JPH0699534B2 - 新規ポリウレタンの製造方法 - Google Patents
新規ポリウレタンの製造方法Info
- Publication number
- JPH0699534B2 JPH0699534B2 JP4304586A JP4304586A JPH0699534B2 JP H0699534 B2 JPH0699534 B2 JP H0699534B2 JP 4304586 A JP4304586 A JP 4304586A JP 4304586 A JP4304586 A JP 4304586A JP H0699534 B2 JPH0699534 B2 JP H0699534B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- yield
- diisocyanate
- mmol
- optically active
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は光学活性な酒石酸ジエステルもしくは光学活性
な1,2−ジフェニルエチレングリコールを原料ジオール
として用い、これとジイソシアネートとを反応させるこ
とを特徴とする光学活性な新規ポリウレタンの製法に関
する。
な1,2−ジフェニルエチレングリコールを原料ジオール
として用い、これとジイソシアネートとを反応させるこ
とを特徴とする光学活性な新規ポリウレタンの製法に関
する。
本発明に用いられる酒石酸ジエステルもしくは1,2−ジ
フェニルエチレングリコールは、光学活性体である。
フェニルエチレングリコールは、光学活性体である。
本発明により提供される新規ポリウレタンは、物理的性
質および化学的性質の優れたポリウレタン製品とするこ
とが期待される他、生体適合性の優れた医療用材料とな
ることが期待される。また、光学活性な原料を用いてい
るため、光学異性体の分離剤として使用できると期待さ
れる。
質および化学的性質の優れたポリウレタン製品とするこ
とが期待される他、生体適合性の優れた医療用材料とな
ることが期待される。また、光学活性な原料を用いてい
るため、光学異性体の分離剤として使用できると期待さ
れる。
本発明の新規ポリウレタンは次の酒石酸ジエステルを用
いたときの一般式（Ｉ）もしくは1,2−ジフェニルエチ
レングリコールを用いたときの一般式（II）で表わされ
る。
いたときの一般式（Ｉ）もしくは1,2−ジフェニルエチ
レングリコールを用いたときの一般式（II）で表わされ
る。
ここでＲは原料ジイソシアネートから２個のイソシアン
酸基を除いた残基を表わし、炭素数１〜20のアルキレ
ン、もしくはアリーレン、もしくはアラルキレン、もし
くはヘテロ原子を含む基によって結合されたこれらの基
を表わし、２種以上の混合物であってもよい。Ｒ′,R″
は炭素数１〜20のアルキルもしくはアリール基であるこ
とを表わし、Ｒ′とＲ″は同一もしくは異なっていても
よい。ｎは２乃至5,000の整数を表わす。用いられるジ
イソシアネートの炭素数１〜20のアルキレン部分として
は、エチレン、ヘキサメチレン、およびピペラジンから
窒素上の二つの水素を除いた残基などが挙げられ、アリ
ーレンとしては、パラフェニレン、メタフェニレン、2,
4−トリレン、2,6−トリレン、1,4−ナフタレン、ビフ
ェニレンなどが挙げられる。またアラルキレンおよびヘ
テロ原子によって結合されたこれらの基の例としては以
下に示すものが例示される。
酸基を除いた残基を表わし、炭素数１〜20のアルキレ
ン、もしくはアリーレン、もしくはアラルキレン、もし
くはヘテロ原子を含む基によって結合されたこれらの基
を表わし、２種以上の混合物であってもよい。Ｒ′,R″
は炭素数１〜20のアルキルもしくはアリール基であるこ
とを表わし、Ｒ′とＲ″は同一もしくは異なっていても
よい。ｎは２乃至5,000の整数を表わす。用いられるジ
イソシアネートの炭素数１〜20のアルキレン部分として
は、エチレン、ヘキサメチレン、およびピペラジンから
窒素上の二つの水素を除いた残基などが挙げられ、アリ
ーレンとしては、パラフェニレン、メタフェニレン、2,
4−トリレン、2,6−トリレン、1,4−ナフタレン、ビフ
ェニレンなどが挙げられる。またアラルキレンおよびヘ
テロ原子によって結合されたこれらの基の例としては以
下に示すものが例示される。
本発明のポリウレタンは、光学活性な酒石酸のジエステ
ルもしくは1,2−ジフェニルエチレングリコールを原料
として、相当するジイソシアネートとの反応により得ら
れる。酒石酸エステルとしはジメチル、ジエチル、ジイ
ソプロピル、ジ−ｎ−プロピル、ジ−ｎ−ブチル、ジフ
ェニルなどのエステルが例示される。反応方法は通常の
方法でよく、ジオールとジイソシアネート両者の等モル
量を非プロトン性溶媒中で反応させる方法は好ましい方
法である。また、触媒は必要に応じて用いてもよく、も
しくは用いなくてもよい。
ルもしくは1,2−ジフェニルエチレングリコールを原料
として、相当するジイソシアネートとの反応により得ら
れる。酒石酸エステルとしはジメチル、ジエチル、ジイ
ソプロピル、ジ−ｎ−プロピル、ジ−ｎ−ブチル、ジフ
ェニルなどのエステルが例示される。反応方法は通常の
方法でよく、ジオールとジイソシアネート両者の等モル
量を非プロトン性溶媒中で反応させる方法は好ましい方
法である。また、触媒は必要に応じて用いてもよく、も
しくは用いなくてもよい。
以下、実施例をもって本発明を説明する。
実施例 １ （＋）−酒石酸ジメチル0.5275g（3.28mmol）およびパ
ラフェニレンジイソシアネート0.5844g（3.29mmol）お
よびジ−ｎ−ブチル錫ジラウレート0.05ml（0.08mmol）
をテトラヒドロフラン（THF）10mlに溶かし、40℃で24
時間反応させた。反応物をメタノールにあけて再沈する
ことによりポリマーを得た。
ラフェニレンジイソシアネート0.5844g（3.29mmol）お
よびジ−ｎ−ブチル錫ジラウレート0.05ml（0.08mmol）
をテトラヒドロフラン（THF）10mlに溶かし、40℃で24
時間反応させた。反応物をメタノールにあけて再沈する
ことによりポリマーを得た。
得られたポリマーの収量は1.048g、収率は94.2％であっ
た。また、比旋光度は〔α〕D 25＋81.7度（ｃ＝0.94g/d
l,THF）であった。NMRのケミカルシフト値は（TMS基
準、アセトン−D6中、60℃）次の通りであった。
た。また、比旋光度は〔α〕D 25＋81.7度（ｃ＝0.94g/d
l,THF）であった。NMRのケミカルシフト値は（TMS基
準、アセトン−D6中、60℃）次の通りであった。
また、赤外吸収スペクトル値は次の通りであった。
このポリマーの数平均分子量は23200、融点は195℃であ
る。
る。
実施例 ２ 実施例１と同様の方法により、実施例１における（＋）
−酒石酸ジメチルに代えて、（−）−酒石酸ジメチル0.
5132g（3.20mmol）を用いて等モルのパラフェニレンジ
イソシアネートと重合させたところ、収量1.067g、収率
98.4％でポリマーが得られた。
−酒石酸ジメチルに代えて、（−）−酒石酸ジメチル0.
5132g（3.20mmol）を用いて等モルのパラフェニレンジ
イソシアネートと重合させたところ、収量1.067g、収率
98.4％でポリマーが得られた。
このポリマーの比旋光度は〔α〕D 25＋83.7度（ｃ＝1.0
9g/dl THF）であった。NMRのケミカルシフト値は（TMS
基準、アセトン‐D6中、60℃）次の通りであった。
9g/dl THF）であった。NMRのケミカルシフト値は（TMS
基準、アセトン‐D6中、60℃）次の通りであった。
また、赤外吸収スペクトル値は次の通りであった。
このポリマーは数平均分子量15800、融点は195℃である
が、もう一方のエナンチオマーである実施例１で得られ
たポリマー（融点195℃）と等量混合すると、その融点
は25℃上昇した。
が、もう一方のエナンチオマーである実施例１で得られ
たポリマー（融点195℃）と等量混合すると、その融点
は25℃上昇した。
実施例 ３ 実施例１と同様の方法により、実施例１における（＋）
−酒石酸ジメチルに代えて、（−）−酒石酸ジメチル0.
915g（4.44mmol）を用い、0.10mlの触媒を用いて等モル
のパラフェニレンジイソシアネートと重合させたとこ
ろ、収量1.151g、収率70.7％でポリマーが得られた。
−酒石酸ジメチルに代えて、（−）−酒石酸ジメチル0.
915g（4.44mmol）を用い、0.10mlの触媒を用いて等モル
のパラフェニレンジイソシアネートと重合させたとこ
ろ、収量1.151g、収率70.7％でポリマーが得られた。
このポリマーの比旋光度は〔α〕D 25−76.3度（ｃ＝0.8
6g/dl THF）であり、数平均分子量および重量平均分子
量および分子量分布はそれぞれ次の通りであった。
6g/dl THF）であり、数平均分子量および重量平均分子
量および分子量分布はそれぞれ次の通りであった。
Mn＝17700,Mw＝29200,Mw/Mn＝1.65（標準ポリスチレ
ン） また、赤外吸収スペクトル値及びNMRスペクトル値（TMS
基準、DMF-d7中）はそれぞれ次の通りであった。
ン） また、赤外吸収スペクトル値及びNMRスペクトル値（TMS
基準、DMF-d7中）はそれぞれ次の通りであった。
実施例 ４ （＋）−1,2−ジフェニルエチレングリコール0.402g
（1.81mmol）〔比旋光度＋124.9度（ベンゼン中、25
℃）〕とパラフェニレンジイソシアネート0.290（1.81m
mol）をTHF（直前に水素化アルミニウムリチウムより蒸
留したもの）12mlに溶解し、これに触媒としてジ−ｎ−
ブチル錫ジラウレート0.1ml（0.16mmol）を加えて40℃
で70時間放置した。反応物はヘキサン中に沈澱させた
後、固形物をグラスフィルターに集め、60℃で２時間真
空乾燥した。ポリマーの収量は0.670g、収率は96.8％で
あった。このポリマーの比旋光度は〔α〕D 25は＋67.3
度（THF中、25℃）で赤外吸収スペクトル（IR）値及びN
MRスペクトル値（TMS基準、DMSO-d6中、60℃）は夫々次
の通りであった。
（1.81mmol）〔比旋光度＋124.9度（ベンゼン中、25
℃）〕とパラフェニレンジイソシアネート0.290（1.81m
mol）をTHF（直前に水素化アルミニウムリチウムより蒸
留したもの）12mlに溶解し、これに触媒としてジ−ｎ−
ブチル錫ジラウレート0.1ml（0.16mmol）を加えて40℃
で70時間放置した。反応物はヘキサン中に沈澱させた
後、固形物をグラスフィルターに集め、60℃で２時間真
空乾燥した。ポリマーの収量は0.670g、収率は96.8％で
あった。このポリマーの比旋光度は〔α〕D 25は＋67.3
度（THF中、25℃）で赤外吸収スペクトル（IR）値及びN
MRスペクトル値（TMS基準、DMSO-d6中、60℃）は夫々次
の通りであった。
IR値;3300cm-1,1720cm-1 ポリマーの数平均分子量は50000であった。
実施例 ５ （−）−1,2−ジフェニルエチレングリコール0.339g
（1.58mmol）〔比旋光度＋118.0度（ベンゼン中、25
℃）〕とパラフェニレンジイソシアネート0.254g（1.58
mmol）をTHF（直前に水素化アルミニウムリチウムより
蒸留したもの）10mlに溶解し、これに触媒としてジ−ｎ
−ブチル錫ジラウレート0.1ml（0.16mmol）を加えて40
℃で70時間放置した。反応物はヘキサン中に沈澱させた
後、固形物をグラスフィルターに集め、60℃で２時間真
空乾燥した。ポリマーの収量は0.590g、収率は99.5％で
あった。このポリマーの比旋光度は〔α〕D 25−58.6度
（THF中、25℃）で赤外吸収スペクトル（IR）値及びNMR
スペクトル値（TMS基準、DMSO-d6中、60℃）は夫々次の
通りであった。
（1.58mmol）〔比旋光度＋118.0度（ベンゼン中、25
℃）〕とパラフェニレンジイソシアネート0.254g（1.58
mmol）をTHF（直前に水素化アルミニウムリチウムより
蒸留したもの）10mlに溶解し、これに触媒としてジ−ｎ
−ブチル錫ジラウレート0.1ml（0.16mmol）を加えて40
℃で70時間放置した。反応物はヘキサン中に沈澱させた
後、固形物をグラスフィルターに集め、60℃で２時間真
空乾燥した。ポリマーの収量は0.590g、収率は99.5％で
あった。このポリマーの比旋光度は〔α〕D 25−58.6度
（THF中、25℃）で赤外吸収スペクトル（IR）値及びNMR
スペクトル値（TMS基準、DMSO-d6中、60℃）は夫々次の
通りであった。
IR値;3300cm-1,1720cm-1 ポリマーの数平均分子量は9600であった。
実施例 ６ で示されるタルトラニリド0.733g（2.44mmol）とパラフ
ェニレンジイソシアネート0.393（2.45mmol）をN,N−ジ
メチルアセトアミド（直前に単蒸留したもの）9.0mlに
溶かし、これに触媒としてジ−ｎ−ブチル錫ジラウレー
トを２滴加え、40℃で30時間放置した。反応物はメタノ
ール中に沈澱させた後、固形物をグラスフィルターに集
め、60℃で２時間真空乾燥した。ポリマーの収量は1.06
6g、収率は94.7％であった。このポリマーの比旋光度は
〔α〕D 25は−70.1度（N,N−ジメチルアセトアミド中、
ｃ＝0.98）で赤外吸収スペクトル（IR）値及びNMRスペ
クトル値（TMS基準、DMSO-d6中）は夫々次の通りであっ
た。
ェニレンジイソシアネート0.393（2.45mmol）をN,N−ジ
メチルアセトアミド（直前に単蒸留したもの）9.0mlに
溶かし、これに触媒としてジ−ｎ−ブチル錫ジラウレー
トを２滴加え、40℃で30時間放置した。反応物はメタノ
ール中に沈澱させた後、固形物をグラスフィルターに集
め、60℃で２時間真空乾燥した。ポリマーの収量は1.06
6g、収率は94.7％であった。このポリマーの比旋光度は
〔α〕D 25は−70.1度（N,N−ジメチルアセトアミド中、
ｃ＝0.98）で赤外吸収スペクトル（IR）値及びNMRスペ
クトル値（TMS基準、DMSO-d6中）は夫々次の通りであっ
た。
IR値;1720cm-1（‐NHCOO-）
Claims (1)
- 【請求項１】光学活性な酒石酸ジエステル又は光学活性
な1,2−ジフェニルエチレングリコールとジイソシアネ
ートとを反応させることを特徴とする光学活性な新規ポ
リウレタンの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60-232129 | 1985-10-17 | ||
| JP23212985 | 1985-10-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62181315A JPS62181315A (ja) | 1987-08-08 |
| JPH0699534B2 true JPH0699534B2 (ja) | 1994-12-07 |
Family
ID=16934454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4304586A Expired - Lifetime JPH0699534B2 (ja) | 1985-10-17 | 1986-02-28 | 新規ポリウレタンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0699534B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020095832A1 (ja) | 2018-11-09 | 2020-05-14 | 株式会社クラレ | 研磨層用ポリウレタン、研磨層、研磨パッド及び研磨層の改質方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1391653B1 (it) * | 2008-10-31 | 2012-01-17 | Intercos Italiana | Composizione cosmetica comprendente un poliuretano a base di dialchiltartrato diolo e suoi usi. |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5223156A (en) * | 1975-08-14 | 1977-02-21 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | Photo-stable polyurethane composition |
-
1986
- 1986-02-28 JP JP4304586A patent/JPH0699534B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020095832A1 (ja) | 2018-11-09 | 2020-05-14 | 株式会社クラレ | 研磨層用ポリウレタン、研磨層、研磨パッド及び研磨層の改質方法 |
| JPWO2020095832A1 (ja) * | 2018-11-09 | 2021-10-07 | 株式会社クラレ | 研磨層用ポリウレタン、研磨層、研磨パッド及び研磨層の改質方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62181315A (ja) | 1987-08-08 |
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