JP2011140494A - 新規なビンカアルカロイド誘導体及びその調製方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】新規なビンカアルカロイド並びにその酸との付加塩及びその第四級アンモニウム塩の調製方法の提供。
【解決手段】一般式(II)
Figure 2011140494

に相当する生成物を、他方の縮合環化合物と反応させて、中間体を得、さらにそれを還元又はシアン化することにより最終生成物を得る方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、一般式(I):
Figure 2011140494
[式中、
・R’は、水素原子またはアルコキシ、アシル、ホルミルまたはハロゲノアシル基を表し、
・R’は、水素原子またはアルキル基を表し、
・R’及びR”が同一または相違し、個別に水素原子またはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシ基を表すか、あるいは、R’及びR”が共にカルボニル基を成すか、あるいは、R’及びR’がエポキシブリッジ又は二重結合を成し、
・R’は、水素原子またはアルキルオキシカルボニル、ヒドロキシメチルまたはアルカノイルオキシメチル基、好ましくはアルキルオキシカルボニル基を表し、
・R’及びR”は、同一又は相違し、個別に水素原子またはヒドロキシ、アルカノイルオキシル、エチルまたは2-ヒドロキシエチル基を表し、
・R’は、水素原子またはエチル、2-ヒドロキシエチルまたはアセチル基を表し、
・R’は、水素原子またはシアニド基を表し、
・Rは、水素原子またはアルキル、ホルミルまたはアシル基、好ましくは水素またはアルキル基を表し、
・Rは、水素原子またはアルコキシ基を表し、
・Rは、水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表すか、あるいは、R及びRが共にエポキシブリッジ又は二重結合を成し、
・Rは水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表すか、あるいは、R及びRが共にエポキシブリッジを成し、
・Rは、アルキルオキシカルボニル、ヒドラジド、アセタミド、ヒドロキシメチルまたはアルカノイルオキシメチル基を表し、
・R及びRは、水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表す]
のビンカアルカロイド並びにその酸との付加塩及びその第四級アンモニウム塩の調製方法に関する。
式(I)の誘導体の幾つかは、ビンブラスチン、ビンクリスチン及びビンオレルビン(vinorelbine)等の抗腫瘍薬の調製における中間体であることが知られている。
Figure 2011140494
R=CH、ビンブラスチン n=2、無水ビンブラスチン
R=CHO、ビンクリスチン n=1、ビンオレルビン
マダガスカルニチニチソウ(Madagascar periwinkle)、Carantheus roseusから抽出される、これらの複合天然分子の著しい抗腫瘍特性は公知であり、これらは既に、抗癌治療に使用されている。ビンブラスチン及びビンクリスチンは、細胞分離の際の有糸分裂紡錘体の生成を阻害し、よって細胞分化を回避する“紡錘体毒(spindle poison)”である。
ビンクリスチン及びビンブラスチンは、白血病、リンパ肉腫及び固形腫瘍の治療における有効成分である。ビンブラスチンはまた、ホジキン病の治療に使用される。
ビンオレルビンは、現在最も広範囲に及んでいる形態の肺の癌、すなわち非小細胞の肺癌の治療に使用される。これはまた、胸の転移性癌の治療に使用される。
ビンブラスチン及びビンクリスチンの調製に現在使用されている方法には、植物からのこれらの分子の抽出が含まれる。該植物を粉砕し、乾燥して初めて、これらの物質が抽出可能となる。得られた抽出物が非常に複雑で、少なくとも200の異なるアルカロイドを含むとすれば、抽出工程は長くコスト高である。収量も非常に低量であり、1トンの乾燥植物材料に対してビンブラスチン0.5から10g、1トンの乾燥植物材料に対してビンクリスチン0.5から1gが得られる。
特許FI882755 特許FR2296418 US5037977
VUKOVIC et al., "Tetrahedron"(1998, volume 44, pages 325-331) GUNIC et al., "Journal of Chemical Society Chemical Communications"(1993), volume 19, pages 1496-1497 Tabaskovic et al., "Journal of Organic Chemistry"(1997), volume 62, pages 947-953
然るに、多くの研究において、よりよい収量が得られ、重要な抗腫瘍特性を有するが、本来有する毒性は低レベルである誘導体を利用した、より効率の良い操作を利用することによって、これらの分子の合成の達成が試みられてきた。
HUATAN-MAKI Oy社によって出願された特許FI882755は、酸素又は不活性ガスの雰囲気下、酸性水溶液中で、カタランチン及びビンドリンにUV光線を照射することによる、ビンブラスチン及びビンクリスチンの生成に関する。これらの反応において得られる収量は、この上なく低量である。
さらにまた、ビンブラスチン、ビンクリスチン、及びビンオレルビンの合成における中間体である、無水ビンブラスチンを利用する別の方法が公知である。
然るに、無水ビンブラスチンは、ビンブラスチンタイプの全てのアルカロイドを入手可能とする鍵となる化学中間体である。この中間体は、カタランチンとビンドリンとのカップリングによって合成される。
カタランチン ビンドリン
Figure 2011140494
後者の二つのアルカロイドはまた、マダガスカルニチニチソウから抽出されるが、ビンクリスチン及びビンブラスチンとは対照的に、これらは、得られる抽出物の主要な構成要素である。実際、1トンの乾燥植物材料に対してカタランチン400g、1トンの乾燥植物材料に対してビンドリン800gが得られる。
したがって、カタランチンとビンドリンとのカップリングによる無水ビンブラスチンの調製は、この中間体生成物の合成には、好ましい経路である。
カタランチンとビンドリンとから無水ビンブラスチンを調製する、幾つかの方法がある。
ANVAR社によって出願された特許FR2296418には、その途中にカタランチンのN-オキシドが無水トリフルオロ酢酸の存在下でビンドリンにカップリングされる方法が記載されている。
この方法を、環境温度にて実行した場合、無水ビンブラスチンの不活性16’-Rエピマーのみが得られる。天然に産する16’-Sエピマーは、この反応を少なくともさらに50℃低温で、不活性ガス雰囲気中で実行した場合に、主な生成物として得られる。それにも関わらず、低温でさえも、無水ビンブラスチンの16’-Rエピマー10%が、依然生成される。
この方法には、幾つかの欠点がある。操作条件が、無水溶媒、低温及び不活性ガス雰囲気の採用によって、この上なく制限されている。得られる生成物は、無水ビンブラスチンの16’-Rエピマーが10%存在するため、精製操作に処さねばならない。単離される無水ビンブラスチンの収量は低量であり、35%のオーダーである。
“Tetrahedron”誌(1998年、volume 44, 325-331頁)において、VUKOVICらによって提案された第二の方法には、第二鉄イオンによって開始されるカタランチンとビンドリンとの間のカップリング反応が記載されている。カタランチンはまた、この反応中に酸化される。無水ビンブラスチンの収率は、該反応が不活性ガス雰囲気下で行われた場合には69%のオーダーである。しかしながら、この方法には多数の副生成物を産するという、重大な欠点がある。これらは、生成する二量体アルカロイドのさらなる酸化によって、操作条件の選択によらず生じてくる不純物である。このため、生成段階は困難であり、注意を要する。
US5037977には、より優れた方法が提案されており、これにより無水ビンブラスチンの収率は89%にまで上昇する。しかしながら、この改良法は、非常に少量の試薬についてのみ記載されており、工業スケールにまでこれを拡張することは困難と思われる。いずれにせよ、鉄二イオンに基づくこれらの方法は、これらのイオンが寄生反応(parasitic reaction)を招くという事実により、いかなる場合も多数の副生成物を生じる。
“Journal of Chemical Society Chemical Communications”(1993), volume 19, pages 1496-1497においてGUNICらにより提案され、また、“Journal of Organic Chemistry”(1997), volume 62, pages 947-953においてTabaskovicらにより提案された第三の方法には、カタランチンの陽極酸化の結果としての、カタランチンとビンドリンとのカップリング反応が記載されている。しかしながら、この方法もまた、一方では不活性雰囲気を要するという欠点、他方では、電極の劣化、再現性制御の困難性及び電解液のコストを含む電気化学的方法それ自体の性質に関連する欠点を有する。さらに、前述の全ての方法のように、該無水ビンブラスチンは、無水ビンブラスチンの16’-Rエピマー約10%によって汚染されている。
ここに開示した全ての方法が、例外なくカタランチン分子の分割を含み、これが後者の酸化または活性化によって誘発されていることは特記すべきである。これらの方法は、制限条件下で行われ、十分に純粋な生成物の満足な収量を与えない。
本発明による方法によれば、より非制限的な操作条件を使用して、一般式(I)のビンカアルカロイド、特に無水ビンブラスチンの製造が、この上ない収量及び高い純度で可能である。本発明による方法によれば、天然に産する活性な形態での無水ビンブラスチンの製造が、僅かな無水ビンブラスチンの16’-エピマーもなしに可能である。
然るに、本発明は、一般式(I):
Figure 2011140494
[式中、
・R’は、水素原子またはアルコキシ、アシル、ホルミルまたはハロゲノアシル基を表し、
・R’は、水素原子またはアルキル基を表し、
・R’及びR”が同一または相違し、個別に水素原子またはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシ基を表すか、あるいは、R’及びR”が共にカルボニル基を成すか、あるいは、R’及びR’がエポキシブリッジ又は二重結合を成し、
・R’は、水素原子またはアルキルオキシカルボニル、ヒドロキシメチルまたはアルカノイルオキシメチル基、好ましくはアルキルオキシカルボニル基を表し、
・R’及びR”は、同一又は相違し、個別に水素原子またはヒドロキシル、アルカノイルオキシル、エチルまたは2-ヒドロキシエチル基を表し、
・R’は、水素原子またはエチル、2-ヒドロキシエチルまたはアセチル基を表し、
・R’は、水素原子またはシアニド基を表し、
・Rは、水素原子またはアルキル、ホルミルまたはアシル基、好ましくは水素またはアルキル基を表し、
・Rは、水素原子またはアルコキシ基を表し、
・Rは、水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表すか、あるいは、R及びRが共にエポキシブリッジ又は二重結合を成し、
・Rは水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表すか、あるいは、R及びRが共にエポキシブリッジを成し、
・Rは、アルキルオキシカルボニル、ヒドラジド、アセタミド、ヒドロキシメチルまたはアルカノイルオキシメチル基を表し、
・R及びRは、水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表す]
に相当する生成物(A)並びにその酸との付加塩及びその第四級アンモニウム塩の調製方法に関し、一般式(II):
Figure 2011140494
[式中、R’、R’、R’、R”、R’、R’、R”及びR’は上記の通りである]
に相当する生成物(c)を、一般式(III):
Figure 2011140494
[式中、R、R、R、R、R、R及びRは上記の通りである]
に相当する生成物(v)と反応させることを特徴とし、
この方法は、生成物(v)が酸化されて一般式(IV):
Figure 2011140494
[式中、R、R、R、R、R、R、R及びR’、R’、R’、R”、R’、R’、R”及びR’は上記の通りである]
の中間体(i)が得られるように反応条件が選択され、さらに式(IV)の生成物(i)を還元又はシアン化することにより生成物(A)が得られることを特徴とする。
生成物(v)は、あらゆる既知の方法で酸化可能である。例としては、下記の、光化学的、有機金属及び電気化学経路を挙げることができる。生成物(v)は、好ましくは、光及び任意に有機または無機の増感剤の存在下、光化学経路を用いて酸化される。
無機増感剤は、遷移金属または半導体、好ましくはルテニウム錯体または酸化チタンであるとよい。
有機増感剤は、好ましくはキサンテート、ピリリウム、ピリジニウム、フラビン、芳香族化合物、ケトン及びキノン、並びにこれらの塩から選択される、特にフルオレセイン、トリフェニルピリリウム、4-(4-メトキシフェニル)-2,6-ジフェニルピリリウム、2,6-ビス-(4-メトキシフェニル)-2,6-ジフェニルピリリウム、及び2,4,6-トリス-(4-メトキシフェニル)-ピリリウムから選択される着色剤である。
酸化工程は、酸性媒体中、好ましくはpH0から7まで、特に0.5から3までにて行われる。
生成物(i)の還元段階は、いかなる既知の方法で行われても良い。水素化ホウ素アルカリが好ましく、特に水素化ホウ素ナトリウムが使用される。
生成物(i)のシアン化工程は、いかなる既知の方法で行われても良い。この工程は、好ましくは有機媒体中において、シアニドイオンの供給源であってアルカリ性ではないもの、または弱アルカリ性のものの存在下で、特にトリメチルシリルシアニドの存在下で行われる。
事実、出願人は、生成物(v)(従来技術のように生成物(c)ではない)を酸化するように反応条件を選択することにより、中間体(i)中のC16炭素原子に関する立体特異的反応を引き起こし、よって不活性な16’-Rエピマーによる汚染を回避できることを発見した。さらにまた、この立体特異性は、温度及び反応媒体には依存しておらず、このため調製方法を簡略化する。
(v)が光化学経路によって酸化される場合は、使用する光はUV/可視スペクトル内の、好ましくは254nmより高い、特に400nmより高いものである。
本発明はまた、カタランチンをビンドリンと反応させることによる無水ビンブラスチンの調製方法にも関し、この方法は、ビンドリンが酸化されて式(V):
Figure 2011140494
の中間体(i’)が得られるように反応条件を選択することを特徴とし、さらに式(V)の中間体(i’)を還元して無水ビンブラスチンを得ることを特徴とする。
本発明はまた、式(VI):
Figure 2011140494
[式中、
・R’は、水素原子またはアルコキシ、アシル、ホルミルまたはハロゲノアシル基を表し、
・R’は、水素原子またはアルキル基を表し、
・R’及びR”が同一または相違し、個別に水素原子またはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシ基を表すか、あるいは、R’及びR”が共にカルボニル基を成すか、あるいは、R’及びR’が共に二重結合を成し、
・R’は、水素原子またはアルキルオキシカルボニル、ヒドロキシメチルまたはアルカノイルオキシメチル基、好ましくはアルキルオキシカルボニル基を表し、
・R’及びR”は、同一又は相違し、個別に水素原子またはヒドロキシル、アルカノイルオキシル、エチルまたは2-ヒドロキシエチル基を表し、
・R’は、水素原子またはエチル、2-ヒドロキシエチルまたはアセチル基を表し、
・Rは、水素原子またはアルキル、ホルミルまたはアシル基、好ましくは水素またはアルキル基を表し、
・Rは、水素原子またはアルコキシ基を表し、
・Rは、水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表すか、あるいは、R及びRが共にエポキシブリッジ又は二重結合を成し、
・Rは水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表すか、あるいは、R及びRが共にエポキシブリッジを成し、
・Rは、アルキルオキシカルボニル、ヒドラジド、アセタミド、ヒドロキシメチルまたはアルカノイルオキシメチル基を表し、
・R及びRは、水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表す]
の新規化合物(B)にも関する。
これらは、21’位にて炭素に結合したシアニド基が存在する、ビンカアルカロイドの新規な誘導体である。これらの生成物は、容易に官能化され、よって細胞毒性レベルにおいて潜在的に重要な新規分子の製造を可能にするという利点を有する。
これらの生成物(B)は、求核化合物または求電子化合物のいずれによっても官能化可能である。
さらに、本発明は、式 VII:
Figure 2011140494
21’α-シアノ無水ビンブラスチン
の新規化合物にも関する。
これは、無水ビンブラスチンの誘導体、すなわち、21’α-シアノ無水ビンブラスチンである。実際、出願人は、21’α-シアノ無水ビンブラスチンの製造方法を開発しているが、これは容易に官能化可能であって、細胞毒性レベルにおいて潜在的に重要な新規誘導体の製造を可能にするものである。
21’α-シアノ無水ビンブラスチンは、求核化合物または求電子化合物のいずれによっても官能化可能である。したがって、得られる可能性のある誘導体の範囲は非常に広範である。
この新規化合物(D)はまた、かなり安定であるので単離して純粋な結晶形態で得ることができるため、非常に重要である。誘導体の前駆体の結晶を得ることの利点は、この前駆体の官能化反応が、反応可能な残基が微量でも存在しない、清浄な反応媒体内で実行可能なことである。
21’α-シアノ無水ビンブラスチンは、無水ビンブラスチンまたはこれらの誘導体において、C15’、C20’及びC21’位にて一置換または多置換された誘導体の製造を可能にする。
本発明はまた、カタランチンをビンドリンと反応させることによる21’α-シアノ無水ビンブラスチンの調製方法に関し、この方法は、ビンドリンが酸化されて式(V)の中間体(i’)が得られるように反応条件が選択され、中間体(i’)をシアン化して生成物(D)を得ることを特徴とする。
シアン化は、好ましくは有機媒体中において、シアニドイオンの供給源であってアルカリ性ではないもの、または弱アルカリ性のものの存在下で、特にトリメチルシリルシアニドの存在下で行われる。
本発明は、下記の非限定的実施例の助けを借りてよりよく理解されるであろう。
(実施例1)
0.473mmolのカタランチン塩酸塩(176mg)、0.473mmolのビンドリン(216mg)及び0.473mmolのトリフェニルピリリウムハイドロゲンスルファート(192mg)を、25mlの0.1N塩酸に加えた。全混合物に、パイレックス(登録商標)照射フラスコ中、酸素雰囲気下で、波長λ>400nmの光を照射した。6時間30分間照射した後、媒体をジクロロメタンで抽出した。
水相を、0℃にて、3mlのモル炭酸ナトリウムに溶解させた水素化ホウ素ナトリウム(2等量)の過剰量を滴々と添加して使用することによって還元した。反応媒体を、ジクロロメタンで抽出し、乾燥させ、減圧下、20℃にて蒸発させた。残渣を0.5N塩酸に溶解させ、ジエチルエーテルで洗浄した。アンモニアを添加して水相をアルカリ性とし、ジクロロメタンで抽出した。
残渣(337mg、0.426mmol、90%)中、唯一の生成物を、無水エタノールから再結晶させた。無水ビンブラスチンの白色結晶290mg(0.366mmol;収率77%)が回収された。
(実施例2)
0.537mmolのカタランチン塩酸塩(200mg)、0.537mmolのビンドリン(245mg)、0.054mmolのジメチルビオロゲン(14mg)及び0.026mmolのトリフェニルピリリウムハイドロゲンスルファート(11mg)を、50mlの0.1N硫酸に加えた。全混合物に、パイレックス(登録商標)照射フラスコ中、酸素雰囲気下で、波長λ>400nmの光を照射した。2時間30分間照射した後、反応を終了させた。
水相を、0℃にて、10mlのモル炭酸ナトリウムに溶解させた水素化ホウ素ナトリウム(2等量)の過剰量を滴々と添加して使用することによって還元した。反応混合物を、ジクロロメタンで抽出し、乾燥させ、減圧下、20℃にて蒸発させた。残渣を0.5N塩酸に溶解させ、ジエチルエーテルで洗浄した。アンモニアを添加して水相をアルカリ性とし、ジクロロメタンで抽出した。
残渣(403mg、0.509mmol、95%)中、唯一の生成物を、無水エタノールから再結晶させた。無水ビンブラスチンの白色結晶340mg(0.430mmol;収率80%)が回収された。
(実施例3)
0.537mmolのカタランチン塩酸塩(200mg)、0.573mmolのビンドリン(245mg)及び0.054mmolの2,6-ビス-(4-メトキシフェニル)-4-フェニルピリリウムハイドロゲンスルファート(25mg)を、50mlの0.1N硫酸に加えた。全混合物に、パイレックス(登録商標)照射フラスコ中、酸素雰囲気下で、波長λ>400nmの光を照射した。2時間の照射後、反応を終了させた。
水相を、0℃にて、10mlのモル炭酸ナトリウムに溶解させた水素化ホウ素ナトリウム(2等量)の過剰量を滴々と添加して使用することによって還元した。反応混合物を、ジクロロメタンで抽出し、乾燥させ、減圧下、20℃にて蒸発させた。残渣を0.5N塩酸に溶解させ、ジエチルエーテルで洗浄した。アンモニアを添加して水相をアルカリ性とし、ジクロロメタンで抽出した。
残渣(408mg、0.516mmol、96%)中、唯一の生成物を、無水エタノールから再結晶させた。無水ビンブラスチンの白色結晶340mg(0.430mmol;収率80%)が回収された。
(実施例4)
0.806mmolのカタランチン塩酸塩(300mg)、0.806mmolのビンドリン(367mg)及び0.040mmolのフルオレセイン(5%)を、50mlの0.1N硫酸に加えた。全混合物に、パイレックス(登録商標)照射フラスコ中、酸素雰囲気下で、波長λ>400nmの光を照射した。3時間の照射後、反応を終了させた。
水相を、0℃にて、3mlのモル炭酸ナトリウムに溶解させた水素化ホウ素ナトリウム(2等量)の過剰量を滴々と添加して使用することによって還元した。反応混合物を、ジクロロメタンで抽出し、乾燥させ、減圧下、20℃にて蒸発させた。
残渣(613mg、0.774mmol、96%)中、唯一の生成物を、無水エタノールから再結晶させた。無水ビンブラスチンの白色結晶523mg(0.661mmol;収率82%)が回収された。
(実施例5)
0.268mmolのカタランチン塩酸塩(100mg)、0.268mmolのビンドリン(122mg)及びリボフラビン-5’-ホスファート二水物(FMN)のナトリウム塩0.029mmol(5%)を、50mlの0.1N塩酸に加えた。全混合物に、パイレックス(登録商標)照射フラスコ中、酸素雰囲気下で、波長λ>400nmの光を照射した。4時間の照射後、反応を終了させた。
水相を、0℃にて、3mlのモル炭酸ナトリウムに溶解させた水素化ホウ素ナトリウム(2等量)の過剰量を滴々と添加して使用することによって還元した。反応混合物を、ジクロロメタンで抽出し、乾燥させ、減圧下、20℃にて蒸発させた。
残渣(171mg、0.216mmol、80%)中、唯一の生成物を、無水エタノールから再結晶させたところ、無水ビンブラスチンの白色結晶140mg(0.176mmol;収率66%)が回収された。
(実施例6)
0.577mmolのカタランチン塩酸塩(215mg)、0.577mmolのビンドリン(263mg)及びN,N’-ジメチル-2,7-ジアザピレニウム(DAP)の二塩化物0.029mmol(5%)を、60mlの0.1N塩酸に加えた。全混合物に、パイレックス(登録商標)照射フラスコ中、酸素雰囲気下で、波長λ>400nmの光を照射した。3時間30分間照射した後、反応を終了させた。
水相を、0℃にて、3mlのモル炭酸ナトリウムに溶解させた水素化ホウ素ナトリウム(2等量)の過剰量を滴々と添加して使用することによって還元した。反応混合物を、ジクロロメタンで抽出し、乾燥させ、減圧下、20℃にて蒸発させた。
シリカゲル上のフラッシュクロマトグラフィーによって、残渣(379mg、0.479mmol、83%)を精製し、無水エタノールから再結晶させ、無水ビンブラスチンの白色結晶274mg(0.346mmol;収率60%)が回収された。
(実施例7)
0.357mmolのカタランチン塩酸塩(120mg)、0.357mmolのビンドリン(152mg)及び2gのTiOを、25mlの0.1N塩酸に加えた。全混合物に、パイレックス(登録商標)照射フラスコ中、酸素雰囲気下で、波長λ>345nmの光を照射した。2時間照射の後、媒体をジクロロメタンで抽出した。
水相を、0℃にて、3mlのモル炭酸ナトリウムに溶解させた水素化ホウ素ナトリウム(2等量)の過剰量を滴々と添加して使用することによって還元した。反応混合物を、ジクロロメタンで抽出し、乾燥させ、減圧下、20℃にて蒸発させた。
シリカゲル上のフラッシュクロマトグラフィーによって、無水ビンブラスチン85mg(0.107mmol;収率30%)が得られた。
(実施例8)
0.448mmolのカタランチン塩酸塩(166mg)、0.448mmolのビンドリン(204mg)及び触媒量(5%)のローダミン6Gを、60mlの0.1N硫酸に加えた。全混合物に、パイレックス(登録商標)照射フラスコ中、酸素雰囲気下で、波長λ>400nmの光を照射した。3時間30分間照射した後、媒体をジクロロメタンで抽出した。
水相を、0℃にて、3mlのモル炭酸ナトリウムに溶解させた水素化ホウ素ナトリウム(2等量)の過剰量を滴々と添加して使用することによって還元した。反応混合物を、ジクロロメタンで抽出し、乾燥させ、減圧下、20℃にて蒸発させた。
フラッシュクロマトグラフィーによって、無水ビンブラスチン124mg(0.157mmol;収率35%)が得られた。
(実施例9)
0.537mmolのカタランチン塩酸塩(200mg)、0.537mmolのビンドリン(245mg)及び0.054mmolのジメチルビオロゲン(14mg)を、50mlの0.1N塩酸に加えた。全混合物に、パイレックス(登録商標)照射フラスコ中、酸素雰囲気下で、波長λ>360nmの光を照射した。2時間照射の後、反応を終了させた。
水相を、0℃にて、3mlのモル炭酸ナトリウムに溶解させた水素化ホウ素ナトリウム(2等量)の過剰量を滴々と添加して使用することによって還元した。反応混合物を、ジクロロメタンで抽出し、乾燥させ、減圧下、20℃にて蒸発させた。
残渣(391mg、0.494mmol、92%)中、唯一の生成物を、無水エタノールから再結晶させた。無水ビンブラスチンの白色結晶345mg(0.435mmol;収率81%)が回収された。
(実施例10)
0.537mmolのカタランチン塩酸塩(200mg)及び0.573mmolのビンドリン(245mg)を、50mlの0.1N塩酸に加えた。全混合物に、パイレックス(登録商標)照射フラスコ中、酸素雰囲気下で、波長λ>360nmの光を照射した。2時間の照射後、反応を終了させた。
水相を、0℃にて、3mlのモル炭酸ナトリウムに溶解させた水素化ホウ素ナトリウム(2等量)の過剰量を滴々と添加して使用することによって還元した。反応混合物を、ジクロロメタンで抽出し、乾燥させ、減圧下、20℃にて蒸発させた。残渣を0.5N塩酸に溶解させ、ジエチルエーテルで洗浄した。アンモニアを添加して水相をアルカリ性とし、ジクロロメタンで抽出した。
残渣(383mg、0.483mmol、90%)中、唯一の生成物を、無水エタノールから再結晶させた。無水ビンブラスチンの白色結晶332mg(0.419mmol;収率78%)が回収された。
(実施例11:21’α-シアノ無水ビンブラスチンの調製)
0.537mmolのカタランチン塩酸塩(200mg)、0.573mmolのビンドリン(245mg)及び0.054mmolのジメチルビオロゲン(14mg)及び0.028mmolのトリフェニルピリリウムハイドロゲンスルファート(11mg)を、50mlの0.1N硫酸に加えた。全混合物に、パイレックス(登録商標)照射フラスコ中、酸素雰囲気下で、波長λ>400nmの光を照射した。2時間30分間の照射後、反応を終了させた。
水相を、テトラフルオロホウ酸リチウムで飽和させ、ジクロロメタンで抽出した。100μl(1.34mmol、2等量)のトリメチルシリルシアニド、TMSCNを含有する15mlのジクロロメタン溶液を、反応媒体に添加した。有機相を0.1Mの炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥させ、減圧下、20℃にて蒸発させた。残渣を0.5N塩酸に溶解させ、ジエチルエーテルで洗浄した。アンモニアを添加して水相をアルカリ性とし、ジクロロメタンで抽出した。
残渣(403mg、0.509mmol、95%)中、唯一の生成物を、無水エタノールから再結晶させた。21’α-シアノ無水ビンブラスチンの白色結晶340mg(0.430mmol;収率80%)が回収された。
Figure 2011140494
Figure 2011140494
Figure 2011140494

Claims (14)

  1. 一般式(I):
    Figure 2011140494
    [式中、
    ・R’は、水素原子またはアルコキシ、アシル、ホルミルまたはハロゲノアシル基を表し、
    ・R’は、水素原子またはアルキル基を表し、
    ・R’及びR”が同一または相違し、個別に水素原子またはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシ基を表すか、あるいは、R’及びR”が共にカルボニル基を成すか、あるいは、R’及びR’がエポキシブリッジ又は二重結合を成し、
    ・R’は、水素原子またはアルキルオキシカルボニル、ヒドロキシメチルまたはアルカノイルオキシメチル基、好ましくはアルキルオキシカルボニル基を表し、
    ・R’及びR”は、同一又は相違し、個別に水素原子またはヒドロキシル、アルカノイルオキシル、エチルまたは2-ヒドロキシエチル基を表し、
    ・R’は、水素原子またはエチル、2-ヒドロキシエチルまたはアセチル基を表し、
    ・R’は、水素原子またはシアニド基を表し、
    ・Rは、水素原子またはアルキル、ホルミルまたはアシル基、好ましくは水素またはアルキル基を表し、
    ・Rは、水素原子またはアルコキシ基を表し、
    ・Rは、水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表すか、あるいは、R及びRが共にエポキシブリッジ又は二重結合を成し、
    ・Rは水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表すか、あるいは、R及びRが共にエポキシブリッジを成し、
    ・Rは、アルキルオキシカルボニル、ヒドラジド、アセタミド、ヒドロキシメチルまたはアルカノイルオキシメチル基を表し、
    ・R及びRは、水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表す]
    に相当する生成物(A)並びにその酸との付加塩及びその第四級アンモニウム塩の調製方法であって、一般式(II):
    Figure 2011140494
    [式中、R’、R’、R’、R”、R’、R’、R”及びR’は上記の通りである]
    に相当する生成物(c)を、一般式(III):
    Figure 2011140494
    [式中、R、R、R、R、R、R及びRは上記の通りである]
    に相当する生成物(v)と反応させることを特徴とし、
    生成物(v)が酸化されて一般式(IV):
    Figure 2011140494
    [式中、R、R、R、R、R、R、R及びR’、R’、R’、R”、R’、R’、R”及びR’は上記の通りである]
    の中間体(i)が得られるように反応条件を選択し、さらに式(IV)の生成物(i)を還元又はシアン化することにより生成物(A)を得る方法。
  2. 生成物(v)が、光化学経路で酸化されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 生成物(v)が、有機金属経路で酸化されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 生成物(v)が、電気化学経路で酸化されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  5. 光化学経路による酸化が、光及び任意に有機または無機の増感剤の存在下で行われることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
  6. 無機増感剤が、遷移金属または半導体、好ましくはルテニウム錯体または酸化チタンであることを特徴とする請求項5に記載の方法。
  7. 有機増感剤が、好ましくはキサンテート、ピリリウム、ピリジニウム、フラビン、芳香族化合物、ケトン及びキノン、並びにこれらの塩から選択される、特にフルオレセイン、トリフェニルピリリウム、4-(4-メトキシフェニル)-2,6-ジフェニルピリリウム、2,6-ビス-(4-メトキシフェニル)-2,6-ジフェニルピリリウム、及び2,4,6-トリス-(4-メトキシフェニル)-ピリリウムから選択される、着色剤であることを特徴とする請求項5に記載の方法。
  8. 光が、UV/可視スペクトル内の、好ましくは254nmより大きい、特に400nmより大きい波長を有することを特徴とする請求項5に記載の方法。
  9. 還元工程を、水素化ホウ素アルカリ、好ましくは水素化ホウ素ナトリウムの補助の下に実施することを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 生成物(A)が無水ビンブラスチンであり、
    (c)がカタランチンであり、
    (v)がビンドリンであり、
    生成物(i)が式(V):
    Figure 2011140494
    に相当することを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
  11. 一般式(VI):
    Figure 2011140494
    [式中、
    ・R’は、水素原子またはアルコキシ、アシル、ホルミルまたはハロゲノアシル基を表し、
    ・R’は、水素原子またはアルキル基を表し、
    ・R’及びR”が同一または相違し、個別に水素原子またはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシ基を表すか、あるいは、R’及びR”が共にカルボニル基を成すか、あるいは、R’及びR’が共に二重結合を成し、
    ・R’は、水素原子またはアルキルオキシカルボニル、ヒドロキシメチルまたはアルカノイルオキシメチル基、好ましくはアルキルオキシカルボニル基を表し、
    ・R’及びR”は、同一又は相違し、個別に水素原子またはヒドロキシル、アルカノイルオキシル、エチルまたは2-ヒドロキシエチル基を表し、
    ・R’は、水素原子またはエチル、2-ヒドロキシエチルまたはアセチル基を表し、
    ・Rは、水素原子またはアルキル、ホルミルまたはアシル基、好ましくは水素またはアルキル基を表し、
    ・Rは、水素原子またはアルコキシ基を表し、
    ・Rは、水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表すか、あるいは、R及びRが共にエポキシブリッジ又は二重結合を成し、
    ・Rは水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表すか、あるいは、R及びRが共にエポキシブリッジを成し、
    ・Rは、アルキルオキシカルボニル、ヒドラジド、アセタミド、ヒドロキシメチルまたはアルカノイルオキシメチル基を表し、
    ・R及びRは、水素原子もしくはヒドロキシルまたはアルカノイルオキシル基を表す]
    の新規化合物(B)。
  12. 式(VII):
    Figure 2011140494
    21’α-シアノ無水ビンブラスチン
    の新規化合物。
  13. カタランチンをビンドリンと反応させることによる、請求項12に記載の新規化合物(D)の調製方法であって、ビンドリンが酸化されて式(V)の中間体(i’)が得られるように反応条件が選択され、中間体(i’)をシアン化して生成物(D)を得ることを特徴とする方法。
  14. シアン化工程が、好ましくは有機媒体中において、シアニドイオンの供給源であってアルカリ性ではないもの、または弱アルカリ性のものの存在下で、特にトリメチルシリルシアニドの存在下で行われることを特徴とする請求項1から8及び13のいずれか一項に記載の方法。
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