JPH07117848A - 磁気浮上搬送装置 - Google Patents
磁気浮上搬送装置Info
- Publication number
- JPH07117848A JPH07117848A JP28746393A JP28746393A JPH07117848A JP H07117848 A JPH07117848 A JP H07117848A JP 28746393 A JP28746393 A JP 28746393A JP 28746393 A JP28746393 A JP 28746393A JP H07117848 A JPH07117848 A JP H07117848A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tunnel
- conveying
- carrier
- magnetic
- transfer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Non-Mechanical Conveyors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Control Of Vehicles With Linear Motors And Vehicles That Are Magnetically Levitated (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 搬送方向の一部の搬送トンネルの隔壁下部を
非金属で構成し、搬送台をその部分で停止させ、次に浮
上／搬送磁極に、浮上用電流に高周波電流を重畳させて
あるいは高周波電流を単独で流し、搬送台のベーキング
を行うことができる磁気浮上搬送装置を提供する。 【構成】 隔壁２で包囲されて外部雰囲気から遮断され
た搬送トンネル３Ａと、対象物を載置する搬送台１８
と、搬送台１８が走行する軌道と、磁極に交流電流を流
すための電源と、搬送台１８を浮上させ且つ走行させる
ための複数の磁極１２とを含み、磁極１２からの磁力の
作用により搬送台１８は軌道及び隔壁２に対して非接触
状態を維持しつつ搬送トンネル内を浮上走行させる磁気
浮上搬送装置において、少なくとも、搬送方向の一部分
の搬送トンネル３Ｂの隔壁２下部を非金属で構成した。
非金属で構成し、搬送台をその部分で停止させ、次に浮
上／搬送磁極に、浮上用電流に高周波電流を重畳させて
あるいは高周波電流を単独で流し、搬送台のベーキング
を行うことができる磁気浮上搬送装置を提供する。 【構成】 隔壁２で包囲されて外部雰囲気から遮断され
た搬送トンネル３Ａと、対象物を載置する搬送台１８
と、搬送台１８が走行する軌道と、磁極に交流電流を流
すための電源と、搬送台１８を浮上させ且つ走行させる
ための複数の磁極１２とを含み、磁極１２からの磁力の
作用により搬送台１８は軌道及び隔壁２に対して非接触
状態を維持しつつ搬送トンネル内を浮上走行させる磁気
浮上搬送装置において、少なくとも、搬送方向の一部分
の搬送トンネル３Ｂの隔壁２下部を非金属で構成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は搬送台を磁気的に浮上さ
せて走行させる磁気浮上搬送装置に係り、特に半導体製
造ラインにおいて半導体ウエハの搬送等に好適に使用さ
れる磁気浮上搬送装置に関する。
せて走行させる磁気浮上搬送装置に係り、特に半導体製
造ラインにおいて半導体ウエハの搬送等に好適に使用さ
れる磁気浮上搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造設備におけるクリーンルーム
のように粉塵の発生防止が絶対条件となっている環境に
おいて、搬送台が軌道に対して接触することなく浮上移
動することができれば、搬送装置からの粉塵の発生が防
止され非常に好都合である。そのため、搬送台を軌道上
で浮上移動せしめる磁気浮上方式による搬送装置が従来
から種々提案されている。
のように粉塵の発生防止が絶対条件となっている環境に
おいて、搬送台が軌道に対して接触することなく浮上移
動することができれば、搬送装置からの粉塵の発生が防
止され非常に好都合である。そのため、搬送台を軌道上
で浮上移動せしめる磁気浮上方式による搬送装置が従来
から種々提案されている。
【０００３】一方、半導体製造設備のクリーンルーム内
の搬送装置として用いる場合には、被搬送物としては半
導体ウエハである場合が多い。そして、搬送中に半導体
ウエハに粉塵等の不純物が付着すると歩留りが悪化する
ので、それを防止するため、軌道及び搬送台を隔壁内に
収容して外部雰囲気から遮断することも提案されてい
る。
の搬送装置として用いる場合には、被搬送物としては半
導体ウエハである場合が多い。そして、搬送中に半導体
ウエハに粉塵等の不純物が付着すると歩留りが悪化する
ので、それを防止するため、軌道及び搬送台を隔壁内に
収容して外部雰囲気から遮断することも提案されてい
る。
【０００４】次に、従来の磁気浮上搬送装置を用いた半
導体製造装置の例を図６に示す。搬送装置１は、非磁性
材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送台を
浮上走行させるように構成されている。そして、搬送装
置１の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜装置
やエッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装置４
が配設され、各プロセス装置４はバルブ５を介して搬送
装置１と接続されている。また搬送装置１の搬送路の一
側には、ロボット室６を介してロードロック室７が設置
されており、このロードロック室７より半導体ウエハ等
の被搬送物２０が搬出入されるようになっている。な
お、符号６ａはロボットである。
導体製造装置の例を図６に示す。搬送装置１は、非磁性
材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送台を
浮上走行させるように構成されている。そして、搬送装
置１の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜装置
やエッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装置４
が配設され、各プロセス装置４はバルブ５を介して搬送
装置１と接続されている。また搬送装置１の搬送路の一
側には、ロボット室６を介してロードロック室７が設置
されており、このロードロック室７より半導体ウエハ等
の被搬送物２０が搬出入されるようになっている。な
お、符号６ａはロボットである。
【０００５】図７は図６の搬送装置のVII−VII線断面図
であり、図７に示されるように内部が真空状態の隔壁２
の外部にはコ字状をしたヨーク状磁極１２，１２が設置
されている。磁極１２，１２には、それぞれコイル１
６，１６が巻回されている。
であり、図７に示されるように内部が真空状態の隔壁２
の外部にはコ字状をしたヨーク状磁極１２，１２が設置
されている。磁極１２，１２には、それぞれコイル１
６，１６が巻回されている。
【０００６】また、磁極１２の下方には、磁性材料又は
非磁性材料からなる基盤２４が設けられている。前記隔
壁２内には、例えばアルミニウムのような非磁性材料か
らなる平板状の搬送台１８が収容されており、この搬送
台１８には例えば半導体ウエハのような被搬送物２０が
載置されるようになっている。
非磁性材料からなる基盤２４が設けられている。前記隔
壁２内には、例えばアルミニウムのような非磁性材料か
らなる平板状の搬送台１８が収容されており、この搬送
台１８には例えば半導体ウエハのような被搬送物２０が
載置されるようになっている。
【０００７】磁極１２は、図８（図７のVIII−VIII線断
面図）に示すように被搬送物２０の搬送方向に列設され
ており、複数の磁極１２…を符号Ｕ，Ｖ，Ｗで示す３つ
に分けて、符号Ｕで示す磁極１２…は電流ＩU を通電す
ることにより励磁し、符号Ｖで示す磁極１２…は電流Ｉ
v を通電することにより励磁し、符号Ｗで示す磁極１２
…は電流ＩW を通電することにより励磁し、以て移動磁
界を生じせしめている。
面図）に示すように被搬送物２０の搬送方向に列設され
ており、複数の磁極１２…を符号Ｕ，Ｖ，Ｗで示す３つ
に分けて、符号Ｕで示す磁極１２…は電流ＩU を通電す
ることにより励磁し、符号Ｖで示す磁極１２…は電流Ｉ
v を通電することにより励磁し、符号Ｗで示す磁極１２
…は電流ＩW を通電することにより励磁し、以て移動磁
界を生じせしめている。
【０００８】前述のような構成の磁気浮上搬送装置に交
流電源（図示せず）により、コイル１６，１６に交流電
流（この例では１７０Ｈｚ）を通電して磁極１２が励磁
されると搬送台１８は浮上し、そして移動用の交流電流
（この例では６０Ｈｚ）を流すことによって移動磁場が
発生し、搬送台１８は移動する。
流電源（図示せず）により、コイル１６，１６に交流電
流（この例では１７０Ｈｚ）を通電して磁極１２が励磁
されると搬送台１８は浮上し、そして移動用の交流電流
（この例では６０Ｈｚ）を流すことによって移動磁場が
発生し、搬送台１８は移動する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来の磁気浮
上搬送装置においては、搬送台１８はトンネル３の内表
面積に比べて小さいのでベーキングをしないで使用して
きた。しかしながら、最近の半導体製造においては、搬
送中の半導体ウエハへの自然酸化膜の発生等を防止する
ためにトンネル内部を高真空化する必要があり、そのた
め、搬送台自身もベーキングする必要がでてきた。そこ
で、搬送台をトンネル外部に取り出して、ベーキングを
行い、これを、窒素等で充満したビニール袋等に入れて
運んで、ロードロック室を介してトンネル内に搬送台を
入れていた。しかしながら、搬送台をロードロック室に
入れる時に、どうしてもクリーンエアを巻き込んでしま
うため、ベーキングの効果を半減してしまうという問題
点があった。
上搬送装置においては、搬送台１８はトンネル３の内表
面積に比べて小さいのでベーキングをしないで使用して
きた。しかしながら、最近の半導体製造においては、搬
送中の半導体ウエハへの自然酸化膜の発生等を防止する
ためにトンネル内部を高真空化する必要があり、そのた
め、搬送台自身もベーキングする必要がでてきた。そこ
で、搬送台をトンネル外部に取り出して、ベーキングを
行い、これを、窒素等で充満したビニール袋等に入れて
運んで、ロードロック室を介してトンネル内に搬送台を
入れていた。しかしながら、搬送台をロードロック室に
入れる時に、どうしてもクリーンエアを巻き込んでしま
うため、ベーキングの効果を半減してしまうという問題
点があった。
【００１０】本発明は上述の事情に鑑みなされたもの
で、搬送方向の一部の搬送トンネルの隔壁下部を非金属
で構成し、搬送台をその部分で停止させ、次に浮上／搬
送磁極に、浮上用電流に高周波電流を重畳させて、ある
いは、高周波電流を単独で流し、搬送台のベーキングを
行うことができる磁気浮上搬送装置を提供することを目
的とする。
で、搬送方向の一部の搬送トンネルの隔壁下部を非金属
で構成し、搬送台をその部分で停止させ、次に浮上／搬
送磁極に、浮上用電流に高周波電流を重畳させて、ある
いは、高周波電流を単独で流し、搬送台のベーキングを
行うことができる磁気浮上搬送装置を提供することを目
的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ため、本発明の磁気浮上搬送装置は、隔壁で包囲されて
外部雰囲気から遮断された搬送トンネルと、対象物を載
置する搬送台と、該搬送台が走行する軌道と、磁極に交
流電流を流すための電源と、搬送台を浮上させ且つ走行
させるための複数の磁極とを含み、該磁極からの磁力の
作用により搬送台は軌道及び隔壁に対して非接触状態を
維持しつつ搬送トンネル内を浮上走行させる磁気浮上搬
送装置において、少なくとも、搬送方向の一部分の搬送
トンネルの隔壁下部を非金属で構成したことを特徴とす
るものである。
ため、本発明の磁気浮上搬送装置は、隔壁で包囲されて
外部雰囲気から遮断された搬送トンネルと、対象物を載
置する搬送台と、該搬送台が走行する軌道と、磁極に交
流電流を流すための電源と、搬送台を浮上させ且つ走行
させるための複数の磁極とを含み、該磁極からの磁力の
作用により搬送台は軌道及び隔壁に対して非接触状態を
維持しつつ搬送トンネル内を浮上走行させる磁気浮上搬
送装置において、少なくとも、搬送方向の一部分の搬送
トンネルの隔壁下部を非金属で構成したことを特徴とす
るものである。
【００１２】
【作用】前述した構成からなる本発明によれば、搬送方
向の一部の搬送トンネルの隔壁下部を非金属で構成し、
搬送台をその部分で停止させ、次に浮上／搬送磁極に、
浮上用電流に高周波電流を重畳させるか、又は高周波電
流のみを流し、トンネル内にて搬送台のベーキングを行
うことができる。その結果、トンネル外部でベーキング
するのと異なり、必要な時に直ちに搬送台をベーキング
することが可能となり、又、ベーキング後の結果も良好
で、トンネル内の真空度を上げることができる。
向の一部の搬送トンネルの隔壁下部を非金属で構成し、
搬送台をその部分で停止させ、次に浮上／搬送磁極に、
浮上用電流に高周波電流を重畳させるか、又は高周波電
流のみを流し、トンネル内にて搬送台のベーキングを行
うことができる。その結果、トンネル外部でベーキング
するのと異なり、必要な時に直ちに搬送台をベーキング
することが可能となり、又、ベーキング後の結果も良好
で、トンネル内の真空度を上げることができる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明に係る磁気浮上搬送装置の一実
施例を図１乃至図５を参照して説明する。図１乃至図５
において、図６乃至図８の構成要素と同一の作用及び機
能を有する構成要素は同一符号を付して説明する。
施例を図１乃至図５を参照して説明する。図１乃至図５
において、図６乃至図８の構成要素と同一の作用及び機
能を有する構成要素は同一符号を付して説明する。
【００１４】図１は本発明の磁気浮上搬送装置を用いた
半導体製造装置の概略平面図である。搬送装置１は、非
磁性材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送
台を浮上走行させるように構成されている。搬送装置１
の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜装置やエ
ッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装置４が配
設されている。各プロセス装置４はバルブ５を介して搬
送装置１と接続されている。また搬送装置１の搬送路の
一側には、ロボット室６を介してロードロック室７が設
置されており、このロードロック室７より半導体ウエハ
等の被搬送物２０が搬出入されるようになっている。な
お、符号６ａはロボットである。
半導体製造装置の概略平面図である。搬送装置１は、非
磁性材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送
台を浮上走行させるように構成されている。搬送装置１
の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜装置やエ
ッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装置４が配
設されている。各プロセス装置４はバルブ５を介して搬
送装置１と接続されている。また搬送装置１の搬送路の
一側には、ロボット室６を介してロードロック室７が設
置されており、このロードロック室７より半導体ウエハ
等の被搬送物２０が搬出入されるようになっている。な
お、符号６ａはロボットである。
【００１５】本実施例においては、トンネル３は主搬送
路を構成する主搬送トンネル３Ａと、バルブ８で仕切ら
れた搬送トンネル３Ｂとからなっている。主搬送トンネ
ル３Ａは金属製の下部隔壁を具備し、搬送トンネル３Ｂ
は非金属製の下部隔壁を具備している。この２つのトン
ネル３Ａ，３Ｂの間はバルブ８を介して接続されてい
る。
路を構成する主搬送トンネル３Ａと、バルブ８で仕切ら
れた搬送トンネル３Ｂとからなっている。主搬送トンネ
ル３Ａは金属製の下部隔壁を具備し、搬送トンネル３Ｂ
は非金属製の下部隔壁を具備している。この２つのトン
ネル３Ａ，３Ｂの間はバルブ８を介して接続されてい
る。
【００１６】図２（図２（ａ）は斜視図、図２（ｂ）は
側面図）は、トンネル３Ａの構造を示し、トンネル３Ａ
は、基本的には、パイプと同様の構造をしており、トン
ネル本体２５は薄いステンレス板を長方形に成型し溶接
することにより形成されている。そして、トンネル本体
２５の両端はフランジ２６の開口部に溶接されている
（図２では一方のフランジのみ示す）。フランジ２６は
相手側フランジに気密に接続できるように、Ｏリング等
の気密シール２７を具備している。
側面図）は、トンネル３Ａの構造を示し、トンネル３Ａ
は、基本的には、パイプと同様の構造をしており、トン
ネル本体２５は薄いステンレス板を長方形に成型し溶接
することにより形成されている。そして、トンネル本体
２５の両端はフランジ２６の開口部に溶接されている
（図２では一方のフランジのみ示す）。フランジ２６は
相手側フランジに気密に接続できるように、Ｏリング等
の気密シール２７を具備している。
【００１７】図３（図３（ａ）は斜視図、図３（ｂ）は
側面図）は、トンネル３Ｂの構造を示し、トンネル３Ｂ
は下方が開口した略コ字状のトンネル本体２８と、この
トンネル本体２８の開口部を閉塞するセラミックス等の
非金属材からなる下部プレート２９とからなり、両者は
図４（図４は図１のIV−IV線断面図）に示されるように
Ｏリング等の気密シール３０を介して、ボルト等で締結
されている。下部プレート２９の下方には磁極１２，１
２が配設されている。また、トンネル３Ｂの両端部には
図３に示されるようにフランジ３１，３１が設けられて
いる。なお、符号３２は相手側フランジに気密に接続す
るための０リング等の機密シール３２である。
側面図）は、トンネル３Ｂの構造を示し、トンネル３Ｂ
は下方が開口した略コ字状のトンネル本体２８と、この
トンネル本体２８の開口部を閉塞するセラミックス等の
非金属材からなる下部プレート２９とからなり、両者は
図４（図４は図１のIV−IV線断面図）に示されるように
Ｏリング等の気密シール３０を介して、ボルト等で締結
されている。下部プレート２９の下方には磁極１２，１
２が配設されている。また、トンネル３Ｂの両端部には
図３に示されるようにフランジ３１，３１が設けられて
いる。なお、符号３２は相手側フランジに気密に接続す
るための０リング等の機密シール３２である。
【００１８】また、搬送装置１には、搬送方向に列設さ
れた磁極１２を励磁して搬送台１８を浮上推進せしめる
ための電源回路が設置されている。図５はこの電源回路
の１例であり、電源回路には、移動用周波数の交流電源
３３Ｍと、浮上用交流電源３３Ｆと、更にベーキング用
の交流電源３３Ｂが設置されており、これら電源により
選択的にコイルに電流を流すことができる。この例で
は、その周波数は各々６０Ｈｚ，１７０Ｈｚ，１ＫＨｚ
である。周波数１７０Ｈｚの電源３３Ｆからの出力は抵
抗３４Ｕを介して加算器３６Ｕへ入力され、周波数６０
Ｈｚの電源３３Ｍからの出力はゲインコントローラ３８
Ｕを介して加算器３６Ｕへ入力される。そして両者は加
算され、加算された信号が増幅器４０Ｕで増幅されて、
電流ＩU として符号Ｕで示す磁極１２…のコイル（図８
参照）に通電される。電流Ｉv ，ＩW についても同様で
ある。
れた磁極１２を励磁して搬送台１８を浮上推進せしめる
ための電源回路が設置されている。図５はこの電源回路
の１例であり、電源回路には、移動用周波数の交流電源
３３Ｍと、浮上用交流電源３３Ｆと、更にベーキング用
の交流電源３３Ｂが設置されており、これら電源により
選択的にコイルに電流を流すことができる。この例で
は、その周波数は各々６０Ｈｚ，１７０Ｈｚ，１ＫＨｚ
である。周波数１７０Ｈｚの電源３３Ｆからの出力は抵
抗３４Ｕを介して加算器３６Ｕへ入力され、周波数６０
Ｈｚの電源３３Ｍからの出力はゲインコントローラ３８
Ｕを介して加算器３６Ｕへ入力される。そして両者は加
算され、加算された信号が増幅器４０Ｕで増幅されて、
電流ＩU として符号Ｕで示す磁極１２…のコイル（図８
参照）に通電される。電流Ｉv ，ＩW についても同様で
ある。
【００１９】ゲインコントローラ（３８Ｕ，３８Ｖ，３
８Ｗ）において、ゲインをゼロに設定すれば搬送台１８
は静止した状態で浮上し、ゲインを高くすればスリップ
が変わるため、搬送台１８は移動を開始する。そしてゲ
インを絞れば、一定速度で移動する。
８Ｗ）において、ゲインをゼロに設定すれば搬送台１８
は静止した状態で浮上し、ゲインを高くすればスリップ
が変わるため、搬送台１８は移動を開始する。そしてゲ
インを絞れば、一定速度で移動する。
【００２０】次に、前述のように構成された磁気浮上搬
送装置のベーキングの方法を説明する。図示はしていな
いが、両トンネル３Ａ，３Ｂには、真空排気ポンプが接
続されており、トンネル内部は真空状態になっている。
送装置のベーキングの方法を説明する。図示はしていな
いが、両トンネル３Ａ，３Ｂには、真空排気ポンプが接
続されており、トンネル内部は真空状態になっている。
【００２１】まず、磁極１２に交流電源３３Ｍ，３３Ｆ
から移動用と浮上用の電流を加えて、搬送台１８が浮上
移動する。そして搬送台１８がトンネル３Ｂに入り、移
動用の電流を逆相にして、搬送台１８を減速させ、トン
ネル３Ｂ内で停止させる。次に、トンネル３Ａと３Ｂと
の間のバルブ８を閉める。この状態で、交流電源３３Ｂ
から浮上電流にベーキング電流を加える。トンネル３Ｂ
の下部はセラミックス等の非金属材であるので、そこで
は渦電流は発生せず、金属製の搬送台１８で主に渦電流
が発生し、搬送台１８自身が発熱し、温度が上昇してベ
ーキングが行われる。この例では、搬送台１８は浮上し
たままベーキングが行われたが、搬送台１８を浮上させ
ないで、ベーキングすることも可能である。この場合
は、ベーキングの前に浮上用電流を切り、その後、磁極
１２にベーキング用の電流のみを流せばよい。
から移動用と浮上用の電流を加えて、搬送台１８が浮上
移動する。そして搬送台１８がトンネル３Ｂに入り、移
動用の電流を逆相にして、搬送台１８を減速させ、トン
ネル３Ｂ内で停止させる。次に、トンネル３Ａと３Ｂと
の間のバルブ８を閉める。この状態で、交流電源３３Ｂ
から浮上電流にベーキング電流を加える。トンネル３Ｂ
の下部はセラミックス等の非金属材であるので、そこで
は渦電流は発生せず、金属製の搬送台１８で主に渦電流
が発生し、搬送台１８自身が発熱し、温度が上昇してベ
ーキングが行われる。この例では、搬送台１８は浮上し
たままベーキングが行われたが、搬送台１８を浮上させ
ないで、ベーキングすることも可能である。この場合
は、ベーキングの前に浮上用電流を切り、その後、磁極
１２にベーキング用の電流のみを流せばよい。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
搬送方向の一部の搬送トンネルの隔壁下部を非金属で構
成し、搬送台をその部分で停止させ、次に浮上／搬送磁
極に、浮上用電流に高周波電流を重畳させるか、又は高
周波電流のみを流し、トンネル内にて搬送台のベーキン
グを行うことができる。その結果、トンネル外部でベー
キングするのと異なり、必要な時に直ちに搬送台をベー
キングすることが可能となり、又、ベーキング後の結果
も良好で、トンネル内の真空度を上げることができる。
搬送方向の一部の搬送トンネルの隔壁下部を非金属で構
成し、搬送台をその部分で停止させ、次に浮上／搬送磁
極に、浮上用電流に高周波電流を重畳させるか、又は高
周波電流のみを流し、トンネル内にて搬送台のベーキン
グを行うことができる。その結果、トンネル外部でベー
キングするのと異なり、必要な時に直ちに搬送台をベー
キングすることが可能となり、又、ベーキング後の結果
も良好で、トンネル内の真空度を上げることができる。
【図１】本発明に係る磁気浮上搬送装置の一実施例を用
いた半導体製造装置を示す模式図である。
いた半導体製造装置を示す模式図である。
【図２】図１のトンネル３Ａの詳細を示す図であり、図
２（ａ）はその斜視図、図２（ｂ）はその側面図であ
る。
２（ａ）はその斜視図、図２（ｂ）はその側面図であ
る。
【図３】図１のトンネル３Ｂの詳細を示す図であり、図
３（ａ）はその斜視図、図３（ｂ）はその側面図であ
る。
３（ａ）はその斜視図、図３（ｂ）はその側面図であ
る。
【図４】図１のIV−IV線断面図である。
【図５】本発明に係る磁気浮上搬送装置の電源回路を示
す図である。
す図である。
【図６】従来の磁気浮上搬送装置を用いた半導体製造装
置を示す模式図である。
置を示す模式図である。
【図７】図６のVII−VII線断面図である。
【図８】図７のVIII−VIII線断面図である。
１ 搬送装置 ２ 隔壁 ３ トンネル ４ プロセス装置 １２ 磁極 １６ コイル １８ 搬送台 ２０ 被搬送物 ２５，２８ トンネル本体 ２９ 下部プレート ２６，３１ フランジ ３３Ｍ，３３Ｆ，３３Ｂ 交流電源
Claims (4)
- 【請求項１】 隔壁で包囲されて外部雰囲気から遮断さ
れた搬送トンネルと、対象物を載置する搬送台と、該搬
送台が走行する軌道と、磁極に交流電流を流すための電
源と、搬送台を浮上させ且つ走行させるための複数の磁
極とを含み、該磁極からの磁力の作用により搬送台は軌
道及び隔壁に対して非接触状態を維持しつつ搬送トンネ
ル内を浮上走行させる磁気浮上搬送装置において、少な
くとも、搬送方向の一部分の搬送トンネルの隔壁下部を
非金属で構成したことを特徴とする磁気浮上搬送装置。 - 【請求項２】 前記隔壁下部を非金属で構成した搬送ト
ンネルが、ゲートバルブによって、主搬送トンネルと隔
離可能であることを特徴とする請求項１記載の磁気浮上
搬送装置。 - 【請求項３】 前記搬送台を隔壁下部が非金属で構成し
た搬送トンネルの位置で停止させ、前記磁極に、浮上用
電流に高周波電流を重畳させて、前記搬送台のベーキン
グを行うことを特徴とする請求項１又は２記載の磁気浮
上搬送装置。 - 【請求項４】 前記搬送台を隔壁下部が非金属で構成し
た搬送トンネルの位置で停止させ、前記磁極に、高周波
電流のみを流して、前記搬送台のベーキングを行うこと
を特徴とする請求項１又は２記載の磁気浮上搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28746393A JPH07117848A (ja) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | 磁気浮上搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28746393A JPH07117848A (ja) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | 磁気浮上搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07117848A true JPH07117848A (ja) | 1995-05-09 |
Family
ID=17717667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28746393A Pending JPH07117848A (ja) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | 磁気浮上搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07117848A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007003588A1 (de) * | 2005-07-04 | 2007-01-11 | Siemens Aktiengesellschaft | Metallurgische vorrichtung mit magnetischer levitation zur reduktion von erzmaterial |
| CN100361287C (zh) * | 2006-03-10 | 2008-01-09 | 友达光电股份有限公司 | 基板传送装置 |
| JP2022508019A (ja) * | 2018-09-19 | 2022-01-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 磁気浮上システム、磁気浮上システムのベース、真空システム、及び真空チャンバにおいてキャリアを非接触で保持及び移動させる方法 |
-
1993
- 1993-10-22 JP JP28746393A patent/JPH07117848A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007003588A1 (de) * | 2005-07-04 | 2007-01-11 | Siemens Aktiengesellschaft | Metallurgische vorrichtung mit magnetischer levitation zur reduktion von erzmaterial |
| CN100361287C (zh) * | 2006-03-10 | 2008-01-09 | 友达光电股份有限公司 | 基板传送装置 |
| JP2022508019A (ja) * | 2018-09-19 | 2022-01-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 磁気浮上システム、磁気浮上システムのベース、真空システム、及び真空チャンバにおいてキャリアを非接触で保持及び移動させる方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2656659B2 (ja) | 高温超電導体を用いた物品搬送装置 | |
| EP0648698A4 (en) | MAGNETIC EFFECT FLOATING TRANSPORT DEVICE. | |
| JPH06156730A (ja) | 搬送装置 | |
| JPH06211306A (ja) | 基板保管装置 | |
| JPS59138524A (ja) | 搬送システム及び搬送方法 | |
| US5980193A (en) | Magnetically levitated robot and method of increasing levitation force | |
| JPH07117848A (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
| JPH06179524A (ja) | 磁気浮上真空搬送装置 | |
| JPS59138523A (ja) | リニアモ−タによる搬送物の移送制御方法 | |
| JPH07117849A (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
| JPH07122617A (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
| JPH07176593A (ja) | 搬送装置 | |
| JPS60170401A (ja) | 浮上式搬送装置 | |
| JPS6392205A (ja) | 真空装置用磁気浮上搬送装置 | |
| JP3625127B2 (ja) | 基板搬送装置並びに真空装置 | |
| JP3364294B2 (ja) | 搬送装置および搬送方法 | |
| JPH05122807A (ja) | 搬送装置 | |
| JP3025591B2 (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
| JPH0428622A (ja) | 半導体搬送装置 | |
| JPH06181249A (ja) | 基板搬送システム | |
| JPH07172579A (ja) | トンネル搬送装置 | |
| JPS619104A (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
| JPH05236610A (ja) | 磁気浮上搬送装置 | |
| JPH04275449A (ja) | 磁気搬送装置 | |
| JPH0812077A (ja) | 真空装置用磁気浮上搬送装置 |