JPH07122617A - 磁気浮上搬送装置 - Google Patents
磁気浮上搬送装置Info
- Publication number
- JPH07122617A JPH07122617A JP28746293A JP28746293A JPH07122617A JP H07122617 A JPH07122617 A JP H07122617A JP 28746293 A JP28746293 A JP 28746293A JP 28746293 A JP28746293 A JP 28746293A JP H07122617 A JPH07122617 A JP H07122617A
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- Non-Mechanical Conveyors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 搬送台を浮上移動させるために設置されてい
る磁極にベーキングのための高周波の電流を流すことに
よって搬送トンネルのベーキングを行うことができる磁
気浮上搬送装置を提供する。 【構成】 少なくとも磁極がある面が金属製の隔壁２で
包囲されている外部雰囲気から遮断された搬送トンネル
３と、対象物を載置する搬送台１８と、搬送台１８が走
行する軌道と、磁極１２に交流電流を流すための電源
と、搬送台１８を浮上させ且つ走行させるための複数の
磁極１２とを含み、磁極１２からの磁力の作用により搬
送台１８は軌道及び隔壁２に対して非接触状態を維持し
つつ搬送路を浮上走行させる磁気浮上搬送装置におい
て、磁極１２に浮上用又は移動用の周波数より高い高周
波電流を流すことによって、搬送トンネル３を加熱して
ベーキングを行うようにした。
る磁極にベーキングのための高周波の電流を流すことに
よって搬送トンネルのベーキングを行うことができる磁
気浮上搬送装置を提供する。 【構成】 少なくとも磁極がある面が金属製の隔壁２で
包囲されている外部雰囲気から遮断された搬送トンネル
３と、対象物を載置する搬送台１８と、搬送台１８が走
行する軌道と、磁極１２に交流電流を流すための電源
と、搬送台１８を浮上させ且つ走行させるための複数の
磁極１２とを含み、磁極１２からの磁力の作用により搬
送台１８は軌道及び隔壁２に対して非接触状態を維持し
つつ搬送路を浮上走行させる磁気浮上搬送装置におい
て、磁極１２に浮上用又は移動用の周波数より高い高周
波電流を流すことによって、搬送トンネル３を加熱して
ベーキングを行うようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は搬送台を磁気的に浮上さ
せて走行させる磁気浮上搬送装置に係り、特に半導体製
造ラインにおいて半導体ウエハの搬送等に好適に使用さ
れる磁気浮上搬送装置に関する。
せて走行させる磁気浮上搬送装置に係り、特に半導体製
造ラインにおいて半導体ウエハの搬送等に好適に使用さ
れる磁気浮上搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造設備におけるクリーンルーム
のように粉塵の発生防止が絶対条件となっている環境に
おいて、搬送台が軌道に対して接触することなく浮上移
動することができれば、搬送装置からの粉塵の発生が防
止され非常に好都合である。そのため、搬送台を軌道上
で浮上移動せしめる磁気浮上方式による搬送装置が従来
から種々提案されている。
のように粉塵の発生防止が絶対条件となっている環境に
おいて、搬送台が軌道に対して接触することなく浮上移
動することができれば、搬送装置からの粉塵の発生が防
止され非常に好都合である。そのため、搬送台を軌道上
で浮上移動せしめる磁気浮上方式による搬送装置が従来
から種々提案されている。
【０００３】一方、半導体製造設備のクリーンルーム内
の搬送装置として用いる場合には、被搬送物としては半
導体ウエハである場合が多い。そして、搬送中に半導体
ウエハに粉塵等の不純物が付着すると歩留りが悪化する
ので、それを防止するため、軌道及び搬送台を隔壁内に
収容して外部雰囲気から遮断することも提案されてい
る。
の搬送装置として用いる場合には、被搬送物としては半
導体ウエハである場合が多い。そして、搬送中に半導体
ウエハに粉塵等の不純物が付着すると歩留りが悪化する
ので、それを防止するため、軌道及び搬送台を隔壁内に
収容して外部雰囲気から遮断することも提案されてい
る。
【０００４】次に、従来の磁気浮上搬送装置を用いた半
導体製造装置の例を図３に示す。搬送装置１は、非磁性
材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送台を
浮上走行させるように構成されている。そして、搬送装
置１の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜装置
やエッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装置４
が配設され、各プロセス装置４はバルブ５を介して搬送
装置１と接続されている。また搬送装置１の搬送路の一
側には、ロボット室６を介してロードロック室７が設置
されており、このロードロック室７より半導体ウエハ等
の被搬送物２０が搬出入されるようになっている。なお
符号６ａはロボットである。
導体製造装置の例を図３に示す。搬送装置１は、非磁性
材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送台を
浮上走行させるように構成されている。そして、搬送装
置１の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜装置
やエッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装置４
が配設され、各プロセス装置４はバルブ５を介して搬送
装置１と接続されている。また搬送装置１の搬送路の一
側には、ロボット室６を介してロードロック室７が設置
されており、このロードロック室７より半導体ウエハ等
の被搬送物２０が搬出入されるようになっている。なお
符号６ａはロボットである。
【０００５】図４は図３の搬送装置のIV−IV線断面図で
あり、図４に示されるように内部が真空状態の隔壁２の
外部にはコ字状をしたヨーク状磁極１２，１２が設置さ
れている。磁極１２，１２には、それぞれコイル１６，
１６が巻回されている。
あり、図４に示されるように内部が真空状態の隔壁２の
外部にはコ字状をしたヨーク状磁極１２，１２が設置さ
れている。磁極１２，１２には、それぞれコイル１６，
１６が巻回されている。
【０００６】また、磁極１２の下方には、磁性材料又は
非磁性材料からなる基盤２４が設けられている。前記隔
壁２内には、例えばアルミニウムのような非磁性材料か
らなる平板状の搬送台１８が収容されており、この搬送
台１８には例えば半導体ウエハのような被搬送物２０が
載置されるようになっている。
非磁性材料からなる基盤２４が設けられている。前記隔
壁２内には、例えばアルミニウムのような非磁性材料か
らなる平板状の搬送台１８が収容されており、この搬送
台１８には例えば半導体ウエハのような被搬送物２０が
載置されるようになっている。
【０００７】磁極１２は、図５（図４のＶ−Ｖ線断面
図）に示すように被搬送物２０の搬送方向に列設されて
おり、複数の磁極１２…を符号Ｕ，Ｖ，Ｗで示す３つに
分けて、符号Ｕで示す磁極１２…は電流ＩU を通電する
ことにより励磁し、符号Ｖで示す磁極１２…は電流Ｉv
を通電することにより励磁し、符号Ｗで示す磁極１２…
は電流ＩW を通電することにより励磁し、以て移動磁界
を生じせしめている。
図）に示すように被搬送物２０の搬送方向に列設されて
おり、複数の磁極１２…を符号Ｕ，Ｖ，Ｗで示す３つに
分けて、符号Ｕで示す磁極１２…は電流ＩU を通電する
ことにより励磁し、符号Ｖで示す磁極１２…は電流Ｉv
を通電することにより励磁し、符号Ｗで示す磁極１２…
は電流ＩW を通電することにより励磁し、以て移動磁界
を生じせしめている。
【０００８】前述のような構成の磁気浮上搬送装置に交
流電源（図示せず）により、コイル１６，１６に交流電
流（この例では１７０Ｈｚ）を通電して磁極１２が励磁
されると搬送台１８は浮上し、そして移動用の交流電流
（この例では６０Ｈｚ）を流すことによって移動磁場が
発生し、搬送台１８は移動する。
流電源（図示せず）により、コイル１６，１６に交流電
流（この例では１７０Ｈｚ）を通電して磁極１２が励磁
されると搬送台１８は浮上し、そして移動用の交流電流
（この例では６０Ｈｚ）を流すことによって移動磁場が
発生し、搬送台１８は移動する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近の
半導体製造においては搬送中の半導体ウエハへの自然酸
化膜の発生等を防止するために、トンネル内部を高真空
化し、かつその真空度を保持しなくてはならなくなっ
た。そのため、必要に応じて搬送トンネルのベーキング
ができる搬送装置が必要となった。一方、搬送装置がお
かれるクリーンルームのクリーン度は年々高くなり、ク
リーンルーム内にある真空トンネルにベーキング用ヒー
タを巻き付けるのはクリーンルームを汚染するために困
難であった。
半導体製造においては搬送中の半導体ウエハへの自然酸
化膜の発生等を防止するために、トンネル内部を高真空
化し、かつその真空度を保持しなくてはならなくなっ
た。そのため、必要に応じて搬送トンネルのベーキング
ができる搬送装置が必要となった。一方、搬送装置がお
かれるクリーンルームのクリーン度は年々高くなり、ク
リーンルーム内にある真空トンネルにベーキング用ヒー
タを巻き付けるのはクリーンルームを汚染するために困
難であった。
【００１０】本発明は上述の事情に鑑みなされたもの
で、搬送台を浮上移動させるために設置されている磁極
にベーキングのための高周波電流を流すことによって搬
送トンネルのベーキングを行うことができる磁気浮上搬
送装置を提供することを目的とする。
で、搬送台を浮上移動させるために設置されている磁極
にベーキングのための高周波電流を流すことによって搬
送トンネルのベーキングを行うことができる磁気浮上搬
送装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ため、本発明の磁気浮上搬送装置は、少なくとも磁極が
ある面が金属製の隔壁で包囲されている外部雰囲気から
遮断された搬送トンネルと、対象物を載置する搬送台
と、該搬送台が走行する軌道と、磁極に交流電流を流す
ための電源と、搬送台を浮上させ且つ走行させるための
複数の磁極とを含み、該磁極からの磁力の作用により搬
送台は軌道及び隔壁に対して非接触状態を維持しつつ搬
送路を浮上走行させる磁気浮上搬送装置において、前記
磁極に浮上用又は移動用の周波数より高い高周波電流を
流すことによって、搬送トンネルを加熱してベーキング
を行うようにしたことを特徴とするものである。
ため、本発明の磁気浮上搬送装置は、少なくとも磁極が
ある面が金属製の隔壁で包囲されている外部雰囲気から
遮断された搬送トンネルと、対象物を載置する搬送台
と、該搬送台が走行する軌道と、磁極に交流電流を流す
ための電源と、搬送台を浮上させ且つ走行させるための
複数の磁極とを含み、該磁極からの磁力の作用により搬
送台は軌道及び隔壁に対して非接触状態を維持しつつ搬
送路を浮上走行させる磁気浮上搬送装置において、前記
磁極に浮上用又は移動用の周波数より高い高周波電流を
流すことによって、搬送トンネルを加熱してベーキング
を行うようにしたことを特徴とするものである。
【００１２】
【作用】前述した構成からなる本発明によれば、搬送台
を浮上移動させるために設置されている磁極に、高周波
電流を流すことによって搬送トンネルをベーキングする
ことができる。したがって、搬送トンネルのベーキング
を行いたいときに直ちにベーキングを行うことができ、
又、ベーキング用のヒータを搬送トンネルに巻く必要が
なくなったため、クリーンルームを汚すことがない。
を浮上移動させるために設置されている磁極に、高周波
電流を流すことによって搬送トンネルをベーキングする
ことができる。したがって、搬送トンネルのベーキング
を行いたいときに直ちにベーキングを行うことができ、
又、ベーキング用のヒータを搬送トンネルに巻く必要が
なくなったため、クリーンルームを汚すことがない。
【００１３】
【実施例】以下、本発明に係る磁気浮上搬送装置の一実
施例を図１及び図２を参照して説明する。図１及び図２
において、図３乃至図５の構成要素と同一の作用及び機
能を有する構成要素は同一符号を付して説明する。
施例を図１及び図２を参照して説明する。図１及び図２
において、図３乃至図５の構成要素と同一の作用及び機
能を有する構成要素は同一符号を付して説明する。
【００１４】図１は本発明の磁気浮上搬送装置を用いた
半導体製造装置の概略平面図である。搬送装置１は、非
磁性材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送
台を浮上走行させるように構成されている。そして、搬
送装置１の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜
装置やエッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装
置４が配設されている。各プロセス装置４はバルブ５を
介して搬送装置１と接続されている。また搬送装置１の
搬送路の一側には、ロボット室６を介してロードロック
室７が設置されており、このロードロック室７より半導
体ウエハ等の被搬送物２０が搬出入されるようになって
いる。なお符号６ａはロボットである。またトンネル３
の一端にはバルブ８を介してロードロック室９が設置さ
れている。
半導体製造装置の概略平面図である。搬送装置１は、非
磁性材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送
台を浮上走行させるように構成されている。そして、搬
送装置１の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜
装置やエッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装
置４が配設されている。各プロセス装置４はバルブ５を
介して搬送装置１と接続されている。また搬送装置１の
搬送路の一側には、ロボット室６を介してロードロック
室７が設置されており、このロードロック室７より半導
体ウエハ等の被搬送物２０が搬出入されるようになって
いる。なお符号６ａはロボットである。またトンネル３
の一端にはバルブ８を介してロードロック室９が設置さ
れている。
【００１５】本実施例においては、トンネル３、磁極１
２、コイル１６及び搬送台１８等の構造は図４及び図５
と同様であるため、説明は省略する。
２、コイル１６及び搬送台１８等の構造は図４及び図５
と同様であるため、説明は省略する。
【００１６】また、搬送装置１には、搬送方向に列設さ
れた磁極１２を励磁して搬送台１８を浮上推進せしめる
ための電源回路が設置されている。図２はこの電源回路
の１例であり、電源回路には、移動用周波数の交流電源
３３Ｍと、浮上用交流電源３３Ｆと、更にベーキング用
の交流電源３３Ｂが設置されており、これら電源により
選択的にコイルに電流を流すことができる。この例で
は、その周波数は各々６０Ｈｚ，１７０Ｈｚ，１ＫＨｚ
である。周波数１７０Ｈｚの電源３３Ｆからの出力は抵
抗３４Ｕを介して加算器３６Ｕへ入力され、周波数６０
Ｈｚの電源３３Ｍからの出力はゲインコントローラ３８
Ｕを介して加算器３６Ｕへ入力される。そして両者は加
算され、加算された信号が増幅器４０Ｕで増幅されて、
電流ＩU として符号Ｕで示す磁極１２…のコイル（図５
参照）に通電される。電流Ｉv ，ＩW についても同様で
ある。
れた磁極１２を励磁して搬送台１８を浮上推進せしめる
ための電源回路が設置されている。図２はこの電源回路
の１例であり、電源回路には、移動用周波数の交流電源
３３Ｍと、浮上用交流電源３３Ｆと、更にベーキング用
の交流電源３３Ｂが設置されており、これら電源により
選択的にコイルに電流を流すことができる。この例で
は、その周波数は各々６０Ｈｚ，１７０Ｈｚ，１ＫＨｚ
である。周波数１７０Ｈｚの電源３３Ｆからの出力は抵
抗３４Ｕを介して加算器３６Ｕへ入力され、周波数６０
Ｈｚの電源３３Ｍからの出力はゲインコントローラ３８
Ｕを介して加算器３６Ｕへ入力される。そして両者は加
算され、加算された信号が増幅器４０Ｕで増幅されて、
電流ＩU として符号Ｕで示す磁極１２…のコイル（図５
参照）に通電される。電流Ｉv ，ＩW についても同様で
ある。
【００１７】ゲインコントローラ（３８Ｕ，３８Ｖ，３
８Ｗ）において、ゲインをゼロに設定すれば搬送台１８
は静止した状態で浮上し、ゲインを高くすればスリップ
が変わるため、搬送台１８は移動を開始する。そしてゲ
インを絞れば、一定速度で移動する。
８Ｗ）において、ゲインをゼロに設定すれば搬送台１８
は静止した状態で浮上し、ゲインを高くすればスリップ
が変わるため、搬送台１８は移動を開始する。そしてゲ
インを絞れば、一定速度で移動する。
【００１８】次に、前述のように構成された磁気浮上搬
送装置のベーキングの方法を説明する。図示はしていな
いが、トンネル３には、真空排気ポンプが接続されてお
り、トンネル内部は真空状態になっている。
送装置のベーキングの方法を説明する。図示はしていな
いが、トンネル３には、真空排気ポンプが接続されてお
り、トンネル内部は真空状態になっている。
【００１９】まず、磁極１２に交流電源３３Ｍ，３３Ｆ
から移動用と浮上用の電流を加えて、搬送台１８が浮上
移動する。そして搬送台１８がロードロック室９に入
り、移動用の電流を逆相にして、搬送台１８を減速さ
せ、ロードロック室９内で停止させる。次に、ロードロ
ック室９とトンネル３との間のバルブ８を閉める。この
状態で、交流電源３３Ｂから浮上電流にベーキング電流
を加える。これにより、トンネル３の磁極側の隔壁２に
渦電流が発生し、トンネル３が発熱し、温度が上昇して
ベーキングが行われる。この例では、搬送台１８は浮上
したままベーキングが行われたが、搬送台１８を浮上さ
せないで、トンネルに着地させ、トンネルのベーキング
とともにトンネルから伝わる熱によって搬送台１８をベ
ーキングすることも可能である。この場合は、ベーキン
グの前に浮上用電流を切り、その後、磁極１２にベーキ
ング用の電流のみを流せばよい。
から移動用と浮上用の電流を加えて、搬送台１８が浮上
移動する。そして搬送台１８がロードロック室９に入
り、移動用の電流を逆相にして、搬送台１８を減速さ
せ、ロードロック室９内で停止させる。次に、ロードロ
ック室９とトンネル３との間のバルブ８を閉める。この
状態で、交流電源３３Ｂから浮上電流にベーキング電流
を加える。これにより、トンネル３の磁極側の隔壁２に
渦電流が発生し、トンネル３が発熱し、温度が上昇して
ベーキングが行われる。この例では、搬送台１８は浮上
したままベーキングが行われたが、搬送台１８を浮上さ
せないで、トンネルに着地させ、トンネルのベーキング
とともにトンネルから伝わる熱によって搬送台１８をベ
ーキングすることも可能である。この場合は、ベーキン
グの前に浮上用電流を切り、その後、磁極１２にベーキ
ング用の電流のみを流せばよい。
【００２０】上記ベーキング工程において、ベーキング
中にトンネル３の温度を計測し、その温度が設定値以上
になったらトンネル３のベーキングを中止する。
中にトンネル３の温度を計測し、その温度が設定値以上
になったらトンネル３のベーキングを中止する。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
搬送台を浮上移動させるために設置されている磁極に、
高周波電流を流すことによって搬送トンネルをベーキン
グすることができる。したがって、搬送トンネルのベー
キングを行いたいときに直ちにベーキングを行うことが
でき、又、ベーキング用のヒータをトンネルに巻く必要
がなくなったため、クリーンルームを汚すことがない。
搬送台を浮上移動させるために設置されている磁極に、
高周波電流を流すことによって搬送トンネルをベーキン
グすることができる。したがって、搬送トンネルのベー
キングを行いたいときに直ちにベーキングを行うことが
でき、又、ベーキング用のヒータをトンネルに巻く必要
がなくなったため、クリーンルームを汚すことがない。
【図１】本発明に係る磁気浮上搬送装置を用いた半導体
製造装置を示す模式図である。
製造装置を示す模式図である。
【図２】本発明に係る磁気浮上搬送装置の電源回路を示
す図である。
す図である。
【図３】従来の磁気浮上搬送装置を用いた半導体製造装
置を示す模式図である。
置を示す模式図である。
【図４】図３のIV−IV線断面図である。
【図５】図４のＶ−Ｖ線断面図である。
１ 搬送装置 ２ 隔壁 ３ トンネル ４ プロセス装置 ８ バルブ ７，９ ロードロック室 １２ 磁極 １６ コイル １８ 搬送台 ２０ 被搬送物 ３３Ｍ，３３Ｆ，３３Ｂ 交流電源
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも磁極がある面が金属製の隔壁
で包囲されている外部雰囲気から遮断された搬送トンネ
ルと、対象物を載置する搬送台と、該搬送台が走行する
軌道と、磁極に交流電流を流すための電源と、搬送台を
浮上させ且つ走行させるための複数の磁極とを含み、該
磁極からの磁力の作用により搬送台は軌道及び隔壁に対
して非接触状態を維持しつつ搬送路を浮上走行させる磁
気浮上搬送装置において、前記磁極に浮上用又は移動用
の周波数より高い高周波電流を流すことによって、搬送
トンネルを加熱してベーキングを行うようにしたことを
特徴とする磁気浮上搬送装置。 - 【請求項２】 前記ベーキング中は、前記搬送台を、ベ
ーキングされる搬送トンネルからバルブを介して隔離さ
れたロードロック室に入れることを特徴とする請求項１
記載の磁気浮上搬送装置。 - 【請求項３】 前記搬送トンネルの温度を計測し、その
温度が設定値以上になったときに、搬送トンネルのベー
キングを中止するようにしたことを特徴とする請求項１
記載の磁気浮上搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28746293A JPH07122617A (ja) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | 磁気浮上搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28746293A JPH07122617A (ja) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | 磁気浮上搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07122617A true JPH07122617A (ja) | 1995-05-12 |
Family
ID=17717652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28746293A Pending JPH07122617A (ja) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | 磁気浮上搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07122617A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3590874A1 (de) * | 2014-02-27 | 2020-01-08 | KRONES Aktiengesellschaft | Vorrichtung und verfahren zum transport von behältern innerhalb von isolatormaschinen |
-
1993
- 1993-10-22 JP JP28746293A patent/JPH07122617A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3590874A1 (de) * | 2014-02-27 | 2020-01-08 | KRONES Aktiengesellschaft | Vorrichtung und verfahren zum transport von behältern innerhalb von isolatormaschinen |
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