JPH07122983A - ダブルゲ−ト型半導体装置の制御装置 - Google Patents
ダブルゲ−ト型半導体装置の制御装置Info
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- JPH07122983A JPH07122983A JP5269355A JP26935593A JPH07122983A JP H07122983 A JPH07122983 A JP H07122983A JP 5269355 A JP5269355 A JP 5269355A JP 26935593 A JP26935593 A JP 26935593A JP H07122983 A JPH07122983 A JP H07122983A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】電圧印加モ−ドが互いに逆の一対のゲ−ト電極
を1つの入力信号により確実に制御でき、かつ異常状態
の保護機能を有する制御装置を得る。 【構成】サイリスタ状態とトランジスタ状態の移行を制
御可能な第2のゲ−ト電極G1 と、トランジスタ状態か
らオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極G2
とを持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆な
ダブルゲ−ト型半導体装置15を制御対象として、G1,
G2 を1つの入力信号に基づいて制御するものであっ
て、入力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電極に
供給するディレイ回路31を有する第1のゲ−ト電極制
御手段21と、入力信号を反転して第2のゲ−ト電極に
印加する反転用インバ−タ22.1を有する第2のゲ−
ト電極制御手段22とを備える。
を1つの入力信号により確実に制御でき、かつ異常状態
の保護機能を有する制御装置を得る。 【構成】サイリスタ状態とトランジスタ状態の移行を制
御可能な第2のゲ−ト電極G1 と、トランジスタ状態か
らオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極G2
とを持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆な
ダブルゲ−ト型半導体装置15を制御対象として、G1,
G2 を1つの入力信号に基づいて制御するものであっ
て、入力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電極に
供給するディレイ回路31を有する第1のゲ−ト電極制
御手段21と、入力信号を反転して第2のゲ−ト電極に
印加する反転用インバ−タ22.1を有する第2のゲ−
ト電極制御手段22とを備える。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、サイリスタ動作とI
GBTとしてのトランジスタ動作の選択が可能な2つの
ゲ−ト電圧を備えたダブルゲ−ト型半導体装置の制御装
置、ことに、第1のゲ−ト電極を低電位,第2のゲ−ト
電極を高電位としたときオフ状態となってコレクタ電極
からエミッタ電極に流れる通過電流を阻止し,第1のゲ
−ト電極を高電位,第2のゲ−ト電極を低電位としたと
きサイリスタ動作となって前記通過電流を通流し,第1
のゲ−ト電極および第2のゲ−ト電極をともに高電位と
したときトランジスタ動作となってオフ動作の待機状態
となるダブルゲ−ト型半導体装置を制御対象とする制御
装置の構成に関する。
GBTとしてのトランジスタ動作の選択が可能な2つの
ゲ−ト電圧を備えたダブルゲ−ト型半導体装置の制御装
置、ことに、第1のゲ−ト電極を低電位,第2のゲ−ト
電極を高電位としたときオフ状態となってコレクタ電極
からエミッタ電極に流れる通過電流を阻止し,第1のゲ
−ト電極を高電位,第2のゲ−ト電極を低電位としたと
きサイリスタ動作となって前記通過電流を通流し,第1
のゲ−ト電極および第2のゲ−ト電極をともに高電位と
したときトランジスタ動作となってオフ動作の待機状態
となるダブルゲ−ト型半導体装置を制御対象とする制御
装置の構成に関する。
【0002】
【従来の技術】図17はこの発明の制御対象とするダブ
ルゲ−ト型半導体装置の構成図であり、この発明と同一
出願人等によって既に提案されたものである(平成4年
特許願第200048号)。図において、ダブルゲ−ト
型半導体装置15は、コレクタ電極1が裏面に設置され
たp+ 型半導体基板をコレクタ層2として、このコレク
タ層2上にn- 型のベ−ス層3がエピタキシャル成長に
より形成されている。そして、このn- 型のベ−ス層3
の表面にp型のウェル状のベ−ス層4が拡散形成されて
いる。さらに、このp型のベ−ス層4の内側の表面には
3つの独立したn + 型のウェル状の第1のエミッタ層5
a,第2のエミッタ層5b,およびドレイン層6がそれ
ぞれ形成されている。これらのうち、n+ 型のエミッタ
層5a,5bはエミッタ電極7a,7bを介して相互に
接続されており、また、p型のベ−ス層4およびn+ 型
のドレイン層6にはこれらに跨がる短絡用電極8が接続
されている。そして、n+ 型のエミッタ層(第1のエミ
ッタ層)5aからp型のヘ−ス層4およびn- 型のベ−
ス層3の表面に渡って、ゲ−ト酸化膜9を介して第1の
MOSFET12を構成する多結晶シリコンの第1のゲ
−ト電極10が設置されおり、一方、、n+ 型のドレイ
ン層6からp型のヘ−ス層4およびn+ 型のエミッタ層
(第2のエミッタ層)5bの表面に渡って、ゲ−ト酸化
膜9を介して第2のMOSFET13を構成する多結晶
シリコンの第2のゲ−ト電極11が設置されている。な
お、第1のゲ−ト電極10により構成される第1のMO
SFET12および第2のゲ−ト電極11により構成さ
れる第2のMOSFET13は、ともにnチャンネル型
のMOSFETである。
ルゲ−ト型半導体装置の構成図であり、この発明と同一
出願人等によって既に提案されたものである(平成4年
特許願第200048号)。図において、ダブルゲ−ト
型半導体装置15は、コレクタ電極1が裏面に設置され
たp+ 型半導体基板をコレクタ層2として、このコレク
タ層2上にn- 型のベ−ス層3がエピタキシャル成長に
より形成されている。そして、このn- 型のベ−ス層3
の表面にp型のウェル状のベ−ス層4が拡散形成されて
いる。さらに、このp型のベ−ス層4の内側の表面には
3つの独立したn + 型のウェル状の第1のエミッタ層5
a,第2のエミッタ層5b,およびドレイン層6がそれ
ぞれ形成されている。これらのうち、n+ 型のエミッタ
層5a,5bはエミッタ電極7a,7bを介して相互に
接続されており、また、p型のベ−ス層4およびn+ 型
のドレイン層6にはこれらに跨がる短絡用電極8が接続
されている。そして、n+ 型のエミッタ層(第1のエミ
ッタ層)5aからp型のヘ−ス層4およびn- 型のベ−
ス層3の表面に渡って、ゲ−ト酸化膜9を介して第1の
MOSFET12を構成する多結晶シリコンの第1のゲ
−ト電極10が設置されおり、一方、、n+ 型のドレイ
ン層6からp型のヘ−ス層4およびn+ 型のエミッタ層
(第2のエミッタ層)5bの表面に渡って、ゲ−ト酸化
膜9を介して第2のMOSFET13を構成する多結晶
シリコンの第2のゲ−ト電極11が設置されている。な
お、第1のゲ−ト電極10により構成される第1のMO
SFET12および第2のゲ−ト電極11により構成さ
れる第2のMOSFET13は、ともにnチャンネル型
のMOSFETである。
【0003】図18は図17に示すダブルゲ−ト型半導
体装置の等価回路図であり、n+ 型の第1のエミッタ層
5a,p型のヘ−ス層4,およびn- 型のベ−ス層3に
よりnpn型のトランジスタQnpn1が構成され、またn
+ 型の第2のエミッタ層5b,p型のヘ−ス層4,およ
びn- 型のベ−ス層3によりnpn型のトランジスタQ
npn2が構成される。また、p型のヘ−ス層4,n- 型の
ベ−ス層3,およびp + 型のコレクタ層2によりpnp
型のトランジスタQpnp が構成されている。従って、エ
ミッタ層を別体とする並列接続のトランジスタQnpn1,
Qnpn2とQpnpによりサイリスタ構造が構成されてい
る。これらのトランジスタQnpn1,Qnpn2,およびQpn
p に対して第1のMOSFET12は、トランジスタQ
npn1のコレクタたるn- 型のベ−ス層3と第1のエミッ
タ層5aとをp型のヘ−ス層4を介して接続してn型の
ベ−ス層3へ電子を注入する機能を果たし、また、第2
のMOSFET13はドレイン層6と第2のエミッタ層
5bとを接続してベ−ス層4から正孔を引き抜く機能を
果たす。
体装置の等価回路図であり、n+ 型の第1のエミッタ層
5a,p型のヘ−ス層4,およびn- 型のベ−ス層3に
よりnpn型のトランジスタQnpn1が構成され、またn
+ 型の第2のエミッタ層5b,p型のヘ−ス層4,およ
びn- 型のベ−ス層3によりnpn型のトランジスタQ
npn2が構成される。また、p型のヘ−ス層4,n- 型の
ベ−ス層3,およびp + 型のコレクタ層2によりpnp
型のトランジスタQpnp が構成されている。従って、エ
ミッタ層を別体とする並列接続のトランジスタQnpn1,
Qnpn2とQpnpによりサイリスタ構造が構成されてい
る。これらのトランジスタQnpn1,Qnpn2,およびQpn
p に対して第1のMOSFET12は、トランジスタQ
npn1のコレクタたるn- 型のベ−ス層3と第1のエミッ
タ層5aとをp型のヘ−ス層4を介して接続してn型の
ベ−ス層3へ電子を注入する機能を果たし、また、第2
のMOSFET13はドレイン層6と第2のエミッタ層
5bとを接続してベ−ス層4から正孔を引き抜く機能を
果たす。
【0004】図19は図17に示すダブルゲ−ト型半導
体装置のオン,オフ制御方法を示すタイムチャ−トであ
り、第1のゲ−ト電極10を零電位(Lレベル)に第2
のゲ−ト電極11を高電位(Hレベル)に保持したとき
ダブルゲ−ト型半導体装置15はトランジスタQnpn1,
Qnpn2,Qpnp が全て非導通となるオフ状態となってコ
レクタ電極1からエミッタ電極7a,7b に流れる通過電
流Ic を阻止する。オフ状態にあるダブルゲ−ト型半導
体装置15をオンする場合の制御方法としては、先ず、
第1のゲ−ト電極10に高電位を印加するとトランジス
タQpnp のみが導通するトランジスタ状態となり、この
状態から第2のゲ−ト電極11に零電位を印加するとト
ランジスタQnpn1,Qnpn2,Qpnp が全て導通となるサ
イリスタ状態となって通過電流Ic を通流し、1V以下
という低いオン抵抗を示す。次いで、ダブルゲ−ト型半
導体装置15をオフするためには、先ず、サイリスタ状
態で第2のゲ−ト電極11に高電位を印加してトランジ
スタQnpn1,Qnpn2を非導通とするトランジスタ状態と
し、この状態で第1のゲ−ト電極10に低電位を印加し
てトランジスタQpnp を非導通とすることによってダブ
ルゲ−ト型半導体装置15はオフ状態に移行し、通過電
流Ic の通流が阻止される。
体装置のオン,オフ制御方法を示すタイムチャ−トであ
り、第1のゲ−ト電極10を零電位(Lレベル)に第2
のゲ−ト電極11を高電位(Hレベル)に保持したとき
ダブルゲ−ト型半導体装置15はトランジスタQnpn1,
Qnpn2,Qpnp が全て非導通となるオフ状態となってコ
レクタ電極1からエミッタ電極7a,7b に流れる通過電
流Ic を阻止する。オフ状態にあるダブルゲ−ト型半導
体装置15をオンする場合の制御方法としては、先ず、
第1のゲ−ト電極10に高電位を印加するとトランジス
タQpnp のみが導通するトランジスタ状態となり、この
状態から第2のゲ−ト電極11に零電位を印加するとト
ランジスタQnpn1,Qnpn2,Qpnp が全て導通となるサ
イリスタ状態となって通過電流Ic を通流し、1V以下
という低いオン抵抗を示す。次いで、ダブルゲ−ト型半
導体装置15をオフするためには、先ず、サイリスタ状
態で第2のゲ−ト電極11に高電位を印加してトランジ
スタQnpn1,Qnpn2を非導通とするトランジスタ状態と
し、この状態で第1のゲ−ト電極10に低電位を印加し
てトランジスタQpnp を非導通とすることによってダブ
ルゲ−ト型半導体装置15はオフ状態に移行し、通過電
流Ic の通流が阻止される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このように構成された
ダブルゲ−ト型半導体装置15のオフ制御は、トランジ
スタ状態を待機状態として行われる点は図示しない従来
のダブルゲ−ト型半導体装置と同様であるが、第1のゲ
−ト電極10はゲ−ト信号の立ち上がりをオン信号,立
ち下がりをオフ信号としてオン・オフ制御を行うのに対
して、第2のゲ−ト電極11はゲ−ト信号の立ち下がり
をトランジスタ状態からサイリスタ状態へのオン(移
行)信号,立ち上がりをサイリスタ状態からトランジス
タ状態へのオフ(移行)信号としてサイリスタ動作とト
ランジスタ動作の移行制御を行う必要があり、2つのゲ
−ト電極電位の電圧印加モ−ドが互いに逆になっている
点が従来のダブルゲ−ト型半導体装置のオンオフ制御方
法と異なっている。このため、ダブルゲ−ト型半導体装
置15を制御対象とする制御装置は、1つの入力ゲ−ト
信号(入力信号)から動作モ−ドが互いに逆の2種類の
制御信号を相互のタイミングを保持して作り出し、第1
のゲ−ト電極および第2のゲ−ト電極に供給できること
が求められる。ことに、2種類の制御信号を適切に制御
しないと、サイリスタ状態からトランジスタ状態に確実
に移行せず、オフ動作も不確実になるため、このダブル
ゲ−ト型半導体装置を例えばインバ−タにスイッチング
素子として使用した場合には、ア−ム短絡の発生原因と
なり、大きな事故にもつながる危険性がある。
ダブルゲ−ト型半導体装置15のオフ制御は、トランジ
スタ状態を待機状態として行われる点は図示しない従来
のダブルゲ−ト型半導体装置と同様であるが、第1のゲ
−ト電極10はゲ−ト信号の立ち上がりをオン信号,立
ち下がりをオフ信号としてオン・オフ制御を行うのに対
して、第2のゲ−ト電極11はゲ−ト信号の立ち下がり
をトランジスタ状態からサイリスタ状態へのオン(移
行)信号,立ち上がりをサイリスタ状態からトランジス
タ状態へのオフ(移行)信号としてサイリスタ動作とト
ランジスタ動作の移行制御を行う必要があり、2つのゲ
−ト電極電位の電圧印加モ−ドが互いに逆になっている
点が従来のダブルゲ−ト型半導体装置のオンオフ制御方
法と異なっている。このため、ダブルゲ−ト型半導体装
置15を制御対象とする制御装置は、1つの入力ゲ−ト
信号(入力信号)から動作モ−ドが互いに逆の2種類の
制御信号を相互のタイミングを保持して作り出し、第1
のゲ−ト電極および第2のゲ−ト電極に供給できること
が求められる。ことに、2種類の制御信号を適切に制御
しないと、サイリスタ状態からトランジスタ状態に確実
に移行せず、オフ動作も不確実になるため、このダブル
ゲ−ト型半導体装置を例えばインバ−タにスイッチング
素子として使用した場合には、ア−ム短絡の発生原因と
なり、大きな事故にもつながる危険性がある。
【0006】また、ダブルゲ−ト型半導体装置において
は、トランジスタ状態を経由しないと通過電流のオフ制
御ができず、オンした直後にトラブルが発生したような
場合にも先ずトランジスタ状態に移行させる必要があ
り、即時遮断が困難なため、動作中のトラブルを早期に
検知して保護動作を行う機能が求められる。ことに、ダ
ブルゲ−ト型半導体装置15は第1のゲ−ト電極を低電
位(ゲ−トオンスレッシュレベルより低いLレベルの電
圧),第2のゲ−ト電極を高電位(ゲ−トオンスレッシ
ュレベルより高いHレベルの電圧)としたときオフ状
態、第1のゲ−ト電極を高電位,第2のゲ−ト電極を低
電位としたときサイリスタ状態、第1のゲ−ト電極およ
び第2のゲ−ト電極をともに高電位としたときトランジ
スタ動作となり、第1のゲ−ト電極および第2のゲ−ト
電極がともに低電位となることが許されず、第1のゲ−
ト電極および第2のゲ−ト電極がともに低電位の状態で
コレクタ−エミッタ間に動作電圧を印加した場合には破
壊してしまうという性質があり、このような異常状態を
早期に発見して保護動作を行うことが求められる。
は、トランジスタ状態を経由しないと通過電流のオフ制
御ができず、オンした直後にトラブルが発生したような
場合にも先ずトランジスタ状態に移行させる必要があ
り、即時遮断が困難なため、動作中のトラブルを早期に
検知して保護動作を行う機能が求められる。ことに、ダ
ブルゲ−ト型半導体装置15は第1のゲ−ト電極を低電
位(ゲ−トオンスレッシュレベルより低いLレベルの電
圧),第2のゲ−ト電極を高電位(ゲ−トオンスレッシ
ュレベルより高いHレベルの電圧)としたときオフ状
態、第1のゲ−ト電極を高電位,第2のゲ−ト電極を低
電位としたときサイリスタ状態、第1のゲ−ト電極およ
び第2のゲ−ト電極をともに高電位としたときトランジ
スタ動作となり、第1のゲ−ト電極および第2のゲ−ト
電極がともに低電位となることが許されず、第1のゲ−
ト電極および第2のゲ−ト電極がともに低電位の状態で
コレクタ−エミッタ間に動作電圧を印加した場合には破
壊してしまうという性質があり、このような異常状態を
早期に発見して保護動作を行うことが求められる。
【0007】この発明の目的は、電圧印加モ−ドが互い
に逆の一対のゲ−ト電極を1つの入力信号により確実に
制御でき、かつ異常状態の保護機能を有する制御装置を
得ることにある。
に逆の一対のゲ−ト電極を1つの入力信号により確実に
制御でき、かつ異常状態の保護機能を有する制御装置を
得ることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、この発明によれば、サイリスタ状態とトランジスタ
状態の移行を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジ
スタ状態からオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−
ト電極とを持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互い
に逆なダブルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前
記第1のゲ−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入
力信号に基づいて制御するものであって、前記入力信号
のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電極に供給する第1
のゲ−ト電極制御手段と、前記入力信号を反転して第2
のゲ−ト電極に印加する第2のゲ−ト電極制御手段とを
備えてなるものとする。
に、この発明によれば、サイリスタ状態とトランジスタ
状態の移行を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジ
スタ状態からオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−
ト電極とを持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互い
に逆なダブルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前
記第1のゲ−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入
力信号に基づいて制御するものであって、前記入力信号
のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電極に供給する第1
のゲ−ト電極制御手段と、前記入力信号を反転して第2
のゲ−ト電極に印加する第2のゲ−ト電極制御手段とを
備えてなるものとする。
【0009】第1のゲ−ト電極制御手段は予め定まる一
定の時間入力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電
極に印加するタイマ−遅延手段を備え、第2のゲ−ト電
極制御手段は入力信号の反転用インバ−タ,およびこれ
に直列接続された偶数個の波形整形用インバ−タを備え
てなるものとする。第1のゲ−ト電極制御手段はコレク
タ電極に印加される動作電圧を判定する動作判定回路部
と、この動作判定回路部の判定結果に基づきオフ信号を
第1のゲ−ト電極に印加するオフ信号印加回路部とを有
する動作判定遅延手段からなり、第2のゲ−ト電極制御
手段は入力信号の反転用インバ−タ,およびこれに直列
接続された偶数個の波形整形用インバ−タからなるもの
とする。
定の時間入力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電
極に印加するタイマ−遅延手段を備え、第2のゲ−ト電
極制御手段は入力信号の反転用インバ−タ,およびこれ
に直列接続された偶数個の波形整形用インバ−タを備え
てなるものとする。第1のゲ−ト電極制御手段はコレク
タ電極に印加される動作電圧を判定する動作判定回路部
と、この動作判定回路部の判定結果に基づきオフ信号を
第1のゲ−ト電極に印加するオフ信号印加回路部とを有
する動作判定遅延手段からなり、第2のゲ−ト電極制御
手段は入力信号の反転用インバ−タ,およびこれに直列
接続された偶数個の波形整形用インバ−タからなるもの
とする。
【0010】サイリスタ状態とトランジスタ状態の移行
を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジスタ状態か
らオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極とを
持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆なダブ
ルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前記第1のゲ
−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号に基
づいて制御するものであって、予め定まる一定の時間入
力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電極に印加す
るタイマ−遅延手段を有する第1のゲ−ト電極制御手段
と、入力信号の反転用インバ−タ,およびこれに直列接
続された偶数個の波形整形用インバ−タとからなる第2
のゲ−ト電極制御手段と、通過電流値の異常を判定可能
な通過電流判定回路部,および通過電流判定回路部の異
常判定結果に基づき第1のゲ−ト電極制御手段にオフ信
号を印加するオフ信号印加回路部からなる異常検出保護
手段とを備えてなるものとする。
を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジスタ状態か
らオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極とを
持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆なダブ
ルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前記第1のゲ
−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号に基
づいて制御するものであって、予め定まる一定の時間入
力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電極に印加す
るタイマ−遅延手段を有する第1のゲ−ト電極制御手段
と、入力信号の反転用インバ−タ,およびこれに直列接
続された偶数個の波形整形用インバ−タとからなる第2
のゲ−ト電極制御手段と、通過電流値の異常を判定可能
な通過電流判定回路部,および通過電流判定回路部の異
常判定結果に基づき第1のゲ−ト電極制御手段にオフ信
号を印加するオフ信号印加回路部からなる異常検出保護
手段とを備えてなるものとする。
【0011】サイリスタ状態とトランジスタ状態の移行
を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジスタ状態か
らオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極とを
持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆なダブ
ルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前記第1のゲ
−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号に基
づいて制御するものであって、前記入力信号のオフ信号
を遅延して第1のゲ−ト電極に供給する第1のゲ−ト電
極制御手段と、前記入力信号を遅延するとともに通過電
流値の異常判定結果に基づきその電位を反転して第2の
ゲ−ト電極に印加する第2のゲ−ト電極制御手段とを備
えてなるものとする。
を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジスタ状態か
らオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極とを
持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆なダブ
ルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前記第1のゲ
−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号に基
づいて制御するものであって、前記入力信号のオフ信号
を遅延して第1のゲ−ト電極に供給する第1のゲ−ト電
極制御手段と、前記入力信号を遅延するとともに通過電
流値の異常判定結果に基づきその電位を反転して第2の
ゲ−ト電極に印加する第2のゲ−ト電極制御手段とを備
えてなるものとする。
【0012】第2のゲ−ト電極制御手段は、通過電流値
の異常を判定可能な電流判定回路部と、この電流判定回
路部の判定結果に基づいて遅延したオン信号を出力する
とともに遅延したオン信号を反転して第2のゲ−ト電極
に印加する反転オン信号印加回路部と、前記電流判定回
路部の異常判定結果に基づき第1のゲ−ト電極にオフ信
号を印加するオフ信号印加回路部とからなるものとす
る。
の異常を判定可能な電流判定回路部と、この電流判定回
路部の判定結果に基づいて遅延したオン信号を出力する
とともに遅延したオン信号を反転して第2のゲ−ト電極
に印加する反転オン信号印加回路部と、前記電流判定回
路部の異常判定結果に基づき第1のゲ−ト電極にオフ信
号を印加するオフ信号印加回路部とからなるものとす
る。
【0013】ダブルゲ−ト型半導体装置がセンス端子を
有するセンス付きダブルゲ−ト型半導体装置であり、通
過電流値の異常を判定可能な電流判定回路部が前記セン
ス端子に接続されてなるものとする。第2のゲ−ト電極
制御手段の電流判定回路部がダブルゲ−ト型半導体装置
のコレクタ電極に印加される動作電圧の異常を判定可能
な電圧判定回路部であるものとする。
有するセンス付きダブルゲ−ト型半導体装置であり、通
過電流値の異常を判定可能な電流判定回路部が前記セン
ス端子に接続されてなるものとする。第2のゲ−ト電極
制御手段の電流判定回路部がダブルゲ−ト型半導体装置
のコレクタ電極に印加される動作電圧の異常を判定可能
な電圧判定回路部であるものとする。
【0014】第2のゲ−ト電極制御手段が、通過電流値
の異常を判定可能な通過電流判定回路部、この通過電流
判定回路部の異常判定結果に基づいて遅延したオン信号
を反転用インバ−タを介して第2のゲ−ト電極に印加す
るオン信号印加回路部、および通過電流判定回路部の異
常判定結果に基づいて第1のゲ−ト電極制御手段にオフ
信号を印加するオフ信号印加回路部からなる異常検出手
段を備えてなるものとする。
の異常を判定可能な通過電流判定回路部、この通過電流
判定回路部の異常判定結果に基づいて遅延したオン信号
を反転用インバ−タを介して第2のゲ−ト電極に印加す
るオン信号印加回路部、および通過電流判定回路部の異
常判定結果に基づいて第1のゲ−ト電極制御手段にオフ
信号を印加するオフ信号印加回路部からなる異常検出手
段を備えてなるものとする。
【0015】サイリスタ状態とトランジスタ状態の移行
を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジスタ状態か
らオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極とを
持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆なダブ
ルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前記第1のゲ
−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号に基
づいて制御するものであって、予め定まる一定の時間入
力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電極に印加す
るタイマ−遅延手段を有する第1のゲ−ト電極制御手段
と、予め定まる一定の時間入力信号のオン信号を遅延す
るタイマ−遅延手段および遅延したオン信号をオフ信号
に変換して第2のゲ−ト電極に供給する反転用インバ−
タを有する第2のゲ−ト電極制御手段と、ダブルゲ−ト
型半導体装置のコレクタ電極に印加される動作電圧の立
ち上がりを検知して一定時間動作するタイマ−回路部、
このタイマ−回路部の動作期間中第1のゲ−ト電極電位
および第2のゲ−ト電極電位を監視して両電極電位がと
もに低電位であるとき低電位の報知信号を発する異常報
知回路部、およびこの報知信号に基づき第1のゲ−ト電
極制御手段および第2のゲ−ト電極制御手段にオフ信号
を印加するオフ信号印加回路部とからなる異常検出保護
手段とを備えてなるものとする。
を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジスタ状態か
らオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極とを
持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆なダブ
ルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前記第1のゲ
−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号に基
づいて制御するものであって、予め定まる一定の時間入
力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電極に印加す
るタイマ−遅延手段を有する第1のゲ−ト電極制御手段
と、予め定まる一定の時間入力信号のオン信号を遅延す
るタイマ−遅延手段および遅延したオン信号をオフ信号
に変換して第2のゲ−ト電極に供給する反転用インバ−
タを有する第2のゲ−ト電極制御手段と、ダブルゲ−ト
型半導体装置のコレクタ電極に印加される動作電圧の立
ち上がりを検知して一定時間動作するタイマ−回路部、
このタイマ−回路部の動作期間中第1のゲ−ト電極電位
および第2のゲ−ト電極電位を監視して両電極電位がと
もに低電位であるとき低電位の報知信号を発する異常報
知回路部、およびこの報知信号に基づき第1のゲ−ト電
極制御手段および第2のゲ−ト電極制御手段にオフ信号
を印加するオフ信号印加回路部とからなる異常検出保護
手段とを備えてなるものとする。
【0016】
【作用】入力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電
極に供給する第1のゲ−ト電極制御手段と、前記入力信
号を反転して第2のゲ−ト電極に印加する第2のゲ−ト
電極制御手段とで制御装置を構成したことにより、入力
信号の無い時点では第1のゲ−ト電極制御手段によって
第1のゲ−ト電極は低電位,第2のゲ−ト電極制御手段
によって第2のゲ−ト電極は高電位のオフ状態とする機
能が得られ、また、入力信号の立ち上がり時点では第1
のゲ−ト電極が高電位に,第2のゲ−ト電極が低電位に
変化してサイリスタ状態に移行させる機能が得られ、入
力信号の立ち下がり時点では第1のゲ−ト電極制御手段
の遅延作用によって第1のゲ−ト電極電位が引き続き高
電位に保持されるとともに第2のゲ−ト電極電位が高電
位に変化してトランジスタ状態に移行する機能が得ら
れ、第1のゲ−ト電極制御手段の遅延作用の終期で第1
のゲ−ト電極電位が低電位に変化することによって通過
電流を遮断する機能が得られることになり、一対のゲ−
ト電極の電圧印加モ−ドが逆なダブルゲ−ト型半導体装
置を1つの入力信号によって制御することが可能になる
ので、このダブルゲ−ト型半導体装置を用いる例えばス
イッチング電源装置などの外部機器は、従来のシングル
ゲ−ト型半導体装置を用いた場合と同様に1つの制御信
号を用意すれば足りることになる。
極に供給する第1のゲ−ト電極制御手段と、前記入力信
号を反転して第2のゲ−ト電極に印加する第2のゲ−ト
電極制御手段とで制御装置を構成したことにより、入力
信号の無い時点では第1のゲ−ト電極制御手段によって
第1のゲ−ト電極は低電位,第2のゲ−ト電極制御手段
によって第2のゲ−ト電極は高電位のオフ状態とする機
能が得られ、また、入力信号の立ち上がり時点では第1
のゲ−ト電極が高電位に,第2のゲ−ト電極が低電位に
変化してサイリスタ状態に移行させる機能が得られ、入
力信号の立ち下がり時点では第1のゲ−ト電極制御手段
の遅延作用によって第1のゲ−ト電極電位が引き続き高
電位に保持されるとともに第2のゲ−ト電極電位が高電
位に変化してトランジスタ状態に移行する機能が得ら
れ、第1のゲ−ト電極制御手段の遅延作用の終期で第1
のゲ−ト電極電位が低電位に変化することによって通過
電流を遮断する機能が得られることになり、一対のゲ−
ト電極の電圧印加モ−ドが逆なダブルゲ−ト型半導体装
置を1つの入力信号によって制御することが可能になる
ので、このダブルゲ−ト型半導体装置を用いる例えばス
イッチング電源装置などの外部機器は、従来のシングル
ゲ−ト型半導体装置を用いた場合と同様に1つの制御信
号を用意すれば足りることになる。
【0017】また、第1のゲ−ト電極制御手段に入力信
号の立ち下がり(オフ信号)を所定時間遅延するタイマ
−遅延手段を用いた場合には、その遅延時間に相当する
期間トランジスタ状態を保持してオフ動作を確実にする
機能が得られ、第2のゲ−ト電極制御手段を入力信号の
反転用インバ−タと、これに直列接続された偶数個の波
形整形用インバ−タで構成することにより、入力信号を
反転かつ整形してサイリスタ状態,トランジスタ状態の
移行を確実にするとともに、動作モ−ドが互いに逆な一
対のゲ−ト電極に対応したゲ−ト電圧を1つの入力信号
から作りだす機能が得られる。さらに、第1のゲ−ト電
極制御手段を動作判定遅延手段で構成すれば、コレクタ
電極に印加される動作電圧の変化によりサイリスタ状態
からトランジスタ状態への移行を確認して、オフ信号を
第1のゲ−ト電極に印加できるので、ダブルゲ−ト型半
導体装置をトランジスタ状態からオフ状態に確実に制御
することができる。
号の立ち下がり(オフ信号)を所定時間遅延するタイマ
−遅延手段を用いた場合には、その遅延時間に相当する
期間トランジスタ状態を保持してオフ動作を確実にする
機能が得られ、第2のゲ−ト電極制御手段を入力信号の
反転用インバ−タと、これに直列接続された偶数個の波
形整形用インバ−タで構成することにより、入力信号を
反転かつ整形してサイリスタ状態,トランジスタ状態の
移行を確実にするとともに、動作モ−ドが互いに逆な一
対のゲ−ト電極に対応したゲ−ト電圧を1つの入力信号
から作りだす機能が得られる。さらに、第1のゲ−ト電
極制御手段を動作判定遅延手段で構成すれば、コレクタ
電極に印加される動作電圧の変化によりサイリスタ状態
からトランジスタ状態への移行を確認して、オフ信号を
第1のゲ−ト電極に印加できるので、ダブルゲ−ト型半
導体装置をトランジスタ状態からオフ状態に確実に制御
することができる。
【0018】さらに、上述の制御装置に通過電流判定回
路部およびオフ信号印加回路部からなる異常検出保護手
段を設けるよう構成すれば、ダブルゲ−ト型半導体装置
の動作中に過電流が流れると、これを通過電流判定回路
部が検出し、オフ信号印加回路部を介して第1のゲ−ト
電極および第2のゲ−ト電極にオフ信号が印加され、ダ
ブルゲ−ト型半導体装置をオフ状態に導くので、異常状
態を回避して半導体装置の損傷を阻止する機能が得られ
る。
路部およびオフ信号印加回路部からなる異常検出保護手
段を設けるよう構成すれば、ダブルゲ−ト型半導体装置
の動作中に過電流が流れると、これを通過電流判定回路
部が検出し、オフ信号印加回路部を介して第1のゲ−ト
電極および第2のゲ−ト電極にオフ信号が印加され、ダ
ブルゲ−ト型半導体装置をオフ状態に導くので、異常状
態を回避して半導体装置の損傷を阻止する機能が得られ
る。
【0019】一方、入力信号のオフ信号を遅延して第1
のゲ−ト電極に供給する第1のゲ−ト電極制御手段と、
前記入力信号を遅延するとともにその電位を反転して第
2のゲ−ト電極に印加する第2のゲ−ト電極制御手段と
で制御装置を構成すれば、第2のゲ−ト電極電位の立ち
下がりが遅延し、この遅延期間中に第1のゲ−ト電極電
位が立ち上がってダブルゲ−ト型半導体装置はオフ状態
からトランジスタ状態に移行し、さらに遅延時間が過ぎ
た時点で第2のゲ−ト電極電位が立ち下がってダブルゲ
−ト型半導体装置をサイリスタ状態に移行させることが
可能になるなど、トランジスタ状態を起点にしてダブル
ゲ−ト型半導体装置のオン・オフ制御を確実かつ自在に
選択して行う機能が得られる。
のゲ−ト電極に供給する第1のゲ−ト電極制御手段と、
前記入力信号を遅延するとともにその電位を反転して第
2のゲ−ト電極に印加する第2のゲ−ト電極制御手段と
で制御装置を構成すれば、第2のゲ−ト電極電位の立ち
下がりが遅延し、この遅延期間中に第1のゲ−ト電極電
位が立ち上がってダブルゲ−ト型半導体装置はオフ状態
からトランジスタ状態に移行し、さらに遅延時間が過ぎ
た時点で第2のゲ−ト電極電位が立ち下がってダブルゲ
−ト型半導体装置をサイリスタ状態に移行させることが
可能になるなど、トランジスタ状態を起点にしてダブル
ゲ−ト型半導体装置のオン・オフ制御を確実かつ自在に
選択して行う機能が得られる。
【0020】また、第2のゲ−ト電極制御手段に通過電
流値の異常を判定可能な電流判定回路部、および異常判
定結果に基づき第1のゲ−ト電極にオフ信号を印加する
オフ信号印加回路部を設けるよう構成すれば、電流判定
回路部でトランジスタ状態における過電流を検出し、オ
フ信号印加回路部から第1のゲ−ト電極にオフ信号を印
加してダブルゲ−ト型半導体装置を直ちにオフ状態にで
きるので、過電流による半導体装置の損傷を未然に防止
する機能が得られる。
流値の異常を判定可能な電流判定回路部、および異常判
定結果に基づき第1のゲ−ト電極にオフ信号を印加する
オフ信号印加回路部を設けるよう構成すれば、電流判定
回路部でトランジスタ状態における過電流を検出し、オ
フ信号印加回路部から第1のゲ−ト電極にオフ信号を印
加してダブルゲ−ト型半導体装置を直ちにオフ状態にで
きるので、過電流による半導体装置の損傷を未然に防止
する機能が得られる。
【0021】さらに、 ダブルゲ−ト型半導体装置がセ
ンス端子を有するセンス付きダブルゲ−ト型半導体装置
である場合、通過電流値の異常を判定可能な電流判定回
路部をセンス端子に接続することにより、電流判定回路
部の検出抵抗に流れる電流を低減し,検出を容易化する
機能が得られる。さらにまた、電流判定回路部をダブル
ゲ−ト型半導体装置のコレクタ電極に印加される動作電
圧の異常を判定可能な電圧判定回路部に置き換えても同
様な機能が得られる。また、第2のゲ−ト電極制御手段
に、通過電流値の異常を判定可能な通過電流判定回路
部、この通過電流判定回路部の異常判定結果に基づいて
遅延したオン信号を反転用インバ−タを介して第2のゲ
−ト電極に印加するオン信号印加回路部、および通過電
流判定回路部の異常判定結果に基づき第1のゲ−ト電極
制御手段にオフ信号を印加するオフ信号印加回路部から
なる異常検出手段を付加するよう構成すれば、トランジ
スタ状態,サイリスタ状態のいずれで異常が発生して
も、直ちにオン信号印加回路部から第2のゲ−ト電極に
オン信号が印加されてダブルゲ−ト型半導体装置がトラ
ンジスタ状態となり、安全にオフ動作を行う保護機能が
得られる。
ンス端子を有するセンス付きダブルゲ−ト型半導体装置
である場合、通過電流値の異常を判定可能な電流判定回
路部をセンス端子に接続することにより、電流判定回路
部の検出抵抗に流れる電流を低減し,検出を容易化する
機能が得られる。さらにまた、電流判定回路部をダブル
ゲ−ト型半導体装置のコレクタ電極に印加される動作電
圧の異常を判定可能な電圧判定回路部に置き換えても同
様な機能が得られる。また、第2のゲ−ト電極制御手段
に、通過電流値の異常を判定可能な通過電流判定回路
部、この通過電流判定回路部の異常判定結果に基づいて
遅延したオン信号を反転用インバ−タを介して第2のゲ
−ト電極に印加するオン信号印加回路部、および通過電
流判定回路部の異常判定結果に基づき第1のゲ−ト電極
制御手段にオフ信号を印加するオフ信号印加回路部から
なる異常検出手段を付加するよう構成すれば、トランジ
スタ状態,サイリスタ状態のいずれで異常が発生して
も、直ちにオン信号印加回路部から第2のゲ−ト電極に
オン信号が印加されてダブルゲ−ト型半導体装置がトラ
ンジスタ状態となり、安全にオフ動作を行う保護機能が
得られる。
【0022】次に、タイマ−遅延手段を有する第1のゲ
−ト電極制御手段と、タイマ−遅延手段および反転用イ
ンバ−タを有する第2のゲ−ト電極制御手段とを有する
制御装置に、動作電圧の立ち上がりを検知して一定時間
動作するタイマ−回路部、このタイマ−回路部の動作期
間中第1のゲ−ト電極電位および第2のゲ−ト電極電位
を監視して両電極電位がともに低電位であるとき低電位
の報知信号を発する異常報知回路部、およびこの報知信
号に基づき第1のゲ−ト電極制御手段および第2のゲ−
ト電極制御手段にオフ信号を印加するオフ信号印加回路
部からなる異常検出保護手段を付加するよう構成すれ
ば、タイマ−回路部が一定時間動作してコレクタへの動
作電圧の印加を一時停止する期間中に、異常報知回路部
が第1のゲ−ト電極電位および第2のゲ−ト電極電位を
監視し、両電極電位がともに低電位であるとき低電位の
報知信号を発し、この低電位の報知信号によってオフ信
号印加回路部が動作して第1のゲ−ト電極制御手段およ
び第2のゲ−ト電極制御手段にオフ信号を印加し、ダブ
ルゲ−ト型半導体装置をオフ状態に保持する。従って、
報知信号を受けた外部機器がコレクタ電極への動作電圧
の供給を停止するよう構成しておけば、第1,第2のゲ
−ト電極が共に低電位となった状態でコレクタ−エミッ
タ間に動作電圧が印加されることを回避でき、ダブルゲ
−ト型半導体装置に生ずるラッチアップ,およびこれに
起因する破壊事故を回避する機能が得られる。
−ト電極制御手段と、タイマ−遅延手段および反転用イ
ンバ−タを有する第2のゲ−ト電極制御手段とを有する
制御装置に、動作電圧の立ち上がりを検知して一定時間
動作するタイマ−回路部、このタイマ−回路部の動作期
間中第1のゲ−ト電極電位および第2のゲ−ト電極電位
を監視して両電極電位がともに低電位であるとき低電位
の報知信号を発する異常報知回路部、およびこの報知信
号に基づき第1のゲ−ト電極制御手段および第2のゲ−
ト電極制御手段にオフ信号を印加するオフ信号印加回路
部からなる異常検出保護手段を付加するよう構成すれ
ば、タイマ−回路部が一定時間動作してコレクタへの動
作電圧の印加を一時停止する期間中に、異常報知回路部
が第1のゲ−ト電極電位および第2のゲ−ト電極電位を
監視し、両電極電位がともに低電位であるとき低電位の
報知信号を発し、この低電位の報知信号によってオフ信
号印加回路部が動作して第1のゲ−ト電極制御手段およ
び第2のゲ−ト電極制御手段にオフ信号を印加し、ダブ
ルゲ−ト型半導体装置をオフ状態に保持する。従って、
報知信号を受けた外部機器がコレクタ電極への動作電圧
の供給を停止するよう構成しておけば、第1,第2のゲ
−ト電極が共に低電位となった状態でコレクタ−エミッ
タ間に動作電圧が印加されることを回避でき、ダブルゲ
−ト型半導体装置に生ずるラッチアップ,およびこれに
起因する破壊事故を回避する機能が得られる。
【0023】
【実施例】以下、この発明を実施例に基づいて説明す
る。図1はこの発明の第1の実施例になるダブルゲ−ト
型半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図であ
り、以下従来技術と同じ構成部分には同一参照符号を付
すことにより、重複した説明を省略する。ダブルゲ−ト
型半導体装置15を制御対象とする制御装置20は、第
1のゲ−トG1 を制御する第1のゲ−ト電極制御手段2
1と、第2のゲ−トG2を制御する第2のゲ−ト電極制
御手段22とで構成される。第1のゲ−ト電極制御手段
21は入力信号Iの入力端子P1 側に配された一対の波
形整形用インバ−タ26,27と、ゲ−トG1 側に配さ
れたNORゲ−ト28,インバ−タ29の直列体との直
列回路からなるオン経路24と、インバ−タ26とNO
Rゲ−ト28との間に接続されたインバ−タ30および
ディレイ回路31(抵抗32,コンデンサ33)とから
なるオフディレイ経路25とで構成される。また、第2
のゲ−ト電極制御手段22は、入力端子P1 と第2のゲ
−トG2 との間に接続された極性反転用インバ−タ2
2.1と、その両側に直列接続された2対の波形整形用
インバ−タ23.1,23.2、および23.3,2
3.4で構成される。
る。図1はこの発明の第1の実施例になるダブルゲ−ト
型半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図であ
り、以下従来技術と同じ構成部分には同一参照符号を付
すことにより、重複した説明を省略する。ダブルゲ−ト
型半導体装置15を制御対象とする制御装置20は、第
1のゲ−トG1 を制御する第1のゲ−ト電極制御手段2
1と、第2のゲ−トG2を制御する第2のゲ−ト電極制
御手段22とで構成される。第1のゲ−ト電極制御手段
21は入力信号Iの入力端子P1 側に配された一対の波
形整形用インバ−タ26,27と、ゲ−トG1 側に配さ
れたNORゲ−ト28,インバ−タ29の直列体との直
列回路からなるオン経路24と、インバ−タ26とNO
Rゲ−ト28との間に接続されたインバ−タ30および
ディレイ回路31(抵抗32,コンデンサ33)とから
なるオフディレイ経路25とで構成される。また、第2
のゲ−ト電極制御手段22は、入力端子P1 と第2のゲ
−トG2 との間に接続された極性反転用インバ−タ2
2.1と、その両側に直列接続された2対の波形整形用
インバ−タ23.1,23.2、および23.3,2
3.4で構成される。
【0024】図2は図1に示す実施例制御装置の動作を
示すタイムチャ−トであり、入力信号Iが入力されない
ダブルゲ−ト型半導体装置15の停止状態では、第1の
ゲ−ト電極は低電位(Lレベル)に,第2のゲ−ト電極
は高電位(Hレベル)に保持される。入力信号Iが立ち
上がる(オン信号)t1 時点では、オン経路24で波形
整形されたHレベルのオン信号が第1のゲ−ト電極に印
加されてダブルゲ−ト型半導体装置15は瞬時トランジ
スタ状態となり、次いで第2のゲ−ト電極制御手段22
で反転してLレベルに変化したオン信号が第2のゲ−ト
電極に印加され、ダブルゲ−ト型半導体装置15はサイ
リスタ状態に移行し、コレクタ−エミッタ間電圧VCEが
1V以下のVCE1 に低下し,通過電流IC を低損失で通
流する。入力信号Iが立ち下がる(オフ信号)t2 時点
では、オフディレイ経路で遅延したHレベルの信号によ
って第1のゲ−ト電極は引き続きHレベルに保持され、
第2のゲ−ト電極の電位は入力信号Iの立ち下がりをオ
フ信号としてHレベルに変化するので、ダブルゲ−ト型
半導体装置15はトランジスタ状態に移行し、この際オ
ン抵抗の増加によってVCEはVCE2 に上昇してオフ動作
の待機状態となる。次いで、ディレイ回路31のディレ
イ時間が経過するt3 時点では、第1のゲ−ト電極にL
レベルのオフ信号が印加されて通過電流IC は遮断さ
れ、ダブルゲ−ト型半導体装置15はオフ状態に移行す
る。
示すタイムチャ−トであり、入力信号Iが入力されない
ダブルゲ−ト型半導体装置15の停止状態では、第1の
ゲ−ト電極は低電位(Lレベル)に,第2のゲ−ト電極
は高電位(Hレベル)に保持される。入力信号Iが立ち
上がる(オン信号)t1 時点では、オン経路24で波形
整形されたHレベルのオン信号が第1のゲ−ト電極に印
加されてダブルゲ−ト型半導体装置15は瞬時トランジ
スタ状態となり、次いで第2のゲ−ト電極制御手段22
で反転してLレベルに変化したオン信号が第2のゲ−ト
電極に印加され、ダブルゲ−ト型半導体装置15はサイ
リスタ状態に移行し、コレクタ−エミッタ間電圧VCEが
1V以下のVCE1 に低下し,通過電流IC を低損失で通
流する。入力信号Iが立ち下がる(オフ信号)t2 時点
では、オフディレイ経路で遅延したHレベルの信号によ
って第1のゲ−ト電極は引き続きHレベルに保持され、
第2のゲ−ト電極の電位は入力信号Iの立ち下がりをオ
フ信号としてHレベルに変化するので、ダブルゲ−ト型
半導体装置15はトランジスタ状態に移行し、この際オ
ン抵抗の増加によってVCEはVCE2 に上昇してオフ動作
の待機状態となる。次いで、ディレイ回路31のディレ
イ時間が経過するt3 時点では、第1のゲ−ト電極にL
レベルのオフ信号が印加されて通過電流IC は遮断さ
れ、ダブルゲ−ト型半導体装置15はオフ状態に移行す
る。
【0025】上述の第1の実施例制御装置によれば、互
いに電圧印加モ−ドが逆な第1のゲ−ト電極および第2
のゲ−ト電極を、1つの入力信号Iにより制御できの
で、入力信号Iの発生源である外部機器の構成を簡素化
できる利点が得られる。また、第1のゲ−ト電極制御手
段に設けたディレイ回路によって第1のゲ−ト電極に印
加するオフ信号を遅延させ、遅延時間に相当する期間ダ
ブルゲ−ト型半導体装置をトランジスタ状態にできるの
で、このトランジスタ状態を利用してオフ動作を確実に
行うことが可能となり、誤操作に基づくダブルゲ−ト型
半導体装置の損傷を回避できる利点が得られる。
いに電圧印加モ−ドが逆な第1のゲ−ト電極および第2
のゲ−ト電極を、1つの入力信号Iにより制御できの
で、入力信号Iの発生源である外部機器の構成を簡素化
できる利点が得られる。また、第1のゲ−ト電極制御手
段に設けたディレイ回路によって第1のゲ−ト電極に印
加するオフ信号を遅延させ、遅延時間に相当する期間ダ
ブルゲ−ト型半導体装置をトランジスタ状態にできるの
で、このトランジスタ状態を利用してオフ動作を確実に
行うことが可能となり、誤操作に基づくダブルゲ−ト型
半導体装置の損傷を回避できる利点が得られる。
【0026】図3はこの発明の第2の実施例になるダブ
ルゲ−ト型半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続
図であり、第1のゲ−ト電極制御手段21Aのオフディ
レイ経路25Aが、コンパレ−タ42およびその非反転
側に接続された基準電源43とからなるトランジスタ状
態の判定回路41を含むように構成された点が第1の実
施例と異なっている。従って、基準電源電圧をトランジ
スタ状態におけるコレクタ−エミッタ間電圧VCE2 より
低い値に設定しておくと、サイリスタ状態からトランジ
スタ状態に移行したことをコンパレ−タ42がVCE1 か
らVCE2 への電圧上昇によって検知し、NORゲ−ト2
8の一方の入力がLレベルに変化する。このとき、オン
経路24の波形整形用インバ−タ26,27からNOR
ゲ−トに印加される信号は入力信号Iの立ち下がり時点
で既にLレベルに変わっているのでNORゲ−トの入力
が一致し、第1のゲ−ト電極G1 にオフ信号が印加され
てダブルゲ−ト型半導体装置15をトランジスタ状態を
経由してオフ状態に移行させることができる。
ルゲ−ト型半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続
図であり、第1のゲ−ト電極制御手段21Aのオフディ
レイ経路25Aが、コンパレ−タ42およびその非反転
側に接続された基準電源43とからなるトランジスタ状
態の判定回路41を含むように構成された点が第1の実
施例と異なっている。従って、基準電源電圧をトランジ
スタ状態におけるコレクタ−エミッタ間電圧VCE2 より
低い値に設定しておくと、サイリスタ状態からトランジ
スタ状態に移行したことをコンパレ−タ42がVCE1 か
らVCE2 への電圧上昇によって検知し、NORゲ−ト2
8の一方の入力がLレベルに変化する。このとき、オン
経路24の波形整形用インバ−タ26,27からNOR
ゲ−トに印加される信号は入力信号Iの立ち下がり時点
で既にLレベルに変わっているのでNORゲ−トの入力
が一致し、第1のゲ−ト電極G1 にオフ信号が印加され
てダブルゲ−ト型半導体装置15をトランジスタ状態を
経由してオフ状態に移行させることができる。
【0027】このように、第2の実施例制御装置におい
ては、比較回路41によってサイリスタ状態からトラン
ジスタ状態への移行を確認してからオフ信号を第1のゲ
−ト電極に供給してダブルゲ−ト型半導体装置をオフ動
作させるので、誤制御によるダブルゲ−ト型半導体装置
の損傷を確実に防止できる利点が得られる。図4はこの
発明の第3の実施例になるダブルゲ−ト型半導体装置の
制御装置を簡略化して示す接続図であり、タイマ−遅延
手段31を有する第1のゲ−ト電極制御手段21と、入
力信号の極性反転用インバ−タ22.1を有する第2の
ゲ−ト電極制御手段とを備えた制御装置60が、通過電
流IC の異常を判定可能な通過電流判定回路部62、お
よび通過電流判定回路部の異常判定結果に基づき第1の
ゲ−ト電極制御手段21にオフ信号を印加するオフ信号
印加回路部63からなる異常検出保護手段61を備えた
点が前述の各実施例と異なっている。通過電流判定回路
部62はIC 検出用の抵抗64(抵抗値RS)と、その
電位降下を基準電源65の電圧と比較するコンパレ−タ
66とで構成される。また、オフ信号印加回路部63は
入力端子P1 からコンパレ−タ66の出力側に向かう方
向を順方向として接続されたダイオ−ドで構成される。
ては、比較回路41によってサイリスタ状態からトラン
ジスタ状態への移行を確認してからオフ信号を第1のゲ
−ト電極に供給してダブルゲ−ト型半導体装置をオフ動
作させるので、誤制御によるダブルゲ−ト型半導体装置
の損傷を確実に防止できる利点が得られる。図4はこの
発明の第3の実施例になるダブルゲ−ト型半導体装置の
制御装置を簡略化して示す接続図であり、タイマ−遅延
手段31を有する第1のゲ−ト電極制御手段21と、入
力信号の極性反転用インバ−タ22.1を有する第2の
ゲ−ト電極制御手段とを備えた制御装置60が、通過電
流IC の異常を判定可能な通過電流判定回路部62、お
よび通過電流判定回路部の異常判定結果に基づき第1の
ゲ−ト電極制御手段21にオフ信号を印加するオフ信号
印加回路部63からなる異常検出保護手段61を備えた
点が前述の各実施例と異なっている。通過電流判定回路
部62はIC 検出用の抵抗64(抵抗値RS)と、その
電位降下を基準電源65の電圧と比較するコンパレ−タ
66とで構成される。また、オフ信号印加回路部63は
入力端子P1 からコンパレ−タ66の出力側に向かう方
向を順方向として接続されたダイオ−ドで構成される。
【0028】図5は実施例3における制御装置の保護動
作を示すタイムチャ−トであり、第1のゲ−ト電極制御
手段21および第2のゲ−ト電極制御手段22によって
ダブルゲ−ト型半導体装置15がt21時点でサイリスタ
状態となって定常運転中、t22時点で例えば負荷短絡,
ア−ム短絡などが原因で過大な通過電流ICTが発生する
と、通過電流判定回路部62のコンパレ−タ66の出力
が反転してLレベルに変化する。この変化はオフ信号印
加回路部63によって検知されて入力端子P1の電位が
Lレベルに変化する。その結果、第2のゲ−ト電極制御
手段22を介して第2のゲ−ト電極電位がt23時点にH
レベルに変化してダブルゲ−ト型半導体装置15はトラ
ンジスタ状態に移行し、これよりタイマ−遅延手段31
の遅延時間に相当する時間遅れて第1のゲ−ト電極電位
がLレベルに変化し、t24時点でダブルゲ−ト型半導体
装置15をオフ状態とすることができる。
作を示すタイムチャ−トであり、第1のゲ−ト電極制御
手段21および第2のゲ−ト電極制御手段22によって
ダブルゲ−ト型半導体装置15がt21時点でサイリスタ
状態となって定常運転中、t22時点で例えば負荷短絡,
ア−ム短絡などが原因で過大な通過電流ICTが発生する
と、通過電流判定回路部62のコンパレ−タ66の出力
が反転してLレベルに変化する。この変化はオフ信号印
加回路部63によって検知されて入力端子P1の電位が
Lレベルに変化する。その結果、第2のゲ−ト電極制御
手段22を介して第2のゲ−ト電極電位がt23時点にH
レベルに変化してダブルゲ−ト型半導体装置15はトラ
ンジスタ状態に移行し、これよりタイマ−遅延手段31
の遅延時間に相当する時間遅れて第1のゲ−ト電極電位
がLレベルに変化し、t24時点でダブルゲ−ト型半導体
装置15をオフ状態とすることができる。
【0029】上述のように構成された第3の実施例で
は、制御装置に異常検出保護手段61を付加したことに
より、過大な通過電流の遮断をトランジスタ状態を確実
に経過し、かつ入力信号の持続時間より短い時間内に行
うことができるので、過大な通流電流の通流期間を短縮
してダブルゲ−ト型半導体装置の損傷を軽減できる利点
が得られる。
は、制御装置に異常検出保護手段61を付加したことに
より、過大な通過電流の遮断をトランジスタ状態を確実
に経過し、かつ入力信号の持続時間より短い時間内に行
うことができるので、過大な通流電流の通流期間を短縮
してダブルゲ−ト型半導体装置の損傷を軽減できる利点
が得られる。
【0030】図6はこの発明の第4の実施例になるダブ
ルゲ−ト型半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続
図であり、制御装置50は第1の実施例におけると同様
に構成された第1のゲ−ト電極制御手段21と、入力信
号を遅延するとともに通過電流値の異常判定結果に基づ
き入力信号を反転して第2のゲ−ト電極に印加する第2
のゲ−ト電極制御手段51とで構成される。即ち、第2
のゲ−ト電極制御手段51は一対の波形整形用インバ−
タ23.1および23.2と、抵抗47およびコンデン
サ48からなるディレイ回路46と、ANDゲ−ト49
および波形反転用インバ−タ22.1とで構成される反
転オン信号印加回路部52と、ダブルゲ−ト型半導体装
置15の通過電流IC の異常を判定可能な通過電流判定
回路部62,およびこの電流判定回路部62の判定結果
に基づいて遅延したオフ信号を反転オン信号印加回路部
52に向けて出力するオフ信号印加回路部63とからな
る異常検出保護手段53とで構成される。異常検出保護
手段53は第3の実施例におけると同様に構成された通
過電流判定回路部62と、第1のゲ−ト電極G1 側から
コンパレ−タ65の出力側に向かう方向を順方向として
接続されたダイオ−ドからなるオフ信号印加回路部63
とで構成され、コンパレ−タ65の出力信号はANDゲ
−ト49に入力され、ディレイ回路46で遅延した入力
信号IとのAND条件がチェックされる。
ルゲ−ト型半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続
図であり、制御装置50は第1の実施例におけると同様
に構成された第1のゲ−ト電極制御手段21と、入力信
号を遅延するとともに通過電流値の異常判定結果に基づ
き入力信号を反転して第2のゲ−ト電極に印加する第2
のゲ−ト電極制御手段51とで構成される。即ち、第2
のゲ−ト電極制御手段51は一対の波形整形用インバ−
タ23.1および23.2と、抵抗47およびコンデン
サ48からなるディレイ回路46と、ANDゲ−ト49
および波形反転用インバ−タ22.1とで構成される反
転オン信号印加回路部52と、ダブルゲ−ト型半導体装
置15の通過電流IC の異常を判定可能な通過電流判定
回路部62,およびこの電流判定回路部62の判定結果
に基づいて遅延したオフ信号を反転オン信号印加回路部
52に向けて出力するオフ信号印加回路部63とからな
る異常検出保護手段53とで構成される。異常検出保護
手段53は第3の実施例におけると同様に構成された通
過電流判定回路部62と、第1のゲ−ト電極G1 側から
コンパレ−タ65の出力側に向かう方向を順方向として
接続されたダイオ−ドからなるオフ信号印加回路部63
とで構成され、コンパレ−タ65の出力信号はANDゲ
−ト49に入力され、ディレイ回路46で遅延した入力
信号IとのAND条件がチェックされる。
【0031】図7は第4の実施例制御装置の正常なスタ
−ト時の動作を示すタイムチャ−ト、図8は第4の実施
例制御装置の異常なスタ−ト時の動作を示すタイムチャ
−トである。図7において、t11時点で制御装置50の
入力信号がHレベルに変化すると、第1のゲ−ト電極に
は第1のゲ−ト電極制御手段21によってHレベルのオ
ン信号が印加される。一方、反転オン信号印加回路部5
2ではそのディレイ回路46により入力信号のHレベル
への変化に遅れが生ずるので、第2のゲ−ト電極電位は
オフ状態におけるHレベルに保持される。従って、ダブ
ルゲ−ト型半導体装置15はサイリスタ状態ではなくト
ランジスタ状態で導通状態となって導通電流IC が流
れ、コレクタ−エミッタ間電圧VCEがVCE2 に低下す
る。このとき、導通電流は検出抵抗64の降下電圧とし
て通流電流判定回路部62のコンパレ−タ65で基準電
圧と比較され、この導通電流IC が正常IC レベルより
小さい場合はコンパレ−タ65の出力は反転せずにHレ
ベルを保持し、ディレイ回路46でt12時点まで遅れて
ANDゲ−ト49の入力がHレベルに変化してAND条
件が成立すると、反転用インバ−タ22.1でLレベル
に変化した信号が第2のゲ−ト電極に印加されダブルゲ
−ト型半導体装置15はトランジスタ状態からサイリス
タ状態に移行する。
−ト時の動作を示すタイムチャ−ト、図8は第4の実施
例制御装置の異常なスタ−ト時の動作を示すタイムチャ
−トである。図7において、t11時点で制御装置50の
入力信号がHレベルに変化すると、第1のゲ−ト電極に
は第1のゲ−ト電極制御手段21によってHレベルのオ
ン信号が印加される。一方、反転オン信号印加回路部5
2ではそのディレイ回路46により入力信号のHレベル
への変化に遅れが生ずるので、第2のゲ−ト電極電位は
オフ状態におけるHレベルに保持される。従って、ダブ
ルゲ−ト型半導体装置15はサイリスタ状態ではなくト
ランジスタ状態で導通状態となって導通電流IC が流
れ、コレクタ−エミッタ間電圧VCEがVCE2 に低下す
る。このとき、導通電流は検出抵抗64の降下電圧とし
て通流電流判定回路部62のコンパレ−タ65で基準電
圧と比較され、この導通電流IC が正常IC レベルより
小さい場合はコンパレ−タ65の出力は反転せずにHレ
ベルを保持し、ディレイ回路46でt12時点まで遅れて
ANDゲ−ト49の入力がHレベルに変化してAND条
件が成立すると、反転用インバ−タ22.1でLレベル
に変化した信号が第2のゲ−ト電極に印加されダブルゲ
−ト型半導体装置15はトランジスタ状態からサイリス
タ状態に移行する。
【0032】また、トランジスタ状態に移行直後のt15
時点で過大な導電電流が発生した場合には、図8に示す
ように通流電流判定回路部62がこれを検知してコンパ
レ−タ65の出力が反転する。従って、反転オン信号印
加回路部52のANDゲ−ト49で信号の出力が阻止さ
れ、第2のゲ−ト電極電位はHレベルに維持されるとと
もに、オン信号印加回路部63がコンパレ−タ65の出
力の反転を検知して第1のゲ−ト電極にLレベルのオフ
信号を印加するので、ダブルゲ−ト型半導体装置15は
オフ動作によって過大な導電電流IC をt16時点で即時
遮断し、過大な導電電流IC が流れることによってダブ
ルゲ−ト型半導体装置に生ずる損傷の拡大を防止するこ
とができる。
時点で過大な導電電流が発生した場合には、図8に示す
ように通流電流判定回路部62がこれを検知してコンパ
レ−タ65の出力が反転する。従って、反転オン信号印
加回路部52のANDゲ−ト49で信号の出力が阻止さ
れ、第2のゲ−ト電極電位はHレベルに維持されるとと
もに、オン信号印加回路部63がコンパレ−タ65の出
力の反転を検知して第1のゲ−ト電極にLレベルのオフ
信号を印加するので、ダブルゲ−ト型半導体装置15は
オフ動作によって過大な導電電流IC をt16時点で即時
遮断し、過大な導電電流IC が流れることによってダブ
ルゲ−ト型半導体装置に生ずる損傷の拡大を防止するこ
とができる。
【0033】図9はこの発明の第4の実施例になるダブ
ルゲ−ト型半導体装置の制御装置の変形例を簡略化して
示す接続図であり、センス端子E1 が用意されたセンス
付きダブルゲ−ト型半導体装置16を制御対象とし、制
御装置50の異常検出保護手段53の検出抵抗64をセ
ンス端子E1 に接続して過大な通過電流の発生を監視す
るよう構成されており、センス端子に流れる電流が小さ
いことを利用して検出抵抗64の電流容量および検出抵
抗64で発生する電力損失を低減できる利点が得られ
る。
ルゲ−ト型半導体装置の制御装置の変形例を簡略化して
示す接続図であり、センス端子E1 が用意されたセンス
付きダブルゲ−ト型半導体装置16を制御対象とし、制
御装置50の異常検出保護手段53の検出抵抗64をセ
ンス端子E1 に接続して過大な通過電流の発生を監視す
るよう構成されており、センス端子に流れる電流が小さ
いことを利用して検出抵抗64の電流容量および検出抵
抗64で発生する電力損失を低減できる利点が得られ
る。
【0034】図10はこの発明の第4の実施例になるダ
ブルゲ−ト型半導体装置の制御装置の異なる変形例を簡
略化して示す接続図であり、通流電流判定回路部62の
コンパレ−タ65の反転入力側をダブルゲ−ト型半導体
装置15のコレクタ端子に接続するよう構成された点が
前述の各実施例と異なっており、過大な通流電流が流れ
ることによって生ずるコレクタ−エミッタ間電圧VCE2
の上昇(図8参照)をコンパレ−タ65で基準電圧と照
合するよう構成しても、異常電流をトランジスタ状態を
経由し短時間で遮断する機能が得られる。ことに、負荷
短絡やア−ム間短絡などの場合、VCE2 は動作電圧VCE
近くにまで上昇するので、過電流を精度よく検出できる
とともに、検出抵抗64を必要とせず、その電力損失を
排除できる利点も得られる。図11はこの発明の第5の
実施例になるダブルゲ−ト型半導体装置の制御装置を示
す接続図であり、センス端子E1 が用意されたセンス付
きダブルゲ−ト型半導体装置16を被制御体とした場合
を例に示してある。図において、制御装置70は第1の
実施例におけると同様に構成された第1のゲ−ト電極制
御手段21と、入力信号を遅延するとともに通過電流値
の異常判定結果に基づきその極性を反転して第2のゲ−
ト電極に印加する第2のゲ−ト電極制御手段71とで構
成される。即ち、第2のゲ−ト電極制御手段71は一対
の波形整形用インバ−タ23.1および23.2と、抵
抗47およびコンデンサ48からなるディレイ回路45
と、インバ−タ76,77,およびNORゲ−ト78で
構成されるANDゲ−ト75、および波形反転用インバ
−タ22.1とで構成される反転オン信号印加回路部7
2と、ダブルゲ−ト型半導体装置16の通過電流IC の
異常を判定可能な通過電流判定回路部62,この電流判
定回路部62の過電流の判定結果に基づいてLレベルの
オフ信号を入力端子P1 に向けて出力するオフ信号印加
回路部63,およびLレベルのオフ信号を反転オン信号
印加回路部72のインバ−タ77に向けて出力するオフ
信号印加回路部74からなる異常検出保護手段73とで
構成され、ディレイ回路31および45の遅延時間はT
31>T45なる条件を満たすよう設定される。
ブルゲ−ト型半導体装置の制御装置の異なる変形例を簡
略化して示す接続図であり、通流電流判定回路部62の
コンパレ−タ65の反転入力側をダブルゲ−ト型半導体
装置15のコレクタ端子に接続するよう構成された点が
前述の各実施例と異なっており、過大な通流電流が流れ
ることによって生ずるコレクタ−エミッタ間電圧VCE2
の上昇(図8参照)をコンパレ−タ65で基準電圧と照
合するよう構成しても、異常電流をトランジスタ状態を
経由し短時間で遮断する機能が得られる。ことに、負荷
短絡やア−ム間短絡などの場合、VCE2 は動作電圧VCE
近くにまで上昇するので、過電流を精度よく検出できる
とともに、検出抵抗64を必要とせず、その電力損失を
排除できる利点も得られる。図11はこの発明の第5の
実施例になるダブルゲ−ト型半導体装置の制御装置を示
す接続図であり、センス端子E1 が用意されたセンス付
きダブルゲ−ト型半導体装置16を被制御体とした場合
を例に示してある。図において、制御装置70は第1の
実施例におけると同様に構成された第1のゲ−ト電極制
御手段21と、入力信号を遅延するとともに通過電流値
の異常判定結果に基づきその極性を反転して第2のゲ−
ト電極に印加する第2のゲ−ト電極制御手段71とで構
成される。即ち、第2のゲ−ト電極制御手段71は一対
の波形整形用インバ−タ23.1および23.2と、抵
抗47およびコンデンサ48からなるディレイ回路45
と、インバ−タ76,77,およびNORゲ−ト78で
構成されるANDゲ−ト75、および波形反転用インバ
−タ22.1とで構成される反転オン信号印加回路部7
2と、ダブルゲ−ト型半導体装置16の通過電流IC の
異常を判定可能な通過電流判定回路部62,この電流判
定回路部62の過電流の判定結果に基づいてLレベルの
オフ信号を入力端子P1 に向けて出力するオフ信号印加
回路部63,およびLレベルのオフ信号を反転オン信号
印加回路部72のインバ−タ77に向けて出力するオフ
信号印加回路部74からなる異常検出保護手段73とで
構成され、ディレイ回路31および45の遅延時間はT
31>T45なる条件を満たすよう設定される。
【0035】図12は第5の実施例装置の正常運転中に
おけるゲ−ト電圧の変化を示すタイムチャ−トであり、
t30時点で入力信号I がHレベルに変化すると、第1の
ゲ−ト電極制御手段21のを介して第1のゲ−ト電極電
位がHレベルとなりダブルゲ−ト型半導体装置16はオ
フ状態からトランジスタ状態に移行する。ついで、反転
オン信号印加回路部72のオンディレイ回路45の遅延
時間T45遅れたt31時点でHレベルとなった信号がAN
Dゲ−ト75を通過し,反転用インバ−タでLレベルの
信号に変換されて第2のゲ−ト電極に印加され、ダブル
ゲ−ト型半導体装置16はサイリスタ状態に移行する。
一方、t32時点に入力信号がLレベルに変化すると、T
45遅れたt33時点で第2のゲ−ト電極電位がLレベルと
なりってダブルゲ−ト型半導体装置16はトランジスタ
状態に移行し、t32時点からT31遅れたt34時点で第1
のゲ−ト電極電位がLレベルに変化することにより、ダ
ブルゲ−ト型半導体装置16はオフ状態に移行する。従
って、ディレイ回路31および45の遅延時間をT31>
T45なる条件を満たすよう設定しておくことにより、ダ
ブルゲ−ト型半導体装置16をトランジスタ状態を経由
してオフ状態に移行させることができ、通過電流IC の
遮断を確実に行う機能が得られる。
おけるゲ−ト電圧の変化を示すタイムチャ−トであり、
t30時点で入力信号I がHレベルに変化すると、第1の
ゲ−ト電極制御手段21のを介して第1のゲ−ト電極電
位がHレベルとなりダブルゲ−ト型半導体装置16はオ
フ状態からトランジスタ状態に移行する。ついで、反転
オン信号印加回路部72のオンディレイ回路45の遅延
時間T45遅れたt31時点でHレベルとなった信号がAN
Dゲ−ト75を通過し,反転用インバ−タでLレベルの
信号に変換されて第2のゲ−ト電極に印加され、ダブル
ゲ−ト型半導体装置16はサイリスタ状態に移行する。
一方、t32時点に入力信号がLレベルに変化すると、T
45遅れたt33時点で第2のゲ−ト電極電位がLレベルと
なりってダブルゲ−ト型半導体装置16はトランジスタ
状態に移行し、t32時点からT31遅れたt34時点で第1
のゲ−ト電極電位がLレベルに変化することにより、ダ
ブルゲ−ト型半導体装置16はオフ状態に移行する。従
って、ディレイ回路31および45の遅延時間をT31>
T45なる条件を満たすよう設定しておくことにより、ダ
ブルゲ−ト型半導体装置16をトランジスタ状態を経由
してオフ状態に移行させることができ、通過電流IC の
遮断を確実に行う機能が得られる。
【0036】図13はトランジスタ状態で過電流が発生
した場合におけるゲ−ト電圧の変化を示すタイムチャ−
トであり、t30時点で入力信号IがHレベルに変化し、
ダブルゲ−ト型半導体装置16がオフ状態からトランジ
スタ状態に移行した時点t35で過電流が発生したと仮定
する。このとき、過電流は通過電流検出回路部62によ
って検出され、オフ信号印加回路部63,74によって
入力端子P1 およびインバ−タ77にLレベルのオフ信
号が印加される。インバ−タ77の入力がLレベルに変
化するとインバ−タ77,NORゲ−ト78,反転用イ
ンバ−タ22.1で3回反転してHレベルとなったゲ−
ト信号が第2のゲ−ト電極に印加されるとともに、T45
遅れてインバ−タ76に到達したLレベルの信号によっ
て第2のゲ−ト電極電位が引き続きHレベルに保持され
る。一方、オフ信号印加回路部63によって入力端子P
1 に印加されたLレベルのオフ信号は、第1のゲ−ト電
極制御手段21のオフディレイ経路25でT31時間遅れ
たt36時点に第1のゲ−ト電極に印加され、この時点で
ダブルゲ−ト型半導体装置16をトランジスタ状態から
オフ状態に移行させることができる。
した場合におけるゲ−ト電圧の変化を示すタイムチャ−
トであり、t30時点で入力信号IがHレベルに変化し、
ダブルゲ−ト型半導体装置16がオフ状態からトランジ
スタ状態に移行した時点t35で過電流が発生したと仮定
する。このとき、過電流は通過電流検出回路部62によ
って検出され、オフ信号印加回路部63,74によって
入力端子P1 およびインバ−タ77にLレベルのオフ信
号が印加される。インバ−タ77の入力がLレベルに変
化するとインバ−タ77,NORゲ−ト78,反転用イ
ンバ−タ22.1で3回反転してHレベルとなったゲ−
ト信号が第2のゲ−ト電極に印加されるとともに、T45
遅れてインバ−タ76に到達したLレベルの信号によっ
て第2のゲ−ト電極電位が引き続きHレベルに保持され
る。一方、オフ信号印加回路部63によって入力端子P
1 に印加されたLレベルのオフ信号は、第1のゲ−ト電
極制御手段21のオフディレイ経路25でT31時間遅れ
たt36時点に第1のゲ−ト電極に印加され、この時点で
ダブルゲ−ト型半導体装置16をトランジスタ状態から
オフ状態に移行させることができる。
【0037】図14はサイリスタ状態で過電流が発生し
た場合におけるゲ−ト電圧の変化を示すタイムチャ−ト
であり、t30時点で入力信号IがHレベルに変化してダ
ブルゲ−ト型半導体装置16がオフ状態からトランジス
タ状態に移行し、さらにt31時点でサイリスタ状態に移
行した後の時点t37で過電流が発生したと仮定する。こ
のとき、過電流は通過電流検出回路部62によって検出
され、オフ信号印加回路部63,74によって入力端子
P1 およびインバ−タ77にLレベルのオフ信号が印加
される。インバ−タ77の入力がLレベルに変化すると
インバ−タ77,NORゲ−ト78,反転用インバ−タ
22.1で3回反転してHレベルとなったゲ−ト信号が
第2のゲ−ト電極に印加され、ダブルゲ−ト型半導体装
置16はサイリスタ状態からトランジスタ状態に移行す
る。一方、オフ信号印加回路部63によって入力端子P
1 に印加されたLレベルのオフ信号は、第1のゲ−ト電
極制御手段21のオフディレイ経路25でT31時間遅れ
たt38時点で第1のゲ−ト電極に印加され、この時点で
ダブルゲ−ト型半導体装置16をトランジスタ状態から
オフ状態に移行させることができる。
た場合におけるゲ−ト電圧の変化を示すタイムチャ−ト
であり、t30時点で入力信号IがHレベルに変化してダ
ブルゲ−ト型半導体装置16がオフ状態からトランジス
タ状態に移行し、さらにt31時点でサイリスタ状態に移
行した後の時点t37で過電流が発生したと仮定する。こ
のとき、過電流は通過電流検出回路部62によって検出
され、オフ信号印加回路部63,74によって入力端子
P1 およびインバ−タ77にLレベルのオフ信号が印加
される。インバ−タ77の入力がLレベルに変化すると
インバ−タ77,NORゲ−ト78,反転用インバ−タ
22.1で3回反転してHレベルとなったゲ−ト信号が
第2のゲ−ト電極に印加され、ダブルゲ−ト型半導体装
置16はサイリスタ状態からトランジスタ状態に移行す
る。一方、オフ信号印加回路部63によって入力端子P
1 に印加されたLレベルのオフ信号は、第1のゲ−ト電
極制御手段21のオフディレイ経路25でT31時間遅れ
たt38時点で第1のゲ−ト電極に印加され、この時点で
ダブルゲ−ト型半導体装置16をトランジスタ状態から
オフ状態に移行させることができる。
【0038】このように構成された第5の実施例になる
制御装置においては、互いに動作モ−ドが逆の第1のゲ
−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号によ
って制御し、ダブルゲ−ト型半導体装置のオン・オフ制
御を行えるとともに、異常検出保護手段53によって過
電流を検出し、トランジスタ状態,サイリスタ状態のい
ずれで過電流が発生した場合においても、トランジスタ
状態を経由してダブルゲ−ト型半導体装置を安全にオフ
状態に移行させることができる。
制御装置においては、互いに動作モ−ドが逆の第1のゲ
−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号によ
って制御し、ダブルゲ−ト型半導体装置のオン・オフ制
御を行えるとともに、異常検出保護手段53によって過
電流を検出し、トランジスタ状態,サイリスタ状態のい
ずれで過電流が発生した場合においても、トランジスタ
状態を経由してダブルゲ−ト型半導体装置を安全にオフ
状態に移行させることができる。
【0039】図15はこの発明の第6の実施例になるダ
ブルゲ−ト型半導体装置の制御装置を簡略化して示す接
続図であり、ダブルゲ−ト型半導体装置15の動作電圧
VCCの印加開始時点,あるいは動作電圧の瞬時停止が回
復する際、第1,第2のゲ−ト電極電位が共にLレベル
となっていることにより、ダブルゲ−ト型半導体装置が
ラッチアップされる事態を回避するよう構成したもので
ある。図において、制御装置80はこの発明の第4の実
施例(図6)に示すと同様に第1のゲ−ト電極制御手段
21および第2のゲ−ト電極制御手段51の反転オン信
号印加回路部52を含み、かつ、ダブルゲ−ト型半導体
装置のコレクタ電極に印加される動作電圧の立ち上がり
を検知して一定時間動作する一定時間動作タイマ−回路
部91と、この一定時間動作タイマ−回路部91の動作
期間中第1のゲ−ト電極電位および第2のゲ−ト電極電
位を監視して両電極電位がともに低電位であるとき低電
位の報知信号を発する異常報知回路部81と、この報知
信号に基づき第1のゲ−ト電極制御手段および第2のゲ
−ト電極制御手段にオフ信号を印加するオフ信号印加回
路部63とが付加される。
ブルゲ−ト型半導体装置の制御装置を簡略化して示す接
続図であり、ダブルゲ−ト型半導体装置15の動作電圧
VCCの印加開始時点,あるいは動作電圧の瞬時停止が回
復する際、第1,第2のゲ−ト電極電位が共にLレベル
となっていることにより、ダブルゲ−ト型半導体装置が
ラッチアップされる事態を回避するよう構成したもので
ある。図において、制御装置80はこの発明の第4の実
施例(図6)に示すと同様に第1のゲ−ト電極制御手段
21および第2のゲ−ト電極制御手段51の反転オン信
号印加回路部52を含み、かつ、ダブルゲ−ト型半導体
装置のコレクタ電極に印加される動作電圧の立ち上がり
を検知して一定時間動作する一定時間動作タイマ−回路
部91と、この一定時間動作タイマ−回路部91の動作
期間中第1のゲ−ト電極電位および第2のゲ−ト電極電
位を監視して両電極電位がともに低電位であるとき低電
位の報知信号を発する異常報知回路部81と、この報知
信号に基づき第1のゲ−ト電極制御手段および第2のゲ
−ト電極制御手段にオフ信号を印加するオフ信号印加回
路部63とが付加される。
【0040】一定時間動作タイマ−回路部91は抵抗9
3,コンジンサ94により動作電圧VCCの立ち上がりを
一定時間遅延し、遅延した電圧を分圧抵抗91,92に
よって分圧してコンパレ−タ96の非反転入力に加えて
基準電源95の設定電圧と照合し、非反転入力が基準電
圧を越えたときHレベルのオン信号を出力するよう構成
される。また、異常報知回路部81は第1のゲ−ト電極
電位を反転入力側に受けて基準電源86の電圧と照合す
るコンパレ−タ85と、第2のゲ−ト電極電位を非反転
側に受けて基準電源88の電圧と照合するコンパレ−タ
87と、両コンパレ−タの出力側に設けたANDゲ−ト
89と、ANDゲ−ト89およびコンパレ−タ96の出
力側に設けたORゲ−ト84とで構成され、一定時間動
作タイマ−回路部91が動作期間中第1のゲ−ト電極電
位がL,第2のゲ−ト電極電位がHのダブルゲ−ト型半
導体装置のオフ状態でなかったとき、ORゲ−ト84が
Lレベルの報知信号を出力する。従って、この報知信号
を利用して外部機器を駆動し、ダブルゲ−ト型半導体装
置15に動作電圧VCCが加わらないようにすれば、第
1,第2のゲ−ト電極電位が共にLレベルとなっている
状態でコレクタ−エミッタ間に動作電圧が加わることに
よってダブルゲ−ト型半導体装置15に生ずるラッチア
ップを回避し、これが原因で生ずるダブルゲ−ト型半導
体装置の破壊を防止できる利点が得られる。また、この
報知信号をオフ信号印加回路部63が検知して第1のゲ
−ト電極制御手段21および反転オン信号印加回路部5
2に向けてオフ信号を出力し、誤って入力信号が印加さ
れてもゲ−ト制御回路21,52が動作しないよう構成
される。
3,コンジンサ94により動作電圧VCCの立ち上がりを
一定時間遅延し、遅延した電圧を分圧抵抗91,92に
よって分圧してコンパレ−タ96の非反転入力に加えて
基準電源95の設定電圧と照合し、非反転入力が基準電
圧を越えたときHレベルのオン信号を出力するよう構成
される。また、異常報知回路部81は第1のゲ−ト電極
電位を反転入力側に受けて基準電源86の電圧と照合す
るコンパレ−タ85と、第2のゲ−ト電極電位を非反転
側に受けて基準電源88の電圧と照合するコンパレ−タ
87と、両コンパレ−タの出力側に設けたANDゲ−ト
89と、ANDゲ−ト89およびコンパレ−タ96の出
力側に設けたORゲ−ト84とで構成され、一定時間動
作タイマ−回路部91が動作期間中第1のゲ−ト電極電
位がL,第2のゲ−ト電極電位がHのダブルゲ−ト型半
導体装置のオフ状態でなかったとき、ORゲ−ト84が
Lレベルの報知信号を出力する。従って、この報知信号
を利用して外部機器を駆動し、ダブルゲ−ト型半導体装
置15に動作電圧VCCが加わらないようにすれば、第
1,第2のゲ−ト電極電位が共にLレベルとなっている
状態でコレクタ−エミッタ間に動作電圧が加わることに
よってダブルゲ−ト型半導体装置15に生ずるラッチア
ップを回避し、これが原因で生ずるダブルゲ−ト型半導
体装置の破壊を防止できる利点が得られる。また、この
報知信号をオフ信号印加回路部63が検知して第1のゲ
−ト電極制御手段21および反転オン信号印加回路部5
2に向けてオフ信号を出力し、誤って入力信号が印加さ
れてもゲ−ト制御回路21,52が動作しないよう構成
される。
【0041】図16は第6の実施例制御装置の異常発生
時の動作を簡略化して示すタイムチャ−トであり、制御
装置80の入力端子P1 に入力信号Iが印加された状態
で、tc 時点に動作電圧VCCが立ち上がったと仮定す
る。このとき、一定時間動作タイマ−回路部91は一定
時間(Td )だけ遅延動作した後tb 時点で立ち上がる
信号をORゲ−ト84に向けて出力する。一方、異常報
知回路部81はt時間中に第1,第2のゲ−ト電極電位
がオフ状態に在るか否かを監視し、例えば共にLレベル
であるとき、ORゲ−ト84の出力側がLレベルとなっ
てLレベルの報知信号がTd 時間だけ出力される。ま
た、この報知信号をオフ信号印加回路部63が検知して
第1のゲ−ト電極制御手段21および反転オン信号印加
回路部52に向けてオフ信号を出力し、回路の動作をL
レベルの報知信号が終了するtb 時点まで停止させる。
従って、報知信号を利用してtb 時点までにダブルゲ−
ト型半導体装置への動作電圧の印加を外部機器によって
阻止することにより、ダブルゲ−ト型半導体装置の破壊
事故を未然に防止することができる。
時の動作を簡略化して示すタイムチャ−トであり、制御
装置80の入力端子P1 に入力信号Iが印加された状態
で、tc 時点に動作電圧VCCが立ち上がったと仮定す
る。このとき、一定時間動作タイマ−回路部91は一定
時間(Td )だけ遅延動作した後tb 時点で立ち上がる
信号をORゲ−ト84に向けて出力する。一方、異常報
知回路部81はt時間中に第1,第2のゲ−ト電極電位
がオフ状態に在るか否かを監視し、例えば共にLレベル
であるとき、ORゲ−ト84の出力側がLレベルとなっ
てLレベルの報知信号がTd 時間だけ出力される。ま
た、この報知信号をオフ信号印加回路部63が検知して
第1のゲ−ト電極制御手段21および反転オン信号印加
回路部52に向けてオフ信号を出力し、回路の動作をL
レベルの報知信号が終了するtb 時点まで停止させる。
従って、報知信号を利用してtb 時点までにダブルゲ−
ト型半導体装置への動作電圧の印加を外部機器によって
阻止することにより、ダブルゲ−ト型半導体装置の破壊
事故を未然に防止することができる。
【0042】
【発明の効果】この発明は前述のように、サイリスタ状
態とトランジスタ状態の移行を制御可能な第2のゲ−ト
電極と、トランジスタ状態からオン,オフの移行を制御
可能な第1のゲ−ト電極とを持ち、両ゲ−ト電極の電圧
印加モ−ドが互いに逆なダブルゲ−ト型半導体装置を制
御対象とする制御装置を、入力信号のオフ信号を遅延し
て第1のゲ−ト電極に供給する第1のゲ−ト電極制御手
段と、入力信号の極性を反転して第2のゲ−ト電極に印
加する第2のゲ−ト電極制御手段とで構成した。その結
果、1つの入力信号によって2つのゲ−ド電極に電圧印
加モ−ドが互いに逆のオン・オフ信号を印加できるとと
もに、第1のゲ−ト電極に印加する電圧の持続時間を波
尾側に延長し、ダブルゲ−ト型半導体装置がトランジス
タ状態を必ず経過してオフ動作するよう制御することが
可能となり、電圧印加モ−ドが互いに逆の一対のゲ−ト
電極を有するダブルゲ−ト型半導体装置を1つの入力信
号によって安定してオンオフ制御できる制御装置を提供
することができる。
態とトランジスタ状態の移行を制御可能な第2のゲ−ト
電極と、トランジスタ状態からオン,オフの移行を制御
可能な第1のゲ−ト電極とを持ち、両ゲ−ト電極の電圧
印加モ−ドが互いに逆なダブルゲ−ト型半導体装置を制
御対象とする制御装置を、入力信号のオフ信号を遅延し
て第1のゲ−ト電極に供給する第1のゲ−ト電極制御手
段と、入力信号の極性を反転して第2のゲ−ト電極に印
加する第2のゲ−ト電極制御手段とで構成した。その結
果、1つの入力信号によって2つのゲ−ド電極に電圧印
加モ−ドが互いに逆のオン・オフ信号を印加できるとと
もに、第1のゲ−ト電極に印加する電圧の持続時間を波
尾側に延長し、ダブルゲ−ト型半導体装置がトランジス
タ状態を必ず経過してオフ動作するよう制御することが
可能となり、電圧印加モ−ドが互いに逆の一対のゲ−ト
電極を有するダブルゲ−ト型半導体装置を1つの入力信
号によって安定してオンオフ制御できる制御装置を提供
することができる。
【0043】また、第2のゲ−ト電極制御手段に遅延回
路を設けたり、過電流などの異常検出保護回路や報知回
路を付加する等の改善により、異常検出機能および保護
機能を改善した信頼性の高い制御装置を備えたダブルゲ
−ト型半導体装置を提供できる利点が得られる。
路を設けたり、過電流などの異常検出保護回路や報知回
路を付加する等の改善により、異常検出機能および保護
機能を改善した信頼性の高い制御装置を備えたダブルゲ
−ト型半導体装置を提供できる利点が得られる。
【図1】この発明の第1の実施例になるダブルゲ−ト型
半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図
半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図
【図2】図1に示す実施例制御装置の動作を示すタイム
チャ−ト
チャ−ト
【図3】この発明の第2の実施例になるダブルゲ−ト型
半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図
半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図
【図4】この発明の第3の実施例になるダブルゲ−ト型
半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図
半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図
【図5】第3の実施例における制御装置の保護動作を示
すタイムチャ−ト
すタイムチャ−ト
【図6】この発明の第4の実施例になるダブルゲ−ト型
半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図
半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図
【図7】第4の実施例制御装置の正常なスタ−ト時の動
作を示すタイムチャ−ト
作を示すタイムチャ−ト
【図8】第4の実施例制御装置の異常なスタ−ト時の動
作を示すタイムチャ−ト
作を示すタイムチャ−ト
【図9】この発明の第4の実施例になるダブルゲ−ト型
半導体装置の制御装置の変形例を簡略化して示す接続図
半導体装置の制御装置の変形例を簡略化して示す接続図
【図10】この発明の第4の実施例になるダブルゲ−ト
型半導体装置の制御装置の異なる変形例を簡略化して示
す接続図
型半導体装置の制御装置の異なる変形例を簡略化して示
す接続図
【図11】この発明の第5の実施例になるダブルゲ−ト
型半導体装置の制御装置を示す接続図
型半導体装置の制御装置を示す接続図
【図12】第5の実施例装置の正常運転中におけるゲ−
ト電圧の変化を示すタイムチャ−ト
ト電圧の変化を示すタイムチャ−ト
【図13】トランジスタ状態で過電流が発生した場合に
おけるゲ−ト電圧の変化を示すタイムチャ−ト
おけるゲ−ト電圧の変化を示すタイムチャ−ト
【図14】サイリスタ状態で過電流が発生した場合にお
けるゲ−ト電圧の変化を示すタイムチャ−ト
けるゲ−ト電圧の変化を示すタイムチャ−ト
【図15】この発明の第6の実施例になるダブルゲ−ト
型半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図
型半導体装置の制御装置を簡略化して示す接続図
【図16】第6の実施例制御装置の異常発生時の動作を
簡略化して示すタイムチャ−ト
簡略化して示すタイムチャ−ト
【図17】この発明の制御対象とするダブルゲ−ト型半
導体装置の構成図
導体装置の構成図
【図18】図17に示すダブルゲ−ト型半導体装置の等
価回路図
価回路図
【図19】図17に示すダブルゲ−ト型半導体装置のオ
ン,オフ制御方法を示すタイムチャ−ト
ン,オフ制御方法を示すタイムチャ−ト
1 コレクタ電極 2 コレクタ層 3 n- 型ベ−ス層 4 p型ベ−ス層 5a 第1のエミッタ層 5b 第2のエミッタ層 6 ドレイン層 7 エミッタ電極(7a,7b) 8 短絡用電極 9 ゲ−ト酸化膜 10 第1のゲ−ト電極 11 第2のゲ−ド電極 12 第1のMOSFET 13 第2のMOSFET 15 ダブルゲ−ト型半導体装置 16 ダブルゲ−ト型半導体装置(センス端子付き) 20 制御装置 21 第1のゲ−ト電極制御手段 22 第2のゲ−ト電極制御手段 22.1波形反転用インバ−タ 23 波形整形用インバ−タ 24 オン経路 25 オフディレイ経路 31 ディレイ回路 41 判定回路 50 制御装置 45 ディレイ回路 51 第2のゲ−ト電極制御手段 52 反転オン信号印加回路部 53 異常検出保護手段 60 制御装置 61 異常検出保護手段 62 通過電流判定回路部 63 オフ信号印加回路部 64 検出抵抗 65 基準電源 66 コンパレ−タ 70 制御装置 71 第2のゲ−ト電極制御手段 72 反転オン信号印加回路部 73 異常検出保護回路部 74 オフ信号印加回路部 75 ANDゲ−ト 80 制御装置 81 異常報知回路部 91 一定時間動作タイマ−回路部 C コレクタ E エミッタ G1 第1のゲ−ト電極 G2 第2のゲ−ト電極 I 入力信号 P1 入力端子
Claims (10)
- 【請求項1】サイリスタ状態とトランジスタ状態の移行
を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジスタ状態か
らオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極とを
持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆なダブ
ルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前記第1のゲ
−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号に基
づいて制御するものであって、前記入力信号のオフ信号
を遅延して第1のゲ−ト電極に供給する第1のゲ−ト電
極制御手段と、前記入力信号を反転して第2のゲ−ト電
極に印加する第2のゲ−ト電極制御手段とを備えてなる
ことを特徴とするダブルゲ−ト型半導体装置の制御装
置。 - 【請求項2】第1のゲ−ト電極制御手段は予め定まる一
定の時間入力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電
極に印加するタイマ−遅延手段を備え、第2のゲ−ト電
極制御手段は入力信号の反転用インバ−タ,およびこれ
に直列接続された偶数個の波形整形用インバ−タを備え
てなることを特徴とする請求項1記載のダブルゲ−ト型
半導体装置の制御装置。 - 【請求項3】第1のゲ−ト電極制御手段はコレクタ電極
に印加される動作電圧を判定する動作判定回路部と、こ
の動作判定回路部の判定結果に基づきオフ信号を第1の
ゲ−ト電極に印加するオフ信号印加回路部とを有する動
作判定遅延手段からなり、第2のゲ−ト電極制御手段は
入力信号の反転用インバ−タ,およびこれに直列接続さ
れた偶数個の波形整形用インバ−タからなることを特徴
とする請求項1記載のダブルゲ−ト型半導体装置の制御
装置。 - 【請求項4】サイリスタ状態とトランジスタ状態の移行
を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジスタ状態か
らオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極とを
持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆なダブ
ルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前記第1のゲ
−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号に基
づいて制御するものであって、予め定まる一定の時間入
力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電極に印加す
るタイマ−遅延手段を有する第1のゲ−ト電極制御手段
と、入力信号の反転用インバ−タ,およびこれに直列接
続された偶数個の波形整形用インバ−タとからなる第2
のゲ−ト電極制御手段と、通過電流値の異常を判定可能
な通過電流判定回路部,および通過電流判定回路部の異
常判定結果に基づき第1のゲ−ト電極制御手段にオフ信
号を印加するオフ信号印加回路部からなる異常検出保護
手段とを備えてなることを特徴とするダブルゲ−ト型半
導体装置の制御装置。 - 【請求項5】サイリスタ状態とトランジスタ状態の移行
を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジスタ状態か
らオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極とを
持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆なダブ
ルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前記第1のゲ
−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号に基
づいて制御するものであって、前記入力信号のオフ信号
を遅延して第1のゲ−ト電極に供給する第1のゲ−ト電
極制御手段と、前記入力信号を遅延するとともに通過電
流値の異常判定結果に基づきその電位を反転して第2の
ゲ−ト電極に印加する第2のゲ−ト電極制御手段とを備
えてなることを特徴とするダブルゲ−ト型半導体装置の
制御装置。 - 【請求項6】第2のゲ−ト電極制御手段は、通過電流値
の異常を判定可能な電流判定回路部と、この電流判定回
路部の判定結果に基づいて遅延したオン信号を出力する
とともに遅延したオン信号を反転して第2のゲ−ト電極
に印加する反転オン信号印加回路部と、前記電流判定回
路部の異常判定結果に基づき第1のゲ−ト電極にオフ信
号を印加するオフ信号印加回路部とからなることを特徴
とする請求項5記載のダブルゲ−ト型半導体装置の制御
装置。 - 【請求項7】ダブルゲ−ト型半導体装置がセンス端子を
有するセンス付きダブルゲ−ト型半導体装置であり、通
過電流値の異常を判定可能な電流判定回路部が前記セン
ス端子に接続されてなることを特徴とする請求項6記載
のダブルゲ−ト型半導体装置の制御装置。 - 【請求項8】第2のゲ−ト電極制御手段の電流判定回路
部がダブルゲ−ト型半導体装置のコレクタ電極に印加さ
れる動作電圧の異常を判定可能な電圧判定回路部である
ことを特徴とする請求項6記載のダブルゲ−ト型半導体
装置の制御装置。 - 【請求項9】第2のゲ−ト電極制御手段が、通過電流値
の異常を判定可能な通過電流判定回路部、この通過電流
判定回路部の異常判定結果に基づいて遅延したオン信号
を反転用インバ−タを介して第2のゲ−ト電極に印加す
るオン信号印加回路部、および通過電流判定回路部の異
常判定結果に基づいて第1のゲ−ト電極制御手段にオフ
信号を印加するオフ信号印加回路部からなる異常検出手
段を備えてなることを特徴とする請求項5記載のダブル
ゲ−ト型半導体装置の制御装置。 - 【請求項10】サイリスタ状態とトランジスタ状態の移
行を制御可能な第2のゲ−ト電極と、トランジスタ状態
からオン,オフの移行を制御可能な第1のゲ−ト電極と
を持ち、両ゲ−ト電極の電圧印加モ−ドが互いに逆なダ
ブルゲ−ト型半導体装置を制御対象として、前記第1の
ゲ−ト電極および第2のゲ−ト電極を1つの入力信号に
基づいて制御するものであって、予め定まる一定の時間
入力信号のオフ信号を遅延して第1のゲ−ト電極に印加
するタイマ−遅延手段を有する第1のゲ−ト電極制御手
段と、予め定まる一定の時間入力信号のオン信号を遅延
するタイマ−遅延手段および遅延したオン信号をオフ信
号に変換して第2のゲ−ト電極に供給する反転用インバ
−タを有する第2のゲ−ト電極制御手段と、ダブルゲ−
ト型半導体装置のコレクタ電極に印加される動作電圧の
立ち上がりを検知して一定時間動作するタイマ−回路
部、このタイマ−回路部の動作期間中第1のゲ−ト電極
電位および第2のゲ−ト電極電位を監視して両電極電位
がともに低電位であるとき低電位の報知信号を発する異
常報知回路部、およびこの報知信号に基づき第1のゲ−
ト電極制御手段および第2のゲ−ト電極制御手段にオフ
信号を印加するオフ信号印加回路部とからなる異常検出
保護手段とを備えてなることを特徴とするダブルゲ−ト
型半導体装置の制御装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024071276A1 (ja) * | 2022-09-30 | 2024-04-04 | 株式会社日立製作所 | 保護回路および保護方法 |
Families Citing this family (2)
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---|---|---|---|---|
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GB2321337B (en) * | 1997-01-21 | 2001-11-07 | Plessey Semiconductors Ltd | Improvements in or relating to semiconductor devices |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02155456A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-14 | Toshiba Corp | ダブルゲートigbtのゲート駆動回路 |
JPH05275999A (ja) * | 1992-03-30 | 1993-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | パワーデバイスの駆動保護回路 |
JPH05327442A (ja) * | 1992-05-15 | 1993-12-10 | Nissan Motor Co Ltd | 負荷短絡保護機能付きmos形パワー素子 |
JPH06125256A (ja) * | 1992-05-01 | 1994-05-06 | Fuji Electric Co Ltd | ダブルゲート型半導体装置の制御装置 |
JPH06152354A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-05-31 | Fuji Electric Co Ltd | カレントセンシング機能付半導体装置の制御回路装置 |
JPH06164344A (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-10 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0421211A (ja) * | 1990-05-16 | 1992-01-24 | Toshiba Corp | 半導体素子の駆動方法およびその駆動装置 |
EP0854575B1 (en) * | 1992-05-01 | 2002-10-09 | Fuji Electric Co., Ltd. | Control device for double gate semiconductor device |
-
1993
- 1993-10-28 JP JP5269355A patent/JP3070360B2/ja not_active Expired - Lifetime
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1994
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- 1994-10-26 EP EP19940116913 patent/EP0651507B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02155456A (ja) * | 1988-12-06 | 1990-06-14 | Toshiba Corp | ダブルゲートigbtのゲート駆動回路 |
JPH05275999A (ja) * | 1992-03-30 | 1993-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | パワーデバイスの駆動保護回路 |
JPH06125256A (ja) * | 1992-05-01 | 1994-05-06 | Fuji Electric Co Ltd | ダブルゲート型半導体装置の制御装置 |
JPH05327442A (ja) * | 1992-05-15 | 1993-12-10 | Nissan Motor Co Ltd | 負荷短絡保護機能付きmos形パワー素子 |
JPH06152354A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-05-31 | Fuji Electric Co Ltd | カレントセンシング機能付半導体装置の制御回路装置 |
JPH06164344A (ja) * | 1992-11-25 | 1994-06-10 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024071276A1 (ja) * | 2022-09-30 | 2024-04-04 | 株式会社日立製作所 | 保護回路および保護方法 |
Also Published As
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