JPH0682741A - 高画質液晶表示板およびその製造方法 - Google Patents
高画質液晶表示板およびその製造方法Info
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- JPH0682741A JPH0682741A JP114293A JP114293A JPH0682741A JP H0682741 A JPH0682741 A JP H0682741A JP 114293 A JP114293 A JP 114293A JP 114293 A JP114293 A JP 114293A JP H0682741 A JPH0682741 A JP H0682741A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 上、下部基板の接着不良およびＩＴＯの透明
電極膜の破壊による電気的異常が防止できる、液晶表示
板を提供する。 【構成】 薄膜トランジスタの劣化を防止するためガラ
ス基板３０上に形成されるブラックマトリックス３２
と、ブラックマトリックス３２に重畳し、それぞれ分離
されるように形成される色フィルタ層３４，３６，３８
とを含み、ブラックマトリックス３２および色フィルタ
層３４，３６，３８上に連続的に塗布された後、保護膜
４０およびＩＴＯの透明電極膜４２のエッジ部が除去さ
れてＴＦＴ基板との接着領域３０ａが形成される。
電極膜の破壊による電気的異常が防止できる、液晶表示
板を提供する。 【構成】 薄膜トランジスタの劣化を防止するためガラ
ス基板３０上に形成されるブラックマトリックス３２
と、ブラックマトリックス３２に重畳し、それぞれ分離
されるように形成される色フィルタ層３４，３６，３８
とを含み、ブラックマトリックス３２および色フィルタ
層３４，３６，３８上に連続的に塗布された後、保護膜
４０およびＩＴＯの透明電極膜４２のエッジ部が除去さ
れてＴＦＴ基板との接着領域３０ａが形成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示板（ＬＣＤ）
に関するものであり、特に、接着領域内では保護膜およ
びＩＴＯ膜が除去された上部基板を有する、高画質液晶
表示板およびその製造方法に関するものである。
に関するものであり、特に、接着領域内では保護膜およ
びＩＴＯ膜が除去された上部基板を有する、高画質液晶
表示板およびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】最近、液晶表示板は、その大きさおよび
重さが小さくて携帯が簡便であるばかりでなく、人体に
有害な電子波が生じないなどの利点を有しているため、
ラップトップパスナールコンピュータなどの場合モニタ
として陰極線管（ＣＲＴ）が液晶表示板に代替されてい
る。
重さが小さくて携帯が簡便であるばかりでなく、人体に
有害な電子波が生じないなどの利点を有しているため、
ラップトップパスナールコンピュータなどの場合モニタ
として陰極線管（ＣＲＴ）が液晶表示板に代替されてい
る。
【０００３】液晶表示板は、個別スイッチング素子であ
る薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成された下部基板、
すなわちＴＦＴ基板と、液晶層と、赤、緑および青の３
つの色フィルタ層が規則的に配列される上部基板とで構
成されている。
る薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成された下部基板、
すなわちＴＦＴ基板と、液晶層と、赤、緑および青の３
つの色フィルタ層が規則的に配列される上部基板とで構
成されている。
【０００４】色フィルタ層が形成されている上部基板の
製造と関連した従来の技術は、日経マイクロデバイス
（９１年１１月号）および大韓民国特許出願第９１−１
８４２６号に開示されており、これを図１および図２に
示す。
製造と関連した従来の技術は、日経マイクロデバイス
（９１年１１月号）および大韓民国特許出願第９１−１
８４２６号に開示されており、これを図１および図２に
示す。
【０００５】図１に示すように、切断、研磨およびアニ
ーリング処理をしたＬＣＤ用ガラス基板３０上に、ＴＦ
Ｔの劣化防止のための遮光用ブラックマトリックス３２
を形成する。前記ブラックマトリックス３２は、クロム
を１０００Å〜２０００Å程度の厚さで堆積した後、パ
ターニングして形成する。その後、ブラックマトリック
ス３２が形成された構造上の全表面に、最適化された赤
色分光特性を有するよう顔料が分散されたフィルタ材
料、たとえば、着色アクリル感光性樹脂を、１．５μｍ
〜２．０μｍの厚さで塗布し、８０℃〜１１０℃のホッ
トプレートにおいて５分間ソフトベーキングした後、ｉ
−ライン（３６５ｎｍ）紫外線で露光する。その後、露
光された前記着色アクリル感光性樹脂を現像液で２〜３
分間現像して、第１色フィルタ層３４を形成する。
ーリング処理をしたＬＣＤ用ガラス基板３０上に、ＴＦ
Ｔの劣化防止のための遮光用ブラックマトリックス３２
を形成する。前記ブラックマトリックス３２は、クロム
を１０００Å〜２０００Å程度の厚さで堆積した後、パ
ターニングして形成する。その後、ブラックマトリック
ス３２が形成された構造上の全表面に、最適化された赤
色分光特性を有するよう顔料が分散されたフィルタ材
料、たとえば、着色アクリル感光性樹脂を、１．５μｍ
〜２．０μｍの厚さで塗布し、８０℃〜１１０℃のホッ
トプレートにおいて５分間ソフトベーキングした後、ｉ
−ライン（３６５ｎｍ）紫外線で露光する。その後、露
光された前記着色アクリル感光性樹脂を現像液で２〜３
分間現像して、第１色フィルタ層３４を形成する。
【０００６】前記第１色フィルタ層３４と同様な方法に
て、前記ブラックマトリックス３２上に重畳し、第１色
フィルタ層３４と分離されるような位置に前記ガラス基
板３０上に最適化された緑色分光特性を有する着色アク
リル感光性樹脂の第２色フィルタ層３６を形成する。続
けて、前記ブラックマトリックス３２上に重畳し、前記
第１および第２色フィルタ層３４，３６と分離されるよ
うに、前記ガラス基板３０上に最適化された青色分光特
性を有する着色アクリル感光性樹脂の第３色フィルタ層
３８を形成する。
て、前記ブラックマトリックス３２上に重畳し、第１色
フィルタ層３４と分離されるような位置に前記ガラス基
板３０上に最適化された緑色分光特性を有する着色アク
リル感光性樹脂の第２色フィルタ層３６を形成する。続
けて、前記ブラックマトリックス３２上に重畳し、前記
第１および第２色フィルタ層３４，３６と分離されるよ
うに、前記ガラス基板３０上に最適化された青色分光特
性を有する着色アクリル感光性樹脂の第３色フィルタ層
３８を形成する。
【０００７】前記ブラックマトリックス３２と色フィル
タ層３４，３６，３８を外部衝撃から保護するため、表
面硬度が高く、光透過性が優れた材料、たとえば、ポリ
イミド、ポリアクリラート、ポリウレタン等の透明樹脂
を、０．５〜３．０μｍ程度の厚さで形成した後、ホッ
トプレートにおいて１５０〜２２０℃で５分間加熱し
て、保護膜４０を形成する。その後、前記保護膜４０の
全表面上に、液晶駆動のための電圧が印加されるＩＴＯ
の透明電極膜４２を５００Å〜１３００Å程度の厚さで
形成して、上部基板を完成する。
タ層３４，３６，３８を外部衝撃から保護するため、表
面硬度が高く、光透過性が優れた材料、たとえば、ポリ
イミド、ポリアクリラート、ポリウレタン等の透明樹脂
を、０．５〜３．０μｍ程度の厚さで形成した後、ホッ
トプレートにおいて１５０〜２２０℃で５分間加熱し
て、保護膜４０を形成する。その後、前記保護膜４０の
全表面上に、液晶駆動のための電圧が印加されるＩＴＯ
の透明電極膜４２を５００Å〜１３００Å程度の厚さで
形成して、上部基板を完成する。
【０００８】このように形成された前記上部基板が、下
部基板、すなわちＴＦＴ基板とともに接着剤で固定設置
されるが、これは、図２からわかる。すべての添付図面
においては、上部基板と下部基板との上下関係が逆に配
列されている。
部基板、すなわちＴＦＴ基板とともに接着剤で固定設置
されるが、これは、図２からわかる。すべての添付図面
においては、上部基板と下部基板との上下関係が逆に配
列されている。
【０００９】図２に示すように、スイッチング素子とし
てマトリックス状にＴＦＴ５２が形成されており、これ
ら素子を駆動するための駆動電極５４が形成されている
ＴＦＴ基板５０が用意され、このＴＦＴ基板５０は、前
述した上部基板３０と液晶層５６を間にもってお互いに
接着剤６０で結合される。前記ＴＦＴ基板５０と上部基
板３０との接着は、２つの基板の間のエッジ部に接着剤
６０を塗って接着させるが、この接着剤６０は、ガラス
基板３０上に形成される色フィルタ層３４，３６，３８
の製造工程において必然的に形成される保護膜４０ある
いはＩＴＯ膜４２上に直接塗るようになる。
てマトリックス状にＴＦＴ５２が形成されており、これ
ら素子を駆動するための駆動電極５４が形成されている
ＴＦＴ基板５０が用意され、このＴＦＴ基板５０は、前
述した上部基板３０と液晶層５６を間にもってお互いに
接着剤６０で結合される。前記ＴＦＴ基板５０と上部基
板３０との接着は、２つの基板の間のエッジ部に接着剤
６０を塗って接着させるが、この接着剤６０は、ガラス
基板３０上に形成される色フィルタ層３４，３６，３８
の製造工程において必然的に形成される保護膜４０ある
いはＩＴＯ膜４２上に直接塗るようになる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】このため、保護膜４０
あるいはＩＴＯ膜４２が容易に剥離されて、上部基板３
０とＴＦＴ基板、すなわち下部基板５０との接着不良、
ＩＴＯ膜４２の破壊による電気的短絡などの異常が生じ
て、液晶表示板の不良をもたらすという問題があった。
あるいはＩＴＯ膜４２が容易に剥離されて、上部基板３
０とＴＦＴ基板、すなわち下部基板５０との接着不良、
ＩＴＯ膜４２の破壊による電気的短絡などの異常が生じ
て、液晶表示板の不良をもたらすという問題があった。
【００１１】したがって、本発明の目的は、上述の問題
点を解決し、接着領域に位置する前記上部基板の保護膜
およびＩＴＯ膜を除去してガラス基板を露出した後、
上、下部基板を接着することにより、接着力が優れ、電
気的異常が防止できる高画質の液晶表示板およびその製
造方法を提供することにある。
点を解決し、接着領域に位置する前記上部基板の保護膜
およびＩＴＯ膜を除去してガラス基板を露出した後、
上、下部基板を接着することにより、接着力が優れ、電
気的異常が防止できる高画質の液晶表示板およびその製
造方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の高画質液晶表示板は、ＴＦＴ基板、液晶層
および上部基板で構成されるＬＣＤであって、その上部
基板が、ガラス基板上に形成されたブラックマトリック
スと、ブラックマトリックスに重畳してそれぞれ分離さ
れて形成された複数の色フィルタ層と、ブラックマトリ
ックスおよび色フィルタ層上に連続的に形成された保護
膜と、ＩＴＯの透明電極膜とを含む液晶表示板におい
て、ガラス基板上の接着領域上に位置する保護膜および
透明電極膜を除去してガラス基板に接着領域を形成した
ことを特徴とする。
め、本発明の高画質液晶表示板は、ＴＦＴ基板、液晶層
および上部基板で構成されるＬＣＤであって、その上部
基板が、ガラス基板上に形成されたブラックマトリック
スと、ブラックマトリックスに重畳してそれぞれ分離さ
れて形成された複数の色フィルタ層と、ブラックマトリ
ックスおよび色フィルタ層上に連続的に形成された保護
膜と、ＩＴＯの透明電極膜とを含む液晶表示板におい
て、ガラス基板上の接着領域上に位置する保護膜および
透明電極膜を除去してガラス基板に接着領域を形成した
ことを特徴とする。
【００１３】さらに、本発明の高画質液晶表示板の製造
方法は、ＴＦＴ基板、液晶層および上部基板で構成され
るＬＣＤであって、その上部基板の製造方法は、ガラス
基板上にブラックマトリックスを形成する段階と、ブラ
ックマトリックスに重畳しそれぞれ分離されるよう色フ
ィルタ層を形成する段階と、ブラックマトリックスおよ
び色フィルタ層上に保護膜を形成する段階と、保護膜上
にマスクを用いて接着領域を設けるためのフォト工程を
行なう段階と、保護膜上にのみＩＴＯの透明電極膜を形
成する段階とを備え、これらの段階によって接着領域が
形成された上部基板に、液晶層を介在して液晶駆動用Ｔ
ＦＴ基板を結合する段階を備えることを特徴とする。
方法は、ＴＦＴ基板、液晶層および上部基板で構成され
るＬＣＤであって、その上部基板の製造方法は、ガラス
基板上にブラックマトリックスを形成する段階と、ブラ
ックマトリックスに重畳しそれぞれ分離されるよう色フ
ィルタ層を形成する段階と、ブラックマトリックスおよ
び色フィルタ層上に保護膜を形成する段階と、保護膜上
にマスクを用いて接着領域を設けるためのフォト工程を
行なう段階と、保護膜上にのみＩＴＯの透明電極膜を形
成する段階とを備え、これらの段階によって接着領域が
形成された上部基板に、液晶層を介在して液晶駆動用Ｔ
ＦＴ基板を結合する段階を備えることを特徴とする。
【００１４】好ましくは、マスク物質は、感光性を有す
る高分子化合物であるとよい。
る高分子化合物であるとよい。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の好ましい実施例を、添付図面
に基づいて詳細に説明する。
に基づいて詳細に説明する。
【００１６】図において、図１および図２と同一部分に
は同一番号を付け、その説明は省略する。
は同一番号を付け、その説明は省略する。
【００１７】図３は、本発明に従う保護膜およびＩＴＯ
膜を有する上部基板の平面図であり、図４は、図３のＡ
−Ａ′線に沿って一部のみを拡大してとった模式的垂直
断面図である。
膜を有する上部基板の平面図であり、図４は、図３のＡ
−Ａ′線に沿って一部のみを拡大してとった模式的垂直
断面図である。
【００１８】図３および図４を参照して、本発明に従う
この実施例の上部基板は、ガラス基板３０の上部に形成
されたブラックマトリックス３２と、第１、第２および
第３色フィルタ層３４，３６，３８と、これらの上部に
順に形成された保護膜４０と、ＩＴＯの透明電極膜４２
とを含んでいる。この実施例の構造および製造方法を図
１および図２に示す従来の液晶表示板と比較してみる
と、その構造および製造方法は類似しているが、本発明
と従来技術との相違点は、本発明においては、上、下部
基板の安定した接着のため保護膜およびＩＴＯ膜のエッ
ジ部を除去して、ガラス基板３０上に直接に接着領域３
０ａを形成するということである。
この実施例の上部基板は、ガラス基板３０の上部に形成
されたブラックマトリックス３２と、第１、第２および
第３色フィルタ層３４，３６，３８と、これらの上部に
順に形成された保護膜４０と、ＩＴＯの透明電極膜４２
とを含んでいる。この実施例の構造および製造方法を図
１および図２に示す従来の液晶表示板と比較してみる
と、その構造および製造方法は類似しているが、本発明
と従来技術との相違点は、本発明においては、上、下部
基板の安定した接着のため保護膜およびＩＴＯ膜のエッ
ジ部を除去して、ガラス基板３０上に直接に接着領域３
０ａを形成するということである。
【００１９】図４に示す本発明の上部基板を含む液晶表
示板の製造方法を、図５ないし図８を参照して、詳細に
説明する。
示板の製造方法を、図５ないし図８を参照して、詳細に
説明する。
【００２０】図５に示すように、ガラス基板３０上にク
ロムを１０００Å〜２０００Åの厚さで蒸着した後、そ
の上にフォトレジストパターンを形成し、クロムエッチ
ング液で湿式エッチングして、２０〜５０μｍの幅を有
するブラックマトリックス３２を形成する。
ロムを１０００Å〜２０００Åの厚さで蒸着した後、そ
の上にフォトレジストパターンを形成し、クロムエッチ
ング液で湿式エッチングして、２０〜５０μｍの幅を有
するブラックマトリックス３２を形成する。
【００２１】その後、図６に示すように、前記ブラック
マトリックス３２が形成されたガラス基板３０上に、赤
色顔料が分散されたフィルタ材料、たとえば、着色アク
リル感光性樹脂を１．５〜２．０μｍの厚さで形成し、
ホットプレートにおいて８０〜１１０℃で、５分間ソフ
トベーキングした後、ｉ−ライン（３６５ｎｍ）紫外線
で露光を行なう。続けて、現像液を用いてシャワー方式
あるいはホリゾンタルディップ方式で２〜３分間現像し
た後、脱イオン水で５〜６分間濯いで、最適化された赤
色分光特性を有する第１色フィルタ層３４を形成する。
好ましい着色アクリル感光性樹脂としては、ＣＲ−２０
００，ＣＧ２０００，ＣＢ２０００（富士ハント
（株））があり、これに対する現像液としては、ＣＤ
（富士ハント（株））がある。同時に、同様な方法にて
前記ブラックマトリックス３２に重畳して、前記第１色
フィルタ層３４と分離されるように、最適化された緑色
分光特性を有する着色アクリル感光性樹脂の第２色フィ
ルタ層３６が形成され、さらに、前記ブラックマトリッ
クス３２に重畳して、前記第１および第２色フィルタ層
３４，３６と分離されるように最適化された青色分光特
性を有する着色アクリル感光性樹脂の第３色フィルタ層
３８が形成される。このブラックマトリックス３２、３
色フィルタ層３４，３６，３８の形成時に、接着領域３
０ａ部はエッチング除去して、ガラス基板３０の面を露
出させる。
マトリックス３２が形成されたガラス基板３０上に、赤
色顔料が分散されたフィルタ材料、たとえば、着色アク
リル感光性樹脂を１．５〜２．０μｍの厚さで形成し、
ホットプレートにおいて８０〜１１０℃で、５分間ソフ
トベーキングした後、ｉ−ライン（３６５ｎｍ）紫外線
で露光を行なう。続けて、現像液を用いてシャワー方式
あるいはホリゾンタルディップ方式で２〜３分間現像し
た後、脱イオン水で５〜６分間濯いで、最適化された赤
色分光特性を有する第１色フィルタ層３４を形成する。
好ましい着色アクリル感光性樹脂としては、ＣＲ−２０
００，ＣＧ２０００，ＣＢ２０００（富士ハント
（株））があり、これに対する現像液としては、ＣＤ
（富士ハント（株））がある。同時に、同様な方法にて
前記ブラックマトリックス３２に重畳して、前記第１色
フィルタ層３４と分離されるように、最適化された緑色
分光特性を有する着色アクリル感光性樹脂の第２色フィ
ルタ層３６が形成され、さらに、前記ブラックマトリッ
クス３２に重畳して、前記第１および第２色フィルタ層
３４，３６と分離されるように最適化された青色分光特
性を有する着色アクリル感光性樹脂の第３色フィルタ層
３８が形成される。このブラックマトリックス３２、３
色フィルタ層３４，３６，３８の形成時に、接着領域３
０ａ部はエッチング除去して、ガラス基板３０の面を露
出させる。
【００２２】次いで、図７に示すように、前記ブラック
マトリックス３２および色フィルタ層３４，３６，３８
を保護するため、これらの上部に０．５〜３．０μｍ程
度の厚さで、光透過性が優れた材料、たとえばポリイミ
ド、ポリアクリラート、ポリウレタン等の保護膜４０を
塗布した後、ホットプレートにおいて１５０〜２２０℃
で、５分間加熱形成する。
マトリックス３２および色フィルタ層３４，３６，３８
を保護するため、これらの上部に０．５〜３．０μｍ程
度の厚さで、光透過性が優れた材料、たとえばポリイミ
ド、ポリアクリラート、ポリウレタン等の保護膜４０を
塗布した後、ホットプレートにおいて１５０〜２２０℃
で、５分間加熱形成する。
【００２３】前記保護膜４０の形成の後、接着領域を設
けるためのフォト工程を行なうようになる。すなわち、
前記保護膜４０上にフォトレジストをスピン塗布し、パ
ターニングしてカラーフィルタ有効面積上にフォトレジ
ストパターン４４を形成する。このとき、フォトレジス
トパターン４４を、最外殻ブラックマトリックス３２の
先端部にまで十分に覆うほどに形成する。
けるためのフォト工程を行なうようになる。すなわち、
前記保護膜４０上にフォトレジストをスピン塗布し、パ
ターニングしてカラーフィルタ有効面積上にフォトレジ
ストパターン４４を形成する。このとき、フォトレジス
トパターン４４を、最外殻ブラックマトリックス３２の
先端部にまで十分に覆うほどに形成する。
【００２４】その後、図８に示すように、酸素プラズマ
で前記ガラス基板３０の全表面を等方性エッチングし
て、最外殻ブラックマトリックス３２の外殻部分の保護
膜４０を除去して、ガラス基板を露出するとともに、前
記フォトレジストパターン４４を除去して、接着領域３
０ａを形成する。
で前記ガラス基板３０の全表面を等方性エッチングし
て、最外殻ブラックマトリックス３２の外殻部分の保護
膜４０を除去して、ガラス基板を露出するとともに、前
記フォトレジストパターン４４を除去して、接着領域３
０ａを形成する。
【００２５】最後に、金属マスクを用いて前記保護膜４
０上にのみ、液晶駆動のための電圧を印加するＩＴＯの
透明電極膜４２を、５０００〜１３０００Åの厚さで形
成して、上部基板を完成する。この上部基板は、ＴＦＴ
基板と接着設置されるが、接着剤は接着領域３０ａ、す
なわち露出されたガラス基板に直接塗られる。
０上にのみ、液晶駆動のための電圧を印加するＩＴＯの
透明電極膜４２を、５０００〜１３０００Åの厚さで形
成して、上部基板を完成する。この上部基板は、ＴＦＴ
基板と接着設置されるが、接着剤は接着領域３０ａ、す
なわち露出されたガラス基板に直接塗られる。
【００２６】
【発明の効果】前述のように、本発明によれば、前記上
部基板上の接着領域の保護膜およびＩＴＯ膜の透明電極
膜を除去してガラス基板に直接接着剤を塗ることによ
り、接着不良あるいは電気的異常を防止して、高信頼性
の液晶表示板が具現できる。
部基板上の接着領域の保護膜およびＩＴＯ膜の透明電極
膜を除去してガラス基板に直接接着剤を塗ることによ
り、接着不良あるいは電気的異常を防止して、高信頼性
の液晶表示板が具現できる。
【図１】従来の技術に従う上部基板の断面図である。
【図２】従来の技術に従う上部基板とＴＦＴ基板との設
置断面図である。
置断面図である。
【図３】本発明に従う保護膜およびＩＴＯ膜を有する上
部基板の平面図である。
部基板の平面図である。
【図４】図３のＡ−Ａ′線の一部を拡大した模式断面図
である。
である。
【図５】本発明に従う液晶表示板の製造工程図である。
【図６】本発明に従う液晶表示板の製造工程図である。
【図７】本発明に従う液晶表示板の製造工程図である。
【図８】本発明に従う液晶表示板の製造工程図である。
３０ ガラス基板 ３０ａ 接着領域 ３２ ブラックマトリックス ３４，３６，３８ 第１、第２および第３色フィルタ層 ４０ 保護膜 ４２ 透明電極膜 ４４ フォトレジストパターン なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (3)
- 【請求項１】 ＴＦＴ基板、液晶層および上部基板で構
成される液晶表示板（ＬＣＤ）であって、 前記上部基板が、 ガラス基板上に形成されたブラックマトリックスと、 前記ブラックマトリックスに重畳し、それぞれ分離され
て形成された複数の色フィルタ層と、 前記ブラックマトリックスおよび色フィルタ層上に連続
的に形成された保護膜と、 ＩＴＯの透明電極膜とを含み、 前記ガラス基板上の接着領域上に位置する保護膜および
透明電極膜を除去してガラス基板に接着領域を形成した
ことを特徴とする、高画質液晶表示板。 - 【請求項２】 ＴＦＴ基板、液晶層および上部基板で構
成される液晶表示板（ＬＣＤ）の製造方法であって、 前記上部基板の製造方法は、 ガラス基板上にブラックマトリックスを形成する段階
と、 前記ブラックマトリックスに重畳し、それぞれ分離され
るよう色フィルタ層を形成する段階と、 前記ブラックマトリックスおよび色フィルタ層上に保護
膜を形成する段階と、 前記保護膜上にマスクを用いて接着領域を設けるための
フォト工程を行なう段階と、 前記保護膜上にのみＩＴＯの透明電極膜を形成する段階
とを備え、 前記の段階において接着領域が形成された上部基板に、
液晶層を介在して液晶駆動用ＴＦＴ基板を結合する段階
を備えることを特徴とする、高画質液晶表示板の製造方
法。 - 【請求項３】 前記マスク物質は、感光性を有する高分
子化合物であることを特徴とする、請求項２記載の高画
質液晶表示板の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2037 | 1992-02-12 | ||
| KR1019920002037A KR940009160B1 (ko) | 1992-02-12 | 1992-02-12 | 고화질 액정 표시판 및 그 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0682741A true JPH0682741A (ja) | 1994-03-25 |
Family
ID=19328876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP114293A Pending JPH0682741A (ja) | 1992-02-12 | 1993-01-07 | 高画質液晶表示板およびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0682741A (ja) |
| KR (1) | KR940009160B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004004914A (ja) * | 2003-06-30 | 2004-01-08 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ、ブラックマトリックス、表示装置、アクティブマトリックス型液晶表示装置、及びその製造方法 |
| US8481875B2 (en) | 2010-03-23 | 2013-07-09 | Ls Industrial Systems Co., Ltd. | Plug interlock device for vacuum circuit breaker |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02184815A (ja) * | 1989-01-11 | 1990-07-19 | Seiko Instr Inc | 多色表示装置の製造方法 |
| JPH03120516A (ja) * | 1989-10-04 | 1991-05-22 | Stanley Electric Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| JPH03129302A (ja) * | 1989-10-13 | 1991-06-03 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルター及びその作製方法 |
-
1992
- 1992-02-12 KR KR1019920002037A patent/KR940009160B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1993
- 1993-01-07 JP JP114293A patent/JPH0682741A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02184815A (ja) * | 1989-01-11 | 1990-07-19 | Seiko Instr Inc | 多色表示装置の製造方法 |
| JPH03120516A (ja) * | 1989-10-04 | 1991-05-22 | Stanley Electric Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| JPH03129302A (ja) * | 1989-10-13 | 1991-06-03 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルター及びその作製方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004004914A (ja) * | 2003-06-30 | 2004-01-08 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ、ブラックマトリックス、表示装置、アクティブマトリックス型液晶表示装置、及びその製造方法 |
| US8481875B2 (en) | 2010-03-23 | 2013-07-09 | Ls Industrial Systems Co., Ltd. | Plug interlock device for vacuum circuit breaker |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR930018309A (ko) | 1993-09-21 |
| KR940009160B1 (ko) | 1994-10-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19951003 |