JPH07105328B2

JPH07105328B2 - 荷電ビ−ム露光装置

Info

Publication number: JPH07105328B2
Application number: JP61279709A
Authority: JP
Inventors: 清美小山
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1986-11-26
Filing date: 1986-11-26
Publication date: 1995-11-13
Anticipated expiration: 2010-11-13
Also published as: JPS63133525A

Description

【発明の詳細な説明】［発明の目的］（産業上の利用分野）本発明は、マスクやウェハ等にLSIパターンを形成する
荷電ビーム露光装置に係わり、特に計算機等の制御装置
から転送された図形データをショットに分割しながら描
画する可変成形ビーム方式の改良をはかった荷電ビーム
露光装置に関する。

（従来の技術）近年、電子ビーム露光装置は益々高速性と高精度が要求
されてきており、このような要求に対応する方式とし
て、可変成形ビーム方式の電子ビーム露光装置が開発さ
れている。

第13図は、可変成形ビーム方式の電子ビーム露光装置の
概略構成及びこれで採用されている描画方法を模式的に
示した図である。電子銃１から放射された電子ビームは
第１成形アパーチャ２で矩形状にカットされ、この矩形
状にカットされた像が成形偏向器３による偏向を受けた
後、第２成形アパーチャ４上に投影される。この投影像
と第２成形アパーチャ４との光学的重なり像が更に副偏
向器５と主偏向器６による偏向を受けた後、被露光試料
７上に投影されて所望の図形が描かれる。副偏向器５は
比較的狭い領域を高速で位置決めしてショットする時に
用い、主偏向器６は副偏向器５が偏向する領域を位置決
めするのに用いる。なお、図では成形偏向器3,副偏向器
５及び主偏向器６共に静電８極偏向器が使用されている
が、これ以外の場合（例えば静電４極偏向器等）もあ
る。

第14図は、このような可変成形ビーム方式の電子ビーム
露光装置で得られるショットの形状を例として示したも
のである。第14図（ａ）に示す如き縦，横の寸法が可変
の矩形の他、同図（ｂ）〜（ｅ）に示す如き４種の３角
形があり、これらは第13図で第１成形アパーチャ２の像
を成形偏向器３を制御して、第２成形アパーチャ４の適
当な位置に偏向することにより得られるものである。

ところで、このような方式の電子ビーム露光装置で描画
する場合、LSIのデザインルールや電子ビーム露光装置
で生成可能な可変ビームの最大寸法にもよるが、もとの
図形データと比較してショット分割したあとのデータの
量が数倍〜10倍程度に増大する。ショットデータの量
は、数10メガバイトに及ぶこともある。一般に、電子ビ
ーム露光装置では、大容量で比較的アクセス速度が速
く、しかもコスト的にも安価な数100メガバイト程度の
磁気ディスク装置が描画データの格納に運用されてい
る。生産用途で使われる電子ビーム露光装置では、常時
数10種類の描画データをライブラリとして登録しておく
必要があるから、データ量が膨潤する分割後のショット
データではなく分割前の図形データで磁気ディスク装置
に格納し、描画時にそれを計算機等の制御装置を経由し
て電子ビーム露光装置に転送し、内蔵のショット分割回
路で分割しながら描画するという方法が一般にとられて
いる。

しかしながら、この種の装置にあっては次のような問題
があった。即ち、最近のLSIはその高集積化が一段と高
まり、１チップ当りの図形数も大幅に増加し、10⁶台に
達してきている。また、電子ビーム露光装置では、１チ
ップ／秒かそれ以上の速度で描画することを要求されて
きている。例えば、図形数１×10⁶個のチップを１チッ
プ／秒で描画する時、仮に１図形が平均５個のショット
で構成されるとすると、200ns/ショットの割合で次々と
ショット分割を行わなければならない。従来のショット
分割回路の回路技術をそのまま用いたのでは、これは非
常に達成困難に速度である。さりとて、例えばショット
分割回路の多重化をはかってショット分解速度を上げよ
うとすると、回路的に複雑，高価でコスト的に問題があ
り、また種々の技術的問題もあった。このような事情で
結局、ショット分割回路のショット分割の速度で描画速
度が律速され、描画スループット向上をはかる上での問
題があった。

（発明が解決しようとする問題点）このように従来、可変成形ビーム方式の電子ビーム露光
装置では、ショット分割回路のショット分割の速度で描
画速度が律速され、これが描画スループットの向上を妨
げる要因となっていた。また、この問題は、電子ビーム
の代りにイオンビームを用いたイオンビーム露光装置に
ついても同様に言えることである。

本発明は上記事情を考慮してなされたもので、その目的
とするところは、高集積化する一方の先端的LSIに対し
ても描画スループットを律速しない速度でショットデー
タを供給することがで、描画スループットの向上をはか
り得る可変成形ビーム方式の荷電ビーム露光装置を提供
することにある。

［発明の構成］（問題点を解決するための手段）本発明の骨子は、ショットデータを格納するショットデ
ータメモリを設け、繰返し使用される図形データに関し
てはショット分割を１回で済ませることにある。

即ち本発明は、制御装置から転送された図形データをシ
ョットデータに分割し、このショットデータに基づいて
試料上に所望パターンを描画する可変成形ビーム方式の
荷電ビーム露光装置において、前記図形データを荷電ビ
ーム光学系で生成可能な可変形状のショットデータに分
割するショット分割回路と、この回路で分割されたショ
ットデータが予め指定された図形若しくは図形群である
場合に該データを格納するショットデータメモリと、上
記ショットデータが予め指定された図形若しくは図形群
でない場合に該データを一時的に保持するデータバッフ
ァ部と、上記ショットデータメモリ或いはデータバッフ
ァ部から描画すべき図形に相当するショットデータを選
択的に読出し、該データに基づいて荷電ビームの形状及
び照射位置を設定するための偏向情報を生成するデコー
ダ部とを設けるようにしたものである。

また、本発明が採る特徴的な手段は、（１）ショット分割回路で図形データからショット分
割されたデータをシーケンシァルに格納し、また任意の
指定位置からランダムに読み出すことのできるショット
データメモリを設ける。

（２）ショットデータメモリへの登録と、ショットデ
ータメモリからショットデータを読み出して必要な加工
を加えて描画に使用することを制御する制御情報を図形
データに含ませる。

（３）ショットデータメモリからショットデータを読
み出して描画に使用している間に、新たな図形データを
ショット分割回路でショットデータ分割して貯めおく機
能を持たせる。

ことである。

（作用）図形データに含まれる制御情報等に基づいて、ショット
分割回路で分割して得られたショットデータをショット
データメモリに格納し、同じく制御情報等に基づいてシ
ョットデータメモリに格納されたショットデータを読み
出して描画に使う。ショットデータメモリ参照中、ショ
ット分割回路では別図形の分割を行う。これにより、繰
返し使用される図形データに関しても１回のショット分
割で済むことになり、全体としてのショット分割回数を
少なくすることが可能となる。

（実施例）以下、本発明の詳細を図示の実施例によって説明する。

第１図は本発明の一実施例の要部構成を示すもので、入
力した図形データに基づいて偏向系に偏向情報を送出す
るまでの処理系を示すブロック図である。図中11は計算
機等の制御装置から転送された図形データを電子光学系
で生成可能な可変形状のショット分割回路、12はショッ
トデータメモリ、13は先入先出し方式のFIFOバッファ、
14は読み出すべきデータをショットデータメモリ12或い
はFIFOバッファ13から選択するデータセレクタ、15はシ
ョットデータから偏向情報を生成するデコード回路、16
はショット形状制御用偏向系、14はショット位置制御用
偏向系である。

ショットデータメモリ12の具体的構成を示した図が第２
図であり、21はメモリバンク、22はメモリバンク21のア
ドレスレジスタ（ADR1）、23はインデックステーブル、
24はインデックステーブル23のアドレスレジスタ（ADR
2）、25はエンドレジスタ（ENDR）,26は比較器（CMP）
である。

また、第３図は本実施例で用いたショットデータの表現
例を示している。第３図（ａ）は矩形を、同図（ｂ）〜
（ｅ）は３角形を表現し、これらは従来例の説明で用い
た５種類のショットデータ（第14図（ａ）〜（ｅ））に
各々対応している。各ショットを８バイトで表現し、先
頭の１バイトがショットの種類を表わすショットコード
として使われ、第３〜第６バイトでショット基準頂点の
x,y座標を表わし、第７バイトがショットの幅ωを、第
８バイトがショットの高さｈを表わす。

計算機等の制御装置から転送される図形データ及びショ
ットデータメモリ制御情報は第４図及び第５図にそれぞ
れ示す。図形データの種類は第４図に示すように、
（ａ）の矩形，（ｂ）の３角形，（ｃ）の台形がある。
図形データは先頭の１バイトで図形種コードを次の１バ
イトでその表現のデータの長さを、第３バイト以降で頂
点座標や幅高さ等を表わす。図形種コードを更に細かく
見ると、図形データの場合は、上位の４ビットを全て０
にして下位４ビットで図形種を表わす。逆に、ショット
データメモリ制御情報の場合は、下位の４ビットを全て
０にして上位の４ビットで制御の種類を表わす。即ち、
16進表現にすると図形データの図形種コードは0Xの形を
しており、ショットデータメモリ制御情報の図形種コー
ドはX0の形をしている。

さて、第４図（ａ）の矩形は図形種コードが“01"で、
データ長が“0A"、基準頂点のｘ・ｙ座標，幅ω，高さ
ｈで表わす。第４図（ｂ）の３角形は図形種コードが
“02"で、データ長は“0A"、基準頂点のｘ・ｙ座標，幅
ω，高さｈで表わす。ここで、幅ω，高さｈは負の値も
許し、ωとｈの符号の組み合わせで４種類の３角形を表
現する。第４図（ｃ）の台形は図形種コードが“03"
で、データ長は“0E"、基準頂点のｘ・ｙ座標と図に示
されるような３の値h,sy₁,sy₂で表現する。台形はｙ軸
に平行な２辺を持つ。sy₂は負の値も許し、ｙ軸に平行
でない２辺のうち下方の辺が右上りの傾きを持つ台形も
表現できる。

ショットデータメモリへの図形データの登録及びショッ
トデータメモリに登録された図形データの参照は、第５
図のショットデータメモリ制御情報に基づいて行われ
る。第５図（ａ）（ｂ）が参照に関係し、同図（ｃ）〜
（ｅ）が登録に関係する。第５図（ｃ）の初期化は図形
種コードが“10"で、ショットデータメモリの初期化を
行う。第５図（ｄ）の登録開始は図形種コードが“2
0"、同図（ｅ）の登録終了は図形種コードが“30"で、
この２の制御情報に挟まれた図形データ、若しくは図形
データ群がショット分割回路でショットに分割されたあ
と、ショットデータメモリに登録される。登録された図
形データには、第５図（ｄ）の登録開始及び同図（ｅ）
の登録終了で指定された登録＃が付けられ、後にこの登
録＃を指定して参照が行われる。

ショットデータメモリ登録された図形データの参照の仕
方には２種類あり、参照した図形データ若しくは図形デ
ータ群を１回だけ描画に使用する第５図（ａ）の場合
と、アレイ状に並べて繰返し使用する同図（ｂ）の場合
とがある。（ａ）の場合、図形種コードは“40"で登録
＃と描画位置のx,y座標が指定される。（ｂ）の場合、
図形種コードは“50"で登録＃と基準描画位置座標x,yと
x,y方向並びのピッチpx,pyそしてx,y方向の並びの数nx,
nyが指定される。

前記第１図において、ショット分割回路11は計算機等の
制御装置から転送されたデータを解釈する。それが第４
図のような図形データの場合、ショットデータ分割を行
ってショットデータをFIFOバッファ13に一旦書込んだあ
と、該データはデータセレクタ14を通してデコード回路
15に送られる。デコード回路15ではショットデータを解
釈して、ショット形状制御用信号とショット位置制御用
信号を生成し、それぞれショット形状制御用偏向系16と
ショット位置制御用偏向系17とに転送する。ここで、シ
ョット形状制御用偏向系16は、従来例の説明で用いた第
13図の成形偏向器３に対応し、ショット位置制御用偏向
系17は同図の副偏向器５と主偏向器６に対応する。

ショット分割回路11で解釈した結果が、第５図のような
ショットデータメモリ制御情報の場合、登録であればシ
ョット分割したショットデータはFIFOバッファ13にでは
なく、ショットデータメモリ12に送って指定の登録＃で
登録する。また、参照であればデータセレクタ14が切換
えられて、ショットデータメモリ12に登録されたショッ
トデータがデコード回路15に送られる。この場合、ショ
ット分割回路11からは描画位置に関する情報x,yやアレ
イに関する情報x,y,px,py,nx,nyがデコード回路15に送
られ、デコード回路15はこれらの情報に基づいてショッ
ト位置を修飾しながらショットデータ解釈を行う。

ショットデータメモリ12への図形データの登録及び図形
データの参照は、以上述べたようにショット分割回路11
でショットデータ制御情報を解釈した場合にショット分
割回路11からの指令で行われる。

これらの動作を第２図を使って、第６図乃至第８図に示
すフローチャートに従って詳しく説明する。第６図のフ
ローチャートは、第１図のショット分割回路11で第６図
（ｃ）に示す初期化の制御情報を解釈した場合の動作で
ある。ステップ１では初期化のコード“10"を検出し、
次いでステップ２では第２図のメモリバンク21のアドレ
スレジスタ22を０クリアし、ステップ３では第２図のイ
ンデックステーブル23のアドレスレジスタ24を０クリア
する。このようにしてメモリバンク21、インデックステ
ーブル23とも空の状態から登録ができるようになる。

第７図のフローチャートは、第１図のショット分割回路
11で第５図（ｄ）（ｅ）に示す登録に関する制御情報を
解釈した場合の動作である。ステップ４では登録開始コ
ード“20"を検出し、ステップ５で第２図のメモリバン
ク21をライトモードにセットする。このメモリバンク21
は１ワードの長さが８バイトで、ショットデータを１個
／アドレスの割で格納できる。次に、ステップ６で制御
情報の第２バイト目に含まれる登録＃が第２図のインデ
ックステーブル23のアドレスレジスタ24にセットされ、
ステップ７でインデックステーブル23にメモリバンク21
のカレントアドレス、即ちアドレスレジスタ22の内容が
スタートアドレスとして書込まれる。ステップ８では第
２図のインデックステーブル23のアドレスレジスタ24が
１インクリメントされて、後のエンドの書込みに備え
る。ステップ９では第１図のショット分割回路11で図形
データ２バイトを読み込み、ステップ10でその先頭１バ
イトのコードが登録終了コード“30"かチェックする。

先頭１バイトのコードが登録終了コードでない場合、ス
テップ11で第１図のショット分割回路11ではステップ９
で読み取った２バイトのうちの後半１バイトのデータ長
に基づいて残りの図形データを読込み、ステップ12でそ
れをショット分割し、ステップ13で第２図のメモリバン
ク21にそのアドレスレジスタ22をインクリメントしなが
ら登録する。登録が終ると再びステップ９に戻り、第１
図のショット分割回路11での図形データ２バイトの読込
みを行なう。ステップ10で登録終了コード“30"が検出
されるまで、ステップ９〜ステップ13の処理が繰返され
る。

ステップ10で登録終了コード“30"が検出されると、ス
テップ14に移り第２図のアドレスレジスタ22の内容が、
この登録のエンドアドレスとしてインデックステーブル
23に書込まれる。そして、ステップ15でアドレスレジス
タ24を１インクリメントして処理が終了する。以上の過
程で、登録開始の制御情報と登録終了の制御情報に挟ま
れた図形データがショット分割されて第２図のメモリバ
ンク21に格納され、その格納開始と終了の番地が第２図
のインデックステーブル23に登録される訳である。

第８図のフローチャートは、第１図のショット分割回路
11で第５図（ａ）（ｂ）に示すような図形参照の制御情
報を解釈した場合の動作である。ステップ16で図形参照
コードを検出し、ステップ17でそのコードが第５図
（ａ）に示す参照図形データを１回のみ描画に使用する
コード“40"と判定した場合、ステップ18で第１図のシ
ョット分割回路11から描画位置x,yがデコード回路15に
送られる。また、ステップ17でコードが第５図（ｂ）に
示す図形データをアレイ状に繰返し描画に使用するコー
ド“50"と判定した場合、ステップ19で第１図のショッ
ト分割回路11からアレイ情報x,y,px,py,nx,nyがデコー
ド回路15に送られる。

次いで、ステップ20で第２図のメモリバンク21からショ
ットデータを読出すため、メモリバンク21がリードモー
ドにセットされる。ステップ21では、制御情報２バイト
目に含まれる登録＃が、第２図のインデックステーブル
23のアドレスレジスタ24にセットされる。ステップ22で
インデックステーブル23から読み出された内容が、第２
図のメモリバンク21のアドレスレジスタ22にロードす
る。即ち、ステップ21,22で、制御情報の２バイト目で
指定された登録＃に相当する図形データの格納開始番地
が、メモリバンク21のアドレスレジスタ22にセットされ
ることになる。次に、ステップ23で第２図のインデック
ステーブル23のアドレスレジスタ24が１インクリメント
され、ステップ24でインデックステーブル23の内容が読
み出されて第２図のエンドレジスタ25にセットされる。
即ち、ステップ23,24で、制御情報の２バイト目で指定
された登録＃に相当する図形データの格納終了番地が、
エンドレジスタ25にセットされることになる。

ところで、第２図のインデックステーブル23は、１ワー
ド２バイトの構成でアドレスレジスタ22の内容の格納を
行い、そのアドレスレジスタ24は第１図のショット分割
回路11から送られる登録＃を１ビット左シフトした内容
をセットする。即ち、第２図のインデックステーブル23
には、（登録＃）×２の番地に各登録＃の図形テーブル
の格納開始番地が登録され、（登録＃）×２＋１の番地
に格納終了番地が登録されている。第２図のエンドレジ
スタ25にステップ23,24でセットされた格納終了番地
は、第２図の比較器26で絶えずアドレスレジスタ22の内
容と比較され読出し終了がチェックされる。その動作
は、ステップ25で第２図のメモリバンク21からショット
データが読み出され、第１図のデータセレクタ14を通し
てデコード回路15に送られる。ステップ26でメモリバン
ク21のアドレスレジスタ22が１インクリメントされ、ス
テップ27で先に述べた第２図の比較器26の比較結果で終
了がチェックされる。ステップ27でアドレスレジスタ22
の内容がエンドレジスタ25の内容に満たない間は、再び
ステップ25に戻ってメモリバンク21からショットデータ
が読み出され、アドレスレジスタ22とエンドレジスタ25
の内容が一致すると読み出しは終了する。

以上の処理で登録＃に相当する図形データの格納開始番
地から終了番地まで、ショットデータメモリ12からショ
ットデータが読み出されて、第１図のデコード回路15に
送られる。デコード回路15は、ステップ17若しくはステ
ップ18でショット分割回路11から受けられたx,y又はx,
y,px,py,nx,nyの情報に基づいてショット位置の修飾を
行って、ショットデータをデコードする。

次に、以上説明した機構で実際にパターン描画する例を
示す。第９図は繰返しの基本となる図形群を示し、第10
図は描画すべきパターンを示している。第10図のパター
ンは、第９図（ａ）に示す３角形と２つの矩形で構成さ
れる第１の図形群をｘ方向にnx₆個、ｙ方向にny₆個並べ
たものと、同じく第９図（ｂ）に示す２つの矩形で構成
される第２の図形群をｘ方向にnx₇個並べたもので構成
されている。このような場合、まず第９図の２つの図形
群をショットデータメモリ12に登録するが、その時のデ
ータを第11図に示してある。

第11図では初期化の制御情報でショットデータメモリ
が初期化され、次いでの登録開始から、の登録終了
までに第９図（ａ）の３角形91に対応するの図形デー
タと矩形92に対応するの図形データと矩形93に対応す
るの図形データがショット分割回路11で分割されて、
登録＃１でショットデータメモリ12に登録される。この
手順は、既に第６図乃至第８図のフローチャートに示し
た通りである。次に、第11図で登録開始からの登録
終了までに、第９図（ｂ）の矩形94に対応するの図形
データと矩形95に対応するの図形データとが、同様に
ショット分割されて登録＃２でショットデータメモリ12
に登録される。このようにして、第９図の第1,第２の図
形データ群がショットデータメモリ12に登録される。

これらを使って描画する時のデータは第12図に示してあ
る。まず、第９図の第１群の図形データは、第10図で
（x₆,y₆）の座標値からｘ方向ピッチpx₆,y方向ピッチpy
₆,x方向並びの数nx₆,y方向並びの数ny₆でアレイ状に描
画されるから、第12図ののようになる。の先頭でコ
ード“50"がショットデータメモリ12から参照した図形
データをアレイ状に並べて使うことを示していること
は、既に説明した通りである。また、第２バイト目はシ
ョットデータメモリ12の参照登録＃１を示している。更
に、第９図の第２群の図形データは第10図で（x₇,y₇）
の座標値からｘ方向ピッチpx₇,y方向並びの数nx₇で一次
元のアレイで描画されるから第12図ののようになる。
でｙ方向には１個しか並ばないためpyのスロットには
０が、nyのスロットには１が設定されている。

では登録＃２の図形データをショットデータメモリ12
から参照して使うことを示している。

以上の方法によれば、第９図の第１群の図形をnx₆×ny₆
回，また第２群の図形をnx₇回ショット分割する手間が
省けるので、実質的にショット分割速度を大幅に向上さ
せたのと同じ効果があり、高スループットで描画が可能
となる。即ち、一旦ショットに分割した図形データ若し
くは図形データ群で、その後も使用するものをショット
データメモリ12に格納するので、２回目以降のショット
分割が不要となり実質的にショット分割速度を上げる効
果がある。このため、従来の１個１個分割する方式では
対応し切れなかった超高集度の最先端のLSIが高スルー
プットで描画できることになり、その有用性は絶大であ
る。しかも、本実施例は従来あるショット分割の機構に
ショットデータメモリ12とその他、少量の回路を付加さ
せて簡易に実現することができる。さらに、ショット分
割したデータを全てショットデータメモリ12に登録する
のではなく、後の使用頻度や登録によるショット時間削
減の効果等を考慮して選択的に登録するため、メモリと
しても大容量のものでなくて済む利点もある。

なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
い。実施例では、登録データを予め分けておきショット
分割してショットデータメモリに登録してから描画時に
参照する形の方法をとったが、描画中ショット分割して
描画に使用するのと並行してショットデータメモリに登
録することも可能である。要するに、図形データと登録
開始及び登録終了の制御情報で挟まれる図形データ登録
の処理、そして図形参照の制御情報は描画データ中に混
在しても良く、これによって任意に登録参照ができ、ま
た図形データをショット分割してそのまま使うこともで
きる訳である。

また、電子ビーム露光装置の光学系の構成は可変成形ビ
ームを得るものであればよく、仕様に応じて適宜変更可
能である。さらに、電子ビーム露光装置に限らず、イオ
ンビーム露光装置に適用することも可能である。その
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実
施することができる。

［発明の効果］以上詳述したように本発明によれば、繰返し使用される
図形データに関しては、分割して得られるショットデー
タをショットデータメモリに格納することにより、上記
データに関しては２回目以降のショット分割が不要とな
り、実質的にショット分割速度を上げる効果がある。従
って、超集積度のLSIに対しても描画速度を律速しない
速度でショットデータを供給することができ、描画スル
ープットの向上をはかることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の要部構成を示すブロック
図、第２図は第１図のショットデータメモリの具体的構
成を示すブロック図、第３図はショットデータの表現例
を示す模式図、第４図は図形データの表現例を示す模式
図、第５図はショットデータ制御情報を示す模式図、第
６図乃至第８図はショットデータメモリの制御手順を示
すフローチャート、第９図は繰返しの基本となる図形群
を示す模式図、第10図は描画パターンの例を示す模式
図、第11図及び第12図は第10図の描画パターンをデータ
で表現した図、第13図及び第14図はそれぞれ従来の問題
点を説明するためのもので第13図は可変成形ビーム方式
の電子ビーム露光装置を示す概略構成図、第14図はショ
ットの形状を示す模式図である。 11……ショット分割回路、12……ショットデータメモ
リ、13……FIFOバッファ、14……データセレクタ、15…
…デコード回路、16……ショット形状制御用偏向系、17
……ショット位置制御用偏向系、21……メモリバンク、
22,24……アドレスレジスタ、23……インデックステー
ブル、25……エンドレジスタ、26……比較器。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】制御装置から転送された図形データをショ
ットデータに分割し、このショットデータに基づいて試
料上に所望パターンを描画する可変成形ビーム方式の荷
電ビーム露光装置において、前記図形データを荷電ビー
ム光学系で生成可能な可変形状のショットデータに分割
するショット分割回路と、この回路で分割されたショッ
トデータが予め指定された図形若しくは図形群である場
合に該データを格納するショットデータメモリと、上記
ショットデータが予め指定された図形若しくは図形群で
ない場合に該データを一時的に保持するデータバッファ
部と、上記ショットデータメモリ或いはデータバッファ
部から描画すべき図形に相当するショットデータを選択
的に読出し、該データに基づいて荷電ビームの形状及び
照射位置を設定するための偏向情報を生成するデコーダ
部とを具備してなることを特徴とする荷電ビーム露光装
置。
【請求項２】前記ショットデータメモリは、前記ショッ
トデータをシーケンシャルに格納し、且つランダムに読
出されるものであることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項３】前記制御装置から転送される図形データ
に、前記ショットデータメモリへの登録及び該メモリの
参照等のショットデータメモリのリード／ライトを制御
する制御情報を含ませ、前記ショット分割回路で生成し
たショットデータのショットデータメモリへの登録や参
照を該制御情報に基づいて行うことを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の荷電ビーム露光装置。
【請求項４】前記ショットデータの前記ショットデータ
メモリへの登録を、前記図形データに含まれる制御情報
に基づいて、描画中図形データをショットデータに分割
して描画に使用するのと並行して、前記ショットデータ
メモリの登録を行うことを特徴とする特許請求の範囲第
３項記載の荷電ビーム露光装置。