JPH0687822A - ビタミンd類の新規な合成法 - Google Patents

ビタミンd類の新規な合成法

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JPH0687822A
JPH0687822A JP34931391A JP34931391A JPH0687822A JP H0687822 A JPH0687822 A JP H0687822A JP 34931391 A JP34931391 A JP 34931391A JP 34931391 A JP34931391 A JP 34931391A JP H0687822 A JPH0687822 A JP H0687822A
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Hiroyoshi Watanabe
博義 渡邉
Katsuhito Miyamoto
勝仁 宮本
Noboru Kubodera
登 久保寺
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Abstract

(57)【要約】 [構成]式1で示されるビタミンD類の合成中間体を水
素化ホウ素ナトリウムによるエポキシ基の還元的開環反
応で合成する方法 式1 式中、R、R、R、Rは、RとR、R
がそれぞれ二重結合を形成しているか、RとR
で二重結合を形成し、RとRで共役二重結合を保護
し得るジエノファイルと結合していることを表す。Xは
酸素原子またはメチレン基を表す。Rは水素原子また
は水酸基を表す。Rは水素原子またはトリチウムを表
す。 [効果]空気、水に安定で安価な試薬である水素化ホウ
素ナトリウムを用いて、煩雑な保護を必要とせずにエポ
キシ基の還元的開環反応で1α位に水酸基を有する活性
型ビタミンDの中間体を製造する方法である。また、ト
リチウムラベル化された水素化ホウ素ナトリウムを用い
て、ビタミンDのトリチウムラベル体を合成する方法で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、種々の生理活性が期待
される活性型ビタミンD類の中間体である1α位に水酸
基を有するプロビタミンD類あるいはそのプロビタミン
D類の5,7−ジエン構造を保護した化合物の新規な製
造法に関する。さらに詳しくは、ビタミンDの活性発現
に不可欠な1α位の水酸基を1α、2αエポキシドの還
元的開環反応で導入するにあたり、還元剤として水素化
ホウ素ナトリウムを用いる製造法に関する。
【0002】
【従来の技術および課題】これまでビタミンDの活性発
現に不可欠な1α位の水酸基を1α、2αエポキシドの
還元的開環反応で導入する方法においては、還元剤とし
て水素化アルミニウムリチウムが用いられてきた。しか
し、水素化アルミニウムリチウムは、強力な還元剤であ
り、他に還元反応に弱い官能基を有する場合は、これら
を保護した後反応を行う等の工夫が必要とされてきた。
また、水素化アルミニウムリチウムは、空気や水分に対
して不安定であるため扱いにくい試薬である。
【0003】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは鋭
意研究を重ねた結果、これまで水素化ホウ素ナトリウム
ではエポキシドの還元的開環反応は進行しないとされて
きたが、反応に用いる原料のエポキシ化合物(I)が、
比較的弱い還元剤である水素化ホウ素ナトリウムでも還
元的開環反応が進行することを見いだした。
【化4】 (式中R、R、R、Rは、RとR、R
がそれぞれ二重結合を形成しているか、RとR
で二重結合を形成し、RとRで共役二重結合を保護
し得るジエノファイルと結合していることを表す。Xは
酸素原子またはメチレン基を表す。Rは水素原子また
は水酸基を表す。)
【0004】水素化ホウ素ナトリウムは、水素化アルミ
ニウムリチウムに比べ還元力が弱いためにいくつかの官
能基は、保護することなくこの還元反応に付すことが可
能となった。さらに空気や水分に安定であり、また、ト
リチウムラベル化された水素化ホウ素ナトリウムは、入
手容易でトリチウムラベル化されたビタミンD類合成の
費用と期間を低減することができる。
【0005】本発明の還元反応に用いる溶媒としては、
エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、非プロトン性溶媒
等が用いられる。好ましくは、ジグリム、イソプロパノ
ール、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DM
I)等である。反応温度は、室温から120℃、好まし
くは70〜100℃である。
【0006】本発明に用いる一般式(I)
【化5】 (式中R、R、R、Rは、RとR、R
がそれぞれ二重結合を形成しているか、RとR
で二重結合を形成し、RとRで共役二重結合を保護
し得るジエノファイルと結合していることを表す。Xは
酸素原子またはメチレン基を表す。Rは水素原子また
は水酸基を表す。)で示される化合物は、例えば、テト
ラヘドロン(Tetrahedron)30巻2701
頁(1974年)や、ケミカル アンド ファーマシュ
ーティカル ブレタン(Chemical and P
harmaceutical Bulletin)22
巻2903頁(1974年)、あるいは特開昭61−2
67549記載の方法で合成することができる。
【0007】本発明に用いる化合物の共役二重結合を保
護し得るジエノファイルとしては、一般式
【化6】 (式中AおよびBは、同一または異なる基で1〜4個の
炭素原子を有するアルコキシ基を表すか、あるいはAと
Bとは一緒にフェニルイミノ基またはO−フェニレン基
を表す。Yは窒素原子またはメチン基(=CH−)を表
す。)で示される化合物が用いられ、好ましくは、4−
フェニルーI,2,4−トリアゾリン−3,5−ジオ
ン、マレイン酸ジエチル等が用いられる。
【0008】
【実施例】次に実施例によってこの発明を具体的に説明
する。
【0009】
【実施例1】1α,3β−ジヒドロキシ−5,7−コレスタジエンの
合成 1α,2n−エポキシ−3β−ヒドロキシ−5,7−コ
レスタジエン124mgをジグリム2,5mlに溶解
し、水素化ホウ素ナトリウム28.4mgを加え、80
℃で75時間撹拌した。さらに水素化ホウ素ナトリウム
33.8mgを加えて80℃で3時間撹拌した後、反応
液を水10mlに加え、析出した結晶を濾取した。得ら
れた結晶をアセトン15mlに溶解して不溶物を除去
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒留去して標記化合
物100.1mg(収率83.3%)を得た。
【0010】H−NMR(CDCl)δ:0.63
(3H,s),0.85(3H,s),0.89(3
H,s),0.93(3H,s),0.95(3H,
s),3.77(1H,brs),4.06(1H,
m),5.34−5.40(1H,m),5.70−
5.74(1H,m).
【0011】
【実施例2】1α,3β−ジヒドロキシ−5,7−コレスタジエンの
合成 1α,2α−エポキシ−3β−ヒドロキシ−5,7−コ
レスタジエン124mgを1,3−ジメチル−2−イミ
ダゾリジノン2,5mlに溶解し、水素化ホウ素ナトリ
ウム28.4mgを加え、80℃で9時間撹拌した。さ
らに水素化ホウ素ナトリウム17.4mgを加えて80
℃で1時間撹拌した。反応液に水10mlを加え、塩化
メチレン10mlで3回抽出した。有機層を水10ml
で3回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去
して針状晶である標記化合物100.6mg(収率8
3.7%)を得た。
【0012】
【実施例3】5α,8α−(3,5−ジオキソ−4−フェニル−1,
2,4−トリアゾリジノ)−6−コレステン−1α,3
β−ジオールの合成 1α,2α−エポキシ−5α,8α−(3,5−ジオキ
ソ−4−フェニル−1,2,4−トリアゾリジノ)−6
−コレステン−3β−オール232mgに水素化ホウ素
ナトリウム17mgをジグリム9mlに溶解した溶液を
加え、アルゴン雰囲気下、80℃で15時間撹拌した。
反応液を酢酸エチルで希釈し、水洗後硫酸マグネシウム
で乾燥して溶媒を留去した。残渣を分取用薄層クロマト
グラフィー(エタノール:塩化メチレン=0.2:5→
0.3:5→0.5:5の3回展開)で精製して、白色
プリズム晶の標記化合物117mg(収率50%)を得
た。
【0013】IR(Neat)cm−1:3420(b
road),2955,1750,1690. H−NMR(CDCl)δ:0.79(3H,
s),0.86(6H,d,J=6.6Hz),0.9
3(3H,d,J=5.6Hz),3.65(1H,b
rs),4.66−4.90(1H,m),6.16
(1H,d,J=8.3Hz),6.32(1H,d,
J=8.3Hz),7.18−7.68(5H,m). MS(m/z):575(M),177(100
%).
【0014】
【実施例】20(S)−(3−ヒドロキシ−3−メチルブチルオキ
シ)−5,7−プレグナジエン−1α,3β−ジオール
の合成 水素化ホウ素ナトリウム1.7mgをジグリム0.9m
lに溶解し、1α,2α−エポキシ−(3−ヒドロキシ
−3−メチルブチルオキシ)−5,7−プレグナジエン
−3β−オール16.7mgを加えてアルゴン雰囲気
下、浴温80℃で終夜撹拌した。反応混合物を酢酸エチ
ルで希釈し、水洗後硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を
減圧留去した。残査を分取用薄層クロマトグラフィー
(シリカゲル;エタノール:塩化メチレン=1:10で
展開)で精製して標記化合物10.6mg(収率63
%)を得た。
【0015】H−NMR(CDCl)δ:0.62
(3H,s),0.94(3H,s),1.22(3
H,d,J=7.2Hz),1.24(6H,s),
3.20−3.32(1H,m),3.42−3.56
(1H,m),3.72−3.91(2H,m),3.
96−4.16(1H,br),5.35−5.43
(1H,m),5.72(1H,brd,J=5.7H
z).
【0016】
【実施例5】[2β−H]−20(S)−(3−ヒドロキシ−3−
メチルブチルオキシ)−5,7−プレグナジエン−1
α,3β−ジオールの合成 1α,2α−エポキシ−(3−ヒドロキシ−3−メチル
ブチルオキシ)−5,7−プレグナジエン−3β−オー
ル16.7mg(0.04mmol)にトリチウムラベ
ル化された水素化ホウ素ナトリウム2.0Ci(50C
i/mmol;0.04mmol)(アマシャム社製)
のグリム(0.9ml)溶液を加え、アルゴン雰囲気
下、浴温80℃で15時間撹拌した。反応混合物を酢酸
エチル(40ml)で希釈し、3回水洗した。水層を酢
酸エチル(20ml)で再抽出し、2回水洗した。酢酸
エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去
した。残渣を分取用薄層クロマトグラフィー(シリカゲ
ル;エタノール:塩化メチレン=1:10で展開)で精
製して、白色泡状の標記化合物103mCi・4.9m
g(21%・29%)(UVにより測定した純度100
%、RI純度78.5%を得た。
【0017】
【実施例6】[2β−,H]−20(S)−(3−ヒドロキシ−3
−メチルブチルオキシ)−9,10−セコプレグナ−
5,7,10(19)−トリエン−1α,3β−ジオー
ルの合成 実施例6で得られた[2β−H]−20(S)−(3
−ヒドロキシ−3−メチルブチルオキシ)−5,7−プ
レグナジエン−1α,3β−ジオールをエタノール20
0mlに溶解し、氷冷下アルゴンガスを通気しながら、
バイコールフィルターを通して400W高圧水銀灯で7
5秒光照射した。そのまま110分間加熱還流し、溶媒
を留去した。残渣を分取用薄層クロマトグラフィー(シ
リカゲル;エタノール:塩化メチレン=1:10で展
開)で精製して無色油状の粗標記化合物4.3mCi
(9%)を得、4.6mCi(9%)の原料を回収し
た。回収した原料について前述の操作を3回繰り返し、
合計して粗標記化合物4.7mCi(10%)(RI純
度81.6%)を得た。
【0018】次に以下の精製工程に付した。順相系高
速液体クロマトグラフィー(カラム:ZorbaxSI
L、溶媒:20%イソプロパノール/n−ヘキサン、流
速1.0ml/min)、検出265nm)逆相系高
速液体クロマトグラフィー(カラム:YMC A−31
2、溶媒:20%水/メタノール、流速:1.0ml/
min、検出:265nm)。分取液を減圧濃縮後エタ
ノールを加え、再び減圧濃縮し得られた残渣を塩化メチ
レンに溶解し、硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去
して無色油状の標記化合物3.02mCi(6%)(U
Vにより測定した純度100%、RI純度100%、3
538Ci/g)を得た。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中R、R、R、Rは、RとR、R
    がそれぞれ二重結合を形成しているか、RとR
    で二重結合を形成し、RとRで共役二重結合を保護
    し得るジエノファイルと結合していることを表す。Xは
    酸素原子またはメチレン基を表す。Rは水素原子また
    は水酸基を表す。)で示されるエポキシドを還元反応に
    付して還元的開環化合物(II)を得るにあたり、還元
    剤として水素化ホウ素ナトリウムを用いる方法。 【化2】 (式中R、R、R、Rは、RとR、R
    がそれぞれ二重結合を形成しているか、RとR
    で二重結合を形成し、RとRで共役二重結合を保護
    し得るジエノファイルと結合していることを表す。Xは
    酸素原子またはメチレン基を表す。Rは水素原子また
    は水酸基を表す。)
  2. 【請求項2】請求項1において、トリチウムラベル化さ
    れた水素化ホウ素ナトリウムを還元剤として用いて2β
    位がトリチウムラベル化された還元的開環化合物(II
    I)を得、2β位がトリチウムラベル化されたビタミン
    D類を合成する方法。 【化3】 (式中R、R、R、Rは、RとR、R
    がそれぞれ二重結合を形成しているか、RとR
    で二重結合を形成し、RとRで共役二重結合を保護
    し得るジエノファイルと結合していることを表す。Xは
    酸素原子またはメチレン基を表す。Rは水素原子また
    は水酸基を表す。)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2001092188A1 (fr) * 2000-05-29 2001-12-06 Shionogi & Co., Ltd. Procede de marquage au tritium

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WO2001092188A1 (fr) * 2000-05-29 2001-12-06 Shionogi & Co., Ltd. Procede de marquage au tritium

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