JP3358750B2 - 光化学反応材料 - Google Patents

光化学反応材料

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JP3358750B2 JP33947393A JP33947393A JP3358750B2 JP 3358750 B2 JP3358750 B2 JP 3358750B2 JP 33947393 A JP33947393 A JP 33947393A JP 33947393 A JP33947393 A JP 33947393A JP 3358750 B2 JP3358750 B2 JP 3358750B2
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    • C09K9/00Tenebrescent materials, i.e. materials for which the range of wavelengths for energy absorption is changed as a result of excitation by some form of energy
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03C1/685Compositions containing spiro-condensed pyran compounds or derivatives thereof, as photosensitive substances

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  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、通常光互変異性材料と
して知られる光化学反応材料に係わり、特にポリウレタ
ン等の高分子材料に分散させるときに使用できる光化学
反応材料に関する。
【0002】
【従来の技術】永い間、光化学反応材料は知られてい
る。初期の頃には、これらの材料の使用は、ガラス媒体
に分散させるといった状況に限定されており、例えば、
GB 1515641では、ホウケイ酸ガラスに使用する光互変異
性材料が開示されており、またGB1515642では、アルミ
ノリン酸ガラスに使用する光互変異性材料が開示されて
いる。
【0003】最近では、高価なガラスを高分子材料と置
換する関連業界の動きとともに、高分子環境において作
用する光化学反応材料の開発に多くの発展がなされてい
る。ある程度までは、本出願人の2個の特許/特許出願
(ヨーロッパ第87303819.4号及びヨーロッパ第8830440
3.4号)がその問題を解決し、また適切な解決策を提供
している。
【0004】これらの特許出願は、それぞれ、光化学反
応材料として使用するための素材の適切なスピロ−オキ
サジン構造、及び光化学反応材料を構造に固定(lockin
g)させるための高分子組織に関するものである。
【0005】
【解決しようとする課題】高分子組織において使用でき
る光互変化合物/光化学反応材料の開発は、比較的迅速
に進み、結果としていくつかの問題に直面している。
【0006】このような問題の一つとして、最も適切に
着色された組織が、活性の異なる色を有する異った素材
の混合物を実際に含んでいるということである。残念な
がら、これらの素材の大部分は、着色されない状態に回
復する時間も異なる。従って、活性化された組織が回復
される場合でも、明かな色の変化を受けている。場合に
よっては、派手な望ましくない色に導かれる可能性があ
る。概して、この問題全体は、組織に含まれる材料の反
応速度論を中心とするものである。
【0007】そこで本発明は、材料の反応速度を制御又
は適合できる手段を発見することによって、上記問題点
に対する解決策を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めに、本発明に係わる光化学反応材料は、化1に示す構
造を有する。なお、本発明において、「基」にはその誘
導体も含む場合がある。
【0009】
【化1】
【0010】化1において、A は、炭素数6からなる
炭素環又は複素環である。各Rは、アルキル、アルケニ
ル、アルキニル、アリール(aryl)、炭素環式、複素環
式、アルキル炭素環式もしくはアルキル複素環式、又
は、R基の少なくとも2個が一体となって炭素環又は複
素環の一部を形成し、又は、R基の一つが水素であり、
他の2個が上記から選択される。R*は、 相互に独立し
ており、分枝状の又は直線状の炭素数1乃至10である
アルキル基及び炭素環式基又は複素環式基から選択さ
れ、又は両方が炭素環又は複素環の一部を形成する。R
+ mは、アルキル、アルコキシ、アミノ、ハロゲン、シア
ノ、ニトロ、三フッ化メチル又はアリールから選択さ
れ、かつmは0から4の値である。R+ nは、Aに縮合さ
れる炭素環式基及び複素環式基から選択され、nは、0
から2の値である。R’は、水素、アルキル、アルコキ
シ、アミノ、炭素環式又は複素環式から選択される。
R”は、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、
アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アリールオキシ
(aryloxy)、アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、三フ
ッ化メチル、イミノ、アゾ、カルボキシエステル、アミ
ドから選択され、又は一部分に縮合される炭素環式又は
複素環式基である。
【0011】第2の本発明は、化2に示す構造を有する
光化学反応材料である。
【0012】
【化2】
【0013】化2において、R は、相互に独立であ
り、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、炭
素環式、複素環式、アルキル炭素環式又はアルキル複素
環式から選択されるものである。又は、R基少なくとも
2個が一体となって炭素環又は複素環の一部を形成し、
又は、R基の一つが水素であり、また他の2つが上記の
リストから選択される。R* は、相互に独立であり、分
枝状の又は直線状の炭素数1乃至10のアルキル又は炭
素環式もしくは複素環式から選択され、又は両方が脂環
の一部を形成する。R+ mは、水素、アリール、アルキ
ル、アルコキシ、アミノ、ハロゲン、シアノ又はニトロ
から選択され、かつmが0から4の値である。R+ nは、
脂環式、複素環式、アリール又はヘテロアリール基から
選択され、nは0から2の値である。R+は、独立であ
り、水素、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アル
ケニル、アルキニル、アルコキシ、アリールオキシ、ア
ミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、三フッ化メチル、イ
ミノ、アゾ、カルボキシエステル、アミドから選択さ
れ、又は炭素環又は複素環の一部を形成する。R゜は、
水素、アルキル、アルコキシ、アシル、フェニル、ハロ
ゲン、シアノ基、ニトロ基、アミン基又は三フッ化メチ
ルから選択され、又は脂環式、アシルもしくはヘテロア
リール基の前記の一部を形成し、かつXは、炭素環又は
複素環に含まれる、窒素又は−CH−基である。
【0014】本発明において、分子の光活性中心付近に
おける第三級又は第四級アルキルメチレン(−N−CH 2
−CR3)基の存在は、光化学反応材料が回復する割合に
影響を与える。さらに、この基の四面体の−CR 3部分
に付着する基を制御することによって、分子回復の反応
速度をさらに調整・制御できる。
【0015】光化学反応材料の反応速度は、本質におい
て調整・制御することができ、また問題となる基は、活
性化した状態で形成される分子の色には若干若しくは全
く影響を与えない。従って、組織において使用される素
材の反応速度は、関与する材料のフェード(暗化)・バ
ック/回復を制御するために適切に調整される。
【0016】本質において、窒素と四面体CR 3の間の
=N−CH 2−CR 3基中の−CH 2−の配置は、活性状
態からの回復の反応速度を劇的に衰えさせる。結果とし
て、現在有用な材料において見られる一つの顕著な利点
は、比較的遅い回復率に起因するものである。回復率が
遅くなった結果、活性化した素材は、色がついた状態に
ある時間が長くなる。結果として、いつでも、より多く
の光化学反応材料が活性化した/色のついた状態にある
こととなる。この最終的な結果は、光化学反応材料を含
む物質が、特定の温度においてより高い誘発された暗さ
を有するということである。
【0017】本発明の一つの配合において、R基の少な
くとも2個が、構造上シクロヘキシル、アダマンチル
(adamantyl)又はノルボナリル(norbornyl)である脂
環の一部を形成する。
【0018】R*基として表現される適切な炭素数1乃
至10のアルキルは、メチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、
n−ペンチル、ネオペンチル、及びイソペンチルを含
む。
【0019】本発明の特定の実施例の一つにおいて、R
*基は、構造上シクロヘキシル、アダマンチル又はノル
ボナリルである脂環の一部を形成する。
【0020】本発明の特定の配合の一つにおいて、R+
及びR゜基は、一体となって、構造上炭素環式又は複素
環式である縮合環の一部を形成できる。
【0021】光化学反応材料の背後にある重要な要因の
一つは、関与する実際の材料を製造する能力である。
【0022】さらに単純な光化学材料であり、かつ唯一
の単純な材料として、一般的に知られているフィッシャ
ー塩基に類似する第4の(Quaternisations of Fisher
BaseAnalogue)合成ルートを採用できる。しかしなが
ら、さらに複雑な光化学反応材料(特に分枝した連鎖ア
ルキルが関与する場合)を使用して当業者が評価するよ
うに、フィッシャー塩基に類似する第4のルートは、実
行可能な合成ルートを提供するものではない。
【0023】本発明による光化学反応材料は、本出願人
が開拓しかつGB2190088において概説されている6’ア
ミノ化合物に関するルートを使用して合成でき、合成手
続きの広範囲な原則に関する本件の開示は、ここでの言
及によって本明細書に組み込まれている。
【0024】しかしながら、合成ルートの理解を助ける
ため、その概要を化3に従って説明する。
【0025】
【化3】
【0026】これらのN−(分枝)アルキル・フィッシャ
ー塩基(Fischer Bases)の合成において、最も重要な
手段は、N−(分岐)アルキル・アニリン誘導体(1)の形
成である。アニリノ(anilino)誘導体の一般的な合成ル
ートは、Org. Prep. Proceed. Int. Briefs, 1989, 21
(3), 340-1、及びJ. Chem. Soc. Perkins Trans.1, 198
7, 799-804、A・R・カトリツキー等の研究に基づく。
アニリン(1)を対応するフィッシャー基(5)に転換する
ために必要な成分置換は、フィッシャーのインドール合
成( Wiley-Interscience, 1982、B・ロビンソン)に
よって全般的にカバーされている既知の合成手段によ
る。
【0027】スピロインドリノオキサジン光互変異性化
合物の合成に使用される一般的な手段は、応用互変高分
子の合成(Applied Phtochromic Polymer Systems, Bla
ckie, Ed.C. B. McArdle, 1992, Chapter 2)に記載さ
れている、アルキリデンインドリン複素環式(フィッシ
ャー塩基に類似する)とo−ニトロソ・アリール・アル
コールを縮合することを含む。
【0028】上述の光化学反応材料は、使用さていると
きに、高分子宿主素材に固定され又は包まれる。宿主素
材が、光化学反応材料に、例えば劣化(degrade)又は破
壊等の影響を与えないことが望ましい。しかしながら、
これら影響が重大でない程度ならば、大部分の材料は有
効に作用できる。
【0029】宿主素材の適切な重合体の例は、光学的に
澄んだ(clear)素材であり、例えば、ポリオール(炭酸
アリール)モノマーの重合体、ポリメチルメタクリレー
ト等のポリアクリレート、セルロースアセテート、セル
ローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオ
ネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニ
ルアセテート)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリウレタ
ン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリスチレン、ポリ(スチレンメチルメタクリレート)共
重合体、ポリ(スチレンアクリロニトリル)共重合体及び
ポリビニルブチラルがある。透明な共重合体及び透明な
重合体の混合物も、宿主材料として適切である。
【0030】宿主材料は、トリエチレングリコールジメ
タクリレート(TEGDM)すなわちジエチレングリコールビ
ス(炭酸アリール)(そのひとつの形態が商品名CR−3
9のもとで販売されている)等の光学的に澄んだ高分子
有機素材であることが望ましい。
【0031】次に本発明の具体的な実施例を試験データ
と共に説明する。関連する試験は、主に2種類(two fo
ld)であり、その詳細を以下に説明する。
【0032】A) 定常状態誘発光学濃度 この試験において、試験対象となる光化学反応材料の0.
2%w/w濃度をポリウレタン(厚さ1mm)プレートに分散
し、エアーマス(Air Mass)2で濾過されるキセノン・
アークで摂氏20度で照明する。サンプルセンダーテス
ト(sample sender test)が定常状態に達した時点でデ
ータをとる。
【0033】B) 誘発光学濃度対温度 この試験において、試験対象となる光化学反応材料の0.
05%w/w濃度をポリウレタン(厚さ1mm)プレートに分散
し、エアーマス(Air Mass)2で濾過されるキセノン・
アークで特定の温度で照明する。
【0034】実施例1は化4に示すような1,3−ジヒ
ドロ−3,3−ジメチル−1−イソブチル−6’−
(2,3−ジヒドロインドール−1−イル)スピロ[2H
−インドール−2,3’−3H−ナフト[2,1−b]
[1,4]オキサジン]である。
【0035】
【化4】
【0036】この実施例1の製造方法は、先ず1,4−
ジオキサン(40.0ml)内で4−インドリノ−1−ニ
トロソ−2−ナフトール(0.90g、0.0031m
ol)と1,3−ジヒドロ−3,3−ジメチル−1−イ
ソブチル−2−メチレンインドリン(0.66g、0.
0031mol)混合物を攪拌し、還流下で72時間過
熱する。次にその溶液を蒸散し、かつシリカ(ヘキサン
における5%エチル・アセテート)上でフラッシュクロ
マトグラフすることによって、軽油(沸点30乃至40
℃)で粉砕すると凝固するブラウン・ガムが得られ、黄
色い固体の実施例1(0.88g、55%)が得られる。
実施例1の融点は167乃至168℃である。
【0037】実施例2は化5に示すような、1,3−ジ
ヒドロ−3,3−ジメチル−1−(2−エチルヘクス−
1−イル)−6’−(2,3−ジヒドロインドール−1−
イル)スピロ[2H−インドール−2,3’−3H−ナ
フト[2,1−b][1,4]オキサジン]であり、融
点は150乃至153℃である。
【0038】
【化5】
【0039】実施例3は化6に示すような、1,3−ジ
ヒドロ−3,3−ジメチル−1−シクロヘキシルメチル
−6’−(2,3−ジヒドロインドール−1−イル)スピ
ロ[2H−インドール−2,3’−3H−ナフト[2,
1−b][1,4]オキサジン]であり、融点は148
乃至150℃である。
【0040】
【化6】
【0041】実施例4は化7に示すような、1,3−ジ
ヒドロ−3,3−ジメチル−1−(フェニルプロピ(phen
ylprop)−1−イル)−6’−(2,3−ジヒドロインド
ール−1−イル)スピロ[2H−インドール−2,3’
−3H−ナフト[2,1−b][1,4]オキサジン]
であり、融点は199乃至201℃である。
【0042】
【化7】
【0043】実施例5は化8に示すような、1,3−ジ
ヒドロ−3,3−ジメチル−1−ネオペンチル−6’−
(2,3−ジヒドロインドール−1−イル)スピロ[2H
−インドール−2,3−’3H−ナフト[2,1−B]
[1,4]オキサジン]であり、融点は149.5乃至
151℃である。
【0044】
【化8】
【0045】比較例1は化9に示すような、1,3−ジ
ヒドロ−1,3,3−トリメチル−6’−(2,3−ジ
ヒドロインドール−1−yl)スピロ[2H−インドー
ル−2,3’−3H−ナフト[2,1−b][1,4]
オキサジン]である。
【0046】
【化9】
【0047】比較例1の製造方法は、先ずトリクロロエ
チレン(150ml)内で1−ニトロソ−2−ナフトール
(17.3g、0.10mol)とインドリン(23.8
g、0.20mol)の混合物を還流下で10分間過熱
する。次にトリクロロエチレン(100ml)内の1,
3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−2−メチレン
インドリン(17.3g、0.1mol)溶液を一つのバ
ッチに加え、結果として得られた混合物を還流下で1時
間過熱する。さらにこの溶液を蒸散し、かつ油質の残留
物をアセテートで処理することによって、黄色い固体の
比較例1が得られる。比較例1の融点は255乃至25
7℃である。
【0048】比較例2は化10に示すような、1,3−
ジヒドロ−3,3−ジメチル−1−イソプロピル−6’
−(2,3−ジヒドロインドール−1−イル)スピロ[2
H−インドール−2,3’−3H−ナフト[2,1−
b][1,4]オキサジン]であり、融点は175乃至
178℃である(分解)。
【0049】
【化10】
【0050】比較例3は化11に示すような、1,3−
ジヒドロ−3,3−ジメチル−1−イソペンチル−6’
−(2,3−ジヒドロインドール−1−イル)スピロ[2
H−インドール−2,3’−3H−ナフト[2,1−
b][1,4]オキサジン]であり、融点は116乃至
118℃である(分解)。
【0051】
【化11】
【0052】実施例1乃至5及び比較例1乃至3につい
て前記A試験を行った結果を表1に、実施例1、2、
4、5及び比較例1について前記B試験を行った結果を
表2に示す。表1に示す結果は、退色又は脱色した状態
及び暗くした状態の両方におけるレンズの統合可視透過
率(integrated visual transmission:IVT)を含
むものである。これらの値は、達成できる視覚的な光互
変異性の範囲を示し、また材料のサンレンズ及び自動車
用ルーフライトへの使用の適合性を示すものである。な
お、誘発光学濃度(IOD)は、例えば下記の式により
示される。
【0053】IOD = Log10 (I 0/I) (I 0:入射光の強さ I:透過光の強さ)
【0054】
【表1】
【0055】
【表2】
【0056】実施例6は化12に示すような、1,3−
ジヒドロ−3,3−ジメチル−1−ネオペンチルスピロ
[2H−インドール−2,3’−3H−ナフト[2,1
−b][1,4]オキサジン]である。
【0057】
【化12】
【0058】実施例6の製造方法は、先ずメタノール
(25.0ml)内で1−ニトロソ−2−ナフトール
(0.34g、0.002mol)と1,3−ジヒドロ−
3,3−ジメチル−2−メチレン−1−ネオペンチルイ
ンドリン(0.46g、0.002mol)の混合物を還
流下で4.5時間過熱する。次にこの溶液を蒸散し、そ
の残留物をシリカ(ヘキサンにおける5%ジエチルエー
テル)上でフラッシュクロマトグラフすることによっ
て、アセトンで粉砕することによって凝固するイエロー
・ガムが得られ、白い固体の実施例6が得られる。実施
例6の融点は167乃至170℃である。
【0059】実施例7は化13に示すような、1,3−
ジヒドロ−3,3−ジメチル−1−イソブチルスピロ
[2H−インドール−2,3’−3H−ナフト[2,1
−b][1,4]オキサジン]であり、融点は159乃
至160℃である。
【0060】
【化13】
【0060】実施例8は化14に示すような、1,3−
ジヒドロ−3,3−ジメチル−1−(2−フェニルプロ
ピ−1−イル)スピロ[2H−インドール−2,3’−
3H−ナフト[2,1−b][1,4]オキサジン]で
あり、融点は136乃至141℃である。
【0061】
【化14】
【0062】比較例4は化15に示すような、1,3−
ジヒドロ−1,3,3−トリメチルスピロ[2H−イン
ドール−2,3’−3H−ナフト[2,1−b][1,
4]オキサジン]である。
【0063】
【化15】
【0064】比較例4の製造方法は、先ずエタノール
(80.0ml)内で1,3−ジヒドロ−1,3,3−ト
リメチル−2−メチレンインドリン(3.62g、0.
021mol)と1−ニトロソ−2−ナフトール(3.4
6g、0.02mol)の混合物を還流下で2時間過熱
する。次にこの溶液を蒸散し、残留物をシリカ(ジクロ
ロメタン上でフラッシュクロマトグラフすることによっ
て、うす黄色の固体の比較例4が得られ、融点は127
乃至130℃である。
【0065】比較例5は化16に示すような、1,3−
ジヒドロ−3,3−ジメチル−1−ベンジルスピロ[2
H−インドール−2,3’−3H−ナフト[2,1−
b][1,4]オキサジン]であり、融点は202乃至
204℃である。
【0066】
【化16】
【0067】比較例6は化17に示すような、1,3−
ジヒドロ−3,3−ジメチル−1−オクタデシルスピロ
(octadecylspiro)[2H−インドール−2,3’−3H
−ナフト[2,1−b][1,4]オキサジン]であ
り、融点は65℃である。
【0068】
【化17】
【0069】実施例6乃至8及び比較例4乃至6の前記
A試験を行った結果を表3に示す。
【0070】
【表3】
【0071】実施例9は化18に示すような、1,3−
ジヒドロ−3,3−ジメチル−1−(2−フェニルプロ
ピ−1−イル)−6’−(p−ジエチルアミノフェニル)
スピロ[2H−インドール−2,3’−3H−ナフト
[2,1−b][1,4]オキサジン]である。
【0072】
【化18】
【0073】実施例9の製造方法は、先ずメタノール
(175.0ml)内で4−(p−ジエチルアミノフェニ
ル−1−ニトロソ−2−ヒドロキシナフタレン(5.7
6g、0.018mol)と1,3−ジヒドロ−3,3
−ジメチル−1−(2−フェニルプロピ−1−イル)−2
メチレンインドリン(4.98g、0.018mol)の
混合物を還流下で22時間過熱する。次にこの溶液を蒸
散し、結果として得られた残留物をシリカ(ヘキサンに
おける10%ジエチルエーテル)上でフラッシュクロマ
トグラフすることによって、軽油(沸点40乃至60
℃)で処理することにより凝固するグリーン・ガムが得
られ、うす緑色の固体の実施例9(1.08g、10%)
が得られる。実施例9の融点は74乃至80℃である。
【0074】実施例10は化19に示すような、1,3
−ジヒドロ−3,3−ジメチル−ネオペンチル−6’−
(p−ジエチルアミノフェニル)スピロ[2H−インドー
ル−2,3’−[3H]ナフト[2,1−b][1,
4]オキサジン]であり、融点は190乃至193℃で
ある。
【0075】
【化19】
【0076】比較例7は化20に示すような、1,3−
ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−6’−(p−ジエ
チルアミノフェニル)スピロ[2H−インドール−2,
3’−[3H]ナフト[2,1−b][1,4]オキサ
ジン]である。
【0077】
【化20】
【0078】比較例7の製造方法は、先ず窒素下にある
メタノール(60ml)内の4−(p−ジエチルアミノフ
ェニル)−1−ニトロソ−2−ヒドロキシナフタレン
(0.85g、0.0027mol)と1,3−ジヒドロ
−1,3,3−トリメチル−2−メチレンインドリン
(0.5g、0.0029mol)の溶液を還流下で24
時間過熱した。次にこの溶液を蒸散し、結果として得ら
れた残留物をシリカ(1パート・ジエチルエーテルない
し10パートpet.エーテル)上でクロマトグラフす
ることによって、黄色い固体の比較例7(0.47g、
36%)が得られる。比較例7の融点は157乃至15
8℃である。
【0079】実施例9及び10及び比較例7について行
ったA試験の結果を、表4に示す。
【0080】
【表4】
【0081】 [発明の詳細な説明]以上のように本発明によれば、材
料の反応速度を制御又は適合できる光化学反応材料を提
供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C08L 25/06 C08L 25/06 29/04 29/04 33/12 33/12 33/20 33/20 67/03 67/03 69/00 69/00 75/04 75/04 C09K 3/00 C09K 3/00 Y 9/02 9/02 B (72)発明者 ジョン デービッド ヘップウアス イギリス国 ランカシアー ピー.アー ル.2 7イー.アール. プレスト ン,フルウード カーヌースチー クロ ース 2 (72)発明者 クリストファ デービッド ガバット イギリス国 ランカシアー ビー.ビ ー.2 7エヌ.ワイ. ブラックバー ン,メロー ブルック ブラーンチ ロ ード 39 (72)発明者 ショーン デレック マーズデン イギリス国 マーシーサイド ダブリュ ー.エー.10 6ディー.ワイ. セイ ント ヘレンズ ウィンダル,ウィダル ブロック クレセント 35 (56)参考文献 特開 平7−33775(JP,A) 特開 平6−161023(JP,A) 特開 平5−297510(JP,A) 特開 平5−230443(JP,A) 特開 平3−200792(JP,A) 特開 平2−225486(JP,A) 特開 平2−157283(JP,A) 特開 平2−101080(JP,A) 特開 平2−131486(JP,A) 特開 昭63−267783(JP,A) 特開 昭62−288830(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 498/10 C07D 498/20 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (18)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 化1に示す構造式からなる光化学反応化
    合物。 【化1】 化1において、 Aは、炭素数6からなる炭素環又は複素環であり、 各R基はアルキルであり、又はR基の一つは水素であ
    り、他のR基は相互に独立ており、アルキル、アルケ
    ニル、アルキニル又はアリール基であり、 Rは、相互に独立しており、分枝状の又は直線上の炭
    素数1乃至10であるアルキル基及び炭素環式基又は複
    素環式基から選択され、又は両方が炭素環又は複素環の
    一部を形成し、 R は、アルキル、アルコキシ、アミノ、ハロゲン、
    シアノ、ニトロ、三フッ化メチル又はアリールから選択
    され、かつmは0から4の値であり、環Aは一つ又は二
    つの炭素環式又は複素環式基とともに選択的に縮合さ
    れ、 R’は、水素、アルキル、アルコキシ、アミノ、炭素環
    式又は複素環式から選択され、化1の ベンズオキサジン構造のベンゼン環は、アルキ
    ル、アリール、ヘテロアリール、アルケニル、アルキニ
    ル、アルコキシ、アリールオキシ、アミノ、ハロゲン、
    シアノ、ニトロ、三フッ化メチル、イミノ、アゾ、カル
    ボキシエステル、アミドから選択的に置換され、又は
    素環式基乃至複素環式基から選択された基により選択的
    に縮合される
  2. 【請求項2】 化2に示す構造式(1,3−ジヒドロ−
    3,3−ジメチル−1−ネオペンチル−6’−(p−ジ
    エチルアミノ)フェニルスピロ[2H−インドール−
    2,3’−[3H]ナフト[2,1−b][1,4]オ
    キサジン]を除く)からなる光化学反応化合物。 【化2】 化2において、 各R基はアルキルであり、又はR基の一つは水素であ
    り、他のR基は相互に独立しており、アルキル、アルケ
    ニル、アルキニル又はアリール基であり、 Rは、相互に独立であり、分枝状の又は直線状の炭素
    数1乃至10のアルキル又は炭素環式もしくは複素環式
    から選択され、又は両方が脂環の一部を形成し、R
    は、水素、アリール、アルキル、アルコキシ、アミノ、
    ハロゲン、シアノ又はニトロから選択され、かつmが0
    から4の値であり、 R は、炭素環式、複素環式、アリール又はヘテロア
    リール基から選択され、nは0から2の値であり、 Rは、独立であり、水素、アルキル、アリール、ヘテ
    ロアリール、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ア
    リールオキシ、アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、三
    フッ化メチル、イミノ、アゾ、カルボキシエステル、ア
    ミノから選択され、又は以下のRと一体となって炭素
    環又は複素環の一部を形成し、 Rは、水素、アルキル、アルコキシ、アシル、フェニ
    ル、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミン基又は三フ
    ッ化メチルから選択され、又はRと一体になって炭素
    環又は複素環の一部を形成し、 Xは、炭素環又は複素環に含まれる、窒素又は−CH−
    基である。
  3. 【請求項3】 前記R基がメチル、エチル、n−プロ
    ピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブ
    チル、n−ペンチル、ネオペンチル及びイソペンチルを
    含む、請求項1又は2に記載の光化学反応化合物。
  4. 【請求項4】 前記R基が構造上シクロヘキシル、ア
    ダマンチル又はノルボルニルである脂環の一部を形成す
    る、請求項1又は2に記載の光化学反応化合物。
  5. 【請求項5】 前記R基及び前記R基が一体となっ
    て、構造上炭素環式又は複素環式となり得る縮合環の一
    部を形成し得る、請求項に記載の光化学反応化合物。
  6. 【請求項6】 前記化2が1,3−ジヒドロ−3,3−
    ジメチル−1−イソブチル−6’−(2,3−ジヒドロ
    インドール−1−イル)スピロ[2H−インドール−
    2,3’−3H−ナフト[2,1−b][1,4]オキ
    サジン]である請求5に記載の光化学反応化合物。
  7. 【請求項7】 前記化2が1,3−ジヒドロ−3,3−
    ジメチル−1−(2−エチルヘキサ−1−イル)−6’
    −(2,3−ジヒドロインドール−1−イル)スピロ
    [2H−インドール−2,3’−3H−ナフト[2,1
    −b][1,4]オキサジン]である請求5に記載の
    光化学反応化合物。
  8. 【請求項8】前記化2が1,3−ジヒドロ−3,3−ジ
    メチル−1−(フェニルプロピ−1−イル)−6’−
    (2,3−ジヒドロインドール−1−イル)スピロ[2
    H−インドール−2,3’−3H−ナフト[2,1−
    b][1,4]オキサジン]である請求5に記載の光
    化学反応化合物。
  9. 【請求項9】 前記化2が1,3−ジヒドロ−3,3−
    ジメチル−1−ネオペンチル−6’−(2,3−ジヒド
    ロインドール−1−イル)スピロ[2H−インドール−
    2,3’−3H−ナフト[2,1−b][1,4]オキ
    サジン]である請求5に記載の光化学反応化合物。
  10. 【請求項10】 前記化2が1,3−ジヒドロ−3,3
    −ジメチル−1−ネオペンチルスピロ[2H−インドー
    ル−2,3’−3H−ナフト[2,1−b][1,4]
    オキサジン]である請求5に記載の光化学反応化合
    物。
  11. 【請求項11】 前記化2が1,3−ジヒドロ−3,3
    −ジメチル−1−イソブチルスピロ[2H−インドール
    −2,3’−3H−ナフト[2,1−b][1,4]オ
    キサジン]である請求5に記載の光化学反応化合物。
  12. 【請求項12】 前記化2が1,3−ジヒドロ−3,3
    −ジメチル−1−(2−フェニルプロピ−1−イル)ス
    ピロ[2H−インドール−2,3’−3H−ナフト
    [2,1−b][1,4]オキサジン]である請求
    に記載の光化学反応化合物。
  13. 【請求項13】 前記化2が1,3−ジヒドロ−3,3
    −ジメチル−1−(2−フェニルプロピ−1−イル)−
    6’−(p−ジエチルアミノフェニル)スピロ[2H−
    インドール−2,3’−3H−ナフト[2,1−b]
    [1,4]オキサジン]である請求5に記載の光化学
    反応化合物。
  14. 【請求項14】 高分子宿主材料に固着され又は包まれ
    ている請求項1又は2に記載の光化学化合物を備えた高
    分子材料。
  15. 【請求項15】 前記宿主材料が、ポリオール(炭酸ア
    リール)モノマーの重合体、ポリメチルメタクリレート
    を含むポリアクリレート、セルロースアセテート、セル
    ローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオ
    ネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニ
    ルアセテート)、ポリ(ビニルアルコール)、ポリウレ
    タン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレー
    ト、ポリスチレン、ポリ(スチレンメチルメタクリレー
    ト)共重合体、ポリ(スチレンアクリルニトリル)共重
    合体、ポリビニルブチラル又はその混合物から選択され
    る請求項14に記載の高分子材料。
  16. 【請求項16】 前記宿主材料が、光学的に澄んだ素材
    である請求項14に記載の高分子材料。
  17. 【請求項17】 前記宿主材料がトリエチレングリコー
    ルジメタクリレート(TEGDM)である請求項14に
    記載の高分子材料。
  18. 【請求項18】 前記宿主材料がジエチレングリコール
    ビス(炭酸アリール)である請求項14に記載の高分子
    材料。
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