JPH07121926B2 - ラクトン類の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はラクトン類の製造方法に関するものである。詳
しくは、ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物及び／又は
ジカルボン酸エステルを液相で水素化することによりラ
クトン類を製造する方法の改良に関するものである。

（従来の技術） ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物及び／又はジカルボ
ン酸エステルを水素化してラクトン類を製造する方法は
古くから検討されており、これまでに多数の提案がなさ
れている。例えば触媒として、ニッケル系触媒（特公昭
43-6947号公報）、コバルト系触媒（特開昭51-95057号
公報）、銅−クロム系触媒（特公昭38-20119号公報）、
銅−亜鉛系触媒（特公昭42-14463号公報）等を使用し
て、固定床又は懸濁液相により水素化反応を行なう方法
が知られている。

一方、均一系のルテニウム系触媒を使用して上記の水素
化反応を行なう方法も知られ、例えば米国特許3957827
号には、［RuXn（PR₁R₂R₃）xLy］型のルテニウム系触媒
を使用し40〜400psiの加圧下で水素化してラクトン類を
製造する方法が記載され、また米国特許4485246号に
は、同様の触媒による水素化反応を有機アミンの存在下
で行なうことが記載されている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上記のニッケル系触媒、コバルト系触
媒、銅−クロム系触媒、銅−亜鉛系触媒等の固体触媒を
使用する従来の方法は、反応条件が数十気圧以上の苛酷
な条件の採用は避けられないという問題があった。一
方、上記均一系のルテニウム系触媒を使用する方法は、
比較的温和な条件下で水素化反応が進行するという特徴
がある半面、触媒活性がやや低水準であるうえ、触媒寿
命が短かく、またハロゲンを使用しているため反応装置
の腐蝕が生ずるという問題がある。

そこで本出願人は、先に触媒としてルテニウム、有機ホ
スフィン及びpka値が２より小さい酸の共役塩基を含有
するルテニウム系触媒を使用し、液相で水素化する方法
を提案した（特開平1-25771号公報）。この方法では、
高活性なルテニウム触媒を使用するので、温和な条件下
で良好に水素化反応を行うことができるが、ジカルボン
酸、ジカルボン酸無水物及び／又はジカルボン酸エステ
ルを原料として水素化反応を継続すると、反応帯域中に
原料の分解あるいは重縮合等による高沸点副生物が生成
し、触媒も僅かではあるが失活する。

一定容量の反応系において、高沸点副生物の蓄積を防止
して水素化反応を長期間安定して継続するには、一般に
高沸点副生物の生成量又は触媒の失活量見合いで、反応
後の触媒液の一部又は全部を系外へ抜き出して新鮮な液
と交換する方法が採られるが、抜き出した触媒液中に
は、溶媒及びラクトン類等の有効成分が含まれており、
これらの有効活用が工業的実施上の大きな課題である。

本発明は、ルテニウム触媒を作用する方法における上述
の問題点を解決し、溶媒及び触媒を効率よく利用するこ
とにより、工業的有利にラクトン類を製造することを目
的とするものである。

（課題を解決するための手段） 本発明者等は上記の目的を達成するために検討した結
果、ルテニウム触媒を使用してジカルボン酸、ジカルボ
ン酸無水物及び／又はジカルボン酸エステルを液相で連
続的に水素化してラクトン類を製造する場合に、水素化
反応後の生成液からラクトン類を分離して得られる触媒
液を、特定範囲の温度条件下で蒸留して溶媒を分離し、
分離した溶媒を水素化反応に循環使用することにより、
触媒の失活を阻止して工業的有利にラクトン類を製造で
きることを見出し本発明を達成した。即ち本発明の要旨
は、ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物及び／又はジカ
ルボン酸エステルをルテニウム触媒の存在下に溶媒を用
いて液相で水素化することによりラクトン類を製造する
方法において、水素化反応後の触媒液から溶媒を蒸留分
離し、分離した溶媒を水素化反応に循環使用し、かつ溶
媒を蒸留分離する際の蒸留塔の塔底温度を140〜240℃に
保持することを特徴とするラクトン類の製造方法に存す
る。

本発明を詳細に説明するに、本発明における原料物質と
しては、炭素数３〜７の飽和又は不飽和のジカルボン
酸、それ等の無水物、もしくはそれ等のジカルボン酸の
エステルが挙げられ、エステルとしては低級アルキルエ
ステルが好ましい。具体的には例えば、マレイン酸、フ
マール酸、コハク酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、
マレイン酸ジメチル、フマール酸ジエチル、コハク酸−
ジ−ｎ−ブチル等が使用される。

本発明に使用されるルテニウム触媒としては、例えば
（イ）ルテニウム、（ロ）有機ホスフィン及び（ハ）pK
aが２より小さい酸の共役塩基を含有するルテニウム系
触媒が挙げられ、場合によりこれに更に（ニ）中性配位
子を含有させた触媒が好適に使用される。

本発明は、前記の原料物質を上記ルテニウム触媒の存在
下に液相で水素化してラクトン類を製造する場合に、水
素化反応生成液からラクトン類を分離して得られる触媒
液から溶媒を蒸留分離し、分離した溶媒を水素化反応に
循環使用し、かつ溶媒を蒸留分離する際の蒸留塔の塔底
温度を140〜240℃に保持することを骨子とするものであ
り、これにより触媒の失活を阻止すると共に、溶媒を効
率よく利用し、水素化反応を長期間安定して継続しラク
トン類を工業的に製造することができる。

本発明の方法により水素化反応を行うには、反応容器
に、前記の原料物質、触媒成分及び溶媒を導入しこれに
水素を導入する。水素は窒素あるいは二酸化炭素等の反
応に不活性なガスで希釈されたものであってもよい。反
応温度は通常50〜250℃、好ましくは100〜200℃であ
る。反応系内の水素分圧は特に限られないが、工業的実
施上は通常0.1〜100kg/cm²、好ましくは１〜100kg/c
m²、更に好ましくは10〜50kg/cm²である。反応は回分方
式及び連続方式の何れも実施することができ、回分方式
の場合の所要反応時間は通常１〜20時間である。

本発明においては、上記の水素化反応後の生成液から、
まず蒸留、抽出等により目的とするラクトン類及び水を
分離し、得られる触媒を含有する溶媒溶液（触媒液）の
所要量を抜き出して特定の温度条件下で蒸留処理し、溶
媒を回収して水素化反応に循環使用するものである。触
媒液の抜き出し量は、通常触媒液中の高沸点副生物の生
成量又は触媒の失活量見合いで決定されるが、更に多量
を抜き出してもよい。

抜き出した触媒液から蒸留により溶媒を分離する場合、
蒸留塔の塔底温度を140〜240℃とすることが必須の条件
である。塔底温度が240℃よりも高いと、蒸留により回
収した溶媒を水素化反応に循環使用した場合に、ルテニ
ウム触媒が失活する。その理由は詳らかではないが、高
沸点副生物が著しく高温で処理されることにより触媒毒
が生成するものと推測される。また、塔底温度が140℃
よりも低い場合には、生成液中の高沸点副生物が分解さ
れずに蓄積して、ラクトン類の収率及び溶媒の回収率が
低下する。溶媒蒸留の好ましい塔底温度は150〜240℃で
あり、とくに好ましいのは160〜230℃である。

なお、溶媒蒸留における塔頂圧力は特に臨界的でなく、
塔底温度を140〜240℃に保持できる0.01mmHg〜常圧の範
囲から選ばれる。また溶媒蒸留における還流比、段数及
び塔底帯留時間等も臨界的でなく、例えば夫々0.01〜10
0、単蒸留〜100段及び数時間〜数十時間の範囲から選定
される。蒸留は回分又は流通方式の何れでもよく、蒸留
形式として、水蒸気蒸留、薄膜蒸留等を採用することも
できる。

蒸留により回収した溶媒は、反応工程に直接循環しても
よいが、回収した溶媒中にはクラトン類が含まれている
ので、例えば触媒液循環方式の場合は、水素化反応生成
液からラクトン類を分離する工程に循環するのが有利で
ある。

本発明を更に具体的に説明するに、本発明に使用される
前示（イ）ルテニウム、（ロ）有機ホスフィン及び
（ハ）pKa値が２より小さい酸の共役塩基を含有し更に
場合により中性配位子を含有していてもよいルテニウム
触媒の詳細は次の通りである。

（イ）ルテニウム： ルテニウムとしては、金属ルテニウム及びルテニウム化
合物の何れも使用することができる。ルテニウム化合物
としては、ルテニウムの酸化物、ハロゲン化物、水酸化
物、無機酸塩、有機酸塩又は錯化合物が使用され、具体
的には例えば、二酸化ルテニウム、四酸化ルテニウム、
二水酸化ルテニウム、塩化ルテニウム、臭化ルテニウ
ム、ヨウ化ルテニウム、硝酸ルテニウム、酢酸ルテニウ
ム、トリス（アセチルアセトン）ルテニウム、ヘキサク
ロロルテニウム酸ナトリウム、テトラカルボニルルテニ
ウム酸ジカリウム、ペンタカルボニルルテニウム、シク
ロペンタジエニルジカルボニルルテニウム、ジブロモト
リカルボニルルテニウム、クロロトリス（トリフェニル
ホスフィン）ヒドリドルテニウム、ビス（トリ−ｎ−ブ
チルホスフィン）トリカルボニルルテニウム、ドデカカ
ルボニルトリルテニウム、テトラヒドリドデカカルボニ
ルテトラルテニウム、オクタデカカルボニルヘキサルテ
ニウム酸ジセシウム、ウンデカカルボニルヒドリドトリ
ルテニウム酸テトラフェニルホスホニウム等が挙げられ
る。これ等の金属ルテニウム及びルテニウム化合物の使
用量は、反応溶液１リットル中のルテニウムとしては0.
0001〜100ミリモル、好ましくは0.001〜10ミリモルであ
る。

（ロ）有機ホスフィン： 有機ホスフィンは、主触媒である（イ）のルテニウムの
電子状態を制御したり、ルテニウムの活性状態を安定化
するのに寄与するものと考えられる。有機ホスフィンの
具体例としては、トリ−ｎ−オクチルホスフィン、トリ
−ｎ−ブチルホスフィン、ジメチル−ｎ−オクチルホス
フィン等のトリアルキルホスフィン類、トリシクロヘキ
シルホスフィンのようなトリシクロアルキルホスフィン
類、トリフェニルホスフィンのようなトリアリールホス
フィン類、ジメチルフェニルホスフィンのようなアルキ
ルアリールホスフィン類、1,2−ビス（ジフェニルホス
フィノ）エタンのような多官能性ホスフィン類が挙げら
れる。有機ホスフィンの使用量は通常、ルテニウム１モ
ルに対して、0.1〜1000モル程度、好ましくは１〜100モ
ルである。また、有機ホスフィンは、それ自体単独で、
あるいはルテニウム触媒との複合体の形で、反応系に供
給することができる。

（ハ）pKa値が２より小さい酸の共役塩基： pKa値が２より小さい酸の共役塩基は、ルテニウム触媒
の付加的促進剤として作用し、触媒調製中又は反応系中
において、pKa値が２より小さい酸の共役塩基を生成す
るものであればよく、その供給形態としては、pKa値が
２より小さいブレンステッド酸又はその各種の塩等が用
いられる。具体的には例えば、硫酸、亜硫酸、硝酸、亜
硝酸、過塩素酸、燐酸、ホウフッ化水素酸、ヘキサフル
オロ燐酸、タングステン酸、燐モリブデン酸、燐タング
ステン酸、シリコンタングステン酸、ポリケイ酸、フル
オロスルホン酸等の無機酸類、トリクロロ酢酸、ジクロ
ロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフ
ルオロメタンスルホン酸、ラウリルスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸、あ
るいはこれ等の酸のアンモニウム塩、ホスホニウム塩が
挙げられる。また、これ等の酸の共役塩基が反応系で生
成すると考えられる酸誘導体、例えば酸ハロゲン化物、
酸無水物、エステル、酸アミド等の形で添加しても同様
の効果が得られる。これ等の酸又はその塩の使用量は、
ルテニウム１モルに対して0.01〜1000モル、好ましくは
0.1〜100モル、更に好ましくは0.5〜20モルの範囲であ
る。

上記（イ）、（ロ）及び（ハ）の成分の外に、場合によ
り含有することができる（ニ）中性配位子としては、水
素、エチレン、プロピレン、ブテン、シクロペンテン、
シクロヘキセン、ブタジエン、シクロペンタジエン、シ
クロオクタジエン、ノルボナジエン等のオレフィン類、
一酸化炭素、ジエチルエーテル、アニソール、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトフェノン、
ベンゾフェノン、シクロヘキサノン、プロピオン酸、カ
プロン酸、酪酸、安息香酸、酢酸エチル、酢酸アリル、
安息香酸ベンジル、ステアリン酸ベンジル等の含酸素化
合物、酸化窒素、アセトニトリル、プロピオニトリル、
ベンゾニトリル、シクロヘキシルイソニトリル、ブチル
アミン、アニリン、トルイジン、トリエチルアミン、ピ
ロール、ピリジン、Ｎ−メチルホルムアミド、アセトア
ミド、1,1,3,3−テトラメチル尿素、Ｎ−メチルピロリ
ドン、カプロラクタム、ニトロメタン等の含窒素化合
物、二硫化炭素、ｎ−ブチルメルカプタン、チオフェノ
ール、ジメチルスルフィド、ジメチルジスルフィド、チ
オフェン、ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホキ
シド等の含硫黄化合物、トリブチルホスフィンオキシ
ド、エチルジフェニルホスフィンオキシド、トリフェニ
ルホスフィンオキシド、ジエチルフェニルホスフィネー
ト、ジフェニルメチルホスフィネート、ジフェニルエチ
ルホスフィネート、o,o−ジメチルメチルホスホノチオ
レート、トリエチルホスファイト、トリフェニルホスフ
ァイト、トリエチルホスフェート、トリフェニルホスフ
ェート、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の有機
ホスフィン以外の含燐化合物が挙げられる。

本発明の方法は、特に溶媒を使用せず、原料物質自体を
溶媒として実施することができるが、原料物質以外に他
の溶媒を使用することもできる。

このような溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ア
ニソール、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジ
エチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエー
テル、ジオキサン等のエーテル類；アセトン、メチルエ
チルケトン、アセトフェノン等のケトン類；メタノー
ル、エタノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコー
ル、エチレングリコール、ジエチレングリコール等のア
ルコール類；フェノール類；ギ酸、酢酸、プロピオン
酸、トルイル酸等のカルボン酸類；酢酸メチル、酢酸ｎ
−ブチル、安息香酸ベンジル等のエステル類；ベンゼ
ン、トルエン、エチルベンゼン、テトラリン等の芳香族
炭化水素;n−ヘキサン、ｎ−オクタン、シクロヘキサン
等の脂肪族炭化水素；ジクロロメタン、トリクロロエタ
ン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；ニトロメ
タン、ニトロベンゼン等のニトロ化炭化水素;N,N−ジメ
チルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、Ｎ−
メチルピロリドン等のカルボン酸アミド；ヘキサメチル
リン酸トリアミド、N,N,N',N'−テトラエチルスルファ
ミド等のその他のアミド類;N,N'−ジメチルイミダゾリ
ドン、N,N,N,N−テトラメチル尿素等の尿素類；ジメチ
ルスルホン、テトラメチレンスルホン等のスルホン類；
ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等のス
ルホキシド類；γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクト
ン等のラクトン類；トリグライム（トリエチレングリコ
ールジメチルエーテル）、テトラグライム（テトラエチ
レングリコールジメチルエーテル）、18−クラウン−６
等のポリエーテル類、アセトニトリル、ベンゾニトリル
等のニトリル類；ジメチルカーボネート、エチレンカー
ボネート等の炭酸エステル類が挙げられる。

（実施例） 以下本発明を実施例及び比較例について更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を超えない限りこれ等の実施
例に限定されるものではない。

実施例１ 触媒液の調製： 0.056重量％のルテニウムアセチルアセトナート、0.51
重量％のトリオクチルホスフィン及び0.22重量％のｐ−
トルエンスルホン酸を4000mlのトリエチレングリコール
ジメチルエーテル（トリグライム）に溶解し、200℃で
２時間加熱処理して触媒液を調製した。

水素化反応： 第１図に示す流通型反応設備を使用して水素化反応を実
施した。第１図において、１は反応器、２は新触媒液容
器、３は圧縮機、４は原料容器、５は冷却器、６は気液
分離器、７は蒸留塔、８は触媒液容器、９は抜き出し触
媒液容器である。

上記方法で調製した新触媒液を新触媒液容器２から500m
l/hrの流量で反応器１（200ml加圧釜）に供給し、水素
ガスを圧縮機３より800Nl/hrの流量で反応器１に供給
し、反応器１の圧力を40/kg/cm²G、温度を205℃に保持
した。一方、無水コハク酸80重量％及びγ−ブチロラク
トン20重量％からなる原料液を、原料容器４から100g/h
rの流量で連続的に反応器１に供給して水素化反応を行
なった。

反応生成液は冷却器５で60℃に冷却し、気液分離器６に
おいて常圧下気液分離して廃ガスをパージした。反応生
成液を蒸留塔７にフィードして塔頂から生成γ−ブチロ
ラクトン及び水を蒸留分離し、触媒液は塔底から触媒液
容器８に導入し反応器１に循環した。

反応開始から１日後に、蒸留塔底から抜出した触媒液の
一部を28ml/hrの流量で、抜き出し触媒液容器９に導入
して保持すると共に、新触媒液容器２から新触媒液を28
ml/hrの流量で反応器１に補給した。このような方法に
より４日間連続して反応を行なったところ、２日目以降
安定した反応成績を示した。ガスクロマトグラフィー及
びゲルパーミエイションクロマイトグラフィー（GPC）
により原料、生成液及び高沸点副生物の量を求めた。２
日目以降の反応成績は平均して次の通りであった。

無水コハク酸転化率 :99.2％ γ−ブチロラクトン収率 :92.2％ 高沸点副生物生成率 : 7.0％ また、蒸留塔底から抜き出し触媒液容器９に導入した触
媒液の組成は次の通りであった。

無水コハク酸及びコハク酸 : 1.7重量％ γ−ブチロラクトン : 3.1重量％ トリグライム :75.2重量％ 高沸点副生物 :20.0重量％ 抜き出し触媒液容器９に導入した上記触媒液400gを、３
段の蒸留塔を用い、還流比1.0、塔底温度180℃で一定に
なるように、塔頂圧力を200〜30mmHgまで変化させて回
分蒸留し留出液を回収した。留出液（回収溶媒）と蒸留
釜残を分析した結果、抜出し触媒液中の含有量基準で次
の通りであった。

トリグライム回収率 : 99.3％ γ−ブチロラクトン回収率 :203.8％ 高沸点副生物分解率 : 16 ％ 上記留出液（回収溶媒）30mlと、前記触媒液の調製法に
より調製した新触媒液30mlとをSUS製加圧釜に仕込み、
更に無水コハク酸6gを添加して窒素ガスで置換した後、
水素ガスを導入して温度210℃、圧力40kg/cm²Gで２時間
水素化反応を行なった。反応液をガスクロマトグラフィ
ーにより分析したところ、無水コハク酸の転化率は92.5
％であり、γ−ブチロラクトン収率は86.0％であった。
また触媒の失活は全く認められなかった。

なお参考のため、上記の留出液（回収溶媒）の代りに、
新しいトリグライム30mlを使用した以外は、上記と全く
同様にして無水コハク酸の水素化反応を実施し、反応液
をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、無水
コハク酸の転化率は92.0％であり、γ−ブチロラクトン
収率は85.7％であった。

即ち、蒸留塔底からの抜出し触媒液を、本発明方法によ
る温度条件下で蒸留処理した留出液（回収溶媒）を水素
化反応の溶媒に使用した場合、新しい溶媒（トリグライ
ム）を使用した場合に比し、何等遜色が認められなかっ
た。

実施例２ 実施例１の方法において、蒸留塔底から抜き出し触媒液
容器９に導入した触媒液400gを、３段の蒸留塔を用い、
還流比1.0、塔底温度220℃で一定になるように、塔頂圧
力を600〜60mmHgまで変化させて回分蒸留して留出液を
回収した。留出液（回収溶媒）と蒸留釜残を分析した結
果、抜出し触媒液中の含有量基準で次の通りであった。

トリグライム回収率 : 99.5％ γ−ブチロラクトン回収率 :369.7％ 高沸点副生物分解率 : 41.8％ 上記留出液（回収溶媒）30mlと、前記触媒液の調製法に
より調製した新触媒液30mlとを使用し、実施例１におけ
ると全く同様にして無水コハク酸の水素化反応を実施
し、反応液をガスクロマトグラフィーにより分析したと
ころ、無水コハク酸の転化率は91.8％であり、γ−ブチ
ロラクトン収率は85.2％であり、触媒の失活は全く認め
られなかった。

比較例１ 実施例１の方法において、蒸留塔底から抜き出し触媒液
容器９に導入した触媒液400gを、３段の蒸留塔を用い、
塔底温度255℃で一定になるように、塔頂圧力を760〜10
0mmHgまで変化させて回分蒸留して留出液を回収した。
留出液（回収溶媒）と蒸留釜残を分析した結果、抜出し
触媒液中の含有量基準で次の通りであった。

トリグライム回収率 : 99.9％ γ−ブチロラクトン回収率 :430.3％ 高沸点副生物分解率 : 51.2％ 上記留出液（回収溶媒）30mlと、前記触媒液の調製法に
より調製した新触媒液30mlとを使用し、実施例１におけ
ると全く同様にして無水コハク酸の水素化反応を実施
し、反応液をガスクロマトグラフィーにより分析したと
ころ、無水コハク酸の転化率は75.9％であり、γ−ブチ
ロラクトン収率は68.3％であり、触媒活性の大幅な低下
が認められた。

比較例２ 実施例１の方法において、蒸留塔底から抜き出し触媒液
容器９に導入した触媒液400gを、３段の蒸留塔を用い、
塔底温度128℃で一定になるように、塔頂圧力を10〜0.1
mmHgまで変化させて回分蒸留して留出液を回収した。留
出液（回収溶媒）と蒸留釜残を分析した結果、抜出し触
媒液中の含有量基準で次の通りで、溶媒及びラクトンの
回収が不良であった。

トリグライム回収率 : 87.6％ γ−ブチロラクトン回収率 :120.1％ 高沸点副生物分解率 ： 3.6％ 上記留出液（回収溶媒）30mlと、前記触媒液の調製法に
より調製した新触媒液30mlとを使用し、実施例１におけ
ると全く同様にして無水コハク酸の水素化反応を実施
し、反応液をガスクロマトグラフィーにより分析したと
ころ、無水コハク酸の転化率は91.8％であり、γ−ブチ
ロラクトン収率は85.2％であり、触媒の失活は事実上な
かった。

（発明の効果） 本発明方法によれば、ルテニウム触媒を使用してジカル
ボン酸、ジカルボン酸無水物及び／又はジカルボン酸エ
ステルを液相で水素化することによりラクトン類を製造
する場合に、触媒を含む溶媒溶液を特定範囲の温度条件
下で蒸留して溶媒を回収し、水素化反応に循環使用する
ことにより、触媒の失活を阻止し、溶媒の有効利用及び
ラクトン類の収率向上に寄与し工業的価値は大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施に使用される流通型反応設備の工
程図を示す。 図中１は反応器、２は新触媒液容器、３は圧縮機、４は
原料容器、５は冷却器、６は気液分離器、７は蒸留塔、
８は触媒液容器、９は抜き出し触媒液容器である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物及び／
   又はジカルボン酸エステルをルテニウム触媒の存在下に
   溶媒を用いて液相で水素化することによりラクトン類を
   製造する方法において、水素化反応後の触媒液から溶媒
   を蒸留分離し、分離した溶媒を水素化反応に循環使用
   し、かつ溶媒を蒸留分離する際の蒸留塔の塔底温度を14
   0〜240℃に保持することを特徴とするラクトン類の製造
   方法。