JPH07138434A - スチレン系樹脂組成物 - Google Patents
スチレン系樹脂組成物Info
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- JPH07138434A JPH07138434A JP5311296A JP31129693A JPH07138434A JP H07138434 A JPH07138434 A JP H07138434A JP 5311296 A JP5311296 A JP 5311296A JP 31129693 A JP31129693 A JP 31129693A JP H07138434 A JPH07138434 A JP H07138434A
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Abstract
電防止剤:0.5〜5.0重量部、ヒンダードフェノー
ル系酸化防止剤または/および燐系加工安定剤:0.0
5〜0.5重量部、ヒンダードアミン系光安定剤または
/およびベンゾトリアゾール系光安定剤:0.05〜
0.5重量部を含有するスチレン系樹脂組成物。 【効果】 光による着色を防止すると同時に、アミン系
帯電防止剤の性能も維持することができる。成形体は、
照明器具等に好適に利用される。
Description
共に良好なスチレン系樹脂組成物に関する。
学特性、良好な加工特性などから、照明器具、看板、装
飾品等に広く用いられている。しかし、スチレン系樹脂
は電気絶縁性が大きいため、静電気の蓄積により帯電し
やすい。この帯電現象はスチレン系樹脂の外観を低下さ
せるばかりでなく、作業工程での障害となる。このた
め、従来よりスチレン系樹脂の帯電防止方法が広く検討
されている。
エチレンやポリプロピレンに比較して高いため、界面活
性剤のブリード性が乏しく、帯電防止効果の強いアニオ
ン性帯電防止剤やアミン系の非イオン性帯電防止剤が使
用されている。しかし、これら帯電防止剤をスチレン系
樹脂に添加すると、太陽光や蛍光灯に長期にわたって曝
された場合に着色し、かつ、帯電防止剤の性能が消失し
てしまうという問題がある。
剤が上市されている。例えば、ヒドロキシベンゾフェノ
ン類、ベンドリアゾール類、ベンゾエート類、ニッケル
化合物あるいはピペリジン系化合物類等であり、これら
の化合物は必要に応じ単独ないし併用して使用される。
光による劣化機構は、樹脂の種類および配合される副資
材との組み合わせにより異なり、帯電防止剤に添加樹脂
の着色防止は解決困難な技術課題である。
加したスチレン系樹脂の耐光処方については、本発明者
等が特開平5−70644号公報で開示したが、アミン
系の帯電防止剤を添加したスチレン系樹脂では太陽光や
蛍光灯に長期にわたって曝されると着色するという問題
が解決できていないのが現状である。
電防止剤を添加したスチレン系樹脂が太陽光や蛍光灯に
長期にわたって曝されると着色するという問題を解決す
ることを目的とする。
ヒンダードフェノール系酸化防止剤または/および燐系
加工安定剤と(D)成分のヒンダードアミン系光安定剤
または/およびベンゾトリアゾール系光安定剤とを併用
して配合することにより、帯電防止能を維持して着色と
いう問題を解決できることを見いだし本発明を完成する
に至った。
以下の(A)〜(D)成分からなることを特徴とする。
剤または/および燐系加工安定剤:0.05〜0.5重
量部。 (D) ヒンダードアミン系光安定剤または/およびベ
ンゾトリアゾール系光安定剤:0.05〜0.5重量
部。
しては、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、ス
チレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタ
ジエン−スチレン共重合体、メチルメタアクリレート−
スチレン共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合
体等が挙げられる。本発明には、これらのスチレン系樹
脂同士または他の樹脂類とのブレンド物も包含され、さ
らにはこれらを発泡させて得られる発泡ポリスチレン等
も包含される。
は、アニオン性、カチオン性、両性の帯電防止剤が用い
られる。
アルキル基の炭素数が10〜20のモノアルキルアンモ
ニウム塩、ジアルキルアンモニウム塩およびそれらのエ
チレンオキシド1〜50モル付加物等があり、例えばア
ルキルトリメチルアンモニウムクロライド、ジアルキル
ジメチルアンモニウムクロライド、ポリオキシエチレン
アルキルメチルアンモニウムクロライド等が挙げられ
る。
アルキル基の炭素数10〜20のアルキルアミン、アル
キルジアミン、アルキルアミドおよびそれらのエチレン
オキシド1〜50モル付加物等があり、例えばアルキル
ジエタノールアミン、アルキルジエタノールアミド、N
−ヒドメキシエチル−N−(2−ヒドロキシ−2−アル
キル)アミン等が挙げられる。
ゾリニウムベタイン型両性界面活性剤、アラニン型両性
界面活剤、アルキルベタイン型両性界面活剤等が挙げら
れる。
であるいは2種以上を組み合わせて、(A)成分のスチ
レン系樹脂100重量部に対して0.5〜5.0重量部
配合される。
ル系酸化防止剤および燐系加工安定剤から選ばれる少な
くとも1種のものが用いられる。(C)成分のヒンダー
ドフェノール系酸化防止剤としては、例えば以下のもの
が挙げられる。
−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネート]、ペンタエリスリチル−テトラキス
[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオーネ]、オクタデシル−3−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオー
ネ。
下のものが挙げられる。トリス(2,4−ジ−t−ブチ
ルフェニル)フォスファイト、トリス(ノニルフェニ
ル)フォスファイト。
光安定剤およびベンゾトリアゾール系光安定剤から選ば
れる少なくとも1種の化合物が用いられる。
としては、以下のものが例示できる。 2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジ
ル)−2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,
6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、
チレンジアミン・2,4−ビス[N−ブチル−N−
(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジ
ル)アミノ]−6−クロロ−1,3,5−トリアジン縮
合物、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペ
リジル)セバゲート。
剤としては、例えば以下のものを挙げることができる。 2−(3−t−ブチル−5−メチル−ヒドロキシフェニ
ル)−5−クロロベンゾトリアゾール、
ロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2
−(2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチルフェニル)
ベンゾトリアゾール。
ール系酸化防止剤または/および燐系加工安定剤と
(D)成分のヒンダードアミン系光安定剤または/およ
びベンゾトリアゾール系光安定剤とを併用して配合する
ことが重要であり、いずれかを単独で配合した場合は着
色性の改善が不十分で、また、十分な帯電防止性能の維
持を図れない。
レン系樹脂100重量部に対して0.05〜0.5重量
部添加される。それぞれの添加量が0.05重量部未満
では着色性の改善は不十分でかつ十分な帯電防止性能の
維持が図れず、0.5重量部を超えて添加してもこれら
効果の向上は認められない。
活性剤、金属石鹸、可塑剤、顔料、充填剤、発泡剤、難
燃剤、滑剤、加工助剤等を配合することができる。
と樹脂をブレンドした後、混合溶融することにより得ら
れる。また、添加剤を高濃度に樹脂に練り込んだマスタ
ーバッチを作成し、成形時に希釈することも可能であ
る。
形、押出成形、中空成形、圧空成形、フィルム成形、プ
レス成形等の各種成形に供し、さらには必要に応じて二
次加工を加えて成形体製品を得る。これらの成形体は、
照明器具等に好適に利用される。
は/および燐系加工安定剤とヒンダードアミン系光安定
剤または/およびベンゾトリアゾール系光安定剤を併用
して、アミン系帯電防止剤と共にスチレン系樹脂に添加
することにより、光による着色を防止すると同時に、ア
ミン系帯電防止剤の性能も維持することができる。
の(B),(C)および(D)成分を添加してヘンシェ
ルミキサーでブレンドした後、20mm径異方性二軸押
出機((株)マクロス)を用い180℃でペレット化し
た。得られたペレットを射出成形機(日精樹脂(株)T
S−150)を用い200℃で80mm×80mm×2
mmの試験片を作製した。この試験片をカーボンアーク
ウエザオメーター(東洋精機;EQUATOR O M
ETER FOM−B)中で曝露試験し着色性を測定す
るとともに、曝露試験前後の帯電防止性を測定した。性
能は以下のようにして評価、結果を表3〜表4に示し
た。
性能、着色性ともに効果が優れていることがわかる。
測定装置ハイレスタHT−210(三菱油化(株))を
用いて表面抵抗を測定した。表面固有抵抗が1×1012
Ω以下であれば十分な帯電防止性能を示す。
前後の試験片の着色を、スガ試験機カラーコンピュータ
(SM−3−CH)を用いて黄色度(YI値)を測定し
た。YI値で20以下であれば、黄変は認められない。
りである。 (A)成分:スチレン系樹脂 GP−PS:一般用ポリスチレン(住友化学:スミブラ
イトM140) HI−PS:耐衝撃ポリスチレン(住友化学:スミブラ
イトM540) HI/GP:上記HI−PSとGP−PSとの30/7
0(重量比)の混合物 ABS:アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重
合体(旭化成;スタイラック100)
合物 B−2:下記化1で、R=C16:C18=57:43の混
合物
防止剤 C−1:トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t
−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
ピオネート](チバガイギー:イルガノックス245)
ォスファイト(チバガイギー:イルガフォス168)
シベンジル)2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)(チバガ
イギー:チヌビン144)
剤 D−2:2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒド
ロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール(チ
バガイギー:チヌビン326)
Claims (1)
- 【請求項1】 (A) スチレン系樹脂:100重量部 (B) アミン系帯電防止剤:0.5〜5.0重量部 (C) ヒンダードフェノール系酸化防止剤または/お
よび燐系加工安定剤:0.05〜0.5重量部 (D) ヒンダードアミン系光安定剤または/およびベ
ンゾトリアゾール系光安定剤:0.05〜0.5重量部 を含有することを特徴とするスチレン系樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5311296A JPH07138434A (ja) | 1993-11-16 | 1993-11-16 | スチレン系樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5311296A JPH07138434A (ja) | 1993-11-16 | 1993-11-16 | スチレン系樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07138434A true JPH07138434A (ja) | 1995-05-30 |
Family
ID=18015429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5311296A Pending JPH07138434A (ja) | 1993-11-16 | 1993-11-16 | スチレン系樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07138434A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0985818A (ja) * | 1995-09-25 | 1997-03-31 | Mitsubishi Chem Corp | スチレン系樹脂成形品及びその製造方法 |
KR20020044387A (ko) * | 2000-12-06 | 2002-06-15 | 안복현 | 열안정성 및 광안정성이 우수한 열가소성 수지 조성물 |
EP0957514A4 (en) * | 1996-03-29 | 2006-10-04 | Tokyo Electron Ltd | INSTRUMENT USED IN A WHITE ROOM AND MOUNTING EQUIPMENT |
WO2014010137A1 (ja) * | 2012-07-13 | 2014-01-16 | 東洋スチレン株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物、成形品および導光板 |
-
1993
- 1993-11-16 JP JP5311296A patent/JPH07138434A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0985818A (ja) * | 1995-09-25 | 1997-03-31 | Mitsubishi Chem Corp | スチレン系樹脂成形品及びその製造方法 |
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WO2014010137A1 (ja) * | 2012-07-13 | 2014-01-16 | 東洋スチレン株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物、成形品および導光板 |
JPWO2014010137A1 (ja) * | 2012-07-13 | 2016-06-20 | 東洋スチレン株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物、成形品および導光板 |
JP2017141459A (ja) * | 2012-07-13 | 2017-08-17 | 東洋スチレン株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物、成形品および導光板 |
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