JPH11130251A

JPH11130251A - 基板搬送装置

Info

Publication number: JPH11130251A
Application number: JP9292114A
Authority: JP
Inventors: Takamitsu Tadera; 孝光田寺; Narimitsu Kakiwaki; 成光垣脇
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1997-10-24
Filing date: 1997-10-24
Publication date: 1999-05-18
Anticipated expiration: 2017-10-24
Also published as: JP3625127B2

Abstract

(57)【要約】【課題】真空中で複数の基板を同時に搬送でき、重量
の大きな搬送にもかかわらず、故障率が低く、パーティ
クルの発生も少ない基板搬送装置を提供する。【解決手段】電磁石４は、電流の印加により、永久磁
石３との相互作用により、基板２を搭載した搬送車１が
浮上しないだけの磁力を発生する。Ｖ車輪１２ａ及びＶ
レール１３ａにより、搬送車１の水平方向への移動を規
制する。また、平車輪１２ｂ及び平レール１３ａは搬送
車１の紙面垂直方向の回転を規制する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＶＤ，スパッタ
等の装置において、基板中で複数の基板を同時に搬送す
る基板搬送装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体および液晶産業において、
基板表面に薄膜を形成するためのスパッタ，ＣＶＤ，ド
ライエッチングなどの真空処理装置が用いられている。
これらの真空処理装置において、個々に独立した排気系
を有する真空処理室を複数個備えたマルチチャンバ式の
装置が実用化されている。

【０００３】従来のマルチチャンバ式真空処理装置の例
を図１０に示す。図１０は、装置の平面図を示してい
る。中央に位置する搬送室１１０の周りに複数のプロセ
スチャンバ１０９とロードロック室１０７が配置されて
いる。各プロセスチャンバ１０９と搬送室１１０間及び
搬送室１１０とロードロック室１０７間にはゲートバル
ブＶ１０５、ロードロック室１０７と大気との間にはゲ
ートバルブＡ１０６が設けられている。また、各プロセ
スチャンバ１０９、搬送室１１０とロードロック室１０
７のそれぞれを独立して排気を行う真空ポンプを有して
いる。

【０００４】そして、搬送室１１０には基板１０９を搬
送するための真空搬送ロボット１０８が備えられ、紙面
に対し鉛直方向の回転動作と水平面内での伸縮動作によ
り、ロードロック室１０７内の基板１０２の各プロセス
チャンバ１０９への搬入と、各プロセスチャンバ１０９
からロードロック室１０７への搬出を行う。真空搬送ロ
ボット１０８は基板１０２を１枚毎に搬送する。

【０００５】また、大気側には、大気搬送ロボット１０
３が設置されており、複数の基板１０２が収納された基
板カセット１０４をロードロック室１０６へ搬送する。

【０００６】以下に、上記した装置の動作をより詳細に
説明する。

【０００７】まず、大気搬送ロボット１０３により、大
気側にある複数の基板１０２の収納された基板カセット
１０４が、ゲートバルブＡ１０６を介してロードロック
室１０６に搬入される。

【０００８】そして、ゲートバルブＡ１０６が閉とさ
れ、ロードロック室１０６内が真空ポンプによって真空
引きされる。ロードロック室１０６内が所定の真空度に
なるとゲートバルブＶ１０５が開とされ、搬送室１１０
内の真空搬送ロボット１０８が基板カセット１０４から
基板１０２を１枚取り出し、プロセスチャンバ１０９内
に搬送する。また、プロセスチャンバ１０９で処理の済
んだ基板１０２は真空搬送ロボット１０８により、基板
カセット１０４に戻される。

【０００９】これを繰り返し、基板カセット１０４内の
すべてが処理済の基板１０２で一杯になると、ゲートバ
ルブＶ１０５が閉じられ、ロードロック室１０６内が大
気に解放され、ゲートバルブＡ１０６が開られて基板カ
セット１０４がロードロック室１０６から取り出され
る。

【００１０】ところで、近年、半導体および液晶産業に
おいては生産性向上が強く要求されており、そのため、
プロセスチャンバでの処理時間は短縮することが望まし
い。しかしながら、近年の基板サイズの大型化等に伴う
真空搬送系の搬送時間および搬送機構の拡大等により、
従来の搬送装置では処理が終了した基板を直ちに搬出す
ることが困難であるという問題が発生する。

【００１１】これらの問題を解決し、スループットを上
げることが可能な装置として、１つのプロセスチャンバ
内に複数のプロセスボックスを設け、同時に多数の基板
に処理を行うバッチ式の真空処理装置がある。

【００１２】図１１，１２にバッチ式の真空処理装置の
概略を示す。図１１，１２はそれぞれ真空処理装置の平
面図と側面図を示している。なお、ここで図１０と略同
一の部分には同一符号を付し説明を省略する。

【００１３】搬送室１２０の周りにプロセスチャンバ１
２１とロードロック室１２３があり、搬送室１２０には
複数の基板１０２を同時に搬送する真空搬送ロボット１
２４が設置されている。プロセスチャンバ１２１内には
プロセスボックス１２２が複数設置されている。また、
プロセスボックス１２２は、内部に載置された複数の基
板１０２に対して一括した処理ができるようになってい
る。

【００１４】この真空処理装置では、大気側から大気搬
送ロボット１０３により、基板カセット１０４からロー
ドロック室１２３に基板１０２が搬入される。

【００１５】そして、真空搬送ロボット１２４により、
ロードロック室１２３内の複数の基板１０２が同時に取
り出されプロセスチャンバ１２１へ搬入される。また、
処理の終わった複数の基板１０２がプロセスチャンバ１
２１から同時に取り出され、ロードロック室１２３に戻
される。

【００１６】上記したように、この装置では、搬送室１
２０内において同時に多数の基板をバッチ搬送するた
め、搬送する基板の重量と真空搬送ロボットの基板を支
持するラック部の重量により、その関節部には大きな負
荷がかかり、関節部のベアリング等の寿命が短くなる。
故障、パーティクル発生の原因となる。特に、真空中で
の搬送において、搬送速度が上がり、搬送物の重量が大
きくなると、この現象が顕著に表れる。

【００１７】真空中での成膜において、パーティクルの
発生は問題であり、その問題を解決する方法として磁気
浮上搬送がある。磁気浮上搬送は、摺動部をなくし、パ
ーティクルを発生させない搬送方法である。図１３の説
明図を用いてこの磁気浮上搬送について説明する。

【００１８】磁気浮上搬送装置は、隔壁１３１によって
形成され内部が真空状態に保持された真空トンネル１３
５と、真空トンネル１３５内に配置された搬送台１３３
とを備えている。真空トンネル１３５の上部には左右に
搬送台１３３を非接触状態にて浮上支持する浮上用電磁
石１３４が配置されている。

【００１９】一方、真空トンネル１３５の下部には搬送
台１３３を走行移動させるリニアモータ１３６と変位セ
ンサ１３８が配置されている。それぞれは紙面に垂直な
方向に等間隔に設置されている。

【００２０】変位センサ１３８は搬送台１３３までの垂
直距離を測定し、電磁石１３４の吸引力を調整し、搬送
台１３３の位置、姿勢を制御する。そして、リニアモー
タ１３６により搬送台１３３を進行方向に走行させる。

【００２１】搬送台１３３は完全に浮上しているため、
摺動部がなく、搬送系でパーティクルは発生しない。

【００２２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気浮
上搬送装置は、本来、真空中での長距離の搬送を行う場
合に適したものであり、真空装置内で基板の受け渡しを
行うような場合の搬送には適していない。それは、プロ
セスチャンバへの基板の搬入出時には基板の位置精度が
重要であり、通常の磁気浮上搬送装置ではその位置精度
を維持することが困難であるからである。実際に上記位
置精度を維持した範囲内で搬送を行うためには、浮上用
の電磁石や駆動用のリニアモータとして高精度の大きな
装置を使用する必要があり、また、搬送台の位置の検出
も精度のよく行う必要（高精度の位置検出器が必要）が
あり、事実上実現不可能である。

【００２３】以上のような課題に鑑み、本発明は真空中
で、複数の基板を同時に搬送する基板搬送装置におい
て、重量の大きな搬送にもかかわらず、故障率が低く、
パーティクルの発生も少ない基板搬送装置を提供するこ
とを目的とする。

【００２４】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の基板搬
送装置は、基板を搭載した搬送ローダを所定位置へと移
動させる基板搬送装置において、搬送ローダに、基板を
搭載した搬送ローダが浮上しないだけの浮力を与える浮
力付与手段を具備するものである。

【００２５】請求項２に記載の基板搬送装置は、請求項
１に記載の基板搬送装置において、浮力付与手段が、磁
力により前記搬送ローダに浮力を与えるものである。

【００２６】請求項３に記載の基板搬送装置は、請求項
２に記載の基板搬送装置において、浮力付与手段が、基
板を搭載した搬送ローダの重量に応じて、磁力を調整す
る磁力調整手段を具備するものである。

【００２７】請求項４に記載の基板搬送装置は、請求項
１乃至請求項３のいずれかに記載の基板搬送装置におい
て、搬送ローダの移動軌道を規制する規制手段を具備す
るものである。

【００２８】請求項５に記載の基板搬送装置は、請求項
４に記載の基板搬送装置において、規制手段が、搬送ロ
ーダと基板の搬送経路に設けた、Ｖ字型車輪及びそれと
嵌合するＶ字型レールを具備するものである。

【００２９】請求項６に記載の基板搬送装置は、請求項
５に記載の基板搬送装置において、規制手段が、搬送ロ
ーダと基板の搬送経路に設けた、平車輪及び平レールを
具備するものである。

【００３０】請求項７に記載の基板搬送装置は、請求項
４に記載の基板搬送装置において、規制手段が、磁力に
より搬送ローダの移動軌道を規制するものである。

【００３１】請求項８に記載の基板搬送装置は、請求項
１乃至請求項７のいずれかに記載の基板搬送装置におい
て、搬送ローダを移動させる多関節ロボットを具備する
ものである。

【００３２】以下、本発明の作用を説明する。

【００３３】本発明では、搬送ローダにそれを浮上させ
ないだけの浮力を与えるため、搬送ローダの見かけ上の
重量を低減できるため、故障率を低く抑えることが可能
であり、また、搬送ローダの鉛直方向（重力方向）にお
ける位置を正確に制御できる。

【００３４】また、磁力により浮力を印加することで、
パーティクルの発生のないクリーンな搬送を実現でき
る。

【００３５】さらに、搬送ローダの基板を含めた総重量
に基づいて、印加する磁力を調整すため、使用状況に合
わせて適切な浮力を印加できる。

【００３６】また、搬送ローダの移動軌道を規制する手
段を設けているため、より確実な搬送ローダの位置規制
を実現できる。

【００３７】また、Ｖ字型車輪及びそれと嵌合するＶ字
型レールで規制すれば、水平方向の移動を確実に規制で
きる。

【００３８】さらに、平車輪及び平レールで規制すれ
ば、搬送ローダの移動方向を軸とした回転方向の移動を
確実に規制できる。

【００３９】また、搬送ローダの水平方向の移動を磁力
により規制すれば、水平方向の移動規制を移動状況に合
わせて調整できる。

【００４０】また、搬送ローダの移動を多関節ロボット
により行えば、摺動部分を無くすことができ、パーティ
クルの発生を抑制できる。

【００４１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。

【００４２】（実施の形態１）以下、図１〜図５を用い
て本発明の実施の形態１の基板搬送装置について説明す
る。

【００４３】図１は、本発明の基板搬送装置を組み込ん
だ真空装置の概略平面図であり、図２，３は、それぞれ
ロードロック室とプロセスチャンバ部の構成を示す側面
図と正面図である。図４，５は、基板を受け渡す機構を
説明する説明図である。

【００４４】図１において、６はプロセスチャンバであ
り、５のロードロック室とともに、１つの大気搬送ロボ
ット２１に対して放射状に配置している。大気搬送ロボ
ット２１は真空中ではなく、大気中に配置している。各
ロードロツク室５の大気搬送ロボット２１側にはゲート
バルブＡ８が設けてあり、各ロードロツク室５のプロセ
スチャンバ６側にはゲートバルブＶ９が設けてある。ロ
ードロツク室５はゲートバルブＡ８を介して大気部分と
接触する。ロードロック室５の内部には、プロセスチャ
ンバ６への一方向のみ移動可能な真空搬送車１を配置す
る。

【００４５】大気搬送ロボット２１は、ロードロック室
５内部の真空搬送車１と連動しており、真空吸着等によ
り基板２を高速搬送する。さらに、大気搬送ロボット２
１は、基板２を直接基板カセット２０に出し入れする。

【００４６】以下に、この真空処理装置の動作を説明す
る。

【００４７】図１において、まず、大気搬送ロボット
２１によって、大気中に置かれた基板カセット２０から
基板２を取出す。次に、ロードロック室５のゲートバル
ブＡ８を開き、ロードロック室５の中へ搬送する。ロー
ドロック室５では、大気搬送ロボット２１及び真空搬送
車１と連動して、基板２を真空搬送車１に受け渡す。

【００４８】次に、ゲートバルブＡ８を閉じて、ロー
ドロック室５を真空引きする。

【００４９】その後、ゲートバルブＶ９を開き、真空
搬送車１により基板２をプロセスチャンバ６内へ搬送す
る。

【００５０】続いて、ゲートバルブＶ９を閉じ、プロ
セスチャンバ６で基板２に対する処理を実行する。

【００５１】処理後、プロセスチャンバ６から基板２
を取り出し、〜の逆の動作で基板２を基板カセット
２０に収納する。このような手順で処理が完了する。

【００５２】図２，３にそれぞれ示すように、ロードロ
ック室５とプロセスチャンバ６は隔壁１１により大気と
遮断されている。ロードロック室５内には搬送車１があ
り、基板２のプロセスチャンバ６への搬入または搬出を
行う。搬送車１は、ロードロック室５の床面に設けられ
たレール１３上を往復可能に形成されている。搬送車１
の駆動は、ボールネジ（図示せず）からの動力や、棒状
部材からの押圧力等により行うことができる。

【００５３】搬送車１の支柱１ａには複数の基板支持爪
１０が設けられ、その上に基板２が搭載される。プロセ
スチャンバ６には、複数の基板２を同時に処理できるよ
うに、複数のプロセスボックス７が設置されている。

【００５４】図３に示すように、搬送車１の車輪１２は
一方にＶ字型の車輪１２ａに、他方に平車輪１２ｂを用
いる。それに合わせてロードロック室５にＶ字型のレー
ル１３ａと平レール１３ｂを設置する。そして、Ｖ字型
の車輪１２ａとＶ字型のレール１３ａにより、搬送車１
の軌道を規制し、平車輪１２ｂと平レール１３ｂで搬送
車１の紙面に対し垂直な軸まわりの回転を止める。

【００５５】搬送車１下部には車輪１２（１２ａ，１２
ｂ）の間に、永久磁石３が固定されており、ロードロッ
ク室５の床面には搬送車１に設けられた永久磁石３に対
向して電磁石４が配設されている。この電磁石４は、搬
送車１の移動方向に延びて形成されており、搬送車１が
移動しても常に永久磁石３に対向する位置に電磁石４が
存在するようになっている。

【００５６】電磁石４に電流が印加されると、永久磁石
３と電磁石４との間に反発力が生じて、搬送車１に浮力
が働く。ここで、電磁石４に供給する電力を調整するこ
とで、上記浮力を搬送車１がレールから浮かない程度の
ものとする。なお、ここで、浮力が搬送車１の重心位置
付近にかかるように、永久磁石３、電磁石４の位置調整
を行えば、搬送車１の安定なレール上の移動を実現でき
る。

【００５７】上記のような浮力を発生させるために電磁
石４に供給する電力は、予め定められた一定値としてお
いても良いし、また、図３のように調整可能なものとし
ても良い。図３では、基板枚数（あるいは重量）に応じ
た信号を出力する浮力調整器１４を具備しており、使用
者からの基板枚数（あるいは重量）の入力に応じて、電
磁石ドライバ１５に指令値を出力する。電磁石ドライバ
１５は上記指令値に従って、基板枚数（あるいは重量）
に応じた電流を電磁石４に供給する。

【００５８】なお、電磁石４への電力の供給は電磁石４
全体に印加しても良いし、また、搬送車１の移動に伴っ
て移動方向に順に供給しても良い。

【００５９】本実施の形態の基板搬送装置では、このよ
うに搬送車１が浮かない程度の磁力を与えて搬送車１を
移動させるため、搬送車１の重力が見かけ上減少し、搬
送車１の駆動系にかかる負担を軽減できるとともに、鉛
直方向（重力のかかる方向）に対する位置決めをするこ
とが可能となる。また、搬送車１の軌道をレールによっ
て規制することができ、水平方向に対しても確実に位置
決めをすることが可能となる。また、レールにかかる荷
重が軽減されるため、車輪とレールの摺動によるパーテ
ィクルの発生を抑制することができる。なお、ここで
は、水平方向の位置決めのためにＶ字型の車輪１２ａと
Ｖ字型のレール１３ａを使用しているが、これに限るも
のではない。

【００６０】なお、電磁石４へ電流を流すのは搬送車１
が移動するときのみであり、搬送車１に取り付けた永久
磁石及び電磁石の発生する磁力がプロセスチャンバ内で
行われるプロセスに影響を与えることはない。

【００６１】次に、真空装置内での基板の受け渡し方法
について、図４及び図５を用いて説明する。

【００６２】図４は、大気搬送ロボット２１，ロードロ
ック室５内の真空搬送車１とプロセスチャンバ６内にあ
る複数のプロセスボックス７内のステージ２４の位置関
係を示す斜視図である。

【００６３】ロードロック室５及びプロセスチャンバ６
では、大気搬送ロボット２１と真空搬送車１とプロセス
ボックス７内の基板受け渡しピン２５が連動して、基板
２の受け渡しを行う（この動作については後述する）。
図４に示すように、大気搬送ロボット２１はロードロッ
ク室５内の真空搬送車１と、真空搬送車１はプロセスボ
ックス７内のステージ２４と基板２の受け渡しを行う。

【００６４】基板受け渡しのプロセスの一例を図５を用
いて説明する。

【００６５】図５（ａ）に示すように、基板２が大気搬
送ロボット２１のＵ字型のアーム２２に設けられた真空
吸着器２３により固定された状態で、アーム２２の動き
とともに、ロードロック室５内の真空搬送車１の基板支
持爪１０に近づく。

【００６６】図５（ｂ）に示すように、大気搬送ロボッ
ト２１のアーム２２は、ロードロック室５の真空搬送車
１の基板支持爪１０の間へ入り込む。基板支持爪１０は
搬送車１の動きに従って前後に移動する。

【００６７】次に、図５（ｃ）に示すように、大気搬送
ロボット２１のアーム２２が徐々に降下して、真空搬送
車１の基板支持爪１０に基板２が乗るような形で受け渡
しされる。

【００６８】続いて、図５（ｄ）に示すように、大気搬
送ロボット２１のアーム２２をロードロック室５から離
す。一方、真空搬送車１の基板支持爪１０は搬送車１の
移動に従い、その動きとともに、基板支持爪１０の上の
基板２は、プロセスチャンバ６へ移動する。

【００６９】そして、図５（ｅ）に示すように、プロセ
スチャンバ６内のステージ２４に設けられたピン２５が
突出し、基板２を支持する。

【００７０】最後に、図５（ｆ）に示すように、基板支
持爪１０が搬送車１と共に、ロードロック室５に戻る。
プロセスチャンバ６内では、ピン２５が降下し基板２の
設定が完了する。その後、基板２は所定の処理がされ
る。

【００７１】所定の処理がされた基板２は図５（ｆ）か
ら図５（ａ）へ逆の動作で基板２が搬送される。

【００７２】なお、図５では１枚の基板を受け渡す機構
例を示したが、これを縦方向に複数設置することによ
り、複数枚の基板を同時に処理できる。

【００７３】以上のように、本実施の形態の基板搬送装
置によれば、真空中で複数の基板を同時に搬送する場合
においても、浮力を供給することで見かけ上の重量を低
減できるため、故障率を低く抑えることが可能であり、
かつ、パーティクルの発生も抑制できる。

【００７４】（実施の形態２）図６は、実施の形態２の
基板搬送装置を示す正面断面図である。本実施の形態
は、搬送車１の水平方向の軌道の規制と浮力付与の方法
について実施の形態１と相違するものであり、他の部分
は同一である。このため、ここでは図１から図５と略同
一のものには同一符号を付し説明を省略する。

【００７５】本実施の形態では、図６に示すように、搬
送車１の下部の両側にＬ字型の永久磁石７２を固定し、
その永久磁石７２に対向するようにロードロック室５の
床面にＬ字型の電磁石７３を設置している。また、搬送
車１の車輪７０は全て平車輪であり、ロードロック室５
には平レール７１が形成されている。

【００７６】以下に、本実施の形態の基板搬送装置の動
作を説明する。

【００７７】図６の構成において、電磁石７３に電流を
流すと、永久磁石７２と電磁石７３の間に反発力が発生
する。永久磁石と電磁石７３はそれぞれＬ字型に形成さ
れているため、上記反発力は鉛直方向と水平方向の両方
向きに発生する。そして、鉛直方向に発生する反発力で
搬送車１に浮力を与え、水平方向に発生する反発力で、
搬送車１の軌道を規制する。

【００７８】このような基板搬送装置では、実施の形態
１と同様に、鉛直方向に対しては、搬送車１に与える浮
力を基板を搭載した搬送車１を浮かさない程度の力に設
定することで、搬送車１の位置決めを確実に行うことが
できる。

【００７９】また、水平方向に対しては、実施の形態１
のように規制のためのレールを用いておらず、磁力によ
って位置規制をしているため、搬送車１の水平方向への
移動をセンサー等を用いて検出し、その検出結果に基づ
き、電磁石７３に供給する電力を可変することが望まし
い。

【００８０】以上のような本実施の形態によれば、搬送
車１に浮力を供給することで見かけ上の重量を低減でき
るため、故障率を低く抑えることが可能であり、かつ、
パーティクルの発生も抑制できる。

【００８１】（実施の形態３）図７は、実施の形態３の
基板搬送装置を示す正面断面図である。本実施の形態は
実施の形態１，２とは搬送車１の水平方向の軌道の規制
方法が異なっているものであり、他の部分は同様であ
る。このため、図１から図６と略同一のものには同一符
号を付し説明を省略する。

【００８２】図７に示すように、搬送車１の両側面に永
久磁石７５を固定している。また、その永久磁石７５に
対向するようにロードロック室５の内壁側面に電磁石７
６を設置している。

【００８３】ここで、電磁石７６に電流をその大きさを
制御して供給することにより、永久磁石７５と電磁石７
６の間に反発力を発生させて、搬送車１の軌道を規制す
ることができる。

【００８４】このような基板搬送装置では、実施の形態
１，２と同様に、鉛直方向に対しては、搬送車１に与え
る浮力を基板を搭載した搬送車１を浮かさない程度の力
に設定することで、搬送車１の位置決めを確実に行うこ
とができる。

【００８５】また、水平方向に対しては、実施の形態１
のように規制のためのレールを用いておらず、磁力によ
って位置規制をしているため、搬送車１の水平方向への
移動をセンサー等を用いて検出し、その検出結果に基づ
き、電磁石７６に供給する電力を可変することが望まし
い。

【００８６】以上のように、本実施の形態によっても、
浮力を供給することで見かけ上の重量を低減できるた
め、故障率を低く抑えることが可能であり、かつ、パー
ティクルの発生も抑制できる。

【００８７】（実施の形態４）図８は、実施の形態４の
基板搬送装置の構成を示す正面断面図である。本実施の
形態は、実施の形態３と搬送車１への浮力付与の方法が
異なっているものであり、他の部分は同一である。この
ため、図１から図７と略同一のものには同一符号を付し
説明を省略する。

【００８８】図８に示すように、搬送車１の上面に永久
磁石８０を固定している。また、その永久磁石８０に対
向するようにロードロック室５の内壁上面に電磁石８１
を設置している。

【００８９】この構成の基板搬送装置では、電磁石８１
に電流を流すことにより永久磁石８０と電磁石８１の間
に吸引力を発生させ、搬送車１に浮力を与える。なお、
ここでの吸引力は搬送車１を浮上させないだけの力に設
定しておく。これにより、実施の形態１と同様に、鉛直
方向に対しては、搬送車１の位置決めを確実に行うこと
ができる。

【００９０】また、水平方向に対しては、実施の形態１
のように規制のためのレールを用いておらず、磁力によ
って位置規制をしているため、搬送車１の水平方向への
移動をセンサー等を用いて検出し、その検出結果に基づ
き、電磁石７６に供給する電力を可変することが望まし
い。

【００９１】以上のように、本実施の形態によれば、真
空中で、複数の基板を同時に搬送する基板搬送装置にお
いて、重量の大きな搬送にもかかわらず、故障率が低
く、パーティクルの発生も少ない基板搬送装置が実現で
きる。

【００９２】（実施の形態５）図９は、実施の形態５の
真空搬送装置の構成を示す正面断面図である。本実施の
形態は、軌道の規制方法において上述の実施の形態１〜
４と異なっている。このため、図１から図８と略同一の
ものには同一符号を付し説明を省略する。

【００９３】図９に示すように、ここでは、搬送車１の
移動を多関節ロボット９０を用いて行う。この多関節ロ
ボット９０は、所定の軌道に沿って搬送車１を移動させ
る。このため、搬送車１の移動軌道は、鉛直方向及び水
平方向に確実に規制される。

【００９４】また、本実施の形態では、永久磁石８０と
電磁石８１に吸引力を発生させ、多関節ロボット９０に
かかる搬送車１の重力を低減しているため、多関節ロボ
ットの各関節に働くモーメントが小さくなり、関節部の
寿命が伸び、信頼性が高くなる。

【００９５】なお、実施の形態１〜５では、パーティク
ル抑制等の顕著な効果が得られる真空雰囲気内での搬送
について説明したが、本発明の基板搬送装置が大気中に
おいても使用できることは言うまでもない。

【００９６】また、浮力を与える手段としては、磁力以
外に圧空による空気力を使用しても良い。

【００９７】

【発明の効果】本発明によれば、搬送車の軌道を規制し
ながら、搬送車にそれを軌道から浮かせないような浮力
を与えるため、位置制御の困難さなしに搬送車を支持す
る部分に働く重力による負担を減らすことができる。し
たがって、搬送装置のベアリング等の摺動部品への重力
による負担が減り、パーティクルの発生が抑えられ、か
つ長寿命化し、基板搬送装置の故障率が低くなる。特
に、真空雰囲気中では、問題となるパーティクルの発生
を抑制できるため有効である。

【００９８】また、浮力付与手段により重力の影響を低
減できるため、複数の搬送物が搭載しても問題ない。さ
らに、磁力により搬送対象物に浮力を容易に与えること
ができ、搬送物の重量に応じて浮力の切り替えも容易に
行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１の基板搬送装置の構成を
示す平面図である。

【図２】実施の形態１の基板搬送装置の構成を示す側面
図である。

【図３】本発明の実施の形態１の搬送車の構成を示す正
面断面図である。

【図４】実施の形態１の基板受け渡し機構を示す斜視図
である。

【図５】実施の形態１の基板受け渡し動作を説明する図
である。

【図６】実施の形態２の搬送車の構成を示す正面断面図
である。

【図７】実施の形態３の搬送車の構成を示す正面断面図
である。

【図８】実施の形態４の搬送車の構成を示す正面断面図
である。

【図９】実施の形態５の搬送車の構成を示す正面断面図
である。

【図１０】従来の基板搬送装置の構成を示す平面図であ
る。

【図１１】従来の基板搬送装置の構成を示す平面図であ
る。

【図１２】従来の基板搬送装置の構成を示す側面図であ
る。

【図１３】従来の基板搬送装置の構成を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１搬送車２基板３，７２，７５，８０永久磁石４，７３，７６，８１電磁石５ロードロック室６プロセスチャンバ７プロセスボックス１２，７０車輪１３，７１レール１４浮力調整器１５電磁石ドライバ２０基板カセット２１大気搬送ロボット９０多関節ロボット

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を搭載した搬送ローダを所定位置へ
と移動させる基板搬送装置において、前記搬送ローダに、前記基板を搭載した搬送ローダが浮
上しないだけの浮力を与える浮力付与手段を具備するこ
とを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】請求項１に記載の基板搬送装置におい
て、前記浮力付与手段は、磁力により前記搬送ローダに浮力
を与えることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項３】請求項２に記載の基板搬送装置におい
て、前記浮力付与手段は、前記基板を搭載した搬送ローダの
重量に応じて、前記磁力を調整する磁力調整手段を具備
することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項４】請求項１乃至請求項３のいずれかに記載
の基板搬送装置において、前記搬送ローダの移動軌道を規制する規制手段を具備す
ることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項５】請求項４に記載の基板搬送装置におい
て、前記規制手段は、前記搬送ローダと前記基板の搬送経路
に設けた、Ｖ字型車輪及びそれと嵌合するＶ字型レール
を具備することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項６】請求項５に記載の基板搬送装置におい
て、前記規制手段は、前記搬送ローダと前記基板の搬送経路
に設けた、平車輪及び平レールを具備することを特徴と
する基板搬送装置。
【請求項７】請求項４に記載の基板搬送装置におい
て、前記規制手段は、磁力により前記搬送ローダの移動軌道
を規制することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項８】請求項１乃至請求項７のいずれかに記載
の基板搬送装置において、前記搬送ローダを移動させる多関節ロボットを具備する
ことを特徴とする基板搬送装置。