JPH0692683A - フッ化物光ファイバ - Google Patents
フッ化物光ファイバInfo
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- JPH0692683A JPH0692683A JP4241637A JP24163792A JPH0692683A JP H0692683 A JPH0692683 A JP H0692683A JP 4241637 A JP4241637 A JP 4241637A JP 24163792 A JP24163792 A JP 24163792A JP H0692683 A JPH0692683 A JP H0692683A
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- Japan
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- oxygen concentration
- optical fiber
- clad
- fiber
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
- C03C13/041—Non-oxide glass compositions
- C03C13/042—Fluoride glass compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/32—Non-oxide glass compositions, e.g. binary or ternary halides, sulfides or nitrides of germanium, selenium or tellurium
- C03C3/325—Fluoride glasses
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 フッ化物ガラスによって構成されたファイバ
において、特に機械的強度及び耐候強度を改善すること
を目的とする。 【構成】 酸素濃度が内部に比べて高い高酸素濃度層を
表面に形成したので、ガラスのネットワークを架橋し
て、ネットワークの断列によるガラスの破壊に対する強
度を改善することができ、また、Ｈ2Ｏの吸着或いは表
面層から内部への反応の進行が抑えられる。
において、特に機械的強度及び耐候強度を改善すること
を目的とする。 【構成】 酸素濃度が内部に比べて高い高酸素濃度層を
表面に形成したので、ガラスのネットワークを架橋し
て、ネットワークの断列によるガラスの破壊に対する強
度を改善することができ、また、Ｈ2Ｏの吸着或いは表
面層から内部への反応の進行が抑えられる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光通信用或いはセンサ
用の低損失伝送媒体、光アンプ又はレーザ用の増幅媒体
又は医療用等に用いられる高エネルギー伝送媒体として
用いられるフッ化物光ファイバに関し、特に機械的強度
及び耐候強度を改善したものである。
用の低損失伝送媒体、光アンプ又はレーザ用の増幅媒体
又は医療用等に用いられる高エネルギー伝送媒体として
用いられるフッ化物光ファイバに関し、特に機械的強度
及び耐候強度を改善したものである。
【０００２】
【従来の技術】ＺrＦ4を主成分とするフッ化物光ファイ
バは、赤外線波長領域で優れた透過特性を有するため、
センサ域或いは赤外域の高出力レーザ媒体として注目さ
れている。更に、赤外領域まで透過するするということ
は、即ちレーリー散乱が低い領域に透過窓を有している
ことを意味し、結果として石英よりも低損失なファイバ
の実現が期待される。更に、近年、光ファイバアンプ、
特にＰrを活性イオンとする１．３μｍ領域で高い利得
が得られる増幅媒体として注目されている。
バは、赤外線波長領域で優れた透過特性を有するため、
センサ域或いは赤外域の高出力レーザ媒体として注目さ
れている。更に、赤外領域まで透過するするということ
は、即ちレーリー散乱が低い領域に透過窓を有している
ことを意味し、結果として石英よりも低損失なファイバ
の実現が期待される。更に、近年、光ファイバアンプ、
特にＰrを活性イオンとする１．３μｍ領域で高い利得
が得られる増幅媒体として注目されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、フッ化物光フ
ァイバは、機械的強度が不十分であるという欠点があ
り、また、フッ化物が大気中の水分と反応して加水分解
を起こすと、結晶化が生じ結果的に強度が低下するとい
う欠点もある。このようなフッ化物光ファイバの信頼性
の問題は、上述したファイバの実用化に対する重大な障
害であると考えられている。本発明は、上記従来技術に
鑑みて成されたものであり、特に機械的強度及び耐候強
度を改善したフッ化物光ファイバを提供することを目的
とする。
ァイバは、機械的強度が不十分であるという欠点があ
り、また、フッ化物が大気中の水分と反応して加水分解
を起こすと、結晶化が生じ結果的に強度が低下するとい
う欠点もある。このようなフッ化物光ファイバの信頼性
の問題は、上述したファイバの実用化に対する重大な障
害であると考えられている。本発明は、上記従来技術に
鑑みて成されたものであり、特に機械的強度及び耐候強
度を改善したフッ化物光ファイバを提供することを目的
とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】斯かる目的を達成する本
発明の構成はフッ化物ガラスによって構成されたファイ
バにおいて、酸素濃度が内部に比べて高い高酸素濃度層
を表面に形成したことを特徴とする。
発明の構成はフッ化物ガラスによって構成されたファイ
バにおいて、酸素濃度が内部に比べて高い高酸素濃度層
を表面に形成したことを特徴とする。
【０００５】
【作用】フッ化物ガラスは、ネットワークを構成してい
る金属とフッ素の結合がイオン結合であるため、十分な
機械強度を有していない。この為、フッ化物ガラスを用
いるかぎり、本質的な強度の改善は不可能と考えられ
る。しかし、酸化物のセラミックスで一般に知られてい
るように、酸素と金属の結合は、フッ素と金属のそれに
比べて強く、従って酸素を高濃度に含むガラスは純粋な
フッ化物ガラスに比較して、高強度が期待できる。特
に、酸素は２価のイオンで、ガラスのネットワークを架
橋して、ネットワークの断列によるガラスの破壊に対す
る強度を改善できる。
る金属とフッ素の結合がイオン結合であるため、十分な
機械強度を有していない。この為、フッ化物ガラスを用
いるかぎり、本質的な強度の改善は不可能と考えられ
る。しかし、酸化物のセラミックスで一般に知られてい
るように、酸素と金属の結合は、フッ素と金属のそれに
比べて強く、従って酸素を高濃度に含むガラスは純粋な
フッ化物ガラスに比較して、高強度が期待できる。特
に、酸素は２価のイオンで、ガラスのネットワークを架
橋して、ネットワークの断列によるガラスの破壊に対す
る強度を改善できる。
【０００６】一方、高濃度の酸素添加は、ガラス中での
酸化物の結晶核成長原因となり、一定量以上の酸素濃度
となると逆に、ファイバの強度低下の原因となる。ま
た、酸素濃度が低すぎると、十分なネットワークの強化
が行えず、結果として十分な機械的強度が得られにく
い。更に、ファイバ全体の酸素濃度を挙げると、酸素と
金属の結合の吸収が，伝送特性に悪影響を及ぼすことに
なる。
酸化物の結晶核成長原因となり、一定量以上の酸素濃度
となると逆に、ファイバの強度低下の原因となる。ま
た、酸素濃度が低すぎると、十分なネットワークの強化
が行えず、結果として十分な機械的強度が得られにく
い。更に、ファイバ全体の酸素濃度を挙げると、酸素と
金属の結合の吸収が，伝送特性に悪影響を及ぼすことに
なる。
【０００７】本発明では、以上の観点から、ファイバの
表面に酸素濃度が高い高酸素濃度層を形成して、機械的
強度が高いガラスを有するフッ化物光ファイバを提供す
るものである。更に、水分とガラスとの反応は、電気陰
性度の高いフッ素と水分子の水素との結合より始まり、
ＯＨ基がＺrに結合しＨＦが脱離することによって進行
するが、表面層に酸素とＺrの結合を導入することによ
って、Ｈ2Ｏの吸着或いは表面層から内部への反応の進
行が抑えられる。これは、ＺrＦ4とＺrＯ2の水分に対す
る安定性からも容易に類推される。
表面に酸素濃度が高い高酸素濃度層を形成して、機械的
強度が高いガラスを有するフッ化物光ファイバを提供す
るものである。更に、水分とガラスとの反応は、電気陰
性度の高いフッ素と水分子の水素との結合より始まり、
ＯＨ基がＺrに結合しＨＦが脱離することによって進行
するが、表面層に酸素とＺrの結合を導入することによ
って、Ｈ2Ｏの吸着或いは表面層から内部への反応の進
行が抑えられる。これは、ＺrＦ4とＺrＯ2の水分に対す
る安定性からも容易に類推される。
【０００８】
【実施例】以下、本発明について、図面に示す実施例を
参照して詳細に説明する。 （実施例１）本実施例のファイバは、コア組成４９Ｚr
Ｆ4−２５ＢaＦ2−３．５ＬaＦ3−２ＹＦ3−２．５Ａl
Ｆ3−１８ＬiＦ（モル％）、クラッド組成は、４７．５
ＺrＦ4−２３．５ＢaＦ2−２．５ＬaＦ3−２ＹＦ3−
４．５ＡlＦ3−２０ＬiＦ（モル％）のガラスで構成さ
れている。線引き後のコア径は２５μｍ、外形は１２５
μｍであった。このファイバのＮＡは０．２１である。
参照して詳細に説明する。 （実施例１）本実施例のファイバは、コア組成４９Ｚr
Ｆ4−２５ＢaＦ2−３．５ＬaＦ3−２ＹＦ3−２．５Ａl
Ｆ3−１８ＬiＦ（モル％）、クラッド組成は、４７．５
ＺrＦ4−２３．５ＢaＦ2−２．５ＬaＦ3−２ＹＦ3−
４．５ＡlＦ3−２０ＬiＦ（モル％）のガラスで構成さ
れている。線引き後のコア径は２５μｍ、外形は１２５
μｍであった。このファイバのＮＡは０．２１である。
【０００９】このファイバは、図１に示すローテイショ
ナルキャスニングで作製した。但し、酸素の添加された
クラッド融液を最初にキャスニングすることによって酸
素濃度の高い高酸素濃度層を表面に形成した。即ち、図
２（ａ）に示すように、先ず、坩堝１から酸素の添加さ
れたクラッド融液を鋳型２に流し込み、鋳型２を回転さ
せて、その遠心力により、鋳型２の内周面に上記融液を
凝固させる。
ナルキャスニングで作製した。但し、酸素の添加された
クラッド融液を最初にキャスニングすることによって酸
素濃度の高い高酸素濃度層を表面に形成した。即ち、図
２（ａ）に示すように、先ず、坩堝１から酸素の添加さ
れたクラッド融液を鋳型２に流し込み、鋳型２を回転さ
せて、その遠心力により、鋳型２の内周面に上記融液を
凝固させる。
【００１０】次いで、図２（ｂ）に示すように、坩堝１
から酸素の添加されていないクラッド融液を、酸素の添
加されたクラッド層の形成された鋳型２に流し込んで鋳
型２を回転させ、更にその内側の層に酸素の添加されて
いないクラッド融液を凝固させる。引続き、図２（ｃ）
に示すように、坩堝１からコア融液を、酸素の添加され
たクラッド層及び添加されていないクラッド層の形成さ
れた鋳型２に流し込んで凝固させることにより母材３と
する。
から酸素の添加されていないクラッド融液を、酸素の添
加されたクラッド層の形成された鋳型２に流し込んで鋳
型２を回転させ、更にその内側の層に酸素の添加されて
いないクラッド融液を凝固させる。引続き、図２（ｃ）
に示すように、坩堝１からコア融液を、酸素の添加され
たクラッド層及び添加されていないクラッド層の形成さ
れた鋳型２に流し込んで凝固させることにより母材３と
する。
【００１１】その後、鋳型２から母材３を引き抜いて、
母材表面を光学研磨し、ＺrＯＣl2の塩酸溶液でエッチ
ングし、更に、テフロンＦＥＰチューブに挿入して線引
きした。このようにして作製されたファイバの酸素濃度
分布についてＳＩＭＳを用いて測定した。その結果を図
３に示す。図３に示されるように、表面近傍のガラス中
の酸素濃度は約５０００ｐｐｍであり、階段状の分布が
得られていることが判る。高酸素濃度層の厚さは、約５
μｍであった。
母材表面を光学研磨し、ＺrＯＣl2の塩酸溶液でエッチ
ングし、更に、テフロンＦＥＰチューブに挿入して線引
きした。このようにして作製されたファイバの酸素濃度
分布についてＳＩＭＳを用いて測定した。その結果を図
３に示す。図３に示されるように、表面近傍のガラス中
の酸素濃度は約５０００ｐｐｍであり、階段状の分布が
得られていることが判る。高酸素濃度層の厚さは、約５
μｍであった。
【００１２】また、このようにして製造されたファイバ
の損失スペクトルについて測定した。その結果を図４に
示す。図４に示すように、損失は、酸素添加のないガラ
スを用いた場合とほぼ同じであり、酸素の添加は損失に
影響しないことが判る。更に、このようにして製造され
たファイバの引張強度を測定した。ファイバの引張強度
は、ゲージ長１ｍ、引っ張り速度５９ｍｍ／ｍｉｎ、試
料本数５０本の引張試験により行った。引張強度の平均
値は７００ＭＰａであり、酸素を含まないガラスで作製
されたファイバの引張強度４００ＭＰａに比べて大幅に
向上したことが判る。
の損失スペクトルについて測定した。その結果を図４に
示す。図４に示すように、損失は、酸素添加のないガラ
スを用いた場合とほぼ同じであり、酸素の添加は損失に
影響しないことが判る。更に、このようにして製造され
たファイバの引張強度を測定した。ファイバの引張強度
は、ゲージ長１ｍ、引っ張り速度５９ｍｍ／ｍｉｎ、試
料本数５０本の引張試験により行った。引張強度の平均
値は７００ＭＰａであり、酸素を含まないガラスで作製
されたファイバの引張強度４００ＭＰａに比べて大幅に
向上したことが判る。
【００１３】次に、表面近傍の酸素濃度と平均の引張強
度との関係について測定した。その結果を図５に示す。
図５に示すように、ファイバの引張強度は酸素の添加量
とと共に増加するが、２００００ｐｐｍ付近では、結晶
化により急激に強度が低下することが判る。この為、引
張強度を向上させる為には、酸素濃度を１０００ｐｐｍ
以上、２００００ｐｐｍ以下とすることが望ましい。ま
た、酸素の添加は、ＡlＦ3を主成分とするフッ化物光フ
ァイバ、ＩnＦ3を主成分とするフッ化物光ファイバでも
同様な効果を示した。これは、ＺrＦ4系と同様に、酸素
と金属の結合力がフッ素と金属のそれよりも強く、結果
としてガラスの強度が増すためである。
度との関係について測定した。その結果を図５に示す。
図５に示すように、ファイバの引張強度は酸素の添加量
とと共に増加するが、２００００ｐｐｍ付近では、結晶
化により急激に強度が低下することが判る。この為、引
張強度を向上させる為には、酸素濃度を１０００ｐｐｍ
以上、２００００ｐｐｍ以下とすることが望ましい。ま
た、酸素の添加は、ＡlＦ3を主成分とするフッ化物光フ
ァイバ、ＩnＦ3を主成分とするフッ化物光ファイバでも
同様な効果を示した。これは、ＺrＦ4系と同様に、酸素
と金属の結合力がフッ素と金属のそれよりも強く、結果
としてガラスの強度が増すためである。
【００１４】（実施例２）実施例１と同様な組成を有す
るフッ化物ガラス母材を作製し、このガラス母材の表面
に酸素を添加するため、５０気圧の高圧下で且つ２００
℃で１時間加熱した。母材は、実施例１と同様に、研
磨、エッチングの工程を経た後、紫外線硬化型の樹脂を
被覆した。このようにして製造したファイバの半径方向
の酸素濃度分布をＳＩＭＳにより測定した。その結果を
図６に示す。同図に示すように、酸素濃度は、表面から
中心に向かうに従って急激に低下していることが判る。
これは、酸素が拡散によりガラス中に浸入するためであ
る。
るフッ化物ガラス母材を作製し、このガラス母材の表面
に酸素を添加するため、５０気圧の高圧下で且つ２００
℃で１時間加熱した。母材は、実施例１と同様に、研
磨、エッチングの工程を経た後、紫外線硬化型の樹脂を
被覆した。このようにして製造したファイバの半径方向
の酸素濃度分布をＳＩＭＳにより測定した。その結果を
図６に示す。同図に示すように、酸素濃度は、表面から
中心に向かうに従って急激に低下していることが判る。
これは、酸素が拡散によりガラス中に浸入するためであ
る。
【００１５】表面近傍の酸素濃度は、約８０００ｐｐｍ
であり、１５μｍでほぼマトリックスの酸素濃度である
１００ｐｐｍになった。損失は、実施例１とほぼ同様で
あり、特に、伝送特性の劣化は認められなかった。引っ
張り強度は、実施例１と同様な方法で測定したところ、
約８５０ＭＰａに達しており、酸素を含まずＵＶコート
したファイバの最高値５５０ＭＰａに比べ大幅に向上し
た。
であり、１５μｍでほぼマトリックスの酸素濃度である
１００ｐｐｍになった。損失は、実施例１とほぼ同様で
あり、特に、伝送特性の劣化は認められなかった。引っ
張り強度は、実施例１と同様な方法で測定したところ、
約８５０ＭＰａに達しており、酸素を含まずＵＶコート
したファイバの最高値５５０ＭＰａに比べ大幅に向上し
た。
【００１６】（実施例３）実施例１と同様な組成のガラ
スを用い、コア径１０．３μｍのファイバを作製した。
コア、クラッドの屈折率差が０．６１％である為、得ら
れたファイバはカットオフ波長２．２μｍの単一モード
ファイバとなる。このファイバにおいても、実施例１と
同様な方法により、酸素濃度の高い高酸素濃度層を表面
に構成した。高酸素濃度層の厚さを変化させた場合、２
０μｍまでは伝送損失特性にほとんど影響がなかった。
スを用い、コア径１０．３μｍのファイバを作製した。
コア、クラッドの屈折率差が０．６１％である為、得ら
れたファイバはカットオフ波長２．２μｍの単一モード
ファイバとなる。このファイバにおいても、実施例１と
同様な方法により、酸素濃度の高い高酸素濃度層を表面
に構成した。高酸素濃度層の厚さを変化させた場合、２
０μｍまでは伝送損失特性にほとんど影響がなかった。
【００１７】しかし、酸素濃度が１００００ｐｐｍ以上
で厚さが２０μｍを越える高酸素濃度層を形成した場
合、特に、赤外吸収端が短波長にシフトし、損失特性が
劣化する現象が見られた。この為、高酸素濃度層は、フ
ァイバの導波構造にも依存するが、一般的に、２０μｍ
以下であることが望ましい。また、本実施例において
は、実施例１と同様な処理を施した後に線引きし、テフ
ロンＦＥＰとＵＶキュアーコートを併用することで、引
っ張り強度の改善が見られ、酸素を添加しない場合の最
高強度が６００ＭＰａであるのに対して、平均強度で９
００ＭＰａが得られた。
で厚さが２０μｍを越える高酸素濃度層を形成した場
合、特に、赤外吸収端が短波長にシフトし、損失特性が
劣化する現象が見られた。この為、高酸素濃度層は、フ
ァイバの導波構造にも依存するが、一般的に、２０μｍ
以下であることが望ましい。また、本実施例において
は、実施例１と同様な処理を施した後に線引きし、テフ
ロンＦＥＰとＵＶキュアーコートを併用することで、引
っ張り強度の改善が見られ、酸素を添加しない場合の最
高強度が６００ＭＰａであるのに対して、平均強度で９
００ＭＰａが得られた。
【００１８】（実施例４）実施例１のコア組成のガラス
でロッドを作製し、このロッドを切り出してガラスのペ
レットを２個作製した。このうちの一方のペレットは実
施例２と同様な方法で酸素を添加して表面に高酸素濃度
層を形成した。酸素濃度の分布は、実施例２とほぼ同様
であった。このようにして作製した試料を室温で水に浸
し、２時間放置し、表面を自然乾燥した後に、ＩＲスペ
クトルを測定した。その結果を図７に示す。
でロッドを作製し、このロッドを切り出してガラスのペ
レットを２個作製した。このうちの一方のペレットは実
施例２と同様な方法で酸素を添加して表面に高酸素濃度
層を形成した。酸素濃度の分布は、実施例２とほぼ同様
であった。このようにして作製した試料を室温で水に浸
し、２時間放置し、表面を自然乾燥した後に、ＩＲスペ
クトルを測定した。その結果を図７に示す。
【００１９】同図に示すように、高酸素濃度層を形成し
たものは、殆ど加水分解によるＯＨ基の生成が進行して
いないことが判る。更に、本実施例で作製したガラスロ
ッドに高酸素濃度層を形成したものとしないものとを、
それぞれ研磨、エッチングの工程を経た後、被覆材を用
いずに線引きした。これらのファイバを、室温（２５
℃）、湿度７０％の雰囲気に放置した後、引っ張り強度
を測定した。その結果を、図８に示す。同図に示すよう
に、高酸素濃度層を有しないファイバにおいては、大気
中の水分による表面からの加水分解により結晶化が進行
するため、ファイバの強度が急激に低下するが、高酸素
濃度層を表面に形成したファイバは、１００日放置して
も、殆ど強度変化が認められず、耐候強度が大幅に向上
していることが判る。
たものは、殆ど加水分解によるＯＨ基の生成が進行して
いないことが判る。更に、本実施例で作製したガラスロ
ッドに高酸素濃度層を形成したものとしないものとを、
それぞれ研磨、エッチングの工程を経た後、被覆材を用
いずに線引きした。これらのファイバを、室温（２５
℃）、湿度７０％の雰囲気に放置した後、引っ張り強度
を測定した。その結果を、図８に示す。同図に示すよう
に、高酸素濃度層を有しないファイバにおいては、大気
中の水分による表面からの加水分解により結晶化が進行
するため、ファイバの強度が急激に低下するが、高酸素
濃度層を表面に形成したファイバは、１００日放置して
も、殆ど強度変化が認められず、耐候強度が大幅に向上
していることが判る。
【００２０】
【発明の効果】以上、実施例に基づいて具体的に説明し
たように、本発明のフッ化物光ファイバは、高酸素濃度
層を表面近傍に形成したので、機械的強度及び耐候強度
が向上した。この為、本発明のフッ化物光ファイバは信
頼性が改善され、従来のファイバで実用化の障害となっ
ていた信頼性の問題が克服できる。
たように、本発明のフッ化物光ファイバは、高酸素濃度
層を表面近傍に形成したので、機械的強度及び耐候強度
が向上した。この為、本発明のフッ化物光ファイバは信
頼性が改善され、従来のファイバで実用化の障害となっ
ていた信頼性の問題が克服できる。
【図１】本発明の実施例１に係るフッ化物光ファイバを
ローテイショナルキャスニングにより製造する工程を示
すフローチャートである。
ローテイショナルキャスニングにより製造する工程を示
すフローチャートである。
【図２】図１に示すキャスニングを示す説明図である。
【図３】本発明の実施例１に係るフッ化物光ファイバの
半径方向の酸素濃度分布を示すグラフである。
半径方向の酸素濃度分布を示すグラフである。
【図４】本発明の実施例１に係るフッ化物光ファイバの
損失スペクトルを示すグラフである。
損失スペクトルを示すグラフである。
【図５】本発明の実施例１に係るフッ化物光ファイバの
酸素濃度と引っ張り強度との関係を示すグラフである。
酸素濃度と引っ張り強度との関係を示すグラフである。
【図６】本発明の実施例２に係るフッ化物光ファイバの
半径方向の酸素濃度分布を示すグラフである。
半径方向の酸素濃度分布を示すグラフである。
【図７】本発明の実施例４で作製したガラスペレットの
ＩＲスペクトルを示すグラフである。
ＩＲスペクトルを示すグラフである。
【図８】本発明の実施例４に係るフッ化物光ファイバの
引っ張り強度の時間変化を示すグラフである。
引っ張り強度の時間変化を示すグラフである。
１ 坩堝 ２ 鋳型 ３ 母材
Claims (3)
- 【請求項１】 フッ化物ガラスによって構成されたファ
イバにおいて、酸素濃度が内部に比べて高い高酸素濃度
層を表面に形成したことを特徴とするフッ化物光ファイ
バ。 - 【請求項２】 前記高酸素濃度層の酸素濃度が１０００
〜２００００ｐｐｍであることを特徴とする請求項１記
載のフッ化物光ファイバ。 - 【請求項３】 前記高酸素濃度層の厚さが表面から２０
μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のフッ化
物光ファイバ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4241637A JPH0692683A (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-10 | フッ化物光ファイバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4241637A JPH0692683A (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-10 | フッ化物光ファイバ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0692683A true JPH0692683A (ja) | 1994-04-05 |
Family
ID=17077281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4241637A Withdrawn JPH0692683A (ja) | 1992-09-10 | 1992-09-10 | フッ化物光ファイバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0692683A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999054765A1 (fr) * | 1998-04-22 | 1999-10-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Fibre optique, module lumineux et amplificateur a fibre optique |
| KR100378595B1 (ko) * | 2000-08-22 | 2003-03-31 | 한국전자통신연구원 | 용융법을 통한 광섬유 모재 제조용 클래드 몰드 및 그몰드를 이용한 광섬유 모재 제조 방법 |
| JP2010236253A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Railway Technical Res Inst | 多目的トイレのドア開閉及びドアロックシステム |
-
1992
- 1992-09-10 JP JP4241637A patent/JPH0692683A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999054765A1 (fr) * | 1998-04-22 | 1999-10-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Fibre optique, module lumineux et amplificateur a fibre optique |
| EP1076249A1 (en) * | 1998-04-22 | 2001-02-14 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber, light-emitting module, and optical fiber amplifier |
| US6327412B1 (en) | 1998-04-22 | 2001-12-04 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber, light-emitting module, and optical fiber amplifier |
| EP1076249A4 (en) * | 1998-04-22 | 2005-08-24 | Sumitomo Electric Industries | OPTICAL FIBER LIGHT-EMITTING MODULE AND FIBER AMPLIFIER |
| KR100378595B1 (ko) * | 2000-08-22 | 2003-03-31 | 한국전자통신연구원 | 용융법을 통한 광섬유 모재 제조용 클래드 몰드 및 그몰드를 이용한 광섬유 모재 제조 방법 |
| JP2010236253A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Railway Technical Res Inst | 多目的トイレのドア開閉及びドアロックシステム |
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