JPH07115845B2 - 水素および一酸化炭素の製造方法 - Google Patents

水素および一酸化炭素の製造方法

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【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、ナフサ等の炭化水素原料に水蒸気改質処理
を施して水素(H2)ガスおよび一酸化炭素(CO)ガスを
含む混合ガスを作り、この混合ガス中からH2ガスおよび
COガスをそれぞれ分離するためのH2およびCOの製造方法
に関する。
「従来の技術」 第3図および第4図は、従来のH2,COの製造方法を説明
するためのものである。第3図に示す方法では、ナフサ
等の原料炭化水素を水添脱硫装置1に供給して脱硫処理
した後、脱硫後の原料炭化水素を高温改質炉2に送り、
水蒸気を供給しつつ800〜900℃前後の温度で等温的に
(炭化水素の水蒸気改質反応は吸熱であるため反応管外
部から燃焼により熱を供給しながら等温を維持する。)
原料炭化水素を水蒸気改質処理し、H2とCOとを含む混合
ガスを生成させる。次に、得られた混合ガスをCO2除去
装置3に送り、脱炭酸処理して混合ガス中のCO2を除去
する。次にこのガスを深冷分離装置4に送り、CO分離処
理を行って混合ガス中からCOガスを分離する。尚、深冷
分離装置4の内部では、前処理工程として水分、残存炭
酸ガスが吸着剤(アルミナ、シリカゲル、ゼオライト
等)で完全に除去された後、低温にしてCOガスを液化し
て分離する。次に、深冷分離装置4からのガスを昇圧機
5に送り圧力を高めた後、プレッシャースイング分離装
置(以下PSA装置という)6に送り、水素分離処理してH
2ガスを得る。
PSA装置6で分離されたH2ガスの一部は、管路11を経て
水添脱硫装置1に送り、原料炭化水素を脱硫処理する際
の水素源として使用する。またPSA装置6からのオフガ
スおよび深冷分離装置4からの別のオフガスには、CH4,
H2,CO等が含まれており、それぞれ管路12,13を経て高温
改質炉2に送り、改質炉用の必要燃料の一部として使用
する。
また第4図に示す方法では、高温改質炉2で生成された
混合ガスを、CO2除去装置3と、COシフト7を介してPSA
装置6との両方に送る。CO2除去装置3側の混合ガス
は、脱CO2処理の後、深冷分離装置4に送り、CO分離処
理を施してCOガスを分離する。一方、PSA装置6側の混
合ガスからはH2ガスを分離する。
深冷分離装置4からのオフガスの一部は水素を豊富に含
有しているためこれから水素をさらに回収するために、
昇圧機5で圧力を高めた後、管路14を経てPSA装置6に
送る。またPSA装置6で分離したH2ガスの一部は管路15
を経て水添脱硫装置1に送る。さらに、PSA装置6から
の別のオフガスおよび深冷分離装置4からのオフガス
は、それぞれ管路16,17を経て高温改質炉2に送り、改
質炉用の必要燃料の一部として使用する。
尚、第3図、第4図の昇圧機の位置は必ずしもこれに限
定されたものでなく、製品となるH2,COガスの所要圧力
によって、最適な位置が決定される。
「発明が解決しようとする課題」 しかしながら、これら従来の製造方法においては、PSA
装置6および深冷分離装置4のオフガスを高温改質炉2
の燃料として排出しているため、オフガス中に含まれて
いる多量のH2,COが損失してしまう。オフガス中にCOお
よび/もしくはCO2を損失する分、炭素源としての原料
消費量も大きくなってしまう。さらに原料流量の増大に
伴い、高温改質炉2の所要熱量も大きくなり、改質炉コ
ストへの影響も大きい。
一方、改質炉の必要燃料は、PSA装置6および深冷分離
装置4からのオフガス(通常、必要燃料熱量の15〜20
%)だけでは賄いきれないため、残りの熱量(即ち、80
〜85%)は補助燃料で補うことになる。従って炭化水素
使用量としては原料と補助燃料の2種類になるが、一般
に、原料の方が高品質即ち高価格であるために、原料消
費量を出来るだけ少な目とし、そのためのオフガス量減
少による補助燃料消費量が増加しても、総合的経済性は
原料節減が最適となる。このため、第3図,第4図では
原料低減が解決すべき課題であった。
また第3図に示す方法では、深冷分離装置4の入口のH2
濃度が高くCO濃度が低いためにCO回収率を高めることが
困難であった。
さらに第4図に示す方法では、COシフト7出口に含まれ
るCO,CO2は全てPSA装置6からのオフガスとなるため原
料中炭素の損失が特に大きい。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、水蒸気改質
処理で生成される混合ガスからのH2およびCOの回収率を
高め、原料消費量の削減を図るとともに、一定の範囲内
でH2,CO比を任意に変更できるCOガスとH2ガス製造方法
の提供を目的としている。
「課題を解決するための手段」 この発明は、炭化水素の水蒸気改質法によりH2ガスおよ
びCOガスを製造する方法において、炭化水素に、該炭化
水素から富メタンガスを作る低温水蒸気改質処理を施
し、この低温水蒸気改質処理後のガスを高温水蒸気改質
処理する炭化水素の水蒸気改質を行い、次いで炭化水素
の高温水蒸気改質処理を施して得られた混合ガスを脱炭
酸処理して該混合ガス中の二炭化炭素ガスを除去し、次
いで脱炭酸処理ガスにPSA法により水素分離処理を施し
てH2ガスを分離し、次いでH2を分離したガスに深冷分離
法によりCO分離処理を施してCOガスを分離し、深冷分離
装置を出るオフガスのうち富H2ガスを脱炭酸処理ガスと
合わせてPSA供給ガスとする各工程を備え、かつ上記低
温水蒸気改質処理後のガスを高温水蒸気改質処理する炭
化水素の水蒸気改質を行うに際しては、脱炭酸ガスの一
部を高温水蒸気改質装置へ供給することを上記課題を解
決するための手段とした。
以下の記載において、上記「富メタンガス」は「CH4
富むガス」又は「富メタン生成ガス」として表し、上記
「脱炭酸処理ガス」は「CO2を除去したガス」として表
し、上記「富H2ガス」は「H2に富む分離オフガス」とし
て表し、上記「脱炭酸ガス」は「CO2除去装置で分離し
たCO2ガス」として表す。
以下、図面を参照して本発明を詳細に説明する。
第1図および第2図は、本発明に係わる製造方法の例を
説明するためのものである。
本発明に係わる製造方法の第1の例では、まずナフサ等
の原料炭化水素を水添脱硫装置1に供給して脱硫処理す
る。
次に脱硫後の原料炭化水素を高温改質炉2に送り、かつ
水蒸気を供給しつつ、800〜900℃程度の温度で原料炭化
水素を高温水蒸気改質処理し、H2とCOとを含む混合ガス
を生成させる。
次に、得られた混合ガスを、アミン系の吸収液を有する
CO2除去装置3に送り、吸収法により脱炭酸処理して混
合ガス中のCO2を除去する。
次にCO2を除去したガスを、CO/H2分離セクション8に送
る。このCO/H2分離セクション8では、第2図に示すよ
うに、CO2を除去したガスをPSA装置6に送り、H2分離操
作を施してこのガス中からH2ガスを分離する。次に、PS
A装置6からH2分離後のガスを、昇圧機5で圧力を高
め、深冷分離装置4に送り、CO分離処理を行ってH2分離
後のガス中からCOガスを分離する。この一連の分離操作
により、CO/H2分離セクション8から高純度のH2ガスお
よび高純度のCOガスが分離、製造される。
上記深冷分離装置4では、H2分離後のガス中から、製品
としてCOガス低温液化分離できるとともに、H2分離ガス
中に残存したH2ガスに富む分離ガス(H2ガスはCO液化の
ための氷点下摂氏200度でも液化せずガス状で通過す
る)およびCH4に富む分離ガス(CH4ガスはCOと共に液化
し、精留塔によってCOとCH4に分離される)を分離可能
である。これら分離ガスのうちH2ガスに富む分離ガス
は、管路18を経てPSA装置6に返送する。またCH4に富む
分離ガスは、管路19を経て高温改質炉2に送り、改質炉
燃料の一部として使用する。
PSA装置6で分離したH2ガスの一部は、管路20を経て水
添脱硫装置1に供給し、原料炭化水素を水添脱硫処理す
る際の水素源として使用する。
この例による製造方法では、高温水蒸気改質処理後の混
合ガスを、脱炭酸処理し、直ちにH2分離処理してH2ガス
を分離し、H2を分離したガスに深冷分離処理を施してCO
ガスを分離することにより、高純度のH2ガスおよび高純
度のCOガスを容易に製造することができる。
また深冷分離装置4からのH2に富む分離オフガスをPSA
装置6に返送することにより全体としてH2ガスの回収率
が高くなり、またH2を分離した後のガスはCO濃度が高い
ことから深冷分離処理でのCO液化分離を高効率で行うこ
とができ、COガスの回収率をも高めることができる。
またH2ガスおよびCOガスを高効率で製造することができ
るので、原料の消費量を削減することができる。
また原料消費量を削減することができるので、高温改質
炉2の所要熱量が小さくなり、改質炉コストを低減化で
きる。
また深冷分離装置4にCO濃度の高いガスを送ってCO分離
処理を行うので、深冷分離装置4をコンパクトにでき
る。
また深冷分離装置4から分離されたH2に富む分離オフガ
スをPSA装置6に返送することによりCO/H2分離セクショ
ン8での総合的に見たH2ガス回収率が高まるので、PSA
装置6でのH2ガス回収率を低く設定することができ、CO
/H2分離セクション内のPSA装置、昇圧機、深冷分離装置
の組み合わせを最適化することができる。例えば、PSA
装置からの昇圧機へ流れるH2分離ガスの圧力は、低い程
PSA装置のH2回収率は向上するが、反面、昇圧機のサイ
ズは増加する。本発明ではPSAでのH2回収率を若干犠牲
にして昇圧機をコンパクトにするためH2を分離した後の
ガスの圧力を高めているが、CO/H2セクション全体でのH
2ガス回収率は殆ど変化しない。
次に、本発明に係わる製造方法の第2の例を説明する。
この第2の例では、水添脱硫装置1と高温改質炉2との
間に低温改質反応器9を設け、原料炭化水素の水蒸気改
質処理を、低温改質反応器9において原料炭化水素から
富メタン生成ガスを作る低温水蒸気改質処理と、この低
温水蒸気改質処理後の富メタン生成ガスを高温改質炉2
において低温水蒸気処理よりも高温で水蒸気改質処理す
る高温水蒸気改質処理とにより行う。
上記低温水蒸気改質処理は、原料炭化水素に水蒸気を供
給しつつ、原料炭化水素から主にCH4及びH2ガスが生成
するような温度(原料をナフサとした場合、この温度は
通常400〜500℃程度に設定される)で断熱的に行なわれ
る。
また高温水蒸気改質処理では、低温水蒸気改質処理によ
り得られた富メタン生成ガスに水蒸気を供給しつつ、80
0〜900℃程度の温度で外部燃焼方式により等温的に改質
処理し、H2およびCOを含む混合ガスを得る。
高温改質炉2で上記高温水蒸気改質処理を行って得られ
た混合ガスは、上述した第1の例と同様に、まず脱炭酸
処理し、次にこの脱CO2ガスをCO/H2分離セクション8に
送り、高純度のH2ガスおよび高純度のCOガスを分離す
る。
この第2の例においては、水蒸気改質処理を、低温水蒸
気改質処理と高温水蒸気改質処理との2段階に分けて行
うことにより、脱硫処理後の原料を直接高温改質炉2に
送り水蒸気改質処理する場合と比べ、炭化水素の触媒上
での接触分解による触媒への炭素析出、並びに接触分解
によって生成するオレフィン重合による炭素析出等を防
止できるとともに、原料炭化水素に高沸点の炭化水素原
料を用いることが可能となり、原料炭化水素の適用範囲
を広げることができる。
またこの第2の例においては、高温改質炉2での触媒上
への炭素析出現象を防止できるため、総合的な水蒸気量
(低温改質反応器9への水蒸気と高温改質炉2への水蒸
気の合計量)を低減することができ、改質炉出口の改質
ガス組成をCO富化することも可能である。
またさらに、原料炭化水素を低温改質炉9で低温水蒸気
改質し、メタンに富むガスとした後、この富メタン生成
ガスを高温改質炉2に送るので、高温水蒸気改質処理の
際にCO2ガスを導入しても触媒上などに炭素析出を起こ
すことなく改質処理することが可能となる。その結果、
高温水蒸気改質処理の際、高温改質炉2にCO2ガスを供
給して混合ガス中のH2ガスとCOガスの組成比を変えるこ
とができる。即ち、高温改質炉2に富メタン生成ガスと
水蒸気のみを供給して改質処理する場合には、混合ガス
中のH2/CO比(ガス体積比)が5〜6程度であり、これ
にCO2ガスを供給するとCOガスの生成量が増大し、混合
ガス中のH2/CO比が2前後となる。高温改質炉2にCO2
スを供給する場合には、CO2除去装置3で分離したCO2
スを管路21を経て供給することができる。
「実施例」 (実施例1) 水添脱硫装置、高温改質炉、CO2除去装置およびCO/H2
離セクションの各装置を第1図および第2図に示すよう
に配置し、本発明方法に基づいてH2ガスおよびCOガスの
製造を行った。
原料ナフサを水添脱硫装置で脱硫し、高温改質炉に送
り、高温改質炉で生成した混合ガスをCO2除去装置で脱C
O2処理し、PSA装置で水素分離処理して高純度H2を得
た。またPSA装置からのH2を分離したガスを昇圧し、深
冷分離装置に送り、高純度COガスを得た。深冷分離装置
から分離したH2に富む分離ガスはPSA装置に返送し、CH4
に富む分離ガスは高温改質炉の燃料に供給した。
そして、高温改質炉の温度850℃、圧力22Kg/cm2Gとし、
原料ナフサを3492Kg/hで供給して連続運転した。その結
果、H2ガスが13459Nm3/h、COガスが2285Nm3/h得られ
た。このH2/CO比は5.89であった。
この時、H2ガスの純度は99.9容量%以上であり、COガス
の純度は99.6容量%以上であった。
また、高純度H2ガス量/混合ガス中のH2ガス量からH2
収率を求め、高純度COガス量/混合ガス中のCOガス量か
らCO回収率を求めた。その結果、全体として見たH2回収
率は98.2%、CO回収率は97.0%といずれも高い回収率で
あった。
(実施例2) 水添脱硫装置と高温改質炉との間に、反応温度を350〜4
50℃とした低温改質反応器を設け、かつCO2除去装置か
ら分離されるCO2ガスを高温改質炉に供給する以外は、
実施例1と同一の操作で運転した。原料ナフサを1777Kg
/hで供給して連続運転した結果、H2ガスが4253Nm3/h、C
Oガスが2000Nm3/h得られた。このH2/CO比は2.13となっ
た。
(比較例) 実施例1で使用したそれぞれの装置を、第3図に示すよ
うにして配置して、従来方法によりH2およびCOの製造を
実施した。
原料ナフサを脱硫し、水蒸気改質処理して得られた混合
ガスをCO2除去装置に送り、脱CO2処理した後、深冷分離
装置に送りCOを分離し、更に深冷分離装置からの脱COガ
スを昇圧し、PSA装置に送ってH2を分離した。このPSA装
置および深冷分離装置からのオフガスは、高温改質炉の
燃料に供給した。
高温改質炉の温度を850℃、圧力を22Kg/cm2Gとし、原料
ナフサを4223Kg/hで供給して連続運転した。その結果、
H2ガスが13000Nm3/h、COガスが2285Nm3/h得られた。(H
2/CO比は5.69) また、高純度H2ガス量/混合ガス中のH2ガス量からH2
収率を求め、高純度COガス量/混合ガス中のCOガス量か
らCO回収率を求めた。その結果、全体として見たH2回収
率は79%、CO回収率は80%といずれも低率であった。
「発明の効果」 以上説明したように、本発明によれば、次のような効果
を奏する。
H2ガス、COガスともに高純度の製品が容易に得られる。
また水蒸気改質処理して得られた混合ガスからのH2ガス
およびCOガスの全体としての回収率を従来法に比べ大幅
に向上させることができる。
またH2ガスおよびCOガスを高効率で製造することができ
るので、原料消費量を削減することができる。
また水蒸気改質処理の所要熱量が小さくなり、製造コス
トを低減化できる。
またCO分離処理時にCO濃度の高いガスを送ってCO分離処
理するので、CO分離装置をコンパクトなものとすること
ができる。
またCO分離処理の際に得られる富H2ガスをH2分離装置に
返送することによりH2ガス回収率が高まり、H2分離装置
及びその付帯機器を最適に設計することができる。
さらにまた、水蒸気改質処理を低温水蒸気改質処理と高
温水蒸気改質処理の2段階で行うことにより、供給スチ
ーム/原料炭化水素の比をH2O/Cとして2モルとするこ
とができるほか、高温水蒸気改質処理での炭素析出現象
を防止できるとともに、原料炭化水素の適用範囲を広げ
ることができる。また水蒸気量/原料の比率を下げる事
や高温水蒸気改質処理時にCO2を供給する事により、製
品H2ガス/COガスの比率を任意に変えることが可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、本発明に係わるH2およびCOの製
造方法の例を説明するための製造装置の概略構成図、第
3図は従来の製造方法の他の例を説明するための製造装
置の概略構成図、第4図は従来の製造方法の他の例を説
明するための製造装置の概略構成図である。 1……水添脱硫装置 2……高温改質炉 3……CO2除去装置 4……深冷分離装置 5……昇圧機 6……PSA分離装置 8……CO/H2分離セクション 9……低温改質反応器 18,19,20,21……管路。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】炭化水素の水蒸気改質法により水素ガスお
    よび一酸化炭素ガスを製造する方法において、 炭化水素に、該炭化水素から富メタンガスを作る低温水
    蒸気改質処理を施し、この低温水蒸気改質処理後のガス
    を高温水蒸気改質処理する炭化水素の水蒸気改質を行
    い、 次いで高温水蒸気改質処理を施して得られた混合ガスを
    脱炭酸処理して該混合ガス中の二酸化炭素ガスを除去
    し、 次いで脱炭酸処理ガスにPSA法により水素分離処理を施
    して水素ガスを分離し、 次いで水素を分離したガスに深冷分離法により一酸化炭
    素分離処理を施して一酸化炭素ガスを分離し、深冷分離
    装置を出るオフガスのうち富水素ガスを脱炭酸処理ガス
    と合わせてPSA供給ガスとする各工程を備え、 かつ上記低温水蒸気改質処理後のガスを高温水蒸気改質
    処理する炭化水素の水蒸気改質を行うに際しては、脱炭
    酸ガスの一部を高温水蒸気改質装置へ供給することを特
    徴とする水素および一酸化炭素の製造方法。
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