JPH0692741A - ガラスセラミック基板の焼成用治具及びガラスセラミック基板の製造方法 - Google Patents

ガラスセラミック基板の焼成用治具及びガラスセラミック基板の製造方法

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JPH0692741A
JPH0692741A JP5184729A JP18472993A JPH0692741A JP H0692741 A JPH0692741 A JP H0692741A JP 5184729 A JP5184729 A JP 5184729A JP 18472993 A JP18472993 A JP 18472993A JP H0692741 A JPH0692741 A JP H0692741A
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firing
glass ceramic
glass
sheet
heat treatment
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Showa Kinoshita
将和 木下
Satoshi Hamano
智 濱野
Hideo Emura
秀雄 江村
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Original Assignee
Kyocera Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】有機バインダーの散逸を向上し、基板の残留炭
素量を充分に低減することができるるとともに、面方向
における高い寸法精度を有する基板を作製することがで
きる。 【構成】ガス透過係数が7ml/min・cm・cmH
g以上の多孔質板からなる焼成用治具であり、ガラスセ
ラミックスからなる組成物に有機バインダーを添加して
なる混合物をシート状に成形し、或いは、該シート状成
形体と導体パターンとを交互に積層してガラスセラミッ
ク成形体を形成し、ガス透過係数が7ml/min・c
m・cmHg以上の多孔質板により、前記ガラスセラミ
ック成形体に機械的圧力を均一に付与しつつ、熱処理お
よび焼成を行うガラスセラミック基板の製造方法であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラスセラミックから
なる例えば、半導体搭載用として用いられるガラスセラ
ミック基板の焼成用治具およびこの焼成用治具を用いた
ガラスセラミック基板の製造方法に関するもので、具体
的には寸法精度に優れた基板を製造するためのガラスセ
ラミック基板の焼成用治具およびガラスセラミック基板
の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来技術】半導体素子などを搭載するための基板とし
ては、従来からアルミナなどのセラミック材料が用いら
れているが、最近に至り、アルミナに比較して誘電率が
低く、焼成温度が低い低抵抗の導体、例えばCu,A
u,Ag材料の配線を形成できるなどの点で優れている
ことから、特に回路の高集積化の要求に適用することの
できる基板材料としてガラスセラミックが注目されてい
る。そして回路の高集積化のためには、基板を作製する
場合に高度な寸法精度が要求される。ところで、ガラス
セラミック基板は、通常、所定の原料粉末に有機バイン
ダーを添加して所望の基板形状に成形した後、有機バイ
ンダーを分解除去し、その後、所定の条件で焼成するこ
とにより得られるが、特に焼成工程で必然的に焼成収縮
するために、焼成前に形成された配線層の位置精度が低
下するという問題があった。
【0003】そこで、このような問題に対して、シート
状成形体の表面に対して均一な荷重を印加した状態で焼
成することにより、成形体の平面方向(x−y方向)へ
の収縮を抑制して、x−y面の寸法精度を高める方法が
特公昭57−32657号公報などに開示されている。
これらは、有機バインダーを分解除去後、緻密質の焼成
用治具を載せ、加圧焼成を行うものである。
【0004】
【発明が解決しようとする問題点】ところで、ガラスセ
ラミックスを用いて基板を作製する場合、そのシート成
形性の点で有機バインダーとしてアクリル系、またはス
チレン系の樹脂が用いられるが、これらの樹脂はこれを
分解し、炭素を完全に除去することのできる温度が比較
的高いために有機バインダーを分解除去する工程で、そ
の熱処理温度を高く設定する必要がある。そして、本発
明者らの分析によると、ガラスセラミックスの焼成温度
が低いことに起因し、有機バインダーを除去する工程に
おいてすでに収縮が生じていることが判明した。従っ
て、上記のように焼成工程のみ加圧焼成を行うだけで
は、配線層の位置精度が低下するという問題があった。
【0005】また、緻密質の焼成用治具を載せて加圧焼
成する場合には、分解した有機バインダーが成形体から
充分に抜けきらず、成形体に炭素として残存し、焼成後
の色調や材料特性に悪影響を与えるという問題があっ
た。
【0006】このような問題点を解決すべく、熱処理工
程および焼成工程を加圧状態で行い、配線層の位置精度
を向上するとともに、有機バインダーの分解ガスを速や
かに散逸するために重し板と台板に開気孔率30〜70
%の耐火物を用いて行うことが開示されている(特開昭
59−46088号公報参照)。
【0007】しかしながら、開気孔率が所定の範囲の耐
火物を用いて有機バインダーの分解除去を行っても、有
機バインダーの除去を完全には行うことができないとい
う問題があった。これは、単なる開気孔の存在のみでは
有効な有機バインダーの除去を行うことができないこと
を意味する。つまり、開気孔率が同じ20%であって
も、全く通気性を有さないものもあれば、有するものも
ある。さらに、通気性を有するものであっても、どの程
度の通気性を有すればガラスセラミックの成形体の焼成
に最適なのかが不明であった。
【0008】
【問題点を解決するための手段】本発明者等は、有機バ
インダーの除去を行う熱処理工程においても焼成時と同
様に、シート状成形体の面に垂直な方向からガス透過係
数が7ml/min・cm・cmHg以上の多孔質板を
介して荷重を印加することにより、有機バインダーの分
解ガスの散逸を向上させ、残留炭素量を低減するととも
に、熱処理工程から焼成工程までの収縮を完全に厚み方
向にのみとしてX−Y方向の寸法精度の高い基板を作製
できることを知見し、本発明に至った。
【0009】即ち、本発明は、ガラスセラミック成形体
に機械的圧力を均一に付与するガラスセラミック基板の
焼成用治具であって、ガス透過係数が7ml/min・
cm・cmHg以上の多孔質板からなるガラスセラミッ
ク基板の焼成用治具である。また、ガラスセラミックス
からなる組成物に有機バインダーを添加してなる混合物
をシート状に成形し、或いは、該シート状成形体と導体
パターンとを交互に積層してガラスセラミック成形体を
形成し、これを窒素含有雰囲気中で熱処理して前記有機
バインダーを分解除去した後、引き続き窒素含有雰囲気
中で焼成し緻密化するガラスセラミック基板の製法にお
いて、ガス透過係数が7ml/min・cm・cmHg
以上の多孔質板により、前記ガラスセラミック成形体に
機械的圧力を均一に付与しつつ、熱処理および焼成を行
うガラスセラミック基板の製造方法である。
【0010】以下、本発明を詳述する。本発明のガラス
セラミック基板の焼成用治具は、ガス透過係数が7ml
/min・cm・cmHg以上の多孔質板からなるもの
であるが、ガス透過係数が7ml/min・cm・cm
Hgよりも小さいと、有機バインダーの分解ガスを迅速
に散逸することができなくなり、ガラスセラミック基板
の残留炭素量が多くなるからである。ただし、ガス透過
係数が高すぎると焼成用治具表面の凹凸が顕著となり、
成形体に影響を及ぼす場合があるため、100ml/m
in・cm・cmHg以下であることが望ましい。この
ガス透過係数は10〜25ml/min・cm・cmH
gが特に好ましい。
【0011】通気性の度合を示すパラメータとしてのガ
ス透過係数Kは、図1に示した装置により焼成用治具を
通過するガスの通過前後の圧力差Pとその時のガス流量
Qより以下の式を用いて求めた。
【0012】
【数1】
【0013】ここで、K:ガス透過係数、Q:ガス流
量、S:ガス透過面積、t:試料厚み、P:圧力差、水
銀の比重13.8である。図1において、符号1は試料
ホルダーであり、2は試料であり、3は液膜流量計であ
り、4はニードルバルブであり、5は大気リークバルブ
であり、6はマノメータである。そして、測定は、ボン
ベよりガスを流し、ガス圧の差をリークバルブで調製
し、試料を通過する前後のガス圧の差をマノメータで読
み取り、各ガス圧におけるガス流量を液膜流量計により
測定することにより行う。
【0014】焼成用治具は、望ましくは、前記方法で求
めたガス透過係数が7ml/min・cm・cmHg以
上となるように、等間隔で空隙が設けられたメッシュ状
の多孔質板であるのが良く、この多孔質板は、例えば、
アルミナファイバーの焼結体やアルミナ,コージェライ
ト等を発泡ウレタンで成形した多孔質焼結体からなるセ
ラミックやステンレス等を用いることが望ましい。
【0015】次に、本発明の焼成用治具を用いたガラス
セラミック基板の製造方法を説明する。本発明において
用いられるガラスセラミックとは、SiO2 、B
2 3 、アルミナなどを含む硼珪酸ガラス、硼珪酸亜鉛
ガラス、硼珪酸鉛ガラス、上述の結晶化ガラスなどから
なる成分を30〜70重量%と、アルミナや石英、石英
ガラス、コージェライト、フォルステライト、ムライト
などのセラミックスからなる、いわゆるフィラーを30
〜70重量%の割合からなる組成物であり、これらのい
ずれも900〜1100℃の低温焼成可能な組成物であ
ることが望ましい。また、焼結過程でコージェライト
や、ムライト、クオーツ、ガーナイト等が結晶質として
析出するような結晶化ガラス質材料であってもよい。こ
れらの材料の典型的なものは、例えば、特公昭57−6
257号公報、特開昭59−162169号公報、特開
昭61−163696号公報に開示されている。
【0016】本発明の製法によれば、まず、上記のよう
なガラスまたはガラスセラミックスを形成する原料粉末
を所定の割合で十分に混合した後、その混合物に有機バ
インダーを添加する。有機バインダーは、シートを形成
する際にクラックや厚みバラツキが生じないようなシー
ト成形性に優れたものであることが要求される。望まし
い有機バインダーとしてはイソブチルメタクリレート、
n−ブチルメタクリレートなどの重合体又は共重合体な
どのアクリル系樹脂やポリ−α−メチルスチレンなどの
スチレン系樹脂などが用いられる。これらは重量平均分
子量が100000〜400000、ガラス転移点が−
30〜50℃の樹脂が用いられる。有機バインダーは、
固形分で前記混合物に8〜20重量%の割合で添加さ
れ、フタル酸エステルなどの可塑剤とトルエン、キシレ
ン、酢酸エチルなどを溶媒としてボールミルなどで十分
に混合し、スラリーを調製する。次に、このスラリーを
用いて公知の方法でシート状成形体に成形する。具体的
な成形方法としてはドクターブレード法、カレンダーロ
ール法などが採用される。
【0017】次に、上記のようにして得られたシート状
成形体を乾燥後、300〜900℃の酸素または加湿さ
れた窒素雰囲気中で熱処理し有機バインダーを分解除去
することが望ましい。窒素雰囲気中では、この時の温度
が300℃より低いと有機バインダーの効率的な分解除
去ができず、成形体中に炭素が残留し焼成後の色調や、
絶縁性が低下し、900℃より高いと緻密化が進行しす
ぎて基板内部に未分解の炭素が残留するという問題が生
じる。焼成後の色調や材料特性に悪影響を与えない実用
レベルでの残留炭素量は0.02重量%以下である。な
お、加湿雰囲気は例えば窒素と水蒸気との混合雰囲気、
または窒素+微量酸素+水蒸気との混合雰囲気などであ
る。
【0018】本発明によれば、この熱処理に際し、図2
に示すように、シート状成形体11に対してその面に対
して垂直な方向から均一な圧力を付与しつつ処理を行う
ことが重要である。
【0019】図2によれば、シート状成形体11の表面
にシート状成形体11の全面を覆うことのできる本発明
の焼成用治具12を載せて処理を行う。シート状成形体
11への圧力は焼成用治具12の自重により、または焼
成用治具12の上にさらに重りを載せる又はプレス装置
により一軸加圧をすることによりシート状成形体11の
面に対して均一な圧力を付与することができる。尚、図
2では、本発明の焼成用治具12によりシート状成形体
11を挟持して加圧した例について説明したが、シート
状成形体11の上にのみ焼成用治具12を載置し、加圧
しても良い。
【0020】又、外形寸法公差をさらに高精度にするた
めに例えば、その温度において膨張のないまたは、低膨
張の材料により形成された外型中に入れて加圧すること
もできる。即ち、外型である枠内にシート状成形体11
を収容した状態で加圧しても良い。シート状成形体1へ
の圧力は、熱処理温度や時間により適宜変動するが、
0.3〜100kg/cm2 であることが望ましい。こ
れは、圧力が0.3kg/cm2 より小さいと熱処理時
の収縮を制御することが困難であり、100kg/cm
2 より大きいとZ方向への収縮速度が速すぎ、配線が断
線する等の不具合を生じてしまう。
【0021】また、焼成用治具12とシート状成形体1
1との付着を防ぐために、その間にZrO2 または、B
N、AlN、Si3 4 等の窒化物からなる離型材13
を介装しても良い。離型材13は、スラリー状のものを
刷毛塗りしても、スプレーによる塗布でも、シート状の
ものを挟んでもよい。この時、ZrO2 またはBN、A
lN、Si3 4 等の窒化物からなる焼成用治具12を
用いると、離型材13を用いる事なく基板と焼成用治具
12の付着を防ぐことができる。
【0022】次に、熱処理後のシート状成形体を酸素含
有または窒素(加湿なし)雰囲気中で900〜1100
℃の温度で焼成することが望ましい。本発明によれば、
この焼成においても当然成形体の収縮が生じるために、
前記熱処理と同様な方法および条件でシート状成形体に
一定の圧力を付与しつつ焼成し、緻密化を図る。なお、
上記熱処理および焼成は、それぞれ別の炉で行ってもよ
いし、温度制御および雰囲気の制御により同一の炉内で
行ってもよい。
【0023】また、上記の方法に基づき、例えば内部に
Cu、Au、Agなどの導体層を有する多層配線基板を
作成する場合には、シート状成形体の表面に導体成分で
あるCu、Au、Agなどを含有する導体ペーストを塗
布したものを複数層積層圧着して積層物を作製し、これ
を窒素(加湿なし)雰囲気中で上記と同様な方法で圧力
を印加しつつ熱処理および焼成を行えばよい。
【0024】
【作用】焼成温度が900〜1100℃程度のガラスセ
ラミックスの温度に対する収縮は、その組成にも依るが
約600〜700℃から生じる。よって、上記熱処理温
度において、後述する実施例から明らかなように15〜
25%程度収縮が生じてしまう。通常、この収縮は、シ
ート状成形体に対して座標軸のx−y−z方向のいずれ
の方向にも収縮する。
【0025】本発明によれば、焼成前の熱処理の段階か
ら焼成までの工程をシート状成形体の面に対して垂直な
方向から一定の圧力を付与しつつ処理することにより、
焼成収縮を厚み方向(z方向)にのみ生じさせ、面方向
(x−y方向)の収縮を抑制することができる。これに
より、多層配線基板などにおいて配線層が形成された成
形体の収縮による配線位置のずれや基板の変形やゆがみ
などの発生を防止し、寸法精度に優れた基板を作成する
ことができる。
【0026】また、本発明の焼成用治具を用いることに
より、分解された有機バインダーは、焼成用治具の内部
を通過して外部に効率的に放出され、有機バインダーの
散逸を向上する。
【0027】
【実施例】
実施例1 珪酸ガラス50重量%にアルミナ、石英、コージェライ
トの合計量50重量%からなるガラスセラミック組成物
に対して、有機バインダーとしてメタクリレート樹脂を
固形分で18重量%添加し、可塑剤アジピン酸ジオクチ
ルを5重量%、トルエンを溶媒としてボールミルにより
40時間混合し、スラリーを調製した。
【0028】得られたスラリーをドクターブレード法に
より厚さ0.3mmのシート状成形体を作製した。この
シート状成形体の表面にCuを主成分とする導体ペース
トを塗布したものを40層積層圧着した。この積層物を
図2に示すように、焼成用治具12として気孔率80
%、ガス透過係数50ml/min・cm・cmHgの
コージェライトからなる多孔質板を用い、積層物11と
焼成用治具12の間に離型材13としてAlNグリーン
シートを挟み、加湿窒素雰囲気中、磁器の収縮開始直前
の温度まで無加圧状態で積層体の予備脱バインダーを行
い、積層体中の残留カーボン量を0.1重量%まで低減
した。この無加圧状態での予備脱バインダーについて
は、積層体の脱バインダー効率を良くすると共に、積層
体の強度が低い段階での加圧により配線の断線や基板の
破壊等が発生するのを防ぐためである。その後、焼成用
治具12に5kg/cm2 の圧力を付与して800℃の
加湿窒素雰囲気中で炭素分が0.02重量%以下になる
まで熱処理した。その後、同一の炉内で雰囲気を乾燥窒
素に換えて、1000℃で30分焼成し、密度が95%
以上の多層配線基板を作製した。
【0029】上記の過程において、積層構造体の熱処理
前後および焼成前後の面方向(x−y方向)の寸法を測
定し、寸法変化率をそれぞれ算出したところ、熱処理後
で厚み方向(z方向)に対して25%の収縮が見られた
が、x方向およびy方向はいずれも±0.1%以下であ
り、焼成後で、z方向に対して48%、x方向で±0.
1%、y方向で±0.1%の収縮があった。
【0030】また、比較のために、上記の方法におい
て、熱処理時に全く圧力を付与せず、焼成時のみ実施例
1と同様な条件で圧力を付与しつつ焼成した。その結
果、熱処理時でz方向10%、x方向10%、y方向1
0%、焼成後でz方向37%、x方向10%、y方向1
0%の収縮が認められ、本発明の方法により寸法精度が
大きく向上したことが理解される。
【0031】実施例2 珪酸ガラス50重量%に石英、石英ガラス、アルミナの
合計50重量%からなるガラスセラミック組成物に対し
て、有機バインダーとしてメタクリレート樹脂を固形分
で18重量%添加し、可塑剤アジピン酸ジオクチルを5
重量%、トルエンを溶媒としてボールミルにより40時
間混合し、スラリーを調製した。以下、実施例1と同様
な処理を行い、積層構造体の熱処理前後および焼成前後
の面方向の寸法を測定し、寸法変化率をそれぞれ算出し
たところ、熱処理後で厚み方向(z方向)に対して27
%の収縮が見られたが、x方向およびy方向はいずれも
±0.1%以下であり、焼成後で、z方向に対して48
%、x方向で±0.05%、y方向で±0.05%と、
x−y方向に対して高い寸法精度があった。
【0032】実施例3 コージェライト又はムライトが主として結晶化する結晶
化ガラス組成物に対して有機バインダーとしてポリ−α
−メチルスチレンを固形分で12重量%添加し、酢酸エ
チルを溶媒としてボールミルにより20時間混合し、ス
ラリーを調製した。
【0033】得られたスラリーをドクターブレード法に
より厚さ0.2mmのシート状成形体を作製した。この
シート状成形体の表面にAuからなる導体ペーストを塗
布したものを10層積層圧着した。この積層物を図2に
示したように、焼成用治具12として気孔率70%、ガ
ス透過係数23ml/min・cm・cmHgの多結晶
シリカファイバーからなる多孔質板を用い、積層物11
と焼成用治具12の間に離型材13としてBNグリーン
シートを挟み、50kg/cm2 の圧力を付与して75
0℃の大気雰囲気中で熱処理し、炭素分が0.02重量
%以下になるまで熱処理した。その後、別のベルト炉内
で雰囲気を大気とし、1kg/cm2 の圧力を付与して
950℃で0.5時間焼成し、密度が95%以上の多層
配線基板を作製した。
【0034】上記の過程において、積層構造体の面方向
の熱処理前後および焼成後の寸法を測定し、寸法変化率
をそれぞれ算出したところ、熱処理後で厚み方向(z方
向)に対して8%の収縮が見られたが、x方向およびy
方向はいずれも±0.1%以下であり、焼成後で、z方
向に対して40%の収縮が認められたのに対して、x方
向およびy方向は±0.1%以下の優れた寸法精度が得
られた。
【0035】実施例4 実施例1において、焼成用治具のガス透過係数を変化さ
せる種々実験を行い、上記と同様にして最終焼結体の成
形体に対するx方向、y方向の収縮率の平均値および焼
結体中の残留炭素量を測定した。その結果を表1に示
す。
【0036】
【表1】
【0037】この表1より、本発明の焼成用治具を用い
た場合には、基板の残留炭素量が0.02重量%以下と
なり、また、X−Y方向の寸法変化率も優れた寸法精度
が得られた。
【0038】さらに表1には記載しなかったが、本発明
者等は熱処理条件、焼成条件、圧力条件、ガス透過係数
を変化させる実験を行い、X−Y方向の寸法変化率,基
板の相対密度,基板の残留炭素量を測定した。この結
果、ガス透過係数が23である焼成用治具により、加圧
力5kg/cm2 で成形体を加圧しながら、250℃1
0時間の熱処理および1000℃1時間の焼成をおこな
ったところ、X−Y方向の寸法変化率が±0.1以下、
相対密度が85%、残留炭素量が0.05重量%であ
り、熱処理温度が低かったため残留炭素量が多かった。
【0039】また、ガス透過係数が23である焼成用治
具により、加圧力50kg/cm2で成形体を加圧しな
がら、750℃10時間の熱処理および850℃2時間
の焼成をおこなったところ、X−Y方向の寸法変化率が
±0.1以下、相対密度が90%、残留炭素量が0.0
1重量%であり、基板の相対密度が小さかった。
【0040】ガス透過係数が23である焼成用治具によ
り、加圧力10kg/cm2 で成形体を加圧しながら、
950℃5時間の熱処理および1000℃1時間の焼成
をおこなったところ、X−Y方向の寸法変化率が±0.
1以下、相対密度が95%、残留炭素量が0.025重
量%であり、残留炭素量が多かった。
【0041】ガス透過係数が50である焼成用治具によ
り、加圧力0.1kg/cm2 で成形体を加圧しなが
ら、800℃10時間の熱処理および1000℃1時間
の焼成をおこなったところ、X−Y方向の寸法変化率が
−3.0、相対密度が98%、残留炭素量が0.008
重量%であり、加圧力が小さかったため寸法変化率が大
きくなった。
【0042】ガス透過係数が10である焼成用治具によ
り、加圧力110kg/cm2 で成形体を加圧しなが
ら、800℃10時間の熱処理および1000℃1時間
の焼成をおこなったところ、加圧力が大きすぎて試料が
破損した。
【0043】
【発明の効果】以上、詳述したとおり、本発明によれ
ば、導体パターンを有するガラスセラミック成形体に機
械的圧力を均一に付与するガラスセラミック基板の焼成
用治具のガス透過係数が7ml/min・cm・cmH
g以上とすることにより、この焼成用治具を用いて加圧
焼成すると、分解された有機バインダーが、焼成用治具
の内部を通過して外部に放出され、有機バインダーの散
逸を向上し、基板の残留炭素量を充分に低減することが
できる。また、この焼成用治具を用いて、有機バインダ
ーの除去を行うための熱処理から焼成に至る間にシート
状成形体に対して所定の圧力を付与することにより、基
板の面方向における高い寸法精度を有する基板を作製す
ることができる。これにより、配線の高密度化や更に薄
膜配線を付ける工程に対して十分に対応することがで
き、実装部品の実装精度を高めることができ、基板の製
造に対しその信頼性をより高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の焼成用治具のガス透過係数を測定する
ための装置を示す概略図である。
【図2】本発明の焼成用治具を用いて熱処理,焼成する
状態を示す側面図である。
【符号の説明】
11 シート状成形体(積層物) 12 焼成用治具 13 離型材
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年9月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0004
【補正方法】変更
【補正内容】
【0004】
【発明が解決しようとする問題点】ところで、ガラスセ
ラミックを用いて基板を作製する場合、そのシート成形
性の点で有機バインダーとしてアクリル系、またはスチ
レン系の樹脂が用いられるが、これらの樹脂はこれを分
解し、炭素を完全に除去することのできる温度が比較的
高いために有機バインダーを分解除去する工程で、その
熱処理温度を高く設定する必要がある。そして、本発明
者等の分析によると、ガラスセラミックの焼成温度が低
いことに起因し、有機バインダーを除去する工程におい
てすでに収縮が生じていることが判明した。従って、上
記のように焼成工程のみ加圧焼成を行うだけでは、配線
層の位置精度が低下するという問題があった。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0005
【補正方法】変更
【補正内容】
【0005】また、緻密質の焼成用治具を載せて加圧焼
成する場合には、分解した有機バインダーが成形体から
充分に抜けきれず、成形体に炭素として残存し、焼成後
の色調や材料特性に悪影響を与えるという問題があっ
た。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0008
【補正方法】変更
【補正内容】
【0008】
【問題点を解決するための手段】本発明者等は、有機バ
インダーの除去を行う熱処理工程においても焼成時と同
様に、シート状成形体の面に垂直な方向からガス透過係
数が7ml/min・cm・cmHg以上の多孔質板を
介して荷重を印加することにより、有機バインダーの分
解ガスの散逸を向上させ、残留炭素量を低減するととも
に、熱処理工程から焼成工程までの収縮を完全に厚み方
向にのみとしてx−y方向の寸法精度の高い基板を作製
できることを知見し、本発明に至った。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0009
【補正方法】変更
【補正内容】
【0009】即ち、本発明は、ガラスセラミック成形体
に機械的圧力を均一に付与するガラスセラミック基板の
焼成用治具であって、ガス透過係数が7ml/min・
cm・cmHg以上の多孔質板からなるガラスセラミッ
ク基板の焼成用治具である。また、ガラスセラミックか
らなる組成物に有機バインダーを添加してなる混合物を
シート状に成形し、或いは、該シート状成形体と導体パ
ターンとを交互に積層してガラスセラミック成形体を形
成し、これを窒素含有雰囲気中で熱処理して前記有機バ
インダーを分解除去した後、引き続き窒素含有雰囲気中
で焼成し緻密化するガラスセラミック基板の製法におい
て、ガス透過係数が7ml/min・cm・cmHg以
上の多孔質板により、前記ガラスセラミック成形体に機
械的圧力を均一に付与しつつ、熱処理および焼成を行う
ガラスセラミック基板の製造方法である。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】本発明の製法によれば、まず、上記のよう
なガラスまたはガラスセラミックを形成する原料粉末を
所定の割合で十分に混合した後、その混合物に有機バイ
ンダーを添加する。有機バインダーは、シートを形成す
る際にクラックや厚みバラツキが生じないようなシート
成形性に優れたものであることが要求される。望ましい
有機バインダーとしてはイソブチルメタクリレート、n
−ブチルメタクリレートなどの重合体又は共重合体など
のアクリル系樹脂やポリ−α−メチルスチレンなどのス
チレン系樹脂などが用いられる。これらは重量平均分子
量が100000〜400000、ガラス転移点が−3
0〜50℃の樹脂が用いられる。有機バインダーは、固
形分で前記混合物に8〜20重量%の割合で添加され、
フタル酸エステルなどの可塑性とトルエン、キシレン、
酢酸エチルなどを溶媒としてボールミルなどで十分に混
合し、スラリーを調製する。次に、このスラリーを用い
て公知の方法でシート状成形体に成形する。具体的な成
形方法としてはドクターブレード法、カレンダーロール
法などが採用される。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0027
【補正方法】変更
【補正内容】
【0027】
【実施例】 実施例1 硼珪酸ガラス50重量%にアルミナ、石英、コージェラ
イトの合計量50重量%からなるガラスセラミック組成
物に対して、有機バインダーとしてメタクリレート樹脂
を固形分で18重量%添加し、可塑剤アジピン酸ジオク
チルを5重量%、トルエンを溶媒としてボールミルによ
り40時間混合し、スラリーを調製した。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】実施例2 硼珪酸ガラス50重量%に石英、石英ガラス、アルミナ
の合計50重量%からなるガラスセラミック組成物に対
して、有機バインダーとしてメタクリレート樹脂を固形
分で18重量%添加し、可塑剤アジピン酸ジオクチルを
5重量%、トルエンを溶媒としてボールミルにより40
時間混合し、スラリーを調製した。以下、実施例1と同
様な処理を行い、積層構造体の熱処理前後および焼成前
後の面方向の寸法を測定し、寸法変化率をそれぞれ算出
したところ、熱処理後で厚み方向(z方向)に対して2
7%の収縮が見られたが、x方向およびy方向はいずれ
も±0.1%以下であり、焼成後で、z方向に対して4
8%、x方向で±0.05%、y方向で±0.05%
と、x−y方向に対して高い寸法精度があった。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0036
【補正方法】変更
【補正内容】
【0036】
【表1】
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0037
【補正方法】変更
【補正内容】
【0037】この表1より、本発明の焼成用治具を用い
た場合には、基板の残留炭素量が0.02重量%以下と
なり、また、x−y方向の寸法変化率も優れた寸法精度
が得られた。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0038
【補正方法】変更
【補正内容】
【0038】さらに表1には記載しなかったが、本発明
者等は熱処理条件、焼成条件、圧力条件、ガス透過係数
を変化させる実験を行い、x−y方向の寸法変化率、基
板の相対密度、基板の残留炭素量を測定した。この結
果、ガス透過係数が23である焼成用治具により、加圧
力5kg/cm2 で成形体を加圧しながら、250℃1
0時間の熱処理および1000℃1時間の焼成を行った
ところ、x−y方向の寸法変化率が±0.1%以下、相
対密度が85%、残留炭素量が0.05重量%であり、
熱処理温度が低かったため残留炭素量が多かった。
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0039
【補正方法】変更
【補正内容】
【0039】また、ガス透過係数が23である焼成用治
具により、加圧力50kg/cm2で成形体を加圧しな
がら、750℃10時間の熱処理および850℃2時間
の焼成を行ったところ、x−y方向の寸法変化率が±
0.1%以下、相対密度が90%、残留炭素量が0.0
1重量%であり、基板の相対密度が小さかった。
【手続補正12】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0040
【補正方法】変更
【補正内容】
【0040】ガス透過係数が23である焼成用治具によ
り、加圧力10kg/cm2 で成形体を加圧しながら、
950℃5時間の熱処理および1000℃1時間の焼成
を行ったところ、x−y方向の寸法変化率が±0.1%
以下、相対密度が95%、残留炭素量が0.025重量
%であり、残留炭素量が多かった。
【手続補正13】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0041
【補正方法】変更
【補正内容】
【0041】ガス透過係数が50である焼成用治具によ
り、加圧力0.1kg/cm2 で成形体を加圧しなが
ら、800℃10時間の熱処理および1000℃1時間
の焼成を行ったところ、x−y方向の寸法変化率が−
3.0%、相対密度が98%、残留炭素量が0.008
重量%であり、加圧力が小さかったため寸法変化率が大
きくなった。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ガラスセラミック成形体に機械的圧力を均
    一に付与するガラスセラミック基板の焼成用治具であっ
    て、ガス透過係数が7ml/min・cm・cmHg以
    上の多孔質板からなるガラスセラミック基板の焼成用治
    具。
  2. 【請求項2】ガラスセラミックからなる組成物に有機バ
    インダーを添加してなる混合物をシート状に成形し、或
    いは、該シート状成形体と導体パターンとを交互に積層
    してガラスセラミック成形体を形成し、これを窒素含有
    雰囲気中で熱処理して前記有機バインダーを分解除去し
    た後、引き続き窒素含有雰囲気中で焼成し緻密化するガ
    ラスセラミック基板の製法において、ガス透過係数が7
    ml/min・cm・cmHg以上の多孔質板により、
    前記ガラスセラミック成形体に機械的圧力を均一に付与
    しつつ、熱処理および焼成を行うことを特徴とするガラ
    スセラミック基板の製造方法。
JP5184729A 1992-07-28 1993-07-27 ガラスセラミック基板の焼成用治具及びガラスセラミック基板の製造方法 Pending JPH0692741A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003128470A (ja) * 2001-10-23 2003-05-08 Mitsubishi Materials Corp セラミックス基板の製造方法及び多孔質セラミックス板
JP2006203185A (ja) * 2004-12-24 2006-08-03 Kyocera Corp セラミック電子部品の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003128470A (ja) * 2001-10-23 2003-05-08 Mitsubishi Materials Corp セラミックス基板の製造方法及び多孔質セラミックス板
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