JPH07140474A - 液晶表示パネルの製造方法 - Google Patents

液晶表示パネルの製造方法

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JPH07140474A
JPH07140474A JP28850493A JP28850493A JPH07140474A JP H07140474 A JPH07140474 A JP H07140474A JP 28850493 A JP28850493 A JP 28850493A JP 28850493 A JP28850493 A JP 28850493A JP H07140474 A JPH07140474 A JP H07140474A
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JP
Japan
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liquid crystal
display panel
crystal display
injection port
substrate
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Pending
Application number
JP28850493A
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English (en)
Inventor
Shinya Kosako
慎也 古佐小
Hideaki Mochizuki
秀晃 望月
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH07140474A publication Critical patent/JPH07140474A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 注入時の液晶材料の流動による配向不良がな
く、また液晶材料の劣化によるしきい値変化や表示ムラ
を抑制した液晶表示パネルの製造方法を提供すること。 【構成】 少なくとも一方がラビング処理されていない
有機塗布膜を上下2枚の基板1の透明電極上に形成し、
有機塗布膜を内面に対向してなる液晶表示パネルに液晶
を注入する際、液晶表示パネルの液晶シール部材4を注
入口部3の設置されている辺において基板端部5まで延
長し、液晶注入時に少なくとも有効表示部のパネル面温
度をネマティック−アイソトロピック相転移温度以上に
加熱し、液晶を注入した後に液晶注入口部3側の端面5
を所定位置で切断し、注入口部3を封止する液晶表示パ
ネルの製造方法である。 【効果】 ラビング処理しない液晶表示パネルの生産に
おいて、流動配向ムラのない、表示品位の優れた液晶表
示パネルを得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示パネルの製造
方法に関し、特にラビング処理を省略した液晶表示パネ
ルの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶表示パネルは軽い、薄い、低
消費電力などの特徴を生かし、あらゆる携帯型映像、O
A機器に搭載されている。現在、一般に実用化されてい
る液晶の動作モードとしては、上下の基板間で液晶分子
の長軸方向が約90゜捻れた配向を有するツイステッド
ネマティック(TN)型、180゜〜270゜の捻れた
配向を有するスーパーツイステッドネマティック(ST
N)型がある。TN型は主として薄膜トランジスタ(T
FT)などのアクティブマトリクス型液晶表示パネル
に、またSTN型は単純マトリクス型液晶表示パネルに
使用されている。
【0003】近年、これらを使用したワークステーショ
ン、パーソナルコンピュータ、パームトップコンピュー
タおよび携帯型液晶テレビジョンなどのOA・映像表示
機器の進展は目ざましいが、今後本格的に液晶表示ディ
スプレイが生産され、日常品として普及するためには、
いくつかの課題を克服する必要がある。
【0004】ひとつは生産プロセスに関するもので、ラ
ビング処理プロセスの削除であり、もう一つは液晶表示
ディスプレイの表示性能に関するもので、視野角の拡大
である。
【0005】前者のラビングプロセスとは、液晶表示パ
ネル基板にポリイミド有機薄膜を形成後、ポリエステル
布等で前記基板上のポリイミド有機薄膜を擦るプロセス
であり、充填した液晶分子を一定方向に配向させるため
に従来より必要な処理である。しかしラビング時に薄膜
トランジスタの静電破壊、発塵、膜汚染を引き起こすた
め、このような課題の解決および工数削減のためにこの
工程を削除する必要があった。これに対し近年、TN型
液晶表示パネルでは、ラビング処理プロセスの削除を図
る取り組みが幾つか行われている。例えば、フォトリソ
グラフィ技術を応用して、配向膜にマイクログルーブを
形成しネマティック液晶を配向させる方式(川田、高
頭、岐津、坂本、長谷川:第17回液晶討論会予稿集、
2F108)などが提案されている。
【0006】一方後者の、視野角の拡大に関しては、ワ
ークステーションやパーソナルコンピュータにおける表
示容量の拡大や、より精密な映像再現性のための多階調
フルカラー化に伴い、使用する液晶表示パネルサイズが
大型化、フルカラー化された結果、見込み角の増大によ
る視野角の狭さが大きな問題になってきている。例え
ば、大型透過型液晶表示パネルのほぼ中央に視点を置き
中間調表示を行った場合、中央部と上部および下部で光
の透過強度や色相が大きく異なり、表示品位が低下して
しまう。このため近年TN型液晶表示パネルでは、視野
角の拡大を図る取り組みが盛んに行われている。1例と
して、TN型液晶表示パネルの画素を2つの配向状態の
異なる領域に分割して視野角の拡大を図る方式(T.Taka
tori,K.Sumiyoshi,Y.Hirai,S.Kaneko:JAPAN DISPLAY '9
2,PP.591,(1992)など)が提案されている。この方式で
は1画素の配向領域を2分割するために、露光や2度の
ラビングを行う必要があり、プロセスが複雑になる。ま
た、より工程を簡略化して、視野角の拡大を図る別方式
が提案されている(Y.Toko,T.Sugiyama,K.Katoh,Y.Iimu
ra,S.Kobayashi:SID 93 DIGEST,PP.622,(1993))。この
方式ではラビング処理を行わず液晶材料をネマティック
−アイソトロピック相転移温度以上で注入し、液晶分子
をランダムに配向させることで配向状態の異なる領域を
多数形成し、これにより視野角の拡大を図るものであ
る。
【0007】即ち、この後者の方式では、ラビングプロ
セスの削除および視野角の拡大という要求を同時に満た
すという特徴がある。また、後者の方法の一変形とし
て、一方の基板のみをラビング処理して、従来のTNと
同じ単一配向状態(モノドメイン)の液晶表示パネルを
つくることも提案されているが、この方法では視野角の
拡大は期待できないものの、TFT型においてはラビン
グ処理によるトランジスタの静電破壊が免れる点だけで
も効果は大きい。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記方式に
よる液晶表示パネルを作製するためには、ネマティック
相での注入による流動配向不良を避けるために、パネル
面全体をネマチック−アイソトロピック相転移温度以上
に加熱し液晶を注入する必要があるが、従来の形状の液
晶表示パネルでは有効表示部と注入口側のパネル切断端
面が非常に接近しているため、パネル面全体をネマティ
ック−アイソトロピック相転移温度以上に加熱しても、
液晶表示パネルの下降後に、液晶皿中の液晶材料液面と
端面との接触時に熱伝導により注入口付近が冷却されて
しまい一部分ネマティック相になるため、流動配向不良
が発生するという問題点があった。
【0009】また、この熱伝導による注入口付近の冷却
を避けるため、より高温に液晶表示パネルを加熱する、
もしくは予め液晶皿中の液晶材料温度を加熱すると、高
温真空時における液晶材料中の低沸点成分の散逸により
液晶材料が劣化し、液晶表示パネル電気光学特性の変化
や信頼性の低下が発生する問題点が新たに発生した。
【0010】本発明は上記のような従来の液晶表示パネ
ルの製造方法の課題を解決し、生産性の向上した、配向
欠陥のない表示品位の優れた液晶表示パネルの製造方法
を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも一
方がラビング処理されていない塗布膜を上下2枚の基板
の透明電極上に形成し、液晶注入口部を設けた状態で液
晶シール部材を形成し、前記液晶注入口部から液晶を注
入する液晶表示パネルの製造方法において、液晶を前記
液晶注入口部へ導くための別の液晶シール部材をその液
晶注入口部が存在する場所から基板端部まで形成し、液
晶注入時に少なくとも有効表示部のパネル面温度をネマ
ティック−アイソトロピック相転移温度以上に加熱し、
前記液晶を注入した後に、前記基板の前記液晶注入口部
側の端部を所定位置で切断するとともに前記注入口部を
封止する液晶表示パネルの製造方法である。
【0012】
【作用】本発明では、液晶表示パネルの有効表示部と注
入口部側の基板端部との距離を十分にとることができる
ため、この部分が温度緩衝部として作用し、有効表示部
のパネル面温度をネマティック−アイソトロピック相転
移温度以上に加熱しても、液晶皿中の液晶材料との接触
による有効表示部の温度の低下や液晶材料温度の上昇が
避けられる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
【0014】図1は、本発明による液晶表示パネルの製
造方法に用いられるシール部材のパターンの一例を示す
平面図である。また、図2は本発明による液晶表示パネ
ルの製造方法の一実施例における液晶注入状態を示す図
である。
【0015】図1において、TFT型液晶表示パネルで
は、上基板はカラーフィルター基板、下基板はアレイ基
板であるが、STN型液晶表示パネルでは、上基板はセ
グメント基板、下基板はコモン基板に相当する。なお、
1は重なっている上下基板を示す。この液晶表示パネル
を作製するため、まず、カラーフィルター基板およびア
レイ基板を洗浄後ポリイミド薄膜を塗布した。本実施例
ではポリイミド薄膜としてRN−746(日産化学
(株)製)を用い、膜厚は80nmとした。ポリイミド
薄膜焼成の後、カラーフィルター基板に液晶シール部材
2と、液晶を導くための液晶シール部材4を印刷し、5
μmのスペーサ(積水ファイン(株)製)を均一に分散
させた。次に、前記カラーフィルター基板とアレイ基板
を貼り合わせ、約150゜Cの温度で液晶シール部材
2、4を完全に硬化させた。
【0016】次に、図2のような注入装置でカイラルネ
マティック液晶材料を注入した。本実施例では、液晶表
示パネルの有効表示部をネマティック−アイソトロピッ
ク相転移温度以上に加熱するため、ニクロム線が内部に
組み込まれ、熱電対で温度の制御が可能な面状加熱体8
を液晶表示パネル7の両側に取付けた。液晶皿10の下
部には、液晶材料(△n=0.08)の温度上昇を防ぐ
ため、冷却水12が循環する水ジャケット11を設置し
てある。
【0017】さらに、実際の液晶注入工程をより具体的
に説明する。前記液晶表示パネル7を液晶注入装置にい
れ、最初に昇降機構で液晶表示パネルを上昇させておい
た後真空ポンプで約100分間排気する。次に、面状加熱
体8を作動させ液晶表示パネル7の有効表示部の温度を
上昇させる。約20分後、液晶表示パネル7の有効表示部
の温度は使用した液晶材料のネマティック−アイソトロ
ピック相転移温度である100゜Cになるので、次に液
晶表示パネル7を下降させ、液晶表示パネル7の下端に
設けた注入口部側の基板端部5を液晶皿10中の液晶材
料9に完全に浸し、約20秒置いた後、乾燥した窒素ガ
スを徐々に前記液晶注入装置内に導いた。 このとき、
液晶表示パネル7の熱は注入口部3を伝わって液晶皿1
0中の液晶材料9にも伝導されるが、液晶表示パネル7
の有効表示部と注入口部3側の基板端部5の距離が十分
長いために、液晶材料9の温度はあまり上昇しなかっ
た。さらに、冷却水12が循環する水ジャケット11が
設置されているため、液晶材料9の温度上昇による液晶
材料組成中の低沸点成分の散逸は極めて低く抑制されて
いる。
【0018】液晶材料が液晶表示パネル7の上端部に到
達した後、液晶表示パネル7と面状加熱体8を分離し、
冷却後、上基板切断ライン6および下基板切断ラインで
周辺部および下部(注入口部−基板端面)を取り除き、
液晶材料を導くための液晶シール部材4を除去するとと
もに注入口部3を封口して液晶表示パネルを完成させ
た。
【0019】完成した液晶表示パネルに偏光板および駆
動回路を取り付けて点灯させた結果、流動配向ムラのな
い、表示品位の優れた液晶表示ディスプレイが得られ
た。
【0020】なお、本発明の液晶注入口部は、上記実施
例では、2箇所設けられていたが、一箇所、あるいは3
箇所以上でもよい。
【0021】また、本発明の液晶を導くための液晶シー
ル部材は、そのような液晶注入口部に液晶皿から液晶を
導くことに適した物であれば、その形状、材料などは任
意である。(端面を先に切断しないと、注入口3は封止
できない為)
【0022】
【発明の効果】以上述べたところから明らかなように、
本発明によれば、ラビング処理しない液晶表示パネルの
生産において、流動配向ムラのない、表示品位の優れた
液晶表示パネルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による液晶表示パネルの製造
方法における液晶シール部材等のパターンの平面図
【図2】本発明の一実施例による液晶表示パネルの製造
方法における液晶注入状態を示す図
【符号の説明】
1 上下基板重なり状態 2 液晶シール部材 3 注入口部 4 液晶シール部材 5 注入用基板端部 6 上基板切断ライン 7 液晶表示パネル 8 面状加熱体 9 液晶材料 10 液晶皿 11 水ジャケット 12 冷却水

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも一方がラビング処理されてい
    ない塗布膜を上下2枚の基板の透明電極上に形成し、液
    晶注入口部を設けた状態で液晶シール部材を形成し、前
    記液晶注入口部から液晶を注入する液晶表示パネルの製
    造方法において、液晶を前記液晶注入口部へ導くための
    別の液晶シール部材をその液晶注入口部が存在する場所
    から基板端部まで形成し、液晶注入時に少なくとも有効
    表示部のパネル面温度をネマティック−アイソトロピッ
    ク相転移温度以上に加熱し、前記液晶を注入した後に、
    前記基板の前記液晶注入口部側の端部を所定位置で切断
    するとともに前記注入口部を封止することを特徴とする
    液晶表示パネルの製造方法。
JP28850493A 1993-11-17 1993-11-17 液晶表示パネルの製造方法 Pending JPH07140474A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001249344A (ja) * 1999-12-28 2001-09-14 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
US6611314B1 (en) 1999-11-17 2003-08-26 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Apparatus and method for injecting liquid crystal material
US8648995B2 (en) 1999-12-28 2014-02-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
KR101496753B1 (ko) * 2008-06-25 2015-03-02 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 이의 제조방법

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