JPH0697062A

JPH0697062A - 有機物除去装置

Info

Publication number: JPH0697062A
Application number: JP24218492A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Onishi; 博大西; Hiroyuki Miwa; 裕之三輪
Original assignee: Toshiba Lighting and Technology Corp
Current assignee: Toshiba Lighting and Technology Corp
Priority date: 1992-09-10
Filing date: 1992-09-10
Publication date: 1994-04-08

Abstract

(57)【要約】【目的】ノズル温度の低減によって、有機物の酸化除
去能力の向上を図ることのできる有機物除去装置を提供
することを目的としている。【構成】ワークにオゾンを吹き付けて、ワークに付着
したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有機物除
去装置であって、前記ワークを加熱する加熱ヒータ２０
と、この加熱ヒータ２０によって加熱されたワークにオ
ゾンを吹き付けるノズル３０と、このノズル３０を冷却
する冷却手段５０とを具備した構成になっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えばＴＦＴ、半導
体等を製造する際のレジストプロセスにおいて不要とな
ったフォトレジスト等の有機物を除去する有機物除去装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】この種の有機物除去装置としては、例え
ばＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏ
ｒ）や半導体等を製造する工程で、フォトレジスト（有
機物）が付着した基板（ワーク）を加熱しながら、オゾ
ン（Ｏ₃）を吹き付けることによって、上記フォトレジ
ストを酸化除去するものが知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
有機物除去装置においては、基板を加熱する加熱ヒータ
により、オゾンを吹き付けるノズルの温度が上昇してし
まい、このノズルの温度上昇によってノズル内でオゾン
が分解して酸素原子（Ｏ）が生成されることがある。酸
素原子は、酸化力が強いので、基板の表面で生成されれ
ばフォトレジストを酸化除去するのに都合がよいが、寿
命が極めて短いので、ノズル内にで生成されると、基板
に付く前に酸素分子（Ｏ₂）になってしまう。このた
め、ノズルの温度上昇によって、フォトレジストを酸化
除去する能力が落ちてしまうという問題があった。

【０００４】この発明は上述した問題を解決するためな
されたもので、その目的は、ノズル温度の低減によっ
て、有機物の酸化除去能力の向上を図ることのできる有
機物除去装置を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、ワークにオゾンを吹き付けて、ワーク
に付着したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有
機物除去装置であって、前記ワークを加熱する加熱ヒー
タと、この加熱ヒータによって加熱されたワークにオゾ
ンを吹き付けるノズルと、このノズルを冷却する冷却手
段とを具備したことを特徴としている。

【０００６】

【作用】上記のように構成された有機物除去装置におい
ては、加熱ヒータからノズルに熱が伝達されるが、ノズ
ルに冷却手段が設けられているので、ノズルの温度上昇
が抑えられる。このため、ノズル内でオゾンが分解して
酸素原子が生成されることが避けられ、ノズルから噴出
したオゾンがそのままワークに達する。そうすると、オ
ゾンがワークの熱によって分解し、酸素原子が生成され
る。このため、酸素原子によって有機物の酸化除去が行
われるようになる。したがって、有機物を効率良く酸化
除去することができる。

【０００７】

【実施例】以下、図面にしたがって本発明の有機物除去
装置の実施例について詳細に説明する。図１は本発明の
第１実施例として示した有機物除去装置の要部説明図、
図２は同有機物除去装置のノズルの斜視説明図、図３は
図１の III−III 線に沿う断面説明図、図４は同有機物
除去装置の全体構成のうち特に余熱部を示す側面説明
図、図５は同有機物除去装置の全体構成のうち特に有機
物除去部を示す側面説明図、図６は本発明の第２実施例
として示した有機物除去装置の要部説明図、図７は図６
の VII−VII 線に沿う断面説明図、図８は同有機物除去
装置の全体構成のうち特に余熱部を示す側面説明図、図
９は同有機物除去装置の全体構成のうち特に有機物除去
部を示す側面説明図、図１０は第１及び第２実施例のノ
ズルの他の例を示す斜視説明図である。

【０００８】まず、図１〜図５を参照して本発明の第１
実施例を説明する。有機物除去装置は、図４及び図５に
示すように、ワークの搬送手段としてローラコンベア１
を有している。ローラコンベア１は、ワーク供給位置Ａ
から、ワーク取出位置Ｂにかけて配置されている。ま
た、ワークとしては、この実施例では製造過程のＴＦＴ
の基板であって、不要となったフォトレジストを有する
基板を示している。フォトレジストは、有機物によって
構成されているものであり、回路等を基板上に形成する
段階で使用するものである。

【０００９】ローラコンベア１は、図３に示すように、
対向する左右１対の搬送ローラ２、２を複数有するもの
であり、各搬送ローラ２は、互いに対向する部分が縮径
され、この縮径された部分が搬送部２ａになっている。
したがって、複数の縮径部２ａの上側の部分がワークを
搬送するためのパスライン（搬送面）ＰＬ（図１、図４
及び図５参照）になっている。また、左右の搬送ローラ
２、２の側方には、後述するノズル３０から吹き出した
オゾンがワーク上から簡単に逃げないように側板３、３
が設けられている。

【００１０】さらに、左右の搬送ローラ２の間には、図
３に示すように、遠赤外線ヒータによって構成された余
熱ヒータ１０及び加熱ヒータ２０が設けられている。余
熱ヒータ１０は、図４に示すように、ワークの余熱部１
１に設けられており、加熱ヒータ２０は、図５に示すよ
うに、有機物除去部２１に設けられている。これらの余
熱ヒータ１０及び加熱ヒータ２０は、それぞれの加熱面
１０ａ、２０ａが平面状に形成されていて、これらの各
加熱面１０ａ、２０ａがパスラインＰＬの下側にあって
同パスラインＰＬに近接する位置に設けられている。ま
た、各搬送ローラ２の直下位置には、余熱部１１及び有
機物除去部２１のぞれぞれに、ワークの側縁部を熱する
側縁部余熱ヒータ１２及び側縁部加熱ヒータ２２が設け
られている。側縁部余熱ヒータ１２及び側縁部加熱ヒー
タ２２は、それぞれ余熱ヒータ１０及び加熱ヒータ２０
より温度が高く設定されていて、余熱ヒータ１０及び加
熱ヒータ２０と同様の熱量をワークの側縁部に供給する
ようになっている。

【００１１】余熱部１１には、図４に示すように、パス
ラインＰＬの上側に副処理室１３が２つ設けられてお
り、各副処理室１３には、ワークに上方からオゾンを吹
き付けるノズル３０が設けられている。一方、有機物除
去部２１には、加熱ヒータ２０の上側全体を覆うよう
に、主処理室２３が設けられており、この主処理室２３
には、上述のノズル３０が等間隔に３つ設けられている
とともに、各ノズル３０の間に低圧水銀灯（紫外線照射
手段）４０が設けられている。

【００１２】ノズル３０は、図１〜図３に示すように、
ステンレス鋼の板状部材で箱状に形成したものであっ
て、対向する搬送ローラ２、２を跨ぐよに長く形成さ
れ、底面３１がパスラインＰＬの上側にあってワークに
近接する位置に設けられている。そして、一側面３２に
は、底面３１に沿うように長い長孔状の吹き出し口３２
ａが形成されている。この吹き出し口３２ａの回りに
は、冷却パイプ５０が設けられている。冷却パイプ５０
は、ステンレス鋼で形成されたものであり、冷却媒体と
して水が流れるようになっている。なお、冷却媒体とし
ては、水に限らず空気等であってもよいことはいうまで
もない。

【００１３】また、ノズル３０には、その長手方向の一
端部に設けられた開口部３３を介ししてオゾンが供給さ
れるようになっている。オゾンは、図示しないオゾナイ
ザによって生成されノズル３０に供給されるようになっ
ている。さらに、ノズル３０の一端部にはブラケット３
４が設けられており、このブラケット３４にはノズル３
０を有機物除去装置のフレーム本体に固定するためのボ
ルト３５が設けられている。そして、ノズル３０は、ボ
ルト３５を中心にして所定の角度に傾けて固定すること
が可能になっており、吹き出し口３２ａの向きがワーク
対して種々の角度に設定できるようになっている。通
常、吹き出し口３２ａの向きは、吹き出したオゾンが低
圧水銀灯４０直下のワークに当たるように設定されてい
る。

【００１４】低圧水銀灯４０は、対向する搬送ローラ
２、２を跨がるように長く形成され、かつ、ワークの上
側にあって同ワークに近接する位置に設けられている。
この低圧水銀灯４０は、主に２５４ｎｍの波長の紫外線
を放射するようになっており、ノズル３０から噴出した
オゾンを分解して、ワークの表面部分で酸素原子（Ｏ）
を生成するようになっている。また、反射板４１によっ
て、紫外線が効率良くワークに照射されるようになって
いる。このように構成した低圧水銀灯４０及び上記ノズ
ル３０は、互いに近接させて設けることがワーク上で酸
素原子を生成する上で好ましい。しかも、加熱するライ
ンが長い場合には、ローラコンベア１の搬送終了端部側
に低圧水銀灯４０やノズル３０を集中させて設けること
が所定の温度に安定させた状態で処理する上で好まし
い。

【００１５】上記の構成された有機物除去装置において
は、ワークの温度が余熱ヒータ１０によって徐々に上昇
し、加熱ヒータ２０の間で一定の温度になる。そして、
フォトレジストは、その一部が余熱段階の副処理室１３
内でオゾン及び酸素原子によって酸化除去され、さらに
主処理室２３でその全てが酸化除去される。副処理室１
３及び主処理室２３内でノズル３０から噴出するオゾン
は、ワークに当たって、同ワークに沿って流れる。そし
て、ワークの移動にともなって、ワークとワークとの間
にオゾンが流れるようなる。しかし、余熱ヒータ１０や
加熱ヒータ２０が、ワークのパスラインＰＬに接近して
設けられているので、パスラインＰＬから下側に流れ去
ってしまうことがなく、次に搬送されてくるワークのフ
ォトレジストの酸化除去に役立つようになる。また、側
板３が設けられていることも、オゾンをパスラインＰＬ
上に滞留させる上で役立つ。

【００１６】そして、副処理室１３においても、また主
処理室２３においても、余熱ヒータ１０あるいは加熱ヒ
ータ２０からの放射熱によって、各ヒータ１０、２０に
近いノズル３０の吹き出し口３２ａの回りが熱せられる
ことになる。しかし、冷却パイプ５０によって、吹き出
し口３２ａの回りが冷却されるので、同吹き出し口３２
ａの回りの温度が上昇することがなく、全体としてノズ
ル３０の温度上昇が避けられる。すなわち、ノズル３０
内で、熱によってオゾンが分解し、酸素原子が生成され
ることがない。このため、オゾナイザから供給されたオ
ゾンがノズル３０からそのままワークに噴出することに
なる。そして、ワークの熱によってオゾンが分解して酸
素原子が生成される。したがって、酸素原子によってフ
ォトレジストの酸化除去が行われる。

【００１７】また、主処理室２３においては、ノズル３
０から噴出するオゾンが、低圧水銀灯４０の紫外線によ
って、ワーク上で酸素原子に分解するので、より多くの
酸素原子によってフォトレジストの酸化除去が行われ
る。

【００１８】上記のように構成された有機物除去装置に
よれば、冷却パイプ５０によってノズル３０を冷却する
ことができるから、余熱ヒータ１０あるいは加熱ヒータ
２０の熱がノズル３０に作用しても、ノズル３０の温度
の上昇を防止することができる。このため、ノズル３０
内で酸素原子が生成されることなく、オゾンを直接ワー
クに当てることができる。したがって、ワークの熱や、
低圧水銀灯４０の紫外線によって、ワークの表面近くで
酸素原子が生成されることになり、この酸素原子によっ
て、効率良くフォトレジストを酸化除去することができ
る。

【００１９】さらに、余熱ヒータ１０や加熱ヒータ２０
が、ワークのパスラインＰＬに接近して設けられている
ので、オゾンがパスラインＰＬから下側に流れ去ってし
まうことがなく、ワークの近傍にオゾンを滞留させるこ
とができる。すなわち、ワーク付近のオゾンの濃度を向
上させることができ、供給したオゾンをフォトレジスト
の酸化除去のために有効に使用することができる。しか
も、パスラインＰＬ付近に滞留したオゾンを、次に搬送
されてくるワークのフォトレジストの酸化除去に役立た
せることができる。また、側板３が設けられていること
も、オゾンをパスラインＰＬ近傍に滞留させる上で効果
がある。

【００２０】また、余熱ヒータ１０や加熱ヒータ２０の
加熱面１０ａ、２０ｂがパスラインＰＬに近接していな
い場合には、ワークの先端部はオゾンが噴出する中に入
るまでオゾンに当たることがなく、またワークの後端側
はワークの先端部がオゾンの噴出中に入ればワークに沿
って流れるオゾンによって覆われることになる。このた
め、ワークの先端部は、オゾンにさらされる時間が後端
側に比べて短くなり、有機物の酸化除去不足となる傾向
がある。ところが、この実施例の場合は、余熱ヒータ１
０や加熱ヒータ２０の加熱面１０ａ、２０ｂがパスライ
ンＰＬに近接しているので、オゾンをパスラインＰＬ近
傍に滞留させることができ、このオゾンの中をワークが
通過するようになる。このため、ワークの先端部にも十
分オゾンを当てることができ、ワーク先端部に有機物の
酸化除去不足が生じるのを防止することができる。すな
わち、ワーク上の有機物を均一に酸化除去することがで
きる。

【００２１】次に、図６〜図９を参照してこの発明の第
２実施例を説明する。ただし、図１〜図５に示した第１
実施例と共通する要素には同一の符号を付しその説明を
簡略化する。図６〜図９に示す有機物除去装置が図１〜
図５に示す有機物除去装置と異なる点は、余熱ヒータ６
０及び加熱ヒータ７０の構造が異なる点である。

【００２２】すなわち、余熱ヒータ６０は、図８に示す
ように、余熱部１１に設けられており、加熱ヒータ７０
は、図９に示すように、有機物除去部２１に設けられて
いる。これらの余熱ヒータ６０及び加熱ヒータ７０は、
それぞれの加熱面６０ａ、７０ａが平面状に形成されて
いて、これらの各加熱面６０ａ、７０ａが左右の搬送ロ
ーラ２、２を跨がって、同搬送ローラ２、２の下側を覆
うように設けられている。そして、各余熱ヒータ６０及
び加熱ヒータ７０には、図６及び図７に示すように、左
右の搬送ローラ２、２の内法いっぱいに納まるように熱
伝達カバー８０が設けられている。熱伝達カバー８０
は、ステンレス鋼の板状部材で形成されたものであり、
パスラインＰＬに沿う平面がパスラインＰＬの下側にあ
って、同パスラインＰＬに近接する位置に設けられてい
る。

【００２３】上記のように構成された有機物除去装置に
おいては、余熱ヒータ６０又は加熱ヒータ７０の中央部
から発する熱によって熱伝達カバー８０が高温に加熱さ
れ、この高温に加熱された熱伝達カバー８０によって、
パスラインＰＬを通過するワークが加熱される。また、
余熱ヒータ６０又は加熱ヒータ７０の側部から発する熱
によってワークの側部が加熱される。

【００２４】したがって、上記のように構成された有機
物除去装置においても、ノズル３０から噴出したオゾン
がワークとワークとの間から下側に逃げるのを熱伝達カ
バー８０によって防止することができるから、オゾンを
ワークの近辺に効率良く滞留させることができる。その
他は第１実施例と同様の作用効果を奏する。

【００２５】また、上記第２実施例の変形例として、熱
伝達カバー８０の変わりに、余熱ヒータ１０又は加熱ヒ
ータ２０の加熱面１０ａ、２０ａに密着するように熱伝
達ブロックを設けるように構成してもよい。この場合に
は、加熱面１０ａ、２０ｂに密着する面と反対側の放熱
面をパスラインＰＬに近接するように設ける必要があ
る。この変形例の場合にも、第２実施例と同様の作用効
果を奏する。ただし、熱伝達ブロックの方が熱伝達カバ
ー８０より熱伝達率が良いので、効率良くワークを加熱
することができる。

【００２６】さらに、上記第１及び第２実施例のノズル
の他の例を図１０を参照して説明する。ただし、第２図
に示すノズル３０と共通する構成要素には同一の符号を
付しその説明を省略する。すなわち、図１０に示すノズ
ル３０は、平面状の底面３１の下側を覆うように、円弧
状に湾曲した外板３６を設け、底板３１と外板３６との
間に冷却水の流路３７を形成したものである。そして、
この流路３７内に流入あるいは流出する水が冷却パイプ
５０を通るようになっている。

【００２７】このように構成されたノズル３０において
は、冷却パイプ５０及び流路３７によって、特に各ヒー
タ１０、２０に接近していて温度上昇の激しいノズル３
０の吹き出し口３２ａの回りを冷却することができ、こ
れによってノズル３０全体の温度上昇を抑えることがで
きる。そして、底面３１全体を冷却することができるの
で、ノズル３０の温度上昇をより確実に抑えることがで
きる。

【００２８】

【発明の効果】この発明によれば、ノズルに冷却手段を
設けているので、熱が加熱ヒータからノズルに伝達して
も、ノズルの温度上昇を抑えることができる。このた
め、ノズル内で酸素原子が生成されることなく、オゾン
を直接ワークに当てることができる。したがって、ワー
クの熱によって、ワークの表面近くで酸素原子が生成さ
れることになり、この酸素原子によって、効率良く有機
物を酸化除去することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１実施例として示した有機物除去
装置の要部説明図。

【図２】同有機物除去装置のノズルの斜視説明図。

【図３】図１の III−III 線に沿う断面説明図。

【図４】同有機物除去装置の全体構成のうち特に余熱部
を示す側面説明図。

【図５】同有機物除去装置の全体構成のうち特に有機物
除去部を示す側面説明図。

【図６】この発明の第２実施例として示した有機物除去
装置の要部説明図。

【図７】図６の VII−VII 線に沿う断面説明図。

【図８】同有機物除去装置の全体構成のうち特に余熱部
を示す側面説明図。

【図９】同有機物除去装置の全体構成のうち特に有機物
除去部を示す側面説明図

【図１０】第１及び第２実施例のノズルの他の例を示す
斜視説明図。

【符号の説明】

２０加熱ヒータ３０ノズル３７冷却手段（流路）５０冷却手段（冷却手段）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ワークにオゾンを吹き付けて、ワークに
付着したフォトレジスト等の有機物を酸化除去する有機
物除去装置であって、前記ワークを加熱する加熱ヒータと、この加熱ヒータに
よって加熱されたワークにオゾンを吹き付けるノズル
と、このノズルを冷却する冷却手段とを具備したことを
特徴とする有機物除去装置。
【請求項２】冷却手段は、ノズルの吹き出し口の回り
に設けた冷却パイプであることを特徴とする請求項１記
載の有機物除去装置。
【請求項３】加熱されたワークに紫外線を照射する紫
外線照射手段を設けたことを特徴とする請求項１又は請
求項２記載の有機物除去装置。
【請求項４】ワークを余熱する余熱ヒータと、前記ワ
ークを余熱ヒータ側から加熱ヒータ側に搬送する搬送手
段とを具備したことを特徴とする請求項１、請求項２又
は請求項３記載の有機物除去装置。
【請求項５】ノズル及び紫外線照射手段は、搬送手段
の搬送終了側に位置していることを特徴とする請求項
１、請求項２、請求項３又は請求項４記載の有機物除去
装置。