JPH0710882A - 光化学反応材料 - Google Patents
光化学反応材料Info
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- JPH0710882A JPH0710882A JP5339473A JP33947393A JPH0710882A JP H0710882 A JPH0710882 A JP H0710882A JP 5339473 A JP5339473 A JP 5339473A JP 33947393 A JP33947393 A JP 33947393A JP H0710882 A JPH0710882 A JP H0710882A
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- JP
- Japan
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- alkyl
- carbocyclic
- heterocyclic
- photochemical reaction
- chemical formula
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K9/00—Tenebrescent materials, i.e. materials for which the range of wavelengths for energy absorption is changed as a result of excitation by some form of energy
- C09K9/02—Organic tenebrescent materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/685—Compositions containing spiro-condensed pyran compounds or derivatives thereof, as photosensitive substances
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】ポリウレタン等の高分子材料に分散させるとき
に使用できる光化学反応材料を提供する。 【構成】下記式 〔式中、Ａは炭素数６の炭素環又は複素環、Ｒはアルキ
ル、アリール、炭素環、複素環など、Ｒ＊はＣ１〜１０
アルキル基、炭素環または複素環、Ｒｍ ＋は水素、アル
キル、アルコキシなど、ｍは０〜４、Ｒｎ ＋はＡに縮合
される炭素環又は複素環、ｎは０〜２、Ｒ′は水素、ア
ルキル、アルコキシなど、Ｒ″は水素、アルキル、アリ
ールなどを示す〕で示される化合物からなる光化学反応
材料。
に使用できる光化学反応材料を提供する。 【構成】下記式 〔式中、Ａは炭素数６の炭素環又は複素環、Ｒはアルキ
ル、アリール、炭素環、複素環など、Ｒ＊はＣ１〜１０
アルキル基、炭素環または複素環、Ｒｍ ＋は水素、アル
キル、アルコキシなど、ｍは０〜４、Ｒｎ ＋はＡに縮合
される炭素環又は複素環、ｎは０〜２、Ｒ′は水素、ア
ルキル、アルコキシなど、Ｒ″は水素、アルキル、アリ
ールなどを示す〕で示される化合物からなる光化学反応
材料。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、通常光互変異性材料と
して知られる光化学反応材料に係わり、特にポリウレタ
ン等の高分子材料に分散させるときに使用できる光化学
反応材料に関する。
して知られる光化学反応材料に係わり、特にポリウレタ
ン等の高分子材料に分散させるときに使用できる光化学
反応材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】永い間、光化学反応材料は知られてい
る。初期の頃には、これらの材料の使用は、ガラス媒体
に分散させるといった状況に限定されており、例えば、
GB 1515641では、ホウケイ酸ガラスに使用する光互変異
性材料が開示されており、またGB1515642では、アルミ
ノリン酸ガラスに使用する光互変異性材料が開示されて
いる。
る。初期の頃には、これらの材料の使用は、ガラス媒体
に分散させるといった状況に限定されており、例えば、
GB 1515641では、ホウケイ酸ガラスに使用する光互変異
性材料が開示されており、またGB1515642では、アルミ
ノリン酸ガラスに使用する光互変異性材料が開示されて
いる。
【０００３】最近では、高価なガラスを高分子材料と置
換する関連業界の動きとともに、高分子環境において作
用する光化学反応材料の開発に多くの発展がなされてい
る。ある程度までは、本出願人の２個の特許／特許出願
（ヨーロッパ第87303819.4号及びヨーロッパ第8830440
3.4号）がその問題を解決し、また適切な解決策を提供
している。
換する関連業界の動きとともに、高分子環境において作
用する光化学反応材料の開発に多くの発展がなされてい
る。ある程度までは、本出願人の２個の特許／特許出願
（ヨーロッパ第87303819.4号及びヨーロッパ第8830440
3.4号）がその問題を解決し、また適切な解決策を提供
している。
【０００４】これらの特許出願は、それぞれ、光化学反
応材料として使用するための素材の適切なスピロ−オキ
サジン構造、及び光化学反応材料を構造に固定（lockin
g）させるための高分子組織に関するものである。
応材料として使用するための素材の適切なスピロ−オキ
サジン構造、及び光化学反応材料を構造に固定（lockin
g）させるための高分子組織に関するものである。
【０００５】
【解決しようとする課題】高分子組織において使用でき
る光互変化合物／光化学反応材料の開発は、比較的迅速
に進み、結果としていくつかの問題に直面している。
る光互変化合物／光化学反応材料の開発は、比較的迅速
に進み、結果としていくつかの問題に直面している。
【０００６】このような問題の一つとして、最も適切に
着色された組織が、活性の異なる色を有する異った素材
の混合物を実際に含んでいるということである。残念な
がら、これらの素材の大部分は、着色されない状態に回
復する時間も異なる。従って、活性化された組織が回復
される場合でも、明かな色の変化を受けている。場合に
よっては、派手な望ましくない色に導かれる可能性があ
る。概して、この問題全体は、組織に含まれる材料の反
応速度論を中心とするものである。
着色された組織が、活性の異なる色を有する異った素材
の混合物を実際に含んでいるということである。残念な
がら、これらの素材の大部分は、着色されない状態に回
復する時間も異なる。従って、活性化された組織が回復
される場合でも、明かな色の変化を受けている。場合に
よっては、派手な望ましくない色に導かれる可能性があ
る。概して、この問題全体は、組織に含まれる材料の反
応速度論を中心とするものである。
【０００７】そこで本発明は、材料の反応速度を制御又
は適合できる手段を発見することによって、上記問題点
に対する解決策を提供することを目的とする。
は適合できる手段を発見することによって、上記問題点
に対する解決策を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めに、本発明に係わる光化学反応材料は、化１に示す構
造を有する。なお、本発明において、「基」にはその誘
導体も含む場合がある。
めに、本発明に係わる光化学反応材料は、化１に示す構
造を有する。なお、本発明において、「基」にはその誘
導体も含む場合がある。
【０００９】
【化１】
【００１０】化１において、Ａ は、炭素数６からなる
炭素環又は複素環である。各Ｒは、アルキル、アルケニ
ル、アルキニル、アリール（aryl）、炭素環式、複素環
式、アルキル炭素環式もしくはアルキル複素環式、又
は、Ｒ基の少なくとも２個が一体となって炭素環又は複
素環の一部を形成し、又は、Ｒ基の一つが水素であり、
他の２個が上記から選択される。Ｒ*は、 相互に独立し
ており、分枝状の又は直線状の炭素数１乃至１０である
アルキル基及び炭素環式基又は複素環式基から選択さ
れ、又は両方が炭素環又は複素環の一部を形成する。Ｒ
+ mは、アルキル、アルコキシ、アミノ、ハロゲン、シア
ノ、ニトロ、三フッ化メチル又はアリールから選択さ
れ、かつｍは０から４の値である。Ｒ+ nは、Ａに縮合さ
れる炭素環式基及び複素環式基から選択され、ｎは、０
から２の値である。Ｒ’は、水素、アルキル、アルコキ
シ、アミノ、炭素環式又は複素環式から選択される。
Ｒ”は、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、
アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリールオキシ
(aryloxy)、アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、三フ
ッ化メチル、イミノ、アゾ、カルボキシエステル、アミ
ドから選択され、又は一部分に縮合される炭素環式又は
複素環式基である。
炭素環又は複素環である。各Ｒは、アルキル、アルケニ
ル、アルキニル、アリール（aryl）、炭素環式、複素環
式、アルキル炭素環式もしくはアルキル複素環式、又
は、Ｒ基の少なくとも２個が一体となって炭素環又は複
素環の一部を形成し、又は、Ｒ基の一つが水素であり、
他の２個が上記から選択される。Ｒ*は、 相互に独立し
ており、分枝状の又は直線状の炭素数１乃至１０である
アルキル基及び炭素環式基又は複素環式基から選択さ
れ、又は両方が炭素環又は複素環の一部を形成する。Ｒ
+ mは、アルキル、アルコキシ、アミノ、ハロゲン、シア
ノ、ニトロ、三フッ化メチル又はアリールから選択さ
れ、かつｍは０から４の値である。Ｒ+ nは、Ａに縮合さ
れる炭素環式基及び複素環式基から選択され、ｎは、０
から２の値である。Ｒ’は、水素、アルキル、アルコキ
シ、アミノ、炭素環式又は複素環式から選択される。
Ｒ”は、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、
アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリールオキシ
(aryloxy)、アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、三フ
ッ化メチル、イミノ、アゾ、カルボキシエステル、アミ
ドから選択され、又は一部分に縮合される炭素環式又は
複素環式基である。
【００１１】第２の本発明は、化２に示す構造を有する
光化学反応材料である。
光化学反応材料である。
【００１２】
【化２】
【００１３】化２において、Ｒ は、相互に独立であ
り、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、炭
素環式、複素環式、アルキル炭素環式又はアルキル複素
環式から選択されるものである。又は、Ｒ基少なくとも
２個が一体となって炭素環又は複素環の一部を形成し、
又は、Ｒ基の一つが水素であり、また他の２つが上記の
リストから選択される。Ｒ* は、相互に独立であり、分
枝状の又は直線状の炭素数１乃至１０のアルキル又は炭
素環式もしくは複素環式から選択され、又は両方が脂環
の一部を形成する。Ｒ+ mは、水素、アリール、アルキ
ル、アルコキシ、アミノ、ハロゲン、シアノ又はニトロ
から選択され、かつｍが０から４の値である。Ｒ+ nは、
脂環式、複素環式、アリール又はヘテロアリール基から
選択され、ｎは０から２の値である。Ｒ+は、独立であ
り、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アル
ケニル、アルキニル、アルコキシ、アリールオキシ、ア
ミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、三フッ化メチル、イ
ミノ、アゾ、カルボキシエステル、アミドから選択さ
れ、又は炭素環又は複素環の一部を形成する。Ｒ゜は、
水素、アルキル、アルコキシ、アシル、フェニル、ハロ
ゲン、シアノ基、ニトロ基、アミン基又は三フッ化メチ
ルから選択され、又は脂環式、アシルもしくはヘテロア
リール基の前記の一部を形成し、かつＸは、炭素環又は
複素環に含まれる、窒素又は−ＣＨ−基である。
り、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、炭
素環式、複素環式、アルキル炭素環式又はアルキル複素
環式から選択されるものである。又は、Ｒ基少なくとも
２個が一体となって炭素環又は複素環の一部を形成し、
又は、Ｒ基の一つが水素であり、また他の２つが上記の
リストから選択される。Ｒ* は、相互に独立であり、分
枝状の又は直線状の炭素数１乃至１０のアルキル又は炭
素環式もしくは複素環式から選択され、又は両方が脂環
の一部を形成する。Ｒ+ mは、水素、アリール、アルキ
ル、アルコキシ、アミノ、ハロゲン、シアノ又はニトロ
から選択され、かつｍが０から４の値である。Ｒ+ nは、
脂環式、複素環式、アリール又はヘテロアリール基から
選択され、ｎは０から２の値である。Ｒ+は、独立であ
り、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アル
ケニル、アルキニル、アルコキシ、アリールオキシ、ア
ミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、三フッ化メチル、イ
ミノ、アゾ、カルボキシエステル、アミドから選択さ
れ、又は炭素環又は複素環の一部を形成する。Ｒ゜は、
水素、アルキル、アルコキシ、アシル、フェニル、ハロ
ゲン、シアノ基、ニトロ基、アミン基又は三フッ化メチ
ルから選択され、又は脂環式、アシルもしくはヘテロア
リール基の前記の一部を形成し、かつＸは、炭素環又は
複素環に含まれる、窒素又は−ＣＨ−基である。
【００１４】本発明において、分子の光活性中心付近に
おける第三級又は第四級アルキルメチレン(−Ｎ−ＣＨ 2
−ＣＲ3)基の存在は、光化学反応材料が回復する割合に
影響を与える。さらに、この基の四面体の−ＣＲ 3部分
に付着する基を制御することによって、分子回復の反応
速度をさらに調整・制御できる。
おける第三級又は第四級アルキルメチレン(−Ｎ−ＣＨ 2
−ＣＲ3)基の存在は、光化学反応材料が回復する割合に
影響を与える。さらに、この基の四面体の−ＣＲ 3部分
に付着する基を制御することによって、分子回復の反応
速度をさらに調整・制御できる。
【００１５】光化学反応材料の反応速度は、本質におい
て調整・制御することができ、また問題となる基は、活
性化した状態で形成される分子の色には若干若しくは全
く影響を与えない。従って、組織において使用される素
材の反応速度は、関与する材料のフェード（暗化）・バ
ック／回復を制御するために適切に調整される。
て調整・制御することができ、また問題となる基は、活
性化した状態で形成される分子の色には若干若しくは全
く影響を与えない。従って、組織において使用される素
材の反応速度は、関与する材料のフェード（暗化）・バ
ック／回復を制御するために適切に調整される。
【００１６】本質において、窒素と四面体ＣＲ 3の間の
＝Ｎ−ＣＨ 2−ＣＲ 3基中の−ＣＨ 2−の配置は、活性状
態からの回復の反応速度を劇的に衰えさせる。結果とし
て、現在有用な材料において見られる一つの顕著な利点
は、比較的遅い回復率に起因するものである。回復率が
遅くなった結果、活性化した素材は、色がついた状態に
ある時間が長くなる。結果として、いつでも、より多く
の光化学反応材料が活性化した／色のついた状態にある
こととなる。この最終的な結果は、光化学反応材料を含
む物質が、特定の温度においてより高い誘発された暗さ
を有するということである。
＝Ｎ−ＣＨ 2−ＣＲ 3基中の−ＣＨ 2−の配置は、活性状
態からの回復の反応速度を劇的に衰えさせる。結果とし
て、現在有用な材料において見られる一つの顕著な利点
は、比較的遅い回復率に起因するものである。回復率が
遅くなった結果、活性化した素材は、色がついた状態に
ある時間が長くなる。結果として、いつでも、より多く
の光化学反応材料が活性化した／色のついた状態にある
こととなる。この最終的な結果は、光化学反応材料を含
む物質が、特定の温度においてより高い誘発された暗さ
を有するということである。
【００１７】本発明の一つの配合において、Ｒ基の少な
くとも２個が、構造上シクロヘキシル、アダマンチル
（adamantyl）又はノルボナリル（norbornyl）である脂
環の一部を形成する。
くとも２個が、構造上シクロヘキシル、アダマンチル
（adamantyl）又はノルボナリル（norbornyl）である脂
環の一部を形成する。
【００１８】Ｒ*基として表現される適切な炭素数１乃
至１０のアルキルは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、
ｎ−ペンチル、ネオペンチル、及びイソペンチルを含
む。
至１０のアルキルは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、
ｎ−ペンチル、ネオペンチル、及びイソペンチルを含
む。
【００１９】本発明の特定の実施例の一つにおいて、Ｒ
*基は、構造上シクロヘキシル、アダマンチル又はノル
ボナリルである脂環の一部を形成する。
*基は、構造上シクロヘキシル、アダマンチル又はノル
ボナリルである脂環の一部を形成する。
【００２０】本発明の特定の配合の一つにおいて、Ｒ+
及びＲ゜基は、一体となって、構造上炭素環式又は複素
環式である縮合環の一部を形成できる。
及びＲ゜基は、一体となって、構造上炭素環式又は複素
環式である縮合環の一部を形成できる。
【００２１】光化学反応材料の背後にある重要な要因の
一つは、関与する実際の材料を製造する能力である。
一つは、関与する実際の材料を製造する能力である。
【００２２】さらに単純な光化学材料であり、かつ唯一
の単純な材料として、一般的に知られているフィッシャ
ー塩基に類似する第４の（Quaternisations of Fisher
BaseAnalogue）合成ルートを採用できる。しかしなが
ら、さらに複雑な光化学反応材料(特に分枝した連鎖ア
ルキルが関与する場合)を使用して当業者が評価するよ
うに、フィッシャー塩基に類似する第４のルートは、実
行可能な合成ルートを提供するものではない。
の単純な材料として、一般的に知られているフィッシャ
ー塩基に類似する第４の（Quaternisations of Fisher
BaseAnalogue）合成ルートを採用できる。しかしなが
ら、さらに複雑な光化学反応材料(特に分枝した連鎖ア
ルキルが関与する場合)を使用して当業者が評価するよ
うに、フィッシャー塩基に類似する第４のルートは、実
行可能な合成ルートを提供するものではない。
【００２３】本発明による光化学反応材料は、本出願人
が開拓しかつGB2190088において概説されている６’ア
ミノ化合物に関するルートを使用して合成でき、合成手
続きの広範囲な原則に関する本件の開示は、ここでの言
及によって本明細書に組み込まれている。
が開拓しかつGB2190088において概説されている６’ア
ミノ化合物に関するルートを使用して合成でき、合成手
続きの広範囲な原則に関する本件の開示は、ここでの言
及によって本明細書に組み込まれている。
【００２４】しかしながら、合成ルートの理解を助ける
ため、その概要を化３に従って説明する。
ため、その概要を化３に従って説明する。
【００２５】
【化３】
【００２６】これらのＮ−(分枝)アルキル・フィッシャ
ー塩基（Fischer Bases）の合成において、最も重要な
手段は、Ｎ−(分岐)アルキル・アニリン誘導体(１)の形
成である。アニリノ(anilino)誘導体の一般的な合成ル
ートは、Org. Prep. Proceed. Int. Briefs, 1989, 21
(3), 340-1、及びJ. Chem. Soc. Perkins Trans.1, 198
7, 799-804、Ａ・Ｒ・カトリツキー等の研究に基づく。
アニリン(１)を対応するフィッシャー基(５)に転換する
ために必要な成分置換は、フィッシャーのインドール合
成（ Wiley-Interscience, 1982、Ｂ・ロビンソン）に
よって全般的にカバーされている既知の合成手段によ
る。
ー塩基（Fischer Bases）の合成において、最も重要な
手段は、Ｎ−(分岐)アルキル・アニリン誘導体(１)の形
成である。アニリノ(anilino)誘導体の一般的な合成ル
ートは、Org. Prep. Proceed. Int. Briefs, 1989, 21
(3), 340-1、及びJ. Chem. Soc. Perkins Trans.1, 198
7, 799-804、Ａ・Ｒ・カトリツキー等の研究に基づく。
アニリン(１)を対応するフィッシャー基(５)に転換する
ために必要な成分置換は、フィッシャーのインドール合
成（ Wiley-Interscience, 1982、Ｂ・ロビンソン）に
よって全般的にカバーされている既知の合成手段によ
る。
【００２７】スピロインドリノオキサジン光互変異性化
合物の合成に使用される一般的な手段は、応用互変高分
子の合成（Applied Phtochromic Polymer Systems, Bla
ckie, Ed.C. B. McArdle, 1992, Chapter 2）に記載さ
れている、アルキリデンインドリン複素環式(フィッシ
ャー塩基に類似する）とｏ−ニトロソ・アリール・アル
コールを縮合することを含む。
合物の合成に使用される一般的な手段は、応用互変高分
子の合成（Applied Phtochromic Polymer Systems, Bla
ckie, Ed.C. B. McArdle, 1992, Chapter 2）に記載さ
れている、アルキリデンインドリン複素環式(フィッシ
ャー塩基に類似する）とｏ−ニトロソ・アリール・アル
コールを縮合することを含む。
【００２８】上述の光化学反応材料は、使用さていると
きに、高分子宿主素材に固定され又は包まれる。宿主素
材が、光化学反応材料に、例えば劣化（degrade)又は破
壊等の影響を与えないことが望ましい。しかしながら、
これら影響が重大でない程度ならば、大部分の材料は有
効に作用できる。
きに、高分子宿主素材に固定され又は包まれる。宿主素
材が、光化学反応材料に、例えば劣化（degrade)又は破
壊等の影響を与えないことが望ましい。しかしながら、
これら影響が重大でない程度ならば、大部分の材料は有
効に作用できる。
【００２９】宿主素材の適切な重合体の例は、光学的に
澄んだ（clear)素材であり、例えば、ポリオール(炭酸
アリール)モノマーの重合体、ポリメチルメタクリレー
ト等のポリアクリレート、セルロースアセテート、セル
ローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオ
ネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニ
ルアセテート)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリウレタ
ン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリスチレン、ポリ(スチレンメチルメタクリレート)共
重合体、ポリ(スチレンアクリロニトリル)共重合体及び
ポリビニルブチラルがある。透明な共重合体及び透明な
重合体の混合物も、宿主材料として適切である。
澄んだ（clear)素材であり、例えば、ポリオール(炭酸
アリール)モノマーの重合体、ポリメチルメタクリレー
ト等のポリアクリレート、セルロースアセテート、セル
ローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオ
ネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニ
ルアセテート)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリウレタ
ン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリスチレン、ポリ(スチレンメチルメタクリレート)共
重合体、ポリ(スチレンアクリロニトリル)共重合体及び
ポリビニルブチラルがある。透明な共重合体及び透明な
重合体の混合物も、宿主材料として適切である。
【００３０】宿主材料は、トリエチレングリコールジメ
タクリレート(TEGDM)すなわちジエチレングリコールビ
ス(炭酸アリール)(そのひとつの形態が商品名ＣＲ−３
９のもとで販売されている)等の光学的に澄んだ高分子
有機素材であることが望ましい。
タクリレート(TEGDM)すなわちジエチレングリコールビ
ス(炭酸アリール)(そのひとつの形態が商品名ＣＲ−３
９のもとで販売されている)等の光学的に澄んだ高分子
有機素材であることが望ましい。
【００３１】次に本発明の具体的な実施例を試験データ
と共に説明する。関連する試験は、主に２種類（two fo
ld）であり、その詳細を以下に説明する。
と共に説明する。関連する試験は、主に２種類（two fo
ld）であり、その詳細を以下に説明する。
【００３２】Ａ） 定常状態誘発光学濃度 この試験において、試験対象となる光化学反応材料の0.
2%w/w濃度をポリウレタン(厚さ１ｍｍ)プレートに分散
し、エアーマス（Air Mass)２で濾過されるキセノン・
アークで摂氏２０度で照明する。サンプルセンダーテス
ト（sample sender test）が定常状態に達した時点でデ
ータをとる。
2%w/w濃度をポリウレタン(厚さ１ｍｍ)プレートに分散
し、エアーマス（Air Mass)２で濾過されるキセノン・
アークで摂氏２０度で照明する。サンプルセンダーテス
ト（sample sender test）が定常状態に達した時点でデ
ータをとる。
【００３３】Ｂ） 誘発光学濃度対温度 この試験において、試験対象となる光化学反応材料の0.
05%w/w濃度をポリウレタン(厚さ１ｍｍ)プレートに分散
し、エアーマス（Air Mass)２で濾過されるキセノン・
アークで特定の温度で照明する。
05%w/w濃度をポリウレタン(厚さ１ｍｍ)プレートに分散
し、エアーマス（Air Mass)２で濾過されるキセノン・
アークで特定の温度で照明する。
【００３４】実施例１は化４に示すような１，３−ジヒ
ドロ−３，３−ジメチル−１−イソブチル−６’−
(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピロ［２Ｈ
−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］
［１，４］オキサジン］である。
ドロ−３，３−ジメチル−１−イソブチル−６’−
(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピロ［２Ｈ
−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］
［１，４］オキサジン］である。
【００３５】
【化４】
【００３６】この実施例１の製造方法は、先ず１，４−
ジオキサン(４０．０ｍｌ)内で４−インドリノ−１−ニ
トロソ−２−ナフトール(０．９０ｇ、０．００３１ｍ
ｏｌ)と１，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−イ
ソブチル−２−メチレンインドリン(０．６６ｇ、０．
００３１ｍｏｌ)混合物を攪拌し、還流下で７２時間過
熱する。次にその溶液を蒸散し、かつシリカ(ヘキサン
における５％エチル・アセテート)上でフラッシュクロ
マトグラフすることによって、軽油（沸点３０乃至４０
℃）で粉砕すると凝固するブラウン・ガムが得られ、黄
色い固体の実施例１(０．８８ｇ、５５％)が得られる。
実施例１の融点は１６７乃至１６８℃である。
ジオキサン(４０．０ｍｌ)内で４−インドリノ−１−ニ
トロソ−２−ナフトール(０．９０ｇ、０．００３１ｍ
ｏｌ)と１，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−イ
ソブチル−２−メチレンインドリン(０．６６ｇ、０．
００３１ｍｏｌ)混合物を攪拌し、還流下で７２時間過
熱する。次にその溶液を蒸散し、かつシリカ(ヘキサン
における５％エチル・アセテート)上でフラッシュクロ
マトグラフすることによって、軽油（沸点３０乃至４０
℃）で粉砕すると凝固するブラウン・ガムが得られ、黄
色い固体の実施例１(０．８８ｇ、５５％)が得られる。
実施例１の融点は１６７乃至１６８℃である。
【００３７】実施例２は化５に示すような、１，３−ジ
ヒドロ−３，３−ジメチル−１−(２−エチルヘクス−
１−イル)−６’−(２，３−ジヒドロインドール−１−
イル)スピロ［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナ
フト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融
点は１５０乃至１５３℃である。
ヒドロ−３，３−ジメチル−１−(２−エチルヘクス−
１−イル)−６’−(２，３−ジヒドロインドール−１−
イル)スピロ［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナ
フト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融
点は１５０乃至１５３℃である。
【００３８】
【化５】
【００３９】実施例３は化６に示すような、１，３−ジ
ヒドロ−３，３−ジメチル−１−シクロヘキシルメチル
−６’−(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピ
ロ［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，
１−ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融点は１４８
乃至１５０℃である。
ヒドロ−３，３−ジメチル−１−シクロヘキシルメチル
−６’−(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピ
ロ［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，
１−ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融点は１４８
乃至１５０℃である。
【００４０】
【化６】
【００４１】実施例４は化７に示すような、１，３−ジ
ヒドロ−３，３−ジメチル−１−(フェニルプロピ(phen
ylprop)−１−イル)−６’−(２，３−ジヒドロインド
ール−１−イル)スピロ［２Ｈ−インドール−２，３’
−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］
であり、融点は１９９乃至２０１℃である。
ヒドロ−３，３−ジメチル−１−(フェニルプロピ(phen
ylprop)−１−イル)−６’−(２，３−ジヒドロインド
ール−１−イル)スピロ［２Ｈ−インドール−２，３’
−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］
であり、融点は１９９乃至２０１℃である。
【００４２】
【化７】
【００４３】実施例５は化８に示すような、１，３−ジ
ヒドロ−３，３−ジメチル−１−ネオペンチル−６’−
(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピロ［２Ｈ
−インドール−２，３−’３Ｈ−ナフト［２，１−Ｂ］
［１，４］オキサジン］であり、融点は１４９．５乃至
１５１℃である。
ヒドロ−３，３−ジメチル−１−ネオペンチル−６’−
(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピロ［２Ｈ
−インドール−２，３−’３Ｈ−ナフト［２，１−Ｂ］
［１，４］オキサジン］であり、融点は１４９．５乃至
１５１℃である。
【００４４】
【化８】
【００４５】比較例１は化９に示すような、１，３−ジ
ヒドロ−１，３，３−トリメチル−６’−(２，３−ジ
ヒドロインドール−１−ｙｌ)スピロ［２Ｈ−インドー
ル−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，４］
オキサジン］である。
ヒドロ−１，３，３−トリメチル−６’−(２，３−ジ
ヒドロインドール−１−ｙｌ)スピロ［２Ｈ−インドー
ル−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，４］
オキサジン］である。
【００４６】
【化９】
【００４７】比較例１の製造方法は、先ずトリクロロエ
チレン(１５０ｍｌ)内で１−ニトロソ−２−ナフトール
(１７．３ｇ、０．１０ｍｏｌ)とインドリン(２３．８
ｇ、０．２０ｍｏｌ)の混合物を還流下で１０分間過熱
する。次にトリクロロエチレン(１００ｍｌ）内の１，
３−ジヒドロ−１，３，３−トリメチル−２−メチレン
インドリン(１７．３ｇ、０．１ｍｏｌ)溶液を一つのバ
ッチに加え、結果として得られた混合物を還流下で１時
間過熱する。さらにこの溶液を蒸散し、かつ油質の残留
物をアセテートで処理することによって、黄色い固体の
比較例１が得られる。比較例１の融点は２５５乃至２５
７℃である。
チレン(１５０ｍｌ)内で１−ニトロソ−２−ナフトール
(１７．３ｇ、０．１０ｍｏｌ)とインドリン(２３．８
ｇ、０．２０ｍｏｌ)の混合物を還流下で１０分間過熱
する。次にトリクロロエチレン(１００ｍｌ）内の１，
３−ジヒドロ−１，３，３−トリメチル−２−メチレン
インドリン(１７．３ｇ、０．１ｍｏｌ)溶液を一つのバ
ッチに加え、結果として得られた混合物を還流下で１時
間過熱する。さらにこの溶液を蒸散し、かつ油質の残留
物をアセテートで処理することによって、黄色い固体の
比較例１が得られる。比較例１の融点は２５５乃至２５
７℃である。
【００４８】比較例２は化１０に示すような、１，３−
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−イソプロピル−６’
−(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピロ［２
Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−
ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融点は１７５乃至
１７８℃である(分解)。
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−イソプロピル−６’
−(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピロ［２
Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−
ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融点は１７５乃至
１７８℃である(分解)。
【００４９】
【化１０】
【００５０】比較例３は化１１に示すような、１，３−
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−イソペンチル−６’
−(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピロ［２
Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−
ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融点は１１６乃至
１１８℃である(分解)。
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−イソペンチル−６’
−(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピロ［２
Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−
ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融点は１１６乃至
１１８℃である(分解)。
【００５１】
【化１１】
【００５２】実施例１乃至５及び比較例１乃至３につい
て前記Ａ試験を行った結果を表１に、実施例１、２、
４、５及び比較例１について前記Ｂ試験を行った結果を
表２に示す。表１に示す結果は、退色又は脱色した状態
及び暗くした状態の両方におけレンズの集中可視透過率
(integrated visual transmission:ＩＶＴ)を含むもの
である。これらの値は、達成できる視覚的な光互変異性
の範囲を示し、また材料のサンレンズ及び自動車用ルー
フライトへの使用の適合性を示すものである。なお誘発
光学濃度（ＩＯＤ）は、例えば下記の式により示され
る。
て前記Ａ試験を行った結果を表１に、実施例１、２、
４、５及び比較例１について前記Ｂ試験を行った結果を
表２に示す。表１に示す結果は、退色又は脱色した状態
及び暗くした状態の両方におけレンズの集中可視透過率
(integrated visual transmission:ＩＶＴ)を含むもの
である。これらの値は、達成できる視覚的な光互変異性
の範囲を示し、また材料のサンレンズ及び自動車用ルー
フライトへの使用の適合性を示すものである。なお誘発
光学濃度（ＩＯＤ）は、例えば下記の式により示され
る。
【００５３】ＩＯＤ ＝ Ｌｏｇ10 （Ｉ 0／Ｉ） （Ｉ 0：入射光の強さ Ｉ：透過光の強さ）
【００５４】
【表１】
【００５５】
【表２】
【００５６】実施例６は化１２に示すような、１，３−
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−ネオペンチルスピロ
［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１
−ｂ］［１，４］オキサジン］である。
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−ネオペンチルスピロ
［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１
−ｂ］［１，４］オキサジン］である。
【００５７】
【化１２】
【００５８】実施例６の製造方法は、先ずメタノール
(２５．０ｍｌ)内で１−ニトロソ−２−ナフトール
(０．３４ｇ、０．００２ｍｏｌ)と１，３−ジヒドロ−
３，３−ジメチル−２−メチレン−１−ネオペンチルイ
ンドリン(０．４６ｇ、０．００２ｍｏｌ)の混合物を還
流下で４．５時間過熱する。次にこの溶液を蒸散し、そ
の残留物をシリカ(ヘキサンにおける５％ジエチルエー
テル)上でフラッシュクロマトグラフすることによっ
て、アセトンで粉砕することによって凝固するイエロー
・ガムが得られ、白い固体の実施例６が得られる。実施
例６の融点は１６７乃至１７０℃である。
(２５．０ｍｌ)内で１−ニトロソ−２−ナフトール
(０．３４ｇ、０．００２ｍｏｌ)と１，３−ジヒドロ−
３，３−ジメチル−２−メチレン−１−ネオペンチルイ
ンドリン(０．４６ｇ、０．００２ｍｏｌ)の混合物を還
流下で４．５時間過熱する。次にこの溶液を蒸散し、そ
の残留物をシリカ(ヘキサンにおける５％ジエチルエー
テル)上でフラッシュクロマトグラフすることによっ
て、アセトンで粉砕することによって凝固するイエロー
・ガムが得られ、白い固体の実施例６が得られる。実施
例６の融点は１６７乃至１７０℃である。
【００５９】実施例７は化１３に示すような、１，３−
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−イソブチルスピロ
［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１
−ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融点は１５９乃
至１６０℃である。
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−イソブチルスピロ
［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１
−ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融点は１５９乃
至１６０℃である。
【００６０】
【化１３】
【００６０】実施例８は化１４に示すような、１，３−
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−(２−フェニルプロ
ピ−１−イル)スピロ［２Ｈ−インドール−２，３’−
３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］で
あり、融点は１３６乃至１４１℃である。
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−(２−フェニルプロ
ピ−１−イル)スピロ［２Ｈ−インドール−２，３’−
３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］で
あり、融点は１３６乃至１４１℃である。
【００６１】
【化１４】
【００６２】比較例４は化１５に示すような、１，３−
ジヒドロ−１，３，３−トリメチルスピロ［２Ｈ−イン
ドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，
４］オキサジン］である。
ジヒドロ−１，３，３−トリメチルスピロ［２Ｈ−イン
ドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，
４］オキサジン］である。
【００６３】
【化１５】
【００６４】比較例４の製造方法は、先ずエタノール
(８０．０ｍｌ)内で１，３−ジヒドロ−１，３，３−ト
リメチル−２−メチレンインドリン(３．６２ｇ、０．
０２１ｍｏｌ)と１−ニトロソ−２−ナフトール(３．４
６ｇ、０．０２ｍｏｌ)の混合物を還流下で２時間過熱
する。次にこの溶液を蒸散し、残留物をシリカ(ジクロ
ロメタン上でフラッシュクロマトグラフすることによっ
て、うす黄色の固体の比較例４が得られ、融点は１２７
乃至１３０℃である。
(８０．０ｍｌ)内で１，３−ジヒドロ−１，３，３−ト
リメチル−２−メチレンインドリン(３．６２ｇ、０．
０２１ｍｏｌ)と１−ニトロソ−２−ナフトール(３．４
６ｇ、０．０２ｍｏｌ)の混合物を還流下で２時間過熱
する。次にこの溶液を蒸散し、残留物をシリカ(ジクロ
ロメタン上でフラッシュクロマトグラフすることによっ
て、うす黄色の固体の比較例４が得られ、融点は１２７
乃至１３０℃である。
【００６５】比較例５は化１６に示すような、１，３−
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−ベンジルスピロ［２
Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−
ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融点は２０２乃至
２０４℃である。
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−ベンジルスピロ［２
Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−
ｂ］［１，４］オキサジン］であり、融点は２０２乃至
２０４℃である。
【００６６】
【化１６】
【００６７】比較例６は化１７に示すような、１，３−
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−オクタデシルスピロ
(octadecylspiro)［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ
−ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］であ
り、融点は６５℃である。
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−オクタデシルスピロ
(octadecylspiro)［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ
−ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］であ
り、融点は６５℃である。
【００６８】
【化１７】
【００６９】実施例６乃至８及び比較例４乃至６の前記
Ａ試験を行った結果を表３に示す。
Ａ試験を行った結果を表３に示す。
【００７０】
【表３】
【００７１】実施例９は化１８に示すような、１，３−
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−(２−フェニルプロ
ピ−１−イル)−６’−(ｐ−ジエチルアミノフェニル)
スピロ［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト
［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］である。
ジヒドロ−３，３−ジメチル−１−(２−フェニルプロ
ピ−１−イル)−６’−(ｐ−ジエチルアミノフェニル)
スピロ［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト
［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］である。
【００７２】
【化１８】
【００７３】実施例９の製造方法は、先ずメタノール
(１７５．０ｍｌ)内で４−(ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル−１−ニトロソ−２−ヒドロキシナフタレン(５．７
６ｇ、０．０１８ｍｏｌ)と１，３−ジヒドロ−３，３
−ジメチル−１−(２−フェニルプロピ−１−イル)−２
メチレンインドリン(４．９８ｇ、０．０１８ｍｏｌ)の
混合物を還流下で２２時間過熱する。次にこの溶液を蒸
散し、結果として得られた残留物をシリカ(ヘキサンに
おける１０％ジエチルエーテル)上でフラッシュクロマ
トグラフすることによって、軽油（沸点４０乃至６０
℃）で処理することにより凝固するグリーン・ガムが得
られ、うす緑色の固体の実施例９(１．０８ｇ、１０％)
が得られる。実施例９の融点は７４乃至８０℃である。
(１７５．０ｍｌ)内で４−(ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル−１−ニトロソ−２−ヒドロキシナフタレン(５．７
６ｇ、０．０１８ｍｏｌ)と１，３−ジヒドロ−３，３
−ジメチル−１−(２−フェニルプロピ−１−イル)−２
メチレンインドリン(４．９８ｇ、０．０１８ｍｏｌ)の
混合物を還流下で２２時間過熱する。次にこの溶液を蒸
散し、結果として得られた残留物をシリカ(ヘキサンに
おける１０％ジエチルエーテル)上でフラッシュクロマ
トグラフすることによって、軽油（沸点４０乃至６０
℃）で処理することにより凝固するグリーン・ガムが得
られ、うす緑色の固体の実施例９(１．０８ｇ、１０％)
が得られる。実施例９の融点は７４乃至８０℃である。
【００７４】実施例１０は化１９に示すような、１，３
−ジヒドロ−３，３−ジメチル−ネオペンチル−６’−
(ｐ−ジエチルアミノフェニル)スピロ［２Ｈ−インドー
ル−２，３’−［３Ｈ］ナフト［２，１−ｂ］［１，
４］オキサジン］であり、融点は１９０乃至１９３℃で
ある。
−ジヒドロ−３，３−ジメチル−ネオペンチル−６’−
(ｐ−ジエチルアミノフェニル)スピロ［２Ｈ−インドー
ル−２，３’−［３Ｈ］ナフト［２，１−ｂ］［１，
４］オキサジン］であり、融点は１９０乃至１９３℃で
ある。
【００７５】
【化１９】
【００７６】比較例７は化２０に示すような、１，３−
ジヒドロ−１，３，３−トリメチル−６’−(ｐ−ジエ
チルアミノフェニル)スピロ［２Ｈ−インドール−２，
３’−［３Ｈ］ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサ
ジン］である。
ジヒドロ−１，３，３−トリメチル−６’−(ｐ−ジエ
チルアミノフェニル)スピロ［２Ｈ−インドール−２，
３’−［３Ｈ］ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサ
ジン］である。
【００７７】
【化２０】
【００７８】比較例７の製造方法は、先ず窒素下にある
メタノール(６０ｍｌ)内の４−(ｐ−ジエチルアミノフ
ェニル)−１−ニトロソ−２−ヒドロキシナフタレン
(０．８５ｇ、０．００２７ｍｏｌ)と１，３−ジヒドロ
−１，３，３−トリメチル−２−メチレンインドリン
(０．５ｇ、０．００２９ｍｏｌ)の溶液を還流下で２４
時間過熱した。次にこの溶液を蒸散し、結果として得ら
れた残留物をシリカ(１パート・ジエチルエーテルない
し１０パートｐｅｔ．エーテル)上でクロマトグラフす
ることによって、黄色い固体の比較例７(０．４７ｇ、
３６％)が得られる。比較例７の融点は１５７乃至１５
８℃である。
メタノール(６０ｍｌ)内の４−(ｐ−ジエチルアミノフ
ェニル)−１−ニトロソ−２−ヒドロキシナフタレン
(０．８５ｇ、０．００２７ｍｏｌ)と１，３−ジヒドロ
−１，３，３−トリメチル−２−メチレンインドリン
(０．５ｇ、０．００２９ｍｏｌ)の溶液を還流下で２４
時間過熱した。次にこの溶液を蒸散し、結果として得ら
れた残留物をシリカ(１パート・ジエチルエーテルない
し１０パートｐｅｔ．エーテル)上でクロマトグラフす
ることによって、黄色い固体の比較例７(０．４７ｇ、
３６％)が得られる。比較例７の融点は１５７乃至１５
８℃である。
【００７９】実施例９及び１０及び比較例７について行
ったＡ試験の結果を、表４に示す。
ったＡ試験の結果を、表４に示す。
【００８０】
【表４】
【００８１】 ［発明の詳細な説明］以上のように本発明によれば、材
料の反応速度を制御又は適合できる光化学反応材料を提
供することができる。
料の反応速度を制御又は適合できる光化学反応材料を提
供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョン デービッド ヘップウアス イギリス国 ランカシアー ピー．アー ル．２ ７イー．アール． プレストン, フルウード カーヌースチー クロース ２ (72)発明者 クリストファ デービッド ガバット イギリス国 ランカシアー ビー．ビー. ２ ７エヌ．ワイ． ブラックバーン，メ ロー ブルック ブラーンチ ロード 39 (72)発明者 ショーン デレック マーズデン イギリス国 マーシーサイド ダブリュ ー．エー．10 ６ディー．ワイ． セイン ト ヘレンズ ウィンダル，ウィダルブロ ック クレセント 35
Claims (21)
- 【請求項１】 化１に示す構造式からなる光化学反応材
料。 【化１】 化１において、Ａ は、炭素数６からなる炭素環又は複
素環である。各Ｒは、アルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アリール、炭素環式、複素環式、アルキル炭素環式
もしくはアルキル複素環式、又は、Ｒ基の少なくとも２
個が一体となって炭素環又は複素環の一部を形成し、又
は、Ｒ基の一つが水素であり、他の２個が上記から選択
される。Ｒ*は、 相互に独立しており、分枝状の又は直
線状の炭素数１乃至１０であるアルキル基及び炭素環式
基又は複素環式基から選択され、又は両方が炭素環又は
複素環の一部を形成する。Ｒ+ mは、水素、アルキル、ア
ルコキシ、アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、三フッ
化メチル又はアリールから選択され、かつｍは０から４
の値である。Ｒ+ nは、Ａに縮合される炭素環式基及び複
素環式基から選択され、ｎは、０から２の値である。
Ｒ’は、水素、アルキル、アルコキシ、アミノ、炭素環
式又は複素環式から選択される。Ｒ”は、水素、アルキ
ル、アリール、ヘテロアリール、アルケニル、アルキニ
ル、アルコキシ、アリールオキシ、アミノ、ハロゲン、
シアノ、ニトロ、三フッ化メチル、イミノ、アゾ、カル
ボキシエステル、アミドから選択され、又は一部分に縮
合される炭素環式又は複素環式基である。 - 【請求項２】 化２に示す構造式からなる光化学反応材
料。 【化２】 化２において、Ｒ は、相互に独立であり、アルキル、
アルケニル、アルキニル、アリール、炭素環式、複素環
式、アルキル炭素環式又はアルキル複素環式から選択さ
れるものである。又は、Ｒ基の少なくとも２個が一体と
なって炭素環又は複素環の一部を形成し、又は、Ｒ基の
一つが水素であり、また他の２つが上記のリストから選
択される。Ｒ* は、相互に独立であり、分枝状の又は直
線状の炭素数１乃至１０のアルキル又は炭素環式もしく
は複素環式から選択され、又は両方が脂環の一部を形成
する。Ｒ+ mは、水素、アリール、アルキル、アルコキ
シ、アミノ、ハロゲン、シアノ又はニトロから選択さ
れ、かつｍが０から４の値である。Ｒ+ nは、炭素環式、
複素環式、アリール又はヘテロアリール基から選択さ
れ、ｎは０から２の値である。Ｒ+は、独立であり、水
素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アルケニ
ル、アルキニル、アルコキシ、アリールオキシ、アミ
ノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、三フッ化メチル、イミ
ノ、アゾ、カルボキシエステル、アミドから選択され、
又は炭素環又は複素環の一部を形成する。Ｒ゜は、水
素、アルキル、アルコキシ、アシル、フェニル、ハロゲ
ン、シアノ基、ニトロ基、アミン基又は三フッ化メチル
から選択され、又は脂環式、アシルもしくはヘテロアリ
ール基の前記の一部を形成し、かつＸは、炭素環又は複
素環に含まれる、窒素又は−ＣＨ−基である。 - 【請求項３】 前記Ｒ基の少なくとも２個が構造上シク
ロヘキシル、アダマンチル、又はノルボナリルである脂
環の一部を形成する、請求項第１項又は第２項記載の光
化学反応材料。 - 【請求項４】 前記Ｒ*基がメチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブ
チル、ｎ−ペンチル、ネオペンチル及びイソペンチルを
含む、請求項１乃至３いずれか一項記載の光化学反応材
料。 - 【請求項５】 前記Ｒ*基が構造上シクロヘキシル、ア
ダマンチル又はノルボナリルである脂環の一部を形成す
る、請求項１乃至３のいずれか一項記載の光化学反応材
料。 - 【請求項６】 前記Ｒ+基及び前記Ｒ゜基が一体となっ
て、構造上炭素環式又は複素環式となり得る縮合環の一
部を形成し得る、請求項１又は２記載の光化学反応材
料。 - 【請求項７】 前記化２が１，３−ジヒドロ−３，３−
ジメチル−１−イソブチル−６’−(２，３−ジヒドロ
インドール−１−イル)スピロ［２Ｈ−インドール−
２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキ
サジン］である請求項６記載の光化学反応材料。 - 【請求項８】 前記化２が１，３−ジヒドロ−３，３−
ジメチル−１−(２−エチルヘキサ−１−イル)−６’−
(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピロ［２Ｈ
−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］
［１，４］オキサジン］である請求項６記載の光化学反
応材料。 - 【請求項９】 前記化２が１，３−ジヒドロ−３，３−
ジメチル−１−シクロヘキシルメチル−６’−(２，３
−ジヒドロインドール−１−イル)スピロ［２Ｈ−イン
ドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，
４］オキサジン］である請求項６記載の光化学反応材
料。 - 【請求項１０】 前記化２が１，３−ジヒドロ−３，３
−ジメチル−１−(フェニルプロピ−１−イル)−６’−
(２，３−ジヒドロインドール−１−イル)スピロ［２Ｈ
−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］
［１，４］オキサジン］である請求項６記載の光化学反
応材料。 - 【請求項１１】 前記化２が１，３−ジヒドロ−３，３
−ジメチル−１−ネオペンチル−６’−(２，３−ジヒ
ドロインドール−１−イル)スピロ［２Ｈ−インドール
−２，３−’３Ｈ−ナフト［２，１−Ｂ］［１，４］オ
キサジン］である請求項６記載の光化学反応材料。 - 【請求項１２】 前記化２が１，３−ジヒドロ−３，３
−ジメチル−１−ネオペンチルスピロ［２Ｈ−インドー
ル−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，４］
オキサジン］である請求項６記載の光化学反応材料。 - 【請求項１３】 前記化２が１，３−ジヒドロ−３，３
−ジメチル−１−イソブチルスピロ［２Ｈ−インドール
−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オ
キサジン］である請求項６記載の光化学反応材料。 - 【請求項１４】 前記化２が１，３−ジヒドロ−３，３
−ジメチル−１−(２−フェニルプロピ−１−イル)スピ
ロ［２Ｈ−インドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，
１−ｂ］［１，４］オキサジン］である請求項６記載の
光化学反応材料。 - 【請求項１５】 前記化２が１，３−ジヒドロ−３，３
−ジメチル−１−(２−フェニルプロピ−１−イル)−
６’−(ｐ−ジエチルアミノフェニル)スピロ［２Ｈ−イ
ンドール−２，３’−３Ｈ−ナフト［２，１−ｂ］
［１，４］オキサジン］である請求項６記載の光化学反
応材料。 - 【請求項１６】 前記化２が１，３−ジヒドロ−３，３
−ジメチル−ネオペンチル−６’−(ｐ−ジエチルアミ
ノフェニル)スピロ［２Ｈ−インドール−２，３’−
［３Ｈ］ナフト［２，１−ｂ］［１，４］オキサジン］
である請求項６記載の光化学反応材料。 - 【請求項１７】 高分子宿主材料に固着され又は包まれ
ている請求項１又は２記載の光化学反応材料を備えた高
分子材料。 - 【請求項１８】 前記宿主素材が、ポリオール(炭酸ア
リール)モノマーの重合体、ポリメチルメタクリレート
を含むポリアクリレート、セルロースアセテート、セル
ローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオ
ネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニ
ルアセテート)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリウレタ
ン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリスチレン、ポリ(スチレンメチルメタクリレート)共
重合体、ポリ(スチレンアクリロニトリル)共重合体、ポ
リビニルブチラル又はその混合物から選択される請求項
１７記載の高分子材料。 - 【請求項１９】 前記宿主材料が、光学的に澄んだ素材
である請求項１７記載の高分子材料。 - 【請求項２０】 前記宿主材料がトリエチレングリコー
ルジメタクリレート(TEGDM)である請求項１７記載の高
分子材料。 - 【請求項２１】 前記宿主材料がジエチレングリコール
ビス(炭酸アリール)である請求項１７記載の高分子材
料。
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