基材2之第二部分24於第二承載部18之表面滑動,進而影響曲率半徑。
於另外一實施例中,第二固定件182可為墊片與壓片(圖未示),係設置於基材2之第二部分24的周緣,並且在第二部分24的上方設置壓片,以將基材2固定在第二承載部18之表面,或者第二固定件182可為墊片,係設置於基材2之第二部分24的周緣,以將基材2固定在第二承載部18之表面。其中,墊片的厚度大於等於基材2的厚度。
於另一實施例中,第二承載部18更還可以形成複數定位孔186。該等定位孔186係以等距或非等距的方式形成在第二承載部18之表面,供第二固定件182與基材2之至少一者能夠進行定位設置。
請參考圖5,係說明圖1中第一承載部與第二承載部的另一實施例的立體圖。於圖5中,第一承載部14包含第一調整組146,以及第二承載部18包含第二調整組188。
第一調整組146可透過例如調整桿146a調整第一承載部14在水平方向的位置與可透過例如調整桿146b調整第一承載部14在垂直方向的位置,以及第二調整組188可透過例如調整桿188a調整第二承載部18在水平方向的位置與可透過例如調整桿188b調整第二承載部18在垂直方向的位置。藉由調整調整件146a與調整件188a之至少一者的水平方向,可以調整第一承載部14與第二 承載部18之間的間隙d的距離,以例如讓基材2彎曲時恰為半弧長。在設定調整桿146a、146、188a、188b之後,旋轉臂164可基於一旋轉中心CR(或稱軸心)進行旋轉。其中,旋轉中心CR指的是在第二承載面18轉動過程中,第二承載部18之表面的水平面永遠指向的一處,即旋轉臂164之旋轉中心CR,一併可參考圖5中基材2彎曲的示意圖。於本實施例中,藉由控制調整件146b與調整件188b的垂直方向,使得在第一承載面14與第二承載面18上方之基材2的表面在水平高度是相同的,並且根據水平高度與旋轉中心CR的位置,可以決定一曲率半徑。其中,曲率半徑的範圍係可介於1釐米至30釐米之間。
值得注意的是,雖然間隙d的距離可以決定基材2彎曲時的半弧長,但應注意的是,基材2在彎曲時的弧長改變也會受到其他因素的影響,例如(1)調整第一固定件142位於第一承載部14的位置、(2)第二固定件182與第三固定件184之至少一者位於第二承載部18位置、(3)第一固定件142、第二固定件182與第三固定件184之至少二者之間的相對位置,也會改變其基材2彎曲時的弧長。
本創作在上文中已以較佳實施例揭露,然熟習本項技術者應理解的是,該實施例僅用於描繪本創作,而不應解讀為限制本創作之範圍。應注意的是,舉凡與該實施例等效之變化與置換,均應設為涵蓋於本創作之範疇內。因此,本創作之保護範圍當以申請專利範圍所界定者為準。
2‧‧‧基材
22‧‧‧第一部分
24‧‧‧第二部分
26‧‧‧第三部分
10‧‧‧擬真可撓式基材彎曲測試系統
12‧‧‧承載台
122、124‧‧‧柱狀體
14‧‧‧第一承載部
16‧‧‧驅動單元
162‧‧‧電機
164‧‧‧旋轉臂
18‧‧‧第二承載部
DS‧‧‧驅動訊號
θ‧‧‧預定角度
d‧‧‧間隙

Claims (12)

  1. 一種擬真可撓式基材彎曲測試系統,供測試一基材,該基材具有一第一部分、一第二部分與一第三部分,該擬真可撓式基材彎曲測試系統包含: 一承載台; 一第一承載部,係設置於該承載台,該第一承載部供設置該基材之第一部分; 一驅動單元,係具有一電機與一旋轉臂,該電機連接該旋轉臂,該驅動單元根據一驅動訊號驅動該電機,使得該旋轉臂以一預定角度旋轉;以及 一第二承載部,係連接該旋轉臂,該第二承載部與該第一承載部相距一間隙,該第二承載部供設置該基材之第二部分,其中該間隙相關於該基材受力彎曲的一弧長; 其中該旋轉臂根據該預定角度旋轉讓該第二承載部之上表面朝該第一承載部之上表面移動,進而使得該基材之第三部分在該間隙產生形變而彎曲。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之擬真可撓式基材彎曲測試系統,其中該第一承載部更包含一第一固定件,該第一固定件設置於該第一承載部之表面,供將該基材之第一部分固定在該第一承載部之表面。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之擬真可撓式基材彎曲測試系統,其中該第一固定件為一壓片體,該壓片體將該基材之第一部份夾設在該第一承載部之表面,讓該基材之第一部份不移動。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之擬真可撓式基材彎曲測試系統,其中該第二承載部更包含一第二固定件,該第二固定件設置於該第二承載部之表面,供將該基材之第二部分限制在該第二承載部之表面。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之擬真可撓式基材彎曲測試系統,其中該第二固定件具有一開孔,該開孔的孔高不小於該基材的厚度和該開孔的孔寬不小於該基材的寬度。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之擬真可撓式基材彎曲測試系統,其中該第二固定件為一C形片、該第二固定件為一墊片,並藉由該墊片包覆該基材之周緣、或者該第二固定件為一墊片與一蓋片,並藉由該墊片包覆該基材之周緣與藉由該蓋片覆蓋該基材之表面,其中該墊片的厚度係不小於該基材的厚度。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之擬真可撓式基材彎曲測試系統,其中該第二承載部更包含一第三固定件,該第三固定件設置於該第二承載部之表面,供止擋該基材滑動。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之擬真可撓式基材彎曲測試系統,其中該第一承載部更包含一第一調整組與該第二承載部更包含一第二調整組,藉由該第一調整組與該第二調整組調整該第一承載部與該第二承載部在一水平方向與一垂直方向之至少一者的位置。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之擬真可撓式基材彎曲測試系統,其中該第一調整組與該第二調整組調整該基材之表面在一水平方向相對於該旋轉臂之旋轉中心的位置,以決定該基材受力彎曲的一曲率半徑。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之擬真可撓式基材彎曲測試系統,其中該曲率半徑的範圍係介於1釐米至30釐米之間。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之擬真可撓式基材彎曲測試系統,其中該預定角度的範圍係介於0度至180度之間及該間隙的範圍係介於10釐米至100釐米之間。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之擬真可撓式基材彎曲測試系統,更包含複數定位孔,該等定位孔形成在該第一承載部之表面與該第二承載部之表面。
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