JPH03228802A - 水素および一酸化炭素の製造方法 - Google Patents

水素および一酸化炭素の製造方法

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JPH03228802A JP2531590A JP2531590A JPH03228802A JP H03228802 A JPH03228802 A JP H03228802A JP 2531590 A JP2531590 A JP 2531590A JP 2531590 A JP2531590 A JP 2531590A JP H03228802 A JPH03228802 A JP H03228802A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、ナフサ等の炭化水素原料に水蒸気改質処理
を施して水素(H7)カスおよび一酸化炭素(Go)ガ
スを含む混合ガスを作り、この混合ガス中から82ガス
およびCOガスをそれぞれ分離するためのH2およびC
Oの製造方法に関する。
「従来の技術」 第3図および第4図は、従来のH,、Coの製造方法を
説明するためのものである。第3図に示す方法では、ナ
フサ等の原料炭化水素を水添脱硫装置1に供給して脱硫
処理した後、脱硫後の原料炭化水素を高温改質炉2に送
り、水蒸気を供給しつっ800〜900℃前後の温度で
等温的に(炭化水素の水蒸気改質反応は吸熱であるため
反応管外部から燃焼により熱を供給しながら等温を維持
する。)原料炭化水素を水蒸気改質処理し、H2とCO
とを含む混合ガスを生成させる。次に、得られた混合ガ
スをCO2除去装置3に送り、脱炭酸処理して混合ガス
中の002を除去する。次にこのガスを深冷分離装置4
に送り、CO分離処理を行って混合ガス中からCOガス
を分離する。尚、深冷分離装置4の内部では、前処理工
程として水分、残存炭酸ガスが吸着剤(アルミナ、シリ
カゲル、ゼオライト等)で完全に除去された後、低温に
してCOガスを液化して分離する。次に、深冷分離装置
4からのガスを昇圧機5に送り圧力を高めた後、プレッ
シャースイング分離装置(以下PSA装置という)6に
送り、水素分離処理してH2ガスを得る。
PSA装置6で分離されたH 、ガスの一部は、管路1
1を経て水添脱硫装置lに送り、原料炭化水素を脱硫処
理する際の水素源として使用する。
またPSA装置6からのオフガスおよび深冷分離装置4
からの別のオフガスには、CH4,H,、C0等が含ま
れており、それぞれ管路12.13を経て高温改質炉2
に送り、改質炉用の必要燃料の一部として使用する。
また第4図に示す方法では、高温改質炉2で生成された
混合ガスを、CO7除去装置3と、COシフト7を介し
てPSA装置6との両方に送る。
C02除去装置3側の混合ガスは、脱CO9処理の後、
深冷分離装置4に送り、CO分離処理を施してCOガス
を分離する。一方、PSA装置6側の混合ガスからはH
2ガスを分離する。
深冷分離装置4からのオフガスの一部は水素を豊富に含
有しているためこれから水素をさらに回収するために、
昇圧機5て圧力を高めた後、管路14を経てPSA装置
6に送る。またPSA装置6で分離したH 2ガスの一
部は管路15を経て水添脱硫装置lに送る。さらに、P
SA装置6からの別のオフガスおよび深冷分離装置4か
らのオフガスは、それぞれ管路16.17を経て高温改
質一 炉2に送り、改質炉用の必要燃料の一部として使用する
尚、第3図、第4図の昇圧機の位置は必ずしもこれに限
定されたものでなく、製品となるH2.COガスの所要
圧力によって、最適な位置が決定される。
「発明が解決しようとする課題」 しかしながら、これら従来の製造方法においては、PS
A装置6および深冷分離装置4のオフガスを高温改質炉
2の燃料として排出しているため、オフガス中に含まれ
ている多量のr−t2.coが損失してしまう。オフガ
ス中にCOおよび/もしくはCO7を損失する分、炭素
源としての原料消費量も大きくなってしまう。さらに原
料流量の増大に伴い、高温改質炉2の所要熱量も大きく
なり、改質炉コストへの影響も大きい。
一方、改質炉の必要燃料は、PSA装置6および深冷分
離装置4からのオフガス(通常、必要燃料熱量の15〜
20%)だけでは賄いきれないため、残りの熱量(即ち
、80〜85%)は補助燃料で補うこ=4 とになる。従って炭化水素使用量としては原料と補助燃
料の2種類になるが、一般に、原料の方が高品質即ち高
価格であるために、原料消費量を出来るだけ少な目とし
、そのためのオフガス量減少による補助燃料消費量が増
加しても、総合的経済性は原料節減が最適となる。この
ため、第3図第4図では原料低減が解決すべき課題であ
った。
また第3図に示す方法では、深冷分離装置4の入口のH
、濃度が高くCO濃度が低いために00回収率を高める
ことが困難であった。
さらに第4図に示す方法では、COシフト7出口に含ま
れるco、co2は全てPSA装置6からのオフガスと
なるため原料中炭素の損失が特に大きい。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、水蒸気改質
処理で生成される混合ガスからのH9およびCOの回収
率を高め、原料消費量の削減を図るとともに、一定の範
囲内で)(、、Co比を任意に変更できるCOガスとH
2ガス製造方法の提供を目的としている。
1課題を解決するための手段」 この発明は、炭化水素の水蒸気改質法によりH,ガスお
よびCOガスを製造する方法において、炭化水素に水蒸
気改質処理を施して得られた混合ガスを脱炭酸処理して
該混合ガス中の二酸化炭素ガスを除去し、次いで脱炭酸
処理ガスにPSA法により水素分離処理を施して水素ガ
スを分離し、次いで水素を分離したガスに深冷分離法に
より一酸化炭素分離処理を施して一酸化炭素ガスを分離
し、深冷分離装置を出るオフガスのうち富水素ガスを脱
炭酸処理ガスと合わせてPSA供給ガスとすることを、
上記課題を解決するための手段とした。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図および第2図は、本発明に係わる製造方法の例を
説明するためのものである。
本発明に係わる製造方法の第1の例では、まずナフサ等
の原料炭化水素を水添脱硫装置lに供給して脱硫処理す
る。
次に脱硫後の原料炭化水素を高温改質炉2に送一 り、かつ水蒸気を供給しつつ、800〜900°C程度
の温度で原料炭化水素を水蒸気改質処理し、H2とCO
とを含む混合ガスを生成させる。
次に、得られた混合ガスを、アミン系の吸収液を有する
CO2除去装置3に送り、吸収法により脱炭酸処理して
混合ガス中のCO2を除去する。
次にCO3を除去したガスを、Go/H,分離セクショ
ン8に送る。このCO/ Hを分離セクション8では、
第2図に示すように、co、を除去したガスをPSA装
置6に送り、H2分離操作を施してこのガス中からH,
ガスを分離する。次に、PSA装置6からH2分離後の
ガスを、昇圧機5で圧力を高め、深冷分離装置4に送り
、co分離処理を行ってH!分離後のガス中からCOガ
スを分離する。この一連の分離操作により、Co/H。
分離セクション8から高純度のH2ガスおよび高純度の
COガスが分離、製造される。
上記深冷分離装置4では、H2分離後のガス中から、製
品としてCOガスを低温液化分離できるとともに、H2
分離ガス中に残存したH2ガスに富一 む分離ガス(H2ガスはCO液化のための氷点下摂氏2
00度でも液化せずガス状で通過する)およびCH4に
富む分離ガス(CH4ガスはCOと共に液化し、精留塔
によってCOとCH4に分離される)を分離可能である
。これら分離ガスのうちH2ガスに富む分離ガスは、管
路18を経てPSA装置6に返送する。またCH4に富
む分離ガスは、管路19を経て高温改質炉2に送り、改
質炉燃料の一部として使用する。
PSA装置6で分離したH2ガスの一部は、管路20を
経て水添脱硫装置lに供給し、原料炭化水素を水添脱硫
処理する際の水素源として使用する。
この例による製造方法では、水蒸気改質処理後の混合ガ
スを、脱炭酸処理し、直ちにH2分離処理してH2ガス
を分離し、H2を分離したガスに深冷分離処理を施して
COガスを分離することにより、高純度のH2ガスおよ
び高純度のCOガスを容易に製造することができる。
また深冷分離装置4からのH2に富む分離オフガスをP
SA装置6に返送することにより全体としてT−I 、
ガスの回収率が高くなり、またH7を分離した後のガス
はCO濃度が高いことから深冷分離処理でのCO液化分
離を高効率で行うことができ、COガスの回収率をも高
めることができる。
またH2ガスおよびCOガスを高効率で製造することが
できるので、原料の消費量を削減することができる。
また原料消費量を削減することができるので、高温改質
炉2の所要熱量が小さくなり、改質炉コストを低減化で
きる。
また深冷分離装置4にCO濃度の高いガスを送ってCO
分離処理を行うので、深冷分離装置4をコンパクトにで
きる。
また深冷分離装置4から分離されたH 、に富む分離オ
フガスをPSA装置6に返送することによりCO/H2
分離セクション8での総合的に見たH、ガス回収率が高
まるので、PSA装置6でのH2ガス回収率を低く設定
することができ、Co/H2分離セクション内のPSA
装置、昇圧機、深冷分離装置の組み合わUを最適化する
ことができる。例えば、PSA装置からの昇圧機へ流れ
るH3分離ガスの圧力は、低い程PSA装置のH2回収
率は向」二するが、反面、昇圧機のザイズは増加する。
本発明ではPSAでのT’I 2回収率を若干犠牲にし
て昇圧機をコンパクトにするため■−I2を分離した後
のガスの圧力を高めているが、CO/T(2セクション
全体での■−I2ガス回収率は殆ど変化しない。
次に、本発明に係わる製造方法の第2の例を説明する。
この第2の例では、水添脱硫装置lと高温改質炉2との
間に低温改質反応器9を設け、原料炭化水素の水蒸気改
質処理を、低温改質反応器9において原料炭化水素から
富メタン生成ガスを作る低温水蒸気改質処理と、この低
温水蒸気改質処理後の富メタン生成ガスを高温改質炉2
において低温水蒸気処理よりも高温で水蒸気改質処理す
る高温水蒸気改質処理とにより行う。
上記低温水蒸気改質処理は、原料炭化水素に水蒸気を供
給しつつ、原料炭化水素から主にCH4及びI−1’ 
、カスが生成するような温度(原料をナフサと1.た場
合、この温度(j通割400〜500 ’C程度に設定
される)で断熱的に行なわれろ。
また高1Ml水蒸気改質処理で(」、低温水蒸気改質処
理により得られた富メタン生成ガスに水蒸気を供給しつ
つ、800〜900°C程度の温度で外部燃焼方式によ
り等温的に改質処理し、I−12およびCOを含む混合
ガスを得る。
高温改質炉2で」−記高温水蒸気改質処理を行って得ら
れた混合カスは、」−述した第1の例と同様に、ます脱
炭酸処理し、次にこの脱00.ガスをCO/ I−I 
7分離セクンヨン8に送り、高純度の1−1 。
ガスおよび高純度のCOガスを分離する。
この第2の例においては、水蒸気改質処理を、低温水蒸
気改質処理と高温水蒸気改質処理との2段階に分(Jて
行うことにより、脱硫処理後の原料を直接高温改質炉2
に送り水蒸気改質処理する場合と比べ、炭化水素の触媒
」−での接触分解による触媒への炭素[)〒出、並ひに
接触分解によ−・て生成I するオレフィン重合による炭素析出等を防止できろとと
もに、原料炭化水素に高沸点の炭化水素原料を用いるこ
とが可能どなり、原料炭化水素の適用範囲を広げろこと
ができろ、。
またこの第2の例においては、高温改質炉2ての触媒−
1−への炭素析出現象を防止できろため、総合的な水蒸
気型(低温改質反応器9への水蒸気と高温改質炉2への
水蒸気の合計量)を低減4−ることかでき、改質炉出口
の改質ガス組成をCO富化することも可能である。
またさらに、原料炭化水素を低温改質炉9て低温水蒸気
改質し、メタンに富むガスとした後、この富メタン生成
ガスを高温改質炉2に送るので、高温水蒸気改質処理の
際にCO,カスを導入しても触媒」−などに炭素析出を
起こすことなく改質処理することが可能となる。その結
果、高温水蒸気改質処理の際、高温改質炉2にCO,ガ
スを供給して混合カス中のI−■、カスとCOガスの組
成比を変えることかできる。即ち、高温改質炉2に富メ
タン生成カスと水蒸気のみを供給して改質処理す2 る場合には、混合カス中のII、ZCO比(ガス体積比
)か5〜6程度であり、これにCO2カスを供給すると
COガスの生成量か増大し、混合ガス中の112/ C
O比が21iii後となる。高温改質炉2に002ガス
を供給する場合には、CO2除去装置3で分離した00
.カスを管路21を経て供給することかできる。
[実施例−1 (実施例1) 水添脱硫装置、高温改質炉、CO2除去装置およびCO
/ I−I 2分離セクションの各装置を第1図および
第2図に示すように配置し、本発明方法に基づいてH2
ガスおよびCOガスの製造を行った。
原料ナフサを水添脱硫装置で脱硫し、高温改質炉に送り
、高温改質炉で生成した混合ガスをCO9除去装置で脱
CO7処理し、PSA装置で水素分離処理して高純度I
12を得た。またI) S A装置からのH2を分離し
たガスを昇圧し、深冷分離装置に送り、高純度COカス
を得た。深冷分離装置から分離したI’l 、に富む分
離カスはPSA装置に返送し、CH4に富む分離ガスは
高温改質炉の燃1i:Iに供給した。
そして、高温改質炉の渚1度850℃、圧力22Kg/
cm2Gとし、原オニ」ナフサを3492 Kg/l+
て供給して連続運転した。その結果、I−■、カスか1
3459 Nm3/h、 COガスが2285 Nm”
/It得られた。このr−■、/CO比ii5.89て
あ−、た3゜この時、I−12ガスの純度は999容量
%以上であり、COガスの純度は996容ハN%以十て
あ−)だ。
また、高純度T−1、ガス量/混合カス中の1−■、カ
ス量から82回収率を求め、高純度COカス里/混合ガ
ス中のCOガス量から00回収率を求めた。
その結果、全体として見たI−17回収率は982%、
00回収率は970%どいずれし高い回収率であった。
(実施例2) 水添脱硫装置と高温改質炉との間に、反応温度を350
〜450°Cとした低温改質反応器を設(J、かつCO
2除去装置から分離されるCO,ガスを高lj+7+改
質炉に供給する以外は、実施例1と同一の操作で運転し
た。原14ナフサを1777Kg/hで供給して連続運
転した結果、I−1、ガスか4253 Nm3/ b、
00カスか2000 Nm”/ h得られた。この1−
1./Co比は2.13となった。
(比較例) 実施例1て使用したそれぞれの装置を、第3図に示すよ
うに配置して、従来方法によりI−■、およびCOの製
造を実施しノコ。
原料ナフサを脱硫し、水蒸気改質処理して得られた混合
カスをCO2除去装置に送り、脱CO7処理した後、深
冷分離装置に送りCOを分離し、更に深冷分離装置から
の脱COガスを昇圧し、P SΔ装置に送ってI−12
を分離した。このPSA装置および深冷分離装置からの
オフカス(」、高温改質炉の燃オニ」に供給した。
高、偏改質炉の温度を850°C1圧力を22Kg/c
m2Gとし、原料ナフサを4.223 Kg/hて供給
して連続運転した。そのg、(;果、tl 、カスか1
3000 N m″/’h、COカスか2285Nm′
/h得ら5 れ 〕こ 。  (+−r  2/co  比 iJ:
  5  、 6 9  )また、高純度1−T 、ガ
ス量/混合ガス中のH、カス量からr−r 7回収率を
求め、高純度COガス@/混合ガス中のCOガス量から
00回収率を求めた。
その結果、全体として見たI−I 7回収率は79%、
00回収率は80%といずれも低率であ−)だ。
「発明の効果」 以−に説明したように、本発明に、にれば、次の、)ユ
うな効果を奏する。
T−1、ガス、COガスともに高純度の製品か容易に得
られる。
また水蒸気改質処理して得らイ1刀こ混合ガスからのT
−1、カスおよびCOガスの全体としての回収率を従来
法に比べ大幅に向」ニさせることができる。
よたI−1、ガスおよびCOガスを高効率で製造するこ
とかできるので、原料消費量を削減することができろ。
また水蒸気改質処理の所要熱量が小さくなり、製造コス
トを低減化できろ。
また00分離処理時にCO濃度の高いカスを送っ6 てCO分離処理するので、CO分離装置をコンパクトな
しのとすることができる。
またCO分離処理の際に得られろ富1(2ガスをH7分
離装置に返送することにより]−12力ス回収率が高ま
り、1−12分離装置及びその(=1帯機器を最適に設
計ずろことができる。
さらにまた、水蒸気改質処理を低温水蒸気改質処理と高
温水蒸気改質処理の2段階で行うことににす、(]1.
給スチーム/原1」炭化水素の比を2 mol/炭素原
子と4〜ることかできるほか、高温水蒸気改質処理での
炭素析出現象を防止できるとともに、原料炭化水素の適
用範囲を広げろことかできる。
また水蒸気量/原料の比率を下げる事や高温水蒸気改質
処理時にCO3を供給ずろ事により、製品H2カス/C
Oガスの比率を任意に変えることか可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、本発明に係わるI−1、および
COの製造方法の例を説明するための製造装置の概略構
成図、第3図は従来の製造方法の他の例を説明するだめ
の製造装置の概略構成図、第4図は従来の製造方法の他
の例を説明するための製造装置の概略構成図である。 l・・・水添脱硫装置 2・・高温改質炉 3・・・00.除去装置 4・・・深冷分離装置 5・・昇圧機 6・・・PSA分離装置 8・・・Co/l−17分離セクション9・低温改質反
応器 + 8.19.20,2 ]・・・管路。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)炭化水素の水蒸気改質法により水素ガスおよび一
    酸化炭素ガスを製造する方法において、炭化水素に水蒸
    気改質処理を施して得られた混合ガスを脱炭酸処理して
    該混合ガス中の二酸化炭素ガスを除去し、 次いで脱炭酸処理ガスにPSA法により水素分離処理を
    施して水素ガスを分離し、 次いで水素を分離したガスに深冷分離法により一酸化炭
    素分離処理を施して一酸化炭素ガスを分離し、深冷分離
    装置を出るオフガスのうち富水素ガスを脱炭酸処理ガス
    と合わせてPSA供給ガスとすることを特徴とする水素
    および一酸化炭素の製造方法。
  2. (2)上記水蒸気改質処理を、炭化水素から富メタンガ
    スを作るいわゆる低温水蒸気改質処理と、この低温水蒸
    気改質処理後のガスを該低温水蒸気処理よりも高温で水
    蒸気改質処理するいわゆる高温水蒸気改質処理とによっ
    て行い、低温水蒸気改質処理を高温水蒸気改質処理の上
    流側で行うに際しては、脱炭酸ガスの一部を高温水蒸気
    改質装置へ供給することを特徴とする請求項(1)記載
    の水素および一酸化炭素の製造方法。
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