JPH0680566A - ロイコトリエンアンタゴニストとして有用な１，２，４−トリ酸素化ベンゼン誘導体 - Google Patents
ロイコトリエンアンタゴニストとして有用な１，２，４−トリ酸素化ベンゼン誘導体Info
- Publication number
- JPH0680566A JPH0680566A JP5154990A JP15499093A JPH0680566A JP H0680566 A JPH0680566 A JP H0680566A JP 5154990 A JP5154990 A JP 5154990A JP 15499093 A JP15499093 A JP 15499093A JP H0680566 A JPH0680566 A JP H0680566A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ethyl
- reaction
- alkyl
- room temperature
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D257/00—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D257/02—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D257/04—Five-membered rings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P29/00—Non-central analgesic, antipyretic or antiinflammatory agents, e.g. antirheumatic agents; Non-steroidal antiinflammatory drugs [NSAID]
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P37/00—Drugs for immunological or allergic disorders
- A61P37/08—Antiallergic agents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
- C07D311/58—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4
- C07D311/66—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4 with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Pulmonology (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pain & Pain Management (AREA)
- Rheumatology (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 選択的ロイコトリエンＢ４アンタゴニスト化
合物の提供。 【構成】 次式の化合物またはその薬学上許容し得る塩
基付加塩，それらを投与することよりなる，喘息等の哺
乳動物の即時過敏状態を処置する方法ならびに当該化合
物またはその塩基付加塩を含有する薬用製剤。 〔式中，Ｒ1はＣ１−１０アルキル，Ｃ３−８シクロア
ルキル，ハロゲン，（Ｃ１−４アルキル）フェニル｛フ
ェニル環に更にハロゲン，Ｃ１−４アルコキシ，ＣＦ３
等の置換基を有していてもよい｝；Ｒ2はＣ１−５アル
キル，Ｃ１−４アルコキシ等；Ｒ3は−ＣＯＯＨ，５−
テトラゾリル，−ＣＯＮ（Ｒ7）２，置換基を有するベ
ンゼン等の環状基；ＤはＯ，Ｓ；ＡはＯ，Ｓ，−ＣＨ＝
ＣＨ−等；ＸはＯ，Ｓ，ＣＯ，ＣＨ２；ＹはＯ，Ｃ
Ｈ２；Ｚは結合，Ｃ１−１０アルキリデンである。〕
合物の提供。 【構成】 次式の化合物またはその薬学上許容し得る塩
基付加塩，それらを投与することよりなる，喘息等の哺
乳動物の即時過敏状態を処置する方法ならびに当該化合
物またはその塩基付加塩を含有する薬用製剤。 〔式中，Ｒ1はＣ１−１０アルキル，Ｃ３−８シクロア
ルキル，ハロゲン，（Ｃ１−４アルキル）フェニル｛フ
ェニル環に更にハロゲン，Ｃ１−４アルコキシ，ＣＦ３
等の置換基を有していてもよい｝；Ｒ2はＣ１−５アル
キル，Ｃ１−４アルコキシ等；Ｒ3は−ＣＯＯＨ，５−
テトラゾリル，−ＣＯＮ（Ｒ7）２，置換基を有するベ
ンゼン等の環状基；ＤはＯ，Ｓ；ＡはＯ，Ｓ，−ＣＨ＝
ＣＨ−等；ＸはＯ，Ｓ，ＣＯ，ＣＨ２；ＹはＯ，Ｃ
Ｈ２；Ｚは結合，Ｃ１−１０アルキリデンである。〕
Description
【０００１】肺のアレルギー反応の領域における研究
は、リポキシゲナーゼの作用により生成されるアラキド
ン酸誘導体が様々な疾病状態に関係しているという証拠
を提供した。これらのアラキドン酸代謝物質の幾つか
は、ロイコトリエンと呼ばれるエイコサテトラエン酸群
の一員として分類された。現在、これらの物質のうち三
つが、かつてアナフィラキシーの遅反応性物質（ＳＲＳ
−Ａ）と呼ばれた物の主要な構成員であると考えられ、
ロイコトリエンＣ4、Ｄ4、およびＥ4（それぞれＬＴ
Ｃ4、ＬＴＤ4、およびＬＴＥ4）と命名された。
は、リポキシゲナーゼの作用により生成されるアラキド
ン酸誘導体が様々な疾病状態に関係しているという証拠
を提供した。これらのアラキドン酸代謝物質の幾つか
は、ロイコトリエンと呼ばれるエイコサテトラエン酸群
の一員として分類された。現在、これらの物質のうち三
つが、かつてアナフィラキシーの遅反応性物質（ＳＲＳ
−Ａ）と呼ばれた物の主要な構成員であると考えられ、
ロイコトリエンＣ4、Ｄ4、およびＥ4（それぞれＬＴ
Ｃ4、ＬＴＤ4、およびＬＴＥ4）と命名された。
【０００２】もう一つのアラキドン酸代謝物質であるロ
イコトリエンＢ4（ＬＴＢ4）は、乾癬、関節炎、慢性肺
疾患、急性呼吸窮迫症候群、ショック、喘息、炎症性腸
疾患、ならびにその他の多形核白血球および他の向炎症
性細胞の浸潤および活性化を特徴とする炎症状態の病因
に関連する向炎症性脂質である。このように活性化され
ると多形核白血球は、組織を減成する酵素および炎症の
原因となる活性な化学物質を遊離する。故にＬＴＢ4の
拮抗は、これらの状態の処置に対する新規な治療的アプ
ローチを提供する。
イコトリエンＢ4（ＬＴＢ4）は、乾癬、関節炎、慢性肺
疾患、急性呼吸窮迫症候群、ショック、喘息、炎症性腸
疾患、ならびにその他の多形核白血球および他の向炎症
性細胞の浸潤および活性化を特徴とする炎症状態の病因
に関連する向炎症性脂質である。このように活性化され
ると多形核白血球は、組織を減成する酵素および炎症の
原因となる活性な化学物質を遊離する。故にＬＴＢ4の
拮抗は、これらの状態の処置に対する新規な治療的アプ
ローチを提供する。
【０００３】本発明の目的は、ロイコトリエンが原因と
なる仲介物質であると考えられる喘息のようなアレルギ
ー疾患および炎症の処置に治療的に使用し得る選択的ロ
イコトリエンＢ4アンタゴニストである新規な化学物質
を提供することである。
なる仲介物質であると考えられる喘息のようなアレルギ
ー疾患および炎症の処置に治療的に使用し得る選択的ロ
イコトリエンＢ4アンタゴニストである新規な化学物質
を提供することである。
【０００４】本発明は、式Ｉ：
【化５】 ［式中、ＤはＯまたはＳであり；Ｒ1は、Ｃ1−Ｃ10アル
キル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、または、ハロゲン、Ｃ
1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、トリフルオロメ
チル、もしくはジ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）アミノから選ば
れる０ないし３個の同一のもしくは異なる置換基をフェ
ニル環上に有する（Ｃ1−Ｃ4アルキル）フェニルであ
り；Ｒ2は、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ5アルケニル、
Ｃ2−Ｃ5アルキニル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシであり；Ｘは
−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−ＣＨ2−で
あり；Ｙは−Ｏ−または−ＣＨ2−であり；または合し
て−Ｘ−Ｙ−が−ＣＨ＝ＣＨ−もしくは−Ｃ≡Ｃ−であ
り；Ｚは、結合、または直鎖もしくは分枝鎖Ｃ1−Ｃ10
アルキリデニルであり；Ａは、結合、−Ｏ−、−Ｓ−、
−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＲaＲb−［式中、Ｒaおよ
びＲbは各々独立して水素、Ｃ1−Ｃ5アルキル、または
Ｒ6−置換フェニルであり、またはこれらの結合してい
る炭素原子と合してＣ4−Ｃ8シクロアルキル環を形成し
ている］であり；Ｒ3はＲ4、
キル、Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル、または、ハロゲン、Ｃ
1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、トリフルオロメ
チル、もしくはジ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）アミノから選ば
れる０ないし３個の同一のもしくは異なる置換基をフェ
ニル環上に有する（Ｃ1−Ｃ4アルキル）フェニルであ
り；Ｒ2は、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ5アルケニル、
Ｃ2−Ｃ5アルキニル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシであり；Ｘは
−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−ＣＨ2−で
あり；Ｙは−Ｏ−または−ＣＨ2−であり；または合し
て−Ｘ−Ｙ−が−ＣＨ＝ＣＨ−もしくは−Ｃ≡Ｃ−であ
り；Ｚは、結合、または直鎖もしくは分枝鎖Ｃ1−Ｃ10
アルキリデニルであり；Ａは、結合、−Ｏ−、−Ｓ−、
−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＲaＲb−［式中、Ｒaおよ
びＲbは各々独立して水素、Ｃ1−Ｃ5アルキル、または
Ｒ6−置換フェニルであり、またはこれらの結合してい
る炭素原子と合してＣ4−Ｃ8シクロアルキル環を形成し
ている］であり；Ｒ3はＲ4、
【化６】 ［式中、Ｒは各々独立して水素またはＣ1−Ｃ4アルキル
であり；Ｒ4は各々独立して−ＣＯＯＨ、５−テトラゾ
リル、−ＣＯＮ（Ｒ7）2、または−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ8で
あり；Ｒ5は水素またはハロゲンであり；Ｒ6は各々水
素、Ｃ1−Ｃ4アルキル、Ｃ2−Ｃ5アルケニル、Ｃ2−Ｃ5
アルキニル、ベンジル、メトキシ、−Ｗ−Ｒ4、−Ｔ−
Ｇ−Ｒ4、（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−Ｔ−（Ｃ1−Ｃ4アル
キリデニル）−Ｏ−、またはヒドロキシであり；Ｒ7は
各々独立して水素、フェニル、またはＣ1−Ｃ4アルキ
ル、または窒素原子と合してモルホリノ、ピペリジノ、
ピペラジノ、もしくはピロリジノ基を形成し；Ｒ8はＣ1
−Ｃ4アルキルまたはフェニルであり；Ｒ9は水素、ハロ
ゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ4アルコ
キシ、（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−Ｓ（Ｏ）q−、トリフル
オロメチル、またはジ（Ｃ1−Ｃ3アルキル）アミノ、−
Ｗ−Ｒ4、または−Ｔ−Ｇ−Ｒ4であり；Ｗは各々結合ま
たは炭素原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖二価ヒ
ドロカルビル残基であり；Ｇは各々炭素原子数１ないし
８の直鎖または分枝鎖二価ヒドロカルビル残基であり；
Ｔは各々結合、−ＣＨ2−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＨ
ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−Ｓ（Ｏ）q−であ
り；ｑは各々独立して０、１、または２であり；ｐは０
または１であり；そして、ｔは０または１である］であ
る。ただし、Ｘが−Ｏ−または−Ｓ−である時、Ｙは−
Ｏ−ではなく；Ｙが−Ｏ−である時、ＺおよびＡが共に
結合であることはなく；Ａが−Ｏ−または−Ｓ−である
時、Ｒ3はＲ4ではなく；Ａが−Ｏ−または−Ｓ−であり
且つＺが結合である時、Ｙは−Ｏ−ではなく;Ｙが−Ｏ
−である時、Ｚは結合ではなく；そして、ｐが０である
時、Ｗは結合ではない。］で示される化合物またはその
薬学上許容し得る塩基付加塩を提供するものである。
であり；Ｒ4は各々独立して−ＣＯＯＨ、５−テトラゾ
リル、−ＣＯＮ（Ｒ7）2、または−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ8で
あり；Ｒ5は水素またはハロゲンであり；Ｒ6は各々水
素、Ｃ1−Ｃ4アルキル、Ｃ2−Ｃ5アルケニル、Ｃ2−Ｃ5
アルキニル、ベンジル、メトキシ、−Ｗ−Ｒ4、−Ｔ−
Ｇ−Ｒ4、（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−Ｔ−（Ｃ1−Ｃ4アル
キリデニル）−Ｏ−、またはヒドロキシであり；Ｒ7は
各々独立して水素、フェニル、またはＣ1−Ｃ4アルキ
ル、または窒素原子と合してモルホリノ、ピペリジノ、
ピペラジノ、もしくはピロリジノ基を形成し；Ｒ8はＣ1
−Ｃ4アルキルまたはフェニルであり；Ｒ9は水素、ハロ
ゲン、ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ4アルコ
キシ、（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−Ｓ（Ｏ）q−、トリフル
オロメチル、またはジ（Ｃ1−Ｃ3アルキル）アミノ、−
Ｗ−Ｒ4、または−Ｔ−Ｇ−Ｒ4であり；Ｗは各々結合ま
たは炭素原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖二価ヒ
ドロカルビル残基であり；Ｇは各々炭素原子数１ないし
８の直鎖または分枝鎖二価ヒドロカルビル残基であり；
Ｔは各々結合、−ＣＨ2−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＨ
ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−Ｓ（Ｏ）q−であ
り；ｑは各々独立して０、１、または２であり；ｐは０
または１であり；そして、ｔは０または１である］であ
る。ただし、Ｘが−Ｏ−または−Ｓ−である時、Ｙは−
Ｏ−ではなく；Ｙが−Ｏ−である時、ＺおよびＡが共に
結合であることはなく；Ａが−Ｏ−または−Ｓ−である
時、Ｒ3はＲ4ではなく；Ａが−Ｏ−または−Ｓ−であり
且つＺが結合である時、Ｙは−Ｏ−ではなく;Ｙが−Ｏ
−である時、Ｚは結合ではなく；そして、ｐが０である
時、Ｗは結合ではない。］で示される化合物またはその
薬学上許容し得る塩基付加塩を提供するものである。
【０００５】さらに本発明により提供されるのは、式Ｉ
の化合物の有効量を投与することからなる、炎症または
喘息といったような即時過敏状態を処置する方法であ
る。
の化合物の有効量を投与することからなる、炎症または
喘息といったような即時過敏状態を処置する方法であ
る。
【０００６】さらに本発明は、活性成分としての上記定
義による本発明化合物を、そのための薬学上許容し得る
担体と合して含む薬用製剤を提供する。
義による本発明化合物を、そのための薬学上許容し得る
担体と合して含む薬用製剤を提供する。
【０００７】本発明は、ロイコトリエンＢ4の過剰な放
出に付随する疾病および状態の処置に有用な新規な有機
化合物に関するものである。好ましい化合物群は、式Ｉ
ａ：
出に付随する疾病および状態の処置に有用な新規な有機
化合物に関するものである。好ましい化合物群は、式Ｉ
ａ：
【化７】 で示される化合物およびその薬学上許容し得る塩基付加
塩である。特に好ましいのは、Ｒ1がＣ1−Ｃ6アルキ
ル、またはＣ5−Ｃ6シクロアルキルであり、Ｒ2がＣ1−
Ｃ4アルキルである化合物である。
塩である。特に好ましいのは、Ｒ1がＣ1−Ｃ6アルキ
ル、またはＣ5−Ｃ6シクロアルキルであり、Ｒ2がＣ1−
Ｃ4アルキルである化合物である。
【０００８】好ましいＺ置換基は、Ｃ2−Ｃ4アルキリデ
ン、特に−ＣＨ2ＣＨ2−および−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2
−を包含する。好ましいＡの群は、−Ｏ−、−ＣＨ
2−、および−Ｃ（ＣＨ3）2−を包含する。好ましいＲ3
の群は、−ＣＯＯＨ、５−テトラゾリル、または上記の
ような単環、二環、もしくは三環式基［ここで、−Ｗ−
ＣＯＯＨ、−Ｔ−Ｇ−ＣＯＯＨ、または対応するテトラ
ゾール誘導体のように、環に結合した少なくとも１個の
酸性基が存在する］を包含する。好ましいＷ基は、結合
または直鎖Ｃ1−Ｃ4アルキリデンであり；好ましいＧ基
は直鎖Ｃ1−Ｃ4アルキリデンである。ＲまたはＲ6がＣ1
−Ｃ4アルキル、特にｎ−プロピルであることが好まし
い。
ン、特に−ＣＨ2ＣＨ2−および−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2
−を包含する。好ましいＡの群は、−Ｏ−、−ＣＨ
2−、および−Ｃ（ＣＨ3）2−を包含する。好ましいＲ3
の群は、−ＣＯＯＨ、５−テトラゾリル、または上記の
ような単環、二環、もしくは三環式基［ここで、−Ｗ−
ＣＯＯＨ、−Ｔ−Ｇ−ＣＯＯＨ、または対応するテトラ
ゾール誘導体のように、環に結合した少なくとも１個の
酸性基が存在する］を包含する。好ましいＷ基は、結合
または直鎖Ｃ1−Ｃ4アルキリデンであり；好ましいＧ基
は直鎖Ｃ1−Ｃ4アルキリデンである。ＲまたはＲ6がＣ1
−Ｃ4アルキル、特にｎ−プロピルであることが好まし
い。
【０００９】特に好ましい群は、Ａが−Ｏ−または−Ｃ
（ＣＨ3）2−でありＲ3が５−テトラゾリルまたは構
造：
（ＣＨ3）2−でありＲ3が５−テトラゾリルまたは構
造：
【化８】 ［式中、Ｒはｎ−プロピルであり、Ｔは−Ｏ−であり、
Ｗは結合であり、そして、Ｒ4は−ＣＯＯＨまたは５−
テトラゾリルである］を有するクロマニルカルボン酸で
ある化合物である。
Ｗは結合であり、そして、Ｒ4は−ＣＯＯＨまたは５−
テトラゾリルである］を有するクロマニルカルボン酸で
ある化合物である。
【００１０】以下の定義は本開示全編に用いられる様々
な用語に関連するものである。「Ｃ1−Ｃ10アルキル」
という語は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペ
ンチル、２，２−ジメチルプロピル、ヘキシル等のよう
な炭素原子数１ないし１０の直鎖および分枝脂肪族基を
意味する。「Ｃ1−Ｃ3アルキル」、「Ｃ1−Ｃ4アルキ
ル」および「Ｃ1−Ｃ5アルキル」という語がこの定義に
包含される。「Ｃ2−Ｃ5アルケニル」という語は、−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ2、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝
ＣＨ2、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、−ＣＨ2ＣＨ＝Ｃ
（ＣＨ3）2等のような１個の二重結合を含む炭素原子数
２ないし５の直鎖および分枝脂肪族基を意味する。「Ｃ
2−Ｃ5アルキニル」という語は、−Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ2
−Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ2ＣＨ2Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ2ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ2Ｃ≡ＣＣＨ3等のような、１個
の三重結合を含む炭素原子数２ないし５の直鎖および分
枝脂肪族基を意味する。「Ｃ1−Ｃ4アルコキシ」という
語は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、およびｔ−ブトキシ
を意味する。「ハロゲン」という語はフルオロ、クロ
ロ、ブロモ、およびヨードを意味する。
な用語に関連するものである。「Ｃ1−Ｃ10アルキル」
という語は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペ
ンチル、２，２−ジメチルプロピル、ヘキシル等のよう
な炭素原子数１ないし１０の直鎖および分枝脂肪族基を
意味する。「Ｃ1−Ｃ3アルキル」、「Ｃ1−Ｃ4アルキ
ル」および「Ｃ1−Ｃ5アルキル」という語がこの定義に
包含される。「Ｃ2−Ｃ5アルケニル」という語は、−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ2、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝
ＣＨ2、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、−ＣＨ2ＣＨ＝Ｃ
（ＣＨ3）2等のような１個の二重結合を含む炭素原子数
２ないし５の直鎖および分枝脂肪族基を意味する。「Ｃ
2−Ｃ5アルキニル」という語は、−Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ2
−Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ2ＣＨ2Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ2ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）Ｃ≡ＣＨ、−ＣＨ2Ｃ≡ＣＣＨ3等のような、１個
の三重結合を含む炭素原子数２ないし５の直鎖および分
枝脂肪族基を意味する。「Ｃ1−Ｃ4アルコキシ」という
語は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、およびｔ−ブトキシ
を意味する。「ハロゲン」という語はフルオロ、クロ
ロ、ブロモ、およびヨードを意味する。
【００１１】「Ｃ1−Ｃ10アルキリデン」という語は、
−ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−
ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）−、ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）Ｃ
Ｈ（ＣＨ3）−、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＨ2ＣＨ
（Ｃ2Ｈ5）−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）
ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、−ＣＨ2
ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）
−、−Ｃ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）Ｃ
Ｈ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ
Ｈ2Ｃ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2Ｃ
Ｈ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2−、−ＣＨ2
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2
ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−（ＣＨ2）10−等のようなＣ1−Ｃ10アルカンから誘導
される二価の基を意味する。「Ｃ1−Ｃ4アルキリデン」
および「Ｃ2−Ｃ4アルキリデン」という語がこの定義に
包含される。
−ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−
ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）−、ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）Ｃ
Ｈ（ＣＨ3）−、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＨ2ＣＨ
（Ｃ2Ｈ5）−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）
ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、−ＣＨ2
ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）
−、−Ｃ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）Ｃ
Ｈ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ
Ｈ2Ｃ（ＣＨ3）2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2Ｃ
Ｈ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2−、−ＣＨ2
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2ＣＨ2
ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−（ＣＨ2）10−等のようなＣ1−Ｃ10アルカンから誘導
される二価の基を意味する。「Ｃ1−Ｃ4アルキリデン」
および「Ｃ2−Ｃ4アルキリデン」という語がこの定義に
包含される。
【００１２】「Ｃ3−Ｃ8シクロアルキル」という語は、
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、４，４−ジメチルシクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、シクロオクチル等のような、炭素原子数３な
いし８のシクロアルキル環を意味する。
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、４，４−ジメチルシクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、シクロオクチル等のような、炭素原子数３な
いし８のシクロアルキル環を意味する。
【００１３】「炭素原子数１ないし８の直鎖または分枝
鎖二価ヒドロカルビル基」という語は、炭素原子数１な
いし８の直鎖または分枝アルカン、アルケン、またはア
ルキンから誘導される二価の基を意味する。有機化学者
により理解されるように、炭素原子の分枝および数に応
じて、このような基は、１、２または３個の二重もしく
は三重結合または両者の組合せを含み得る。したがって
この語は、前文の記載に限定される、所望により１ない
し３個の二重または三重結合、またはその二者の組合せ
を含む、１ないし８個の炭素原子を含む上に定義される
ようなアルキリデン基と考えることができる。
鎖二価ヒドロカルビル基」という語は、炭素原子数１な
いし８の直鎖または分枝アルカン、アルケン、またはア
ルキンから誘導される二価の基を意味する。有機化学者
により理解されるように、炭素原子の分枝および数に応
じて、このような基は、１、２または３個の二重もしく
は三重結合または両者の組合せを含み得る。したがって
この語は、前文の記載に限定される、所望により１ない
し３個の二重または三重結合、またはその二者の組合せ
を含む、１ないし８個の炭素原子を含む上に定義される
ようなアルキリデン基と考えることができる。
【００１４】本発明は、式Ｉの化合物の薬学上許容し得
る塩基付加塩を包含する。このような塩は、アンモニウ
ムならびにアルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩等のような無機塩基から誘導され
る塩類、ならびに脂肪族および芳香族アミン、脂肪族ジ
アミン、ヒドロキシアルキルアミン等のような塩基性有
機アミン類から誘導される塩類を包含する。したがって
本発明に係る塩の製造に有用な塩基は、水酸化アンモニ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カル
シウム、メチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジア
ミン、シクロヘキシルアミン、エタノールアミン等を包
含する。カリウムおよびナトリウム塩の形が特に好まし
い。本発明は、一塩型、即ち式Ｉの化合物と前記の塩基
との１：１の比率、ならびに式Ｉの化合物が２個の酸性
基を有している例における二塩型の両者を包含する。さ
らに、本発明は、エタノール溶媒和物、水和物等のよう
な式Ｉの化合物またはその塩の任意の溶媒和型を包含す
る。
る塩基付加塩を包含する。このような塩は、アンモニウ
ムならびにアルカリ金属およびアルカリ土類金属水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩等のような無機塩基から誘導され
る塩類、ならびに脂肪族および芳香族アミン、脂肪族ジ
アミン、ヒドロキシアルキルアミン等のような塩基性有
機アミン類から誘導される塩類を包含する。したがって
本発明に係る塩の製造に有用な塩基は、水酸化アンモニ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カル
シウム、メチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジア
ミン、シクロヘキシルアミン、エタノールアミン等を包
含する。カリウムおよびナトリウム塩の形が特に好まし
い。本発明は、一塩型、即ち式Ｉの化合物と前記の塩基
との１：１の比率、ならびに式Ｉの化合物が２個の酸性
基を有している例における二塩型の両者を包含する。さ
らに、本発明は、エタノール溶媒和物、水和物等のよう
な式Ｉの化合物またはその塩の任意の溶媒和型を包含す
る。
【００１５】分枝アルキル、アルキリデニル、またはヒ
ドロカルビル官能基を有する化合物、および、二重また
は三重結合を有する化合物には、種々の立体異性生成物
の存在し得ることが認められる。本発明は或る特定の立
体異性体に限定されるのではなく、全ての可能な個々の
異性体およびそれらの混合物を包含する。「５−テトラ
ゾリル」という語は両方の互変異性体、即ち（１Ｈ）−
５−テトラゾリルおよび（２Ｈ）−５−テトラゾリルを
意味する。
ドロカルビル官能基を有する化合物、および、二重また
は三重結合を有する化合物には、種々の立体異性生成物
の存在し得ることが認められる。本発明は或る特定の立
体異性体に限定されるのではなく、全ての可能な個々の
異性体およびそれらの混合物を包含する。「５−テトラ
ゾリル」という語は両方の互変異性体、即ち（１Ｈ）−
５−テトラゾリルおよび（２Ｈ）−５−テトラゾリルを
意味する。
【００１６】本発明化合物は当分野で知られる標準的方
法に従って製造することができる。例えば、式Ｉのテト
ラゾール化合物（式中、少なくとも１個のＲ4が５−テ
トラゾリルである）は、対応するニトリル中間体から種
々の標準的方法のいずれかによって製造することができ
る。一般にニトリルは、非反応性溶媒中でアジド試薬と
反応させる。好ましい条件は、ジメチルホルムアミド中
のリチウムまたはアンモニウムアジドの使用、ダイグラ
イムおよびＮ，Ｎ−ジメチルエタノールアミンヒドロク
ロリド中のナトリウムアジドの使用、または、ジメトキ
シエタンもしくはテトラヒドロフランのような非反応性
溶媒中のトリ−ｎ−ブチルスズアジドの使用を含む。後
者の条件の下では、反応は一般に反応混合物の還流温度
またはその付近に加熱する。変換はこれらの条件の下で
は一般に２−３日間で完了する。その他の操作し得る反
応条件は、ニトリルと、ナトリウムアジドのようなアル
カリ金属アジド、塩化アンモニウム、および（所望によ
り）塩化リチウムを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）のような不活性高沸点溶媒中、好ましくは約
６０℃ないし約１２５℃の温度で反応させることを含
む。別法として、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、ジエトキシエタン等のような溶媒中のトリ−ｎ−ブ
チルスズアジドまたはテトラメチルグアニジニウムアジ
ドを、アルカリ金属アジド、塩化アンモニウム、塩化リ
チウムおよびＤＭＦの代わりに使用することもできる。
法に従って製造することができる。例えば、式Ｉのテト
ラゾール化合物（式中、少なくとも１個のＲ4が５−テ
トラゾリルである）は、対応するニトリル中間体から種
々の標準的方法のいずれかによって製造することができ
る。一般にニトリルは、非反応性溶媒中でアジド試薬と
反応させる。好ましい条件は、ジメチルホルムアミド中
のリチウムまたはアンモニウムアジドの使用、ダイグラ
イムおよびＮ，Ｎ−ジメチルエタノールアミンヒドロク
ロリド中のナトリウムアジドの使用、または、ジメトキ
シエタンもしくはテトラヒドロフランのような非反応性
溶媒中のトリ−ｎ−ブチルスズアジドの使用を含む。後
者の条件の下では、反応は一般に反応混合物の還流温度
またはその付近に加熱する。変換はこれらの条件の下で
は一般に２−３日間で完了する。その他の操作し得る反
応条件は、ニトリルと、ナトリウムアジドのようなアル
カリ金属アジド、塩化アンモニウム、および（所望によ
り）塩化リチウムを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）のような不活性高沸点溶媒中、好ましくは約
６０℃ないし約１２５℃の温度で反応させることを含
む。別法として、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、ジエトキシエタン等のような溶媒中のトリ−ｎ−ブ
チルスズアジドまたはテトラメチルグアニジニウムアジ
ドを、アルカリ金属アジド、塩化アンモニウム、塩化リ
チウムおよびＤＭＦの代わりに使用することもできる。
【００１７】同様に、本発明に係る酸（少なくとも１個
のＲ4が−ＣＯＯＨである式Ｉ）が、対応する−ＣＯＯ
（Ｃ1−Ｃ4アルキル）または−ＣＮ中間体から製造され
る。このようなエステルまたはニトリルの加水分解は、
様々な酸性または塩基性の条件のいずれかにより、好ま
しくは水性条件下で達成することができる。好ましい方
法は、アセトン／水の溶媒混合物中の水酸化リチウム、
ジオキサン中の水酸化ナトリウム、またはメタノール／
水の混合物中の水酸化カリウムもしくは炭酸カリウムの
使用を含む。前者の条件の下では、加水分解は一般に約
２０−３０℃の温度において約１２−１８時間で完了す
るが、後者の反応は通常２０−３０℃において１時間で
完了する。
のＲ4が−ＣＯＯＨである式Ｉ）が、対応する−ＣＯＯ
（Ｃ1−Ｃ4アルキル）または−ＣＮ中間体から製造され
る。このようなエステルまたはニトリルの加水分解は、
様々な酸性または塩基性の条件のいずれかにより、好ま
しくは水性条件下で達成することができる。好ましい方
法は、アセトン／水の溶媒混合物中の水酸化リチウム、
ジオキサン中の水酸化ナトリウム、またはメタノール／
水の混合物中の水酸化カリウムもしくは炭酸カリウムの
使用を含む。前者の条件の下では、加水分解は一般に約
２０−３０℃の温度において約１２−１８時間で完了す
るが、後者の反応は通常２０−３０℃において１時間で
完了する。
【００１８】ニトリルおよびエステル官能基の両者を含
む化合物においては、一般にエステルの加水分解の前に
ニトリル基をテトラゾールに変換することが好ましい。
む化合物においては、一般にエステルの加水分解の前に
ニトリル基をテトラゾールに変換することが好ましい。
【００１９】式Ｉの化合物またはそれらの前駆体は以下
の工程に従って製造することができる。
の工程に従って製造することができる。
【００２０】
【化９】
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【００２１】反応式１において、４−置換レゾルシノー
ルを、不活性もしくは実質上不活性な溶媒または溶媒混
合物中でオキシ塩化燐（ＰＯＣｌ3）の存在下でジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ）によりホルミル化し、対応す
る２，４−ジヒドロキシ−５−置換ベンズアルデヒドを
得る。一般にレゾルシノールおよびＤＭＦは当量ないし
僅かに過剰のＤＭＦを使用する。好適な溶媒は塩素化さ
れた極性溶媒、好ましくはＣＨ2Ｃｌ2である。
ルを、不活性もしくは実質上不活性な溶媒または溶媒混
合物中でオキシ塩化燐（ＰＯＣｌ3）の存在下でジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ）によりホルミル化し、対応す
る２，４−ジヒドロキシ−５−置換ベンズアルデヒドを
得る。一般にレゾルシノールおよびＤＭＦは当量ないし
僅かに過剰のＤＭＦを使用する。好適な溶媒は塩素化さ
れた極性溶媒、好ましくはＣＨ2Ｃｌ2である。
【００２２】こうして得られたベンズアルデヒドを、不
活性もしくは実質上不活性な溶媒または溶媒混合物中の
金属ハロゲン化物の存在下または不在下に、Ｋ2ＣＯ3ま
たはＮａＨのような無機塩基中で反応物を合することに
より、４位でアルキル化（連結）して、対応する２−ヒ
ドロキシ−４−置換−５−置換ベンズアルデヒドを得
る。一般に２当量ないし僅かに過剰の無機塩基を使用
し、もし使用するならば触媒量の金属ハロゲン化物を使
用する。好ましい無機塩基はＫ2ＣＯ3である。金属ハロ
ゲン化物の存在することが好ましく、好ましい金属ハロ
ゲン化物はＮａＩおよびＫＩである。好適な溶媒はＤＭ
Ｆ、メチルエチルケトン、およびＤＭＳＯのような極性
溶媒であり、ＤＭＦが好ましい。好ましくはこの反応は
約７５℃ないし約１２５℃の温度で実施する。
活性もしくは実質上不活性な溶媒または溶媒混合物中の
金属ハロゲン化物の存在下または不在下に、Ｋ2ＣＯ3ま
たはＮａＨのような無機塩基中で反応物を合することに
より、４位でアルキル化（連結）して、対応する２−ヒ
ドロキシ−４−置換−５−置換ベンズアルデヒドを得
る。一般に２当量ないし僅かに過剰の無機塩基を使用
し、もし使用するならば触媒量の金属ハロゲン化物を使
用する。好ましい無機塩基はＫ2ＣＯ3である。金属ハロ
ゲン化物の存在することが好ましく、好ましい金属ハロ
ゲン化物はＮａＩおよびＫＩである。好適な溶媒はＤＭ
Ｆ、メチルエチルケトン、およびＤＭＳＯのような極性
溶媒であり、ＤＭＦが好ましい。好ましくはこの反応は
約７５℃ないし約１２５℃の温度で実施する。
【００２３】別法として、ベンズアルデヒドのアルキル
化をミツノブ反応を用いて実施する。一般にこれは、テ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルエーテル（ＤＭ
Ｅ）およびジエチルエーテルのようなエーテル性溶媒中
のジエチルアゾジカルボキシラート（ＤＥＡＤ）および
トリフェニルホスフィンまたはトリアルキルホスフィン
による処理の際の、アルコール間のアルキル化的連結反
応である。好ましい溶媒はＴＨＦである。
化をミツノブ反応を用いて実施する。一般にこれは、テ
トラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルエーテル（ＤＭ
Ｅ）およびジエチルエーテルのようなエーテル性溶媒中
のジエチルアゾジカルボキシラート（ＤＥＡＤ）および
トリフェニルホスフィンまたはトリアルキルホスフィン
による処理の際の、アルコール間のアルキル化的連結反
応である。好ましい溶媒はＴＨＦである。
【００２４】次に２−ヒドロキシ−４−置換−５−置換
ベンズアルデヒドをＫ2ＣＯ3またはＮａＨのような無機
塩基中のハロゲン化ベンジルと、ＤＭＦ、ＭＥＫおよび
ＤＭＳＯのような極性非プロトン性溶媒中、約５０℃な
いし約１００℃の温度で反応させることにより、これを
２位でアルキル化し、対応する２−ベンジルオキシ−４
−置換−５−置換ベンズアルデヒドを得る。当量ないし
僅かに過剰のハロゲン化ベンジル、好ましくは臭化ベン
ジルを使用する。好ましい溶媒はＤＭＦである。水素化
ナトリウムを使用する場合、触媒量の１８−クラウン−
６エーテルを添加する必要があり、反応はほぼ室温で実
施する。
ベンズアルデヒドをＫ2ＣＯ3またはＮａＨのような無機
塩基中のハロゲン化ベンジルと、ＤＭＦ、ＭＥＫおよび
ＤＭＳＯのような極性非プロトン性溶媒中、約５０℃な
いし約１００℃の温度で反応させることにより、これを
２位でアルキル化し、対応する２−ベンジルオキシ−４
−置換−５−置換ベンズアルデヒドを得る。当量ないし
僅かに過剰のハロゲン化ベンジル、好ましくは臭化ベン
ジルを使用する。好ましい溶媒はＤＭＦである。水素化
ナトリウムを使用する場合、触媒量の１８−クラウン−
６エーテルを添加する必要があり、反応はほぼ室温で実
施する。
【００２５】こうして得られたベンズアルデヒドを、バ
イヤー−ビリガー反応で、対応する蟻酸エステルに酸化
する。好ましくは、この過酸はｍ−クロロ過安息香酸で
ある。一般に、極性の塩素化溶媒、好ましくはＣＨ2Ｃ
ｌ2を使用する。次いでこの蟻酸エステルを、無極性溶
媒、好ましくはＴＨＦ中の水性無機塩基、好ましくは水
性ＮａＯＨで加水分解して、対応するフェノールを得
る。
イヤー−ビリガー反応で、対応する蟻酸エステルに酸化
する。好ましくは、この過酸はｍ−クロロ過安息香酸で
ある。一般に、極性の塩素化溶媒、好ましくはＣＨ2Ｃ
ｌ2を使用する。次いでこの蟻酸エステルを、無極性溶
媒、好ましくはＴＨＦ中の水性無機塩基、好ましくは水
性ＮａＯＨで加水分解して、対応するフェノールを得
る。
【００２６】こうして得られたフェノールを、次に、適
当なＲ1−ハロゲン化物またはＲ1−ＯＨ基を用いて、類
似のアルキル化反応について上に述べたのと実質的に同
じ方法および条件を使用してアルキル化し、対応する
１，２，４−トリ酸素化ベンゼン誘導体を得る。
当なＲ1−ハロゲン化物またはＲ1−ＯＨ基を用いて、類
似のアルキル化反応について上に述べたのと実質的に同
じ方法および条件を使用してアルキル化し、対応する
１，２，４−トリ酸素化ベンゼン誘導体を得る。
【００２７】反応式２においては、反応式１由来の１，
２，４−トリ酸素化ベンゼン誘導体の２−ヒドロキシ基
を脱保護する。この分野の当業者には理解できるであろ
うが、ヒドロキシ基を脱保護する手段は、使用する保護
基の選択に依存するであろう。ベンジル基を使用する好
ましい状況において、このベンジル基は、例えば不活性
または実質上不活性な溶媒または溶媒混合物、好ましく
は酢酸エチルまたはメタノール中、炭素上１０％パラジ
ウムおよび気体水素を使用して、接触水素化により除去
する。別法として、極性塩素化溶媒、好ましくは塩化メ
チレン中の三ハロゲン化ホウ素、好ましくは三臭化ホウ
素を使用して、ベンジル保護基を除去した後の脱保護を
行なう。式Ｉのテトラゾール化合物（式中少なくとも１
個のＲ4が５−テトラゾリルである）は種々の標準的方
法のいずれかによって対応するニトリル中間体から製造
することができる。一般に、このニトリルは非反応性溶
媒中でアジド試薬と反応する。好ましい条件はジメチル
ホルムアミド中のリチウムもしくはアンモニウムアジ
ド、ダイグライムおよびＮ，Ｎ−ジメチルエタノールア
ミンヒドロクロリド中のナトリウムアジド、または、ジ
メトキシエタンもしくはテトラヒドロフランのような非
反応性溶媒中のトリ−ｎ−ブチルスズアジドの使用を含
む。後者の条件の下では、反応は一般に反応混合物の還
流温度またはその付近に加熱する。一般に変換は、これ
らの条件の下では２−３日間で完了する。その他の操作
し得る反応条件は、このニトリルを、ナトリウムアジド
のようなアルカリ金属アジド、塩化アンモニウム、およ
び（所望により）塩化リチウムと、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）のような非反応性高沸点溶媒中、
好ましくは約６０℃ないし約１２５℃の温度で反応させ
ることを含む。別法として、テトラヒドロフラン、ジメ
トキシエタン、ジエトキシエタン等のような溶媒中のト
リ−ｎ−ブチルスズアジドまたはテトラメチルグアニジ
ニウムアジドを、アルカリ金属アジド、塩化アンモニウ
ム、塩化リチウムおよびＤＭＦの代わりに使用すること
もできる。同様に、本発明に係る酸（少なくとも１個の
Ｒ4が−ＣＯＯＨである式Ｉ）が、対応する−ＣＯＯＲ
または−ＣＮ中間体から製造される。このようなエステ
ルまたはニトリルの加水分解は、様々な酸性または塩基
性の条件のいずれかにより、好ましくは水性条件下で達
成することができる。好ましい方法は、アセトン／水の
溶媒混合物中の水酸化リチウム、ジオキサン中の水酸化
ナトリウム、またはメタノール／水の混合物中の水酸化
カリウムもしくは炭酸カリウムの使用を含む。前者の条
件の下では、加水分解は一般に約２０−３０℃の温度に
おいて約１２−１８時間で完了するが、後者の反応は通
常２０−３０℃において１時間で完了する。
２，４−トリ酸素化ベンゼン誘導体の２−ヒドロキシ基
を脱保護する。この分野の当業者には理解できるであろ
うが、ヒドロキシ基を脱保護する手段は、使用する保護
基の選択に依存するであろう。ベンジル基を使用する好
ましい状況において、このベンジル基は、例えば不活性
または実質上不活性な溶媒または溶媒混合物、好ましく
は酢酸エチルまたはメタノール中、炭素上１０％パラジ
ウムおよび気体水素を使用して、接触水素化により除去
する。別法として、極性塩素化溶媒、好ましくは塩化メ
チレン中の三ハロゲン化ホウ素、好ましくは三臭化ホウ
素を使用して、ベンジル保護基を除去した後の脱保護を
行なう。式Ｉのテトラゾール化合物（式中少なくとも１
個のＲ4が５−テトラゾリルである）は種々の標準的方
法のいずれかによって対応するニトリル中間体から製造
することができる。一般に、このニトリルは非反応性溶
媒中でアジド試薬と反応する。好ましい条件はジメチル
ホルムアミド中のリチウムもしくはアンモニウムアジ
ド、ダイグライムおよびＮ，Ｎ−ジメチルエタノールア
ミンヒドロクロリド中のナトリウムアジド、または、ジ
メトキシエタンもしくはテトラヒドロフランのような非
反応性溶媒中のトリ−ｎ−ブチルスズアジドの使用を含
む。後者の条件の下では、反応は一般に反応混合物の還
流温度またはその付近に加熱する。一般に変換は、これ
らの条件の下では２−３日間で完了する。その他の操作
し得る反応条件は、このニトリルを、ナトリウムアジド
のようなアルカリ金属アジド、塩化アンモニウム、およ
び（所望により）塩化リチウムと、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）のような非反応性高沸点溶媒中、
好ましくは約６０℃ないし約１２５℃の温度で反応させ
ることを含む。別法として、テトラヒドロフラン、ジメ
トキシエタン、ジエトキシエタン等のような溶媒中のト
リ−ｎ−ブチルスズアジドまたはテトラメチルグアニジ
ニウムアジドを、アルカリ金属アジド、塩化アンモニウ
ム、塩化リチウムおよびＤＭＦの代わりに使用すること
もできる。同様に、本発明に係る酸（少なくとも１個の
Ｒ4が−ＣＯＯＨである式Ｉ）が、対応する−ＣＯＯＲ
または−ＣＮ中間体から製造される。このようなエステ
ルまたはニトリルの加水分解は、様々な酸性または塩基
性の条件のいずれかにより、好ましくは水性条件下で達
成することができる。好ましい方法は、アセトン／水の
溶媒混合物中の水酸化リチウム、ジオキサン中の水酸化
ナトリウム、またはメタノール／水の混合物中の水酸化
カリウムもしくは炭酸カリウムの使用を含む。前者の条
件の下では、加水分解は一般に約２０−３０℃の温度に
おいて約１２−１８時間で完了するが、後者の反応は通
常２０−３０℃において１時間で完了する。
【００２８】ニトリルおよびエステル官能基の両者を含
む化合物においては、一般にエステルの加水分解の前に
ニトリル基をテトラゾールに変換することが好ましい。
む化合物においては、一般にエステルの加水分解の前に
ニトリル基をテトラゾールに変換することが好ましい。
【００２９】反応式３において、式Ｉのメトキシクロマ
ン化合物を製造する合成法を開示する。この式は、本発
明の範囲内にある他のアルコキシクロマンの例示目的の
ために開示するものである。アルキル化、アルキル化的
連結、酸化およびヒドロキシ脱保護反応は、類似の反応
について上の反応式１および２に記載された方法および
条件を用いて実施する。ヒドロホウ素化反応は、係る反
応のために知られる条件の下で実施する。好ましい有機
ホウ素試薬は９−ＢＢＮである。好適な溶媒はエーテル
性のものであり、ＴＨＦが好ましい。対応するアルコー
ルは、この有機ホウ素中間体を塩基性過酸化物と反応さ
せることにより製造する。好ましい塩基性過酸化物は水
性ＮａＯＨ中のＨ2Ｏ2である。
ン化合物を製造する合成法を開示する。この式は、本発
明の範囲内にある他のアルコキシクロマンの例示目的の
ために開示するものである。アルキル化、アルキル化的
連結、酸化およびヒドロキシ脱保護反応は、類似の反応
について上の反応式１および２に記載された方法および
条件を用いて実施する。ヒドロホウ素化反応は、係る反
応のために知られる条件の下で実施する。好ましい有機
ホウ素試薬は９−ＢＢＮである。好適な溶媒はエーテル
性のものであり、ＴＨＦが好ましい。対応するアルコー
ルは、この有機ホウ素中間体を塩基性過酸化物と反応さ
せることにより製造する。好ましい塩基性過酸化物は水
性ＮａＯＨ中のＨ2Ｏ2である。
【００３０】カルボキシ脱保護のための条件は無論使用
されるカルボキシ保護基に依存する。Ｃ1−Ｃ4アルキル
基を使用する好ましい状況において、このアルキル基
は、ジオキサン中の水性水酸化ナトリウムを使用する塩
基性加水分解によって除去される。
されるカルボキシ保護基に依存する。Ｃ1−Ｃ4アルキル
基を使用する好ましい状況において、このアルキル基
は、ジオキサン中の水性水酸化ナトリウムを使用する塩
基性加水分解によって除去される。
【００３１】反応式４に、式Ｉのエトキシクロマン化合
物の製造に使用される合成方法を開示する。この反応式
は、本発明の範囲内にある他のアルコキシクロマンの例
示目的のために、そして反応式３の方法に対する別法と
して記載するものである。アルキル化的連結、アルキル
化、酸化、連結、ヒドロキシ脱保護およびカルボキシ脱
保護反応は、類似の反応について上の反応式１、２およ
び３に記載された方法および条件を用いて実施する。
物の製造に使用される合成方法を開示する。この反応式
は、本発明の範囲内にある他のアルコキシクロマンの例
示目的のために、そして反応式３の方法に対する別法と
して記載するものである。アルキル化的連結、アルキル
化、酸化、連結、ヒドロキシ脱保護およびカルボキシ脱
保護反応は、類似の反応について上の反応式１、２およ
び３に記載された方法および条件を用いて実施する。
【００３２】反応式５において、アリールブロミド中間
体を製造する合成法を示す。アルキル化反応は、類似の
反応について上の反応式１および２に記載されるのと実
質上同じ方法および条件を用いて実施する。還元は、Ｃ
1−Ｃ4トリアルキルシラン、好ましくはトリエチルシラ
ン、およびハロアルカン溶媒、好ましくは四塩化炭素中
のトリフルオロ酢酸で処理することにより実施する。
体を製造する合成法を示す。アルキル化反応は、類似の
反応について上の反応式１および２に記載されるのと実
質上同じ方法および条件を用いて実施する。還元は、Ｃ
1−Ｃ4トリアルキルシラン、好ましくはトリエチルシラ
ン、およびハロアルカン溶媒、好ましくは四塩化炭素中
のトリフルオロ酢酸で処理することにより実施する。
【００３３】ヨウ素化は、適当な溶媒、好ましくは酢酸
中の適当なヨウ素化試薬、好ましくはヨウ素および酢酸
銀による処理によって実施する。臭素化が好ましいので
あるがこれは、溶媒、好ましくは四塩化炭素中、適当な
臭素化試薬、好ましくはＮ−ブロモスクシンイミドで処
理して所望のアリールブロミド中間体を得ることにより
実施する。次いでこの中間体を、前記の方法または反応
式６に示され下に記載される方法により、種々の中間体
および本発明に係る最終生成物に変換することができ
る。
中の適当なヨウ素化試薬、好ましくはヨウ素および酢酸
銀による処理によって実施する。臭素化が好ましいので
あるがこれは、溶媒、好ましくは四塩化炭素中、適当な
臭素化試薬、好ましくはＮ−ブロモスクシンイミドで処
理して所望のアリールブロミド中間体を得ることにより
実施する。次いでこの中間体を、前記の方法または反応
式６に示され下に記載される方法により、種々の中間体
および本発明に係る最終生成物に変換することができ
る。
【００３４】反応式６には本発明に係るチオエーテル化
合物の製造方法が例示される。定められた群で例示され
てはいるが、この方法が式Ｉのチオエーテル化合物に対
し広く適用できることが理解されるべきである。ヒドロ
キシ脱保護および所望によるテトラゾール合成は、類似
の反応について上の反応式１および２に記載されるのと
実質的に同じ方法および条件を用いて実施される。金属
−ハロゲン交換反応は、ブロモ（またはヨード）中間体
をＣ1−Ｃ4アルキルリチウム反応体、次いで適当なジス
ルフィド（例示目的のために示されたフェニルジスルフ
ィド）によって順次処理することにより実施する。この
反応に好適な溶媒は、ジエチルエーテルのような非プロ
トン性エーテルであり、好ましくはテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）である。この反応は約−１００℃ないし約−
４０℃、好ましくは約−５５℃および約−８５℃の間の
温度で実施する。
合物の製造方法が例示される。定められた群で例示され
てはいるが、この方法が式Ｉのチオエーテル化合物に対
し広く適用できることが理解されるべきである。ヒドロ
キシ脱保護および所望によるテトラゾール合成は、類似
の反応について上の反応式１および２に記載されるのと
実質的に同じ方法および条件を用いて実施される。金属
−ハロゲン交換反応は、ブロモ（またはヨード）中間体
をＣ1−Ｃ4アルキルリチウム反応体、次いで適当なジス
ルフィド（例示目的のために示されたフェニルジスルフ
ィド）によって順次処理することにより実施する。この
反応に好適な溶媒は、ジエチルエーテルのような非プロ
トン性エーテルであり、好ましくはテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）である。この反応は約−１００℃ないし約−
４０℃、好ましくは約−５５℃および約−８５℃の間の
温度で実施する。
【００３５】さらに、式Ｉの様々な化合物を、他の化合
物、前駆体、または式Ｉの中間体から、加水分解、エス
テル化、アルキル化、酸化、還元などといった当業者に
良く知られる標準的方法によって製造することができ
る。上に記載した反応式は、本発明化合物を製造するた
めのより常套的方法を例示するものである。しかしなが
ら、有機化学分野において一般に知られるこれらのおよ
び他の化学的工程の異なった組合せを有効に使用するこ
とができる。任意の係る変換および相互転換の特定のつ
ながりが、選ばれた化合物中に様々な官能基が存在する
ということに鑑み、経験豊富な有機化学者には理解でき
るであろう。例えば、テトラゾール基はトリチルのよう
な基で保護することができる。当該分子の残りの部分に
他の化学的処理が施され、トリチル基は希酸による処理
で除去され非保護テトラゾールが得られる。このおよび
関連した変換についてのその他の変法は、当業者には明
らかであろう。
物、前駆体、または式Ｉの中間体から、加水分解、エス
テル化、アルキル化、酸化、還元などといった当業者に
良く知られる標準的方法によって製造することができ
る。上に記載した反応式は、本発明化合物を製造するた
めのより常套的方法を例示するものである。しかしなが
ら、有機化学分野において一般に知られるこれらのおよ
び他の化学的工程の異なった組合せを有効に使用するこ
とができる。任意の係る変換および相互転換の特定のつ
ながりが、選ばれた化合物中に様々な官能基が存在する
ということに鑑み、経験豊富な有機化学者には理解でき
るであろう。例えば、テトラゾール基はトリチルのよう
な基で保護することができる。当該分子の残りの部分に
他の化学的処理が施され、トリチル基は希酸による処理
で除去され非保護テトラゾールが得られる。このおよび
関連した変換についてのその他の変法は、当業者には明
らかであろう。
【００３６】以下の製造例および実施例は、本発明に係
る化合物および中間体の製造をさらに例示するものであ
る。実施例は単なる例示であって、本発明の範囲を限定
する意図はない。融点はトーマス−フーバー装置で測定
し、未補正である。ＮＭＲスペクトルはＧＥ ＱＥ−３
００分光計で測定した。化学シフトは全てテトラメチル
シランと比較した百万分率（δ）で報告する。シグナル
パターンを表示するために以下の略語を使用する：ｓ＝
一重線、ｄ＝二重線、ｔ＝三重線、ｑ＝四重線、ｂ＝広
幅、ｍ＝多重線。赤外スペクトルはニコレットＤＸ１０
ＦＴ−ＩＲ分光計で測定した。マススペクトルのデー
タは、電子衝撃（ＥＩ）条件を使用するＣＥＣ−２１−
１１０分光計、フィールドディソープション（ＦＤ）条
件を使用するＭＡＴ−７３１分光計、または高速原子衝
撃（ＦＡＢ）条件を使用するＶＧＺＡＢ−３Ｆ分光計に
よって測定した。シリカゲルクロマトグラフィーは、別
途指摘の無い限り酢酸エチル／ヘキサンの勾配を用いて
実施した。逆相クロマトグラフィーは、別途指摘の無い
限りアセトニトリル／水またはメタノール／水の勾配を
用いたＭＣＩ ＣＨＰ２０Ｐゲル上で実施した。テトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）は使用直前にナトリウム／ベン
ゾフェノンケチルから蒸留した。全ての反応は、別途記
載の無い限り、アルゴン雰囲気下で攪拌しながら行なっ
た。構造が、赤外、プロトン核磁気共鳴、またはマスス
ペクトル分析によって確認された場合、その化合物は各
々「ＩＲ」、「ＮＭＲ」、または「ＭＳ」によってその
旨を明示する。
る化合物および中間体の製造をさらに例示するものであ
る。実施例は単なる例示であって、本発明の範囲を限定
する意図はない。融点はトーマス−フーバー装置で測定
し、未補正である。ＮＭＲスペクトルはＧＥ ＱＥ−３
００分光計で測定した。化学シフトは全てテトラメチル
シランと比較した百万分率（δ）で報告する。シグナル
パターンを表示するために以下の略語を使用する：ｓ＝
一重線、ｄ＝二重線、ｔ＝三重線、ｑ＝四重線、ｂ＝広
幅、ｍ＝多重線。赤外スペクトルはニコレットＤＸ１０
ＦＴ−ＩＲ分光計で測定した。マススペクトルのデー
タは、電子衝撃（ＥＩ）条件を使用するＣＥＣ−２１−
１１０分光計、フィールドディソープション（ＦＤ）条
件を使用するＭＡＴ−７３１分光計、または高速原子衝
撃（ＦＡＢ）条件を使用するＶＧＺＡＢ−３Ｆ分光計に
よって測定した。シリカゲルクロマトグラフィーは、別
途指摘の無い限り酢酸エチル／ヘキサンの勾配を用いて
実施した。逆相クロマトグラフィーは、別途指摘の無い
限りアセトニトリル／水またはメタノール／水の勾配を
用いたＭＣＩ ＣＨＰ２０Ｐゲル上で実施した。テトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）は使用直前にナトリウム／ベン
ゾフェノンケチルから蒸留した。全ての反応は、別途記
載の無い限り、アルゴン雰囲気下で攪拌しながら行なっ
た。構造が、赤外、プロトン核磁気共鳴、またはマスス
ペクトル分析によって確認された場合、その化合物は各
々「ＩＲ」、「ＮＭＲ」、または「ＭＳ」によってその
旨を明示する。
【００３７】実施例１ Ａ．５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒ
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。攪拌しながらこのＤＭＦにＰＯＣ
ｌ3（１８．６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に温め、ＣＨ2Ｃ
ｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解さ
せた。続いて反応物を再度０℃に冷却した。４−エチル
レゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２
００ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液としてこの反応混合物に加え
た。０℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に温め、
次いで１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、Ｎａ
ＯＡｃ（５０ｇ）の１００ｍｌ水溶液を徐々に加えた。
この混合物を４０分間還流し、次いで室温まで冷却し
た。水層をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機層を合し、
１Ｎ ＨＣｌ溶液およびブラインで洗浄し、次いでＭｇ
ＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去によって橙色
固体が得られ、これをトルエンおよびヘキサンから再結
晶した（１７ｇ、５６％）。
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。攪拌しながらこのＤＭＦにＰＯＣ
ｌ3（１８．６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に温め、ＣＨ2Ｃ
ｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解さ
せた。続いて反応物を再度０℃に冷却した。４−エチル
レゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２
００ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液としてこの反応混合物に加え
た。０℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に温め、
次いで１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、Ｎａ
ＯＡｃ（５０ｇ）の１００ｍｌ水溶液を徐々に加えた。
この混合物を４０分間還流し、次いで室温まで冷却し
た。水層をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機層を合し、
１Ｎ ＨＣｌ溶液およびブラインで洗浄し、次いでＭｇ
ＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去によって橙色
固体が得られ、これをトルエンおよびヘキサンから再結
晶した（１７ｇ、５６％）。
【００３８】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３９（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
【００３９】Ｂ．１−［６−メチル−６−シアノヘプチ
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 ５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド
（１０．０５ｇ、０．０６０ｍｏｌ）、Ｋ2ＣＯ3（１
４．６３ｇ、０．１０５ｍｏｌ）、ＫＩ（２．５１ｇ、
０．０１５ｍｏｌ）およびＤＭＦ（２５０ｍｌ）の混合
物に、クロロニトリル（１０．４５ｇ、０．０６０ｍｏ
ｌ）の溶液２５０ｍｌを加え、１００℃に加温した。５
時間後、反応物を室温に冷却し、ＤＭＦを４ｍｍＨｇの
減圧蒸留により除いた。得られた茶色の油状物をＥｔＯ
Ａｃに溶解し、水およびブラインで洗浄した。ＥｔＯＡ
ｃ抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥し濾過した。溶媒を除去し
て１７．０ｇの茶色の油状物を得た。この油状物を１５
％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出するシリカゲル上のフラ
ッシュクロマトグラフィーにより精製した。所望の生成
物を透明な油状物として得た（６．９８ｇ、３８％）。
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 ５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド
（１０．０５ｇ、０．０６０ｍｏｌ）、Ｋ2ＣＯ3（１
４．６３ｇ、０．１０５ｍｏｌ）、ＫＩ（２．５１ｇ、
０．０１５ｍｏｌ）およびＤＭＦ（２５０ｍｌ）の混合
物に、クロロニトリル（１０．４５ｇ、０．０６０ｍｏ
ｌ）の溶液２５０ｍｌを加え、１００℃に加温した。５
時間後、反応物を室温に冷却し、ＤＭＦを４ｍｍＨｇの
減圧蒸留により除いた。得られた茶色の油状物をＥｔＯ
Ａｃに溶解し、水およびブラインで洗浄した。ＥｔＯＡ
ｃ抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥し濾過した。溶媒を除去し
て１７．０ｇの茶色の油状物を得た。この油状物を１５
％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出するシリカゲル上のフラ
ッシュクロマトグラフィーにより精製した。所望の生成
物を透明な油状物として得た（６．９８ｇ、３８％）。
【００４０】 ＴＬＣ Ｒｆ＝４７（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４４（ｓ，１）、９．
６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，１）、６．３６（ｓ，
１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝６．２２Ｈｚ）、２．５
６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈｚ）、１．８５（ｍ，
２）、１，５５（ｓ，（ｂｒ），６）、１．３４（ｓ，
６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，１）、６．３６（ｓ，
１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝６．２２Ｈｚ）、２．５
６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈｚ）、１．８５（ｍ，
２）、１，５５（ｓ，（ｂｒ），６）、１．３４（ｓ，
６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
【００４１】Ｃ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後、反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。６ｍＨｇの減圧蒸留によってＤＭＦ
を濾液から除去し、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解
し、水およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4
で乾燥した。濾過および溶媒の除去により白色固体
（４．５２ｇ）を得た。この固体をＥｔ2Ｏ／ヘキサン
から再結晶すると白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）
が得られた。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後、反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。６ｍＨｇの減圧蒸留によってＤＭＦ
を濾液から除去し、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解
し、水およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4
で乾燥した。濾過および溶媒の除去により白色固体
（４．５２ｇ）を得た。この固体をＥｔ2Ｏ／ヘキサン
から再結晶すると白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）
が得られた。
【００４２】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４０（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６ 実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６ 実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
【００４３】Ｄ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、反応
物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。反応
は５時間後に完了した。沈澱を濾過により除いた。溶媒
を減圧下に除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．２８
Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共に一
夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた水性
混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に酸性
化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出した。有
機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次いでブラ
インで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過
および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇが得られ
た。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィーにより
精製した。１−ベンジルオキシ−２−（６−シアノ−６
−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロキ
シ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、反応
物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。反応
は５時間後に完了した。沈澱を濾過により除いた。溶媒
を減圧下に除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．２８
Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共に一
夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた水性
混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に酸性
化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出した。有
機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次いでブラ
インで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過
および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇが得られ
た。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィーにより
精製した。１−ベンジルオキシ−２−（６−シアノ−６
−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロキ
シ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
【００４４】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３８（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４
０、１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４
０、１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
【００４５】Ｅ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−メ
トキシ ベンゼンの製造。 メチルエチルケトン：ＤＭＳＯの５：１混合物中のフェ
ノールの０．２２Ｍ溶液を、アルゴン雰囲気下でＫ2Ｃ
Ｏ3（１．７５当量）と共に攪拌した。この溶液に室温
でヨウ化メチル（４．０当量）を加えた。次いで反応物
を室温または８０℃で２４ないし４８時間攪拌した。水
で反応を鎮め、この混合物をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。ＥｔＯＡｃ抽出物を水およびブラインで洗浄し、次
いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒除去により
粗生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグ
ラフィーにより精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−メ
トキシ ベンゼンの製造。 メチルエチルケトン：ＤＭＳＯの５：１混合物中のフェ
ノールの０．２２Ｍ溶液を、アルゴン雰囲気下でＫ2Ｃ
Ｏ3（１．７５当量）と共に攪拌した。この溶液に室温
でヨウ化メチル（４．０当量）を加えた。次いで反応物
を室温または８０℃で２４ないし４８時間攪拌した。水
で反応を鎮め、この混合物をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。ＥｔＯＡｃ抽出物を水およびブラインで洗浄し、次
いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒除去により
粗生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグ
ラフィーにより精製した。
【００４６】１−ベンジルオキシ−２−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−メトキ
シ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンおよびヨウ化メチルから、白色固体
として７５％の収率で製造された。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−メトキ
シ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンおよびヨウ化メチルから、白色固体
として７５％の収率で製造された。
【００４７】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．５３（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．３９（ｍ，５）、６．７
６（ｓ，１）、６．５２（ｓ，１）、５．１５（ｓ，
１）、３．８７（ｓ，３）、３．８４（ｔ，２，Ｊ＝
６．３１Ｈｚ）、２．５９（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、７．７６（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝
７．４５Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９５７、２９４５、２９６９、２９３
１、２８６７、２２５０、１６１５、１５２６、１５１
２、１４６３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９５（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ33ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．９２；Ｈ、８．４１ 実測値 Ｃ、７５．５５；Ｈ、８．１７。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．３９（ｍ，５）、６．７
６（ｓ，１）、６．５２（ｓ，１）、５．１５（ｓ，
１）、３．８７（ｓ，３）、３．８４（ｔ，２，Ｊ＝
６．３１Ｈｚ）、２．５９（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、７．７６（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝
７．４５Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９５７、２９４５、２９６９、２９３
１、２８６７、２２５０、１６１５、１５２６、１５１
２、１４６３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９５（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ33ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．９２；Ｈ、８．４１ 実測値 Ｃ、７５．５５；Ｈ、８．１７。
【００４８】Ｆ．１−（６−シアノ−６−メチルヘプチ
ルオキシ）−２−エチル−４−メトキシ−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト（商標）層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄
した。得られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲ
ルを用い酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッ
シュクロマトグラフィーにより精製した。
ルオキシ）−２−エチル−４−メトキシ−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト（商標）層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄
した。得られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲ
ルを用い酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッ
シュクロマトグラフィーにより精製した。
【００４９】１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオ
キシ）−２−エチル−４−メトキシ−５−ヒドロキシ
ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−メトキ
シ ベンゼンから１００％の収率で製造された。
キシ）−２−エチル−４−メトキシ−５−ヒドロキシ
ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−メトキ
シ ベンゼンから１００％の収率で製造された。
【００５０】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３６（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７０（ｓ，１）、６．５
３（ｓ，１）、５．６４（ｓ，１）、３．９０（ｔ，
２，Ｊ＝６．２４Ｈｚ）、３．８５（ｓ，３）、２．５
９（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈｚ）、１．８３（ｍ，
２）、１．３６（ｓ（ｂｒ），６）、１．１９（ｔ，
３，Ｊ＝７．４４Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４０、３０２０、２９８０、２
９４０、２８６０、２２４０、１６００、１５１０、１
４４０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３０５（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ27ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７０．７９；Ｈ、８．９１；Ｎ、４．５９ 実測値 Ｃ、７０．９９；Ｈ、９．０２；Ｎ、４．５
９。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７０（ｓ，１）、６．５
３（ｓ，１）、５．６４（ｓ，１）、３．９０（ｔ，
２，Ｊ＝６．２４Ｈｚ）、３．８５（ｓ，３）、２．５
９（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈｚ）、１．８３（ｍ，
２）、１．３６（ｓ（ｂｒ），６）、１．１９（ｔ，
３，Ｊ＝７．４４Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４０、３０２０、２９８０、２
９４０、２８６０、２２４０、１６００、１５１０、１
４４０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３０５（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ27ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７０．７９；Ｈ、８．９１；Ｎ、４．５９ 実測値 Ｃ、７０．９９；Ｈ、９．０２；Ｎ、４．５
９。
【００５１】Ｇ．４−エチル−２−メトキシ−５−
［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウム塩の製
造。 エチレングリコールジエチルエーテル（０．２０Ｍ溶
液）中のニトリルの溶液に、アルゴン雰囲気下でトリ−
ｎ−ブチルスズアジド（６．０当量）を加えた。次いで
反応物を４８ないし７２時間還流した。次にこの反応物
を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌ（１１当量）で処理し２
時間攪拌した。次いで反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し減圧で溶媒を除くと橙色油状物が得られた。
得られた油状物をＥｔ2Ｏに溶解し、１．１ＭのＫＦ水
溶液（８．０当量）で処理し、２．５時間攪拌した。得
られた沈澱を濾過により除いた。溶媒を濾液から除き、
残った残留物をヘキサンで摩砕した。得られた固体をメ
タノールに溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（５当量）で処理
し、１．５時間攪拌した。次いで溶媒を減圧で除去し、
得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ
／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフィーによって精
製した。所望生成物が白色の親液性ナトリウム塩として
得られた。
［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウム塩の製
造。 エチレングリコールジエチルエーテル（０．２０Ｍ溶
液）中のニトリルの溶液に、アルゴン雰囲気下でトリ−
ｎ−ブチルスズアジド（６．０当量）を加えた。次いで
反応物を４８ないし７２時間還流した。次にこの反応物
を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌ（１１当量）で処理し２
時間攪拌した。次いで反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し減圧で溶媒を除くと橙色油状物が得られた。
得られた油状物をＥｔ2Ｏに溶解し、１．１ＭのＫＦ水
溶液（８．０当量）で処理し、２．５時間攪拌した。得
られた沈澱を濾過により除いた。溶媒を濾液から除き、
残った残留物をヘキサンで摩砕した。得られた固体をメ
タノールに溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（５当量）で処理
し、１．５時間攪拌した。次いで溶媒を減圧で除去し、
得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ
／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフィーによって精
製した。所望生成物が白色の親液性ナトリウム塩として
得られた。
【００５２】４−エチル−２−メトキシ−５−［［６−
メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ヘプチ
ル］オキシ］フェノール ナトリウム塩が、１−（６−
シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−２−エチル−４
−メトキシ−５−ヒドロキシベンゼンから５９％の収率
で製造された。
メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ヘプチ
ル］オキシ］フェノール ナトリウム塩が、１−（６−
シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−２−エチル−４
−メトキシ−５−ヒドロキシベンゼンから５９％の収率
で製造された。
【００５３】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３９（１０％ＭｅＯＨ
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（Ｄ2Ｏ）δ６．７６（ｓ，１）、６．４９
（ｓ，１）、３．７１（ｓ，３）、３．７１（ｔ，２，
Ｊ＝８．１２Ｈｚ）、２．３６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２
Ｈｚ）、１．５５（ｍ，６）、１．２６（ｓ，６）、
１．２０（ｍ，２）、０．９８（ｔ，３，Ｊ＝７．５２
Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２８９９、２８６５、２８５２、１６０
９、１５３２、１５２０、１４８０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+＋２Ｎ
ａ+）、３７１（Ｍ+＋Ｎａ+＋Ｈ）。 元素分析（Ｃ18Ｈ27Ｎ4Ｏ3Ｎａ・１．９Ｈ2Ｏとして） 理論値 Ｃ、５３．４４；Ｈ、７．６２ 実測値 Ｃ、５３．４７；Ｈ、７．２７。
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（Ｄ2Ｏ）δ６．７６（ｓ，１）、６．４９
（ｓ，１）、３．７１（ｓ，３）、３．７１（ｔ，２，
Ｊ＝８．１２Ｈｚ）、２．３６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２
Ｈｚ）、１．５５（ｍ，６）、１．２６（ｓ，６）、
１．２０（ｍ，２）、０．９８（ｔ，３，Ｊ＝７．５２
Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２８９９、２８６５、２８５２、１６０
９、１５３２、１５２０、１４８０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+＋２Ｎ
ａ+）、３７１（Ｍ+＋Ｎａ+＋Ｈ）。 元素分析（Ｃ18Ｈ27Ｎ4Ｏ3Ｎａ・１．９Ｈ2Ｏとして） 理論値 Ｃ、５３．４４；Ｈ、７．６２ 実測値 Ｃ、５３．４７；Ｈ、７．２７。
【００５４】実施例２ Ａ．５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒ
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
【００５５】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３９（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
【００５６】Ｂ．１−［６−メチル−６−シアノヘプチ
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 ５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド
（１０．０５ｇ、０．０６０ｍｏｌ）、Ｋ2ＣＯ3（１
４．６３ｇ、０．１０５ｍｏｌ）、ＫＩ（２．５１ｇ、
０．０１５ｍｏｌ）およびＤＭＦ（２５０ｍｌ）の混合
物に、クロロニトリル（１０．４５ｇ、０．０６０ｍｏ
ｌ）の溶液２５０ｍｌを加え、１００℃に加温した。５
時間後に反応物を室温に冷却し、ＤＭＦを４ｍｍＨｇの
減圧蒸留により除去した。得られた茶色の油状物をＥｔ
ＯＡｃに溶解し、水およびブラインで洗浄した。ＥｔＯ
Ａｃ抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥し濾過した。溶媒を除去
して茶色の油状物１７．０ｇを得た。この油状物を、１
５％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出するシリカゲル上のフ
ラッシュクロマトグラフィーにより精製した。所望生成
物が透明な油状物として得られた（６．９８ｇ、３８
％）。
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 ５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド
（１０．０５ｇ、０．０６０ｍｏｌ）、Ｋ2ＣＯ3（１
４．６３ｇ、０．１０５ｍｏｌ）、ＫＩ（２．５１ｇ、
０．０１５ｍｏｌ）およびＤＭＦ（２５０ｍｌ）の混合
物に、クロロニトリル（１０．４５ｇ、０．０６０ｍｏ
ｌ）の溶液２５０ｍｌを加え、１００℃に加温した。５
時間後に反応物を室温に冷却し、ＤＭＦを４ｍｍＨｇの
減圧蒸留により除去した。得られた茶色の油状物をＥｔ
ＯＡｃに溶解し、水およびブラインで洗浄した。ＥｔＯ
Ａｃ抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥し濾過した。溶媒を除去
して茶色の油状物１７．０ｇを得た。この油状物を、１
５％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出するシリカゲル上のフ
ラッシュクロマトグラフィーにより精製した。所望生成
物が透明な油状物として得られた（６．９８ｇ、３８
％）。
【００５７】 ＴＬＣ Ｒｆ＝４７（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４４（ｓ，１）、９．
６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，１）、６．３６（ｓ，
１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝６．２２Ｈｚ）、２．５
６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈｚ）、１．８５（ｍ，
２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），６）、１．３４（ｓ，
６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，１）、６．３６（ｓ，
１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝６．２２Ｈｚ）、２．５
６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈｚ）、１．８５（ｍ，
２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），６）、１．３４（ｓ，
６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
【００５８】Ｃ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2０／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2０／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
【００５９】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４０（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６ 実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６ 実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
【００６０】Ｄ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
【００６１】１−ベンジルオキシ−３−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
【００６２】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３８（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 IR(KBr)3450、2950、2870、2240、1750、1625、1510cm-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 IR(KBr)3450、2950、2870、2240、1750、1625、1510cm-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
【００６３】Ｅ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−エ
トキシ ベンゼンの製造。 メチルエチルケトン：ＤＭＳＯの５：１混合物中のフェ
ノールの０．２２Ｍ溶液を、アルゴン雰囲気下でＫ2Ｃ
Ｏ3（１．７５当量）と共に攪拌した。この溶液に室温
でヨウ化アルキル（４．０当量）を加えた。次いで反応
物を室温または８０℃で２４ないし４８時間攪拌した。
水で反応を鎮め、この混合物をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。ＥｔＯＡｃ抽出物を水およびブラインで洗浄し、次
いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒除去により
粗生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグ
ラフィーにより精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−エ
トキシ ベンゼンの製造。 メチルエチルケトン：ＤＭＳＯの５：１混合物中のフェ
ノールの０．２２Ｍ溶液を、アルゴン雰囲気下でＫ2Ｃ
Ｏ3（１．７５当量）と共に攪拌した。この溶液に室温
でヨウ化アルキル（４．０当量）を加えた。次いで反応
物を室温または８０℃で２４ないし４８時間攪拌した。
水で反応を鎮め、この混合物をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。ＥｔＯＡｃ抽出物を水およびブラインで洗浄し、次
いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒除去により
粗生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグ
ラフィーにより精製した。
【００６４】１−ベンジルオキシ−２−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−エトキ
シ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンおよびヨウ化エチルから、白色固体
として３８％の収率で製造された。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−エトキ
シ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンおよびヨウ化エチルから、白色固体
として３８％の収率で製造された。
【００６５】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４６（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．８
０（ｓ，１）、６．５４（ｓ，１）、５．１５（ｓ，
２）、４．０９（ｑ，２，Ｊ＝７．００Ｈｚ）、３．８
６（ｔ，２，Ｊ＝６．２０Ｈｚ）、２．６０（ｑ，２，
Ｊ＝７．５２Ｈｚ）、１．７９（ｍ，２）、１．５４
（ｍ，６）、１．４４（ｔ，３，Ｊ＝６．９８Ｈｚ）、
１．３７（ｓ，６）、１．２１（ｔ，３，Ｊ＝７．４５
Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９５７、２９４５、２９３０、２８６
８、２２２５、１６１３、１５２５、１４６２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４０９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ26Ｈ35Ｏ3Ｎとして） 理論値 Ｃ、７６．２８；Ｈ、８．５６；Ｎ、３．４２ 実測値 Ｃ、７６．０５；Ｈ、８．３７；Ｎ、３．６
０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．８
０（ｓ，１）、６．５４（ｓ，１）、５．１５（ｓ，
２）、４．０９（ｑ，２，Ｊ＝７．００Ｈｚ）、３．８
６（ｔ，２，Ｊ＝６．２０Ｈｚ）、２．６０（ｑ，２，
Ｊ＝７．５２Ｈｚ）、１．７９（ｍ，２）、１．５４
（ｍ，６）、１．４４（ｔ，３，Ｊ＝６．９８Ｈｚ）、
１．３７（ｓ，６）、１．２１（ｔ，３，Ｊ＝７．４５
Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９５７、２９４５、２９３０、２８６
８、２２２５、１６１３、１５２５、１４６２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４０９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ26Ｈ35Ｏ3Ｎとして） 理論値 Ｃ、７６．２８；Ｈ、８．５６；Ｎ、３．４２ 実測値 Ｃ、７６．０５；Ｈ、８．３７；Ｎ、３．６
０。
【００６６】Ｆ．１−（６−シアノ−６−メチルヘプチ
ルオキシ）−２−エチル−４−エトキシ−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
ルオキシ）−２−エチル−４−エトキシ−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
【００６７】１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオ
キシ）−２−エチル−４−エトキシ−５−ヒドロキシ
ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−エトキ
シ ベンゼンから８５％の収率で製造された。
キシ）−２−エチル−４−エトキシ−５−ヒドロキシ
ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−エトキ
シ ベンゼンから８５％の収率で製造された。
【００６８】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３６（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７０（ｓ，１）、６．５
３（ｓ，１）、５．６３（ｓ，１）、４．０７（ｑ，
２，Ｊ＝６．９６Ｈｚ）、３．９０（ｔ，２，Ｊ＝６．
２３Ｈｚ）、２．５７（ｑ，２，Ｊ＝７．４７Ｈｚ）、
１．８５（ｍ，２）、１．５６（ｓ（ｂｒ），６）、
１．４２（ｔ，３，Ｊ＝６．９７Ｈｚ）、１．３６
（ｓ，６）、１．１７（ｔ，３，Ｊ＝７．６０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４００（ｂｒ）、２９７５、２９５
０、２８７５、２９３８、２２３０、１６１２、１５２
５、１４５０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３１９（Ｍ+）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７０（ｓ，１）、６．５
３（ｓ，１）、５．６３（ｓ，１）、４．０７（ｑ，
２，Ｊ＝６．９６Ｈｚ）、３．９０（ｔ，２，Ｊ＝６．
２３Ｈｚ）、２．５７（ｑ，２，Ｊ＝７．４７Ｈｚ）、
１．８５（ｍ，２）、１．５６（ｓ（ｂｒ），６）、
１．４２（ｔ，３，Ｊ＝６．９７Ｈｚ）、１．３６
（ｓ，６）、１．１７（ｔ，３，Ｊ＝７．６０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４００（ｂｒ）、２９７５、２９５
０、２８７５、２９３８、２２３０、１６１２、１５２
５、１４５０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３１９（Ｍ+）。
【００６９】Ｇ．４−エチル−２−エトキシ−５−
［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）ヘプチル］オキシ］フェノール 二ナトリウム塩の
製造。 エチレングリコールジエチルエーテル（０．２０Ｍ溶
液）中のニトリルの溶液に、アルゴン雰囲気下でトリ−
ｎ−ブチルスズアジド（６．０当量）を加えた。次いで
反応物を４８ないし７２時間還流した。次にこの反応物
を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌ（１１当量）で処理し２
時間攪拌した。次いで反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し減圧で溶媒を除くと橙色油状物が得られた。
得られた油状物をＥｔ2Ｏに溶解し、１．１ＭのＫＦ水
溶液（８．０当量）で処理し、２．５時間攪拌した。得
られた沈澱を濾過により除いた。溶媒を濾液から除き、
残った残留物をヘキサンで摩砕した。得られた固体をメ
タノールに溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（５当量）で処理
し、１．５時間攪拌した。次いで溶媒を減圧で除去し、
得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ
／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフィーによって精
製した。所望生成物が白色の親液性ナトリウム塩として
得られた。
［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）ヘプチル］オキシ］フェノール 二ナトリウム塩の
製造。 エチレングリコールジエチルエーテル（０．２０Ｍ溶
液）中のニトリルの溶液に、アルゴン雰囲気下でトリ−
ｎ−ブチルスズアジド（６．０当量）を加えた。次いで
反応物を４８ないし７２時間還流した。次にこの反応物
を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌ（１１当量）で処理し２
時間攪拌した。次いで反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し減圧で溶媒を除くと橙色油状物が得られた。
得られた油状物をＥｔ2Ｏに溶解し、１．１ＭのＫＦ水
溶液（８．０当量）で処理し、２．５時間攪拌した。得
られた沈澱を濾過により除いた。溶媒を濾液から除き、
残った残留物をヘキサンで摩砕した。得られた固体をメ
タノールに溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（５当量）で処理
し、１．５時間攪拌した。次いで溶媒を減圧で除去し、
得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ
／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフィーによって精
製した。所望生成物が白色の親液性ナトリウム塩として
得られた。
【００７０】白色の親液性二ナトリウム塩としての４−
エチル−２−エトキシ−５−［［６−メチル−６−（２
Ｈ−テトラゾール−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェ
ノールが、１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキ
シ）−２−エチル−４−エトキシ−５−ヒドロキシ ベ
ンゼンから３５％の収率で製造された。
エチル−２−エトキシ−５−［［６−メチル−６−（２
Ｈ−テトラゾール−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェ
ノールが、１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキ
シ）−２−エチル−４−エトキシ−５−ヒドロキシ ベ
ンゼンから３５％の収率で製造された。
【００７１】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４０（１０％ＭｅＯＨ
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ９．６５（ｓ（ｂｒ），
１）、６．６２（ｓ，１）、６．４６（ｓ，１）、３．
８９（ｑ，２，Ｊ＝６．９６Ｈｚ）、３．７２（ｔ，
２，Ｊ＝６．４０Ｈｚ）、２．３７（ｑ，２，Ｊ＝７．
５０Ｈｚ）、１．５６（ｍ，４）、１．２６（ｍ，
５）、１．２２（ｓ，６）、１．０９（ｍ，２）、１．
０３（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４６４、３４５７、２９８２、２９７
２、２９６２、２８６０、１６０９、１５３１、１５１
７、１４８２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３８５（Ｍ+＋２Ｎａ+
＋Ｈ）、３８４（Ｍ+＋２Ｎａ+）。 元素分析（Ｃ19Ｈ29Ｎ4Ｏ3Ｎａ−０．２５Ｈ2Ｏとし
て） 理論値 Ｃ、５５．５４；Ｈ、６．９４；Ｎ、１３．６
４ 実測値 Ｃ、５５．３９；Ｈ、７．４８；Ｎ、１３．５
３。
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ９．６５（ｓ（ｂｒ），
１）、６．６２（ｓ，１）、６．４６（ｓ，１）、３．
８９（ｑ，２，Ｊ＝６．９６Ｈｚ）、３．７２（ｔ，
２，Ｊ＝６．４０Ｈｚ）、２．３７（ｑ，２，Ｊ＝７．
５０Ｈｚ）、１．５６（ｍ，４）、１．２６（ｍ，
５）、１．２２（ｓ，６）、１．０９（ｍ，２）、１．
０３（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４６４、３４５７、２９８２、２９７
２、２９６２、２８６０、１６０９、１５３１、１５１
７、１４８２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３８５（Ｍ+＋２Ｎａ+
＋Ｈ）、３８４（Ｍ+＋２Ｎａ+）。 元素分析（Ｃ19Ｈ29Ｎ4Ｏ3Ｎａ−０．２５Ｈ2Ｏとし
て） 理論値 Ｃ、５５．５４；Ｈ、６．９４；Ｎ、１３．６
４ 実測値 Ｃ、５５．３９；Ｈ、７．４８；Ｎ、１３．５
３。
【００７２】実施例３ Ａ．５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒ
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
【００７３】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３９（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
【００７４】Ｂ．１−［６−メチル−６−シアノヘプチ
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 アセトン６００ｍｌ中の２−シアノ−２−メチル−７−
クロロヘプタン（１５．０１ｇ、８６．８ｍｍｏｌ）の
溶液に、酢酸テトラエチルアンモニウム四水和物（４
５．３６ｇ、１．７４ｍｏｌ）を加えた。次いで反応物
をアルゴン雰囲気下で２５時間還流した。反応物を室温
に冷却し、アセトンを減圧で除いた。得られた残留物に
水およびＥｔ2Ｏを加えた。水層をＥｔ2Ｏで数回抽出
し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により透明な油状物（２３．１９ｇ）を得た。
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 アセトン６００ｍｌ中の２−シアノ−２−メチル−７−
クロロヘプタン（１５．０１ｇ、８６．８ｍｍｏｌ）の
溶液に、酢酸テトラエチルアンモニウム四水和物（４
５．３６ｇ、１．７４ｍｏｌ）を加えた。次いで反応物
をアルゴン雰囲気下で２５時間還流した。反応物を室温
に冷却し、アセトンを減圧で除いた。得られた残留物に
水およびＥｔ2Ｏを加えた。水層をＥｔ2Ｏで数回抽出
し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により透明な油状物（２３．１９ｇ）を得た。
【００７５】メタノール４００ｍｌ中の上で製造された
アセタートに、Ｋ2ＣＯ3（１６．２７ｇ）を加え、室温
で２４時間攪拌した。反応混合物を濾過して固体を除
き、濾液から溶媒を除去した。得られた固体をＥｔＯＡ
ｃに溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をＨ2Ｏで洗浄した。
有機溶液をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により黄色油状物１４．５０ｇを得、これを、シリカ
ゲル支持体を用い５％ないし６０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ンの溶媒勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望のア
ルコールが透明な油状物（１０．５８ｇ、５７％）とし
て得られた。 ＴＬＣ Ｒｆ＝０．１３（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ン）。
アセタートに、Ｋ2ＣＯ3（１６．２７ｇ）を加え、室温
で２４時間攪拌した。反応混合物を濾過して固体を除
き、濾液から溶媒を除去した。得られた固体をＥｔＯＡ
ｃに溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をＨ2Ｏで洗浄した。
有機溶液をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により黄色油状物１４．５０ｇを得、これを、シリカ
ゲル支持体を用い５％ないし６０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ンの溶媒勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望のア
ルコールが透明な油状物（１０．５８ｇ、５７％）とし
て得られた。 ＴＬＣ Ｒｆ＝０．１３（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ン）。
【００７６】上で製造された２−シアノ−２−メチル−
７−ヒドロキシヘプタンおよび２，４−ジヒドロキシ−
５−エチル−ベンズアルデヒドの乾燥ＴＨＦ溶液５０ｍ
ｌを室温で攪拌した。この溶液に、トリフェニルホスフ
ィン（１７．９１ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）および最後に
ジエチル アゾジカルボキシラート（１１．８９ｇ、６
８．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２時間１５
分間攪拌し、次いで飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で反応停止させ
た。ＴＨＦを減圧で除き、得られた残留物をＥｔＯＡｃ
に溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をブラインで洗浄した。
有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去
により橙色固体を得た。この生成物を、固体支持体とし
てシリカゲルを用い１０％ないし３０％ＥｔＯＡｃ／ヘ
キサンの勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望生成
物が黄色油状物（１０．５０ｇ、５１％）として得られ
た。
７−ヒドロキシヘプタンおよび２，４−ジヒドロキシ−
５−エチル−ベンズアルデヒドの乾燥ＴＨＦ溶液５０ｍ
ｌを室温で攪拌した。この溶液に、トリフェニルホスフ
ィン（１７．９１ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）および最後に
ジエチル アゾジカルボキシラート（１１．８９ｇ、６
８．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２時間１５
分間攪拌し、次いで飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で反応停止させ
た。ＴＨＦを減圧で除き、得られた残留物をＥｔＯＡｃ
に溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をブラインで洗浄した。
有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去
により橙色固体を得た。この生成物を、固体支持体とし
てシリカゲルを用い１０％ないし３０％ＥｔＯＡｃ／ヘ
キサンの勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望生成
物が黄色油状物（１０．５０ｇ、５１％）として得られ
た。
【００７７】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４４
（ｓ，１）、９．６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，
１）、６．３６（ｓ，１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８５（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３４（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
（ｓ，１）、９．６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，
１）、６．３６（ｓ，１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８５（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３４（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
【００７８】Ｃ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2０／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2０／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
【００７９】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４０（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６ 実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６ 実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
【００８０】Ｄ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
【００８１】１−ベンジルオキシ−３−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
【００８２】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３８（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。ＩＲ
（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４０、
１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。ＩＲ
（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４０、
１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
【００８３】Ｅ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ペ
ンチルオキシ ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ（１．３Ｍ溶液）に入れた、ヘキサンで洗浄
したＮａＨ（２．１０当量）の懸濁液を、室温でアルゴ
ン雰囲気下に攪拌した。乾燥ＤＭＦ（０．１５Ｍ）中の
フェノールの溶液を、このＮａＨ懸濁液に徐々に加え
た。反応物を室温で３０分間攪拌した。この反応物に１
８−クラウン−６を加え、次にハロゲン化アルキル
（５．０当量）を滴下した。室温で数時間攪拌した後、
飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液で反応停止させ、水で希釈しＥｔ
ＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ抽出物を水洗し、次いで
ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去により粗
生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィーにより精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ペ
ンチルオキシ ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ（１．３Ｍ溶液）に入れた、ヘキサンで洗浄
したＮａＨ（２．１０当量）の懸濁液を、室温でアルゴ
ン雰囲気下に攪拌した。乾燥ＤＭＦ（０．１５Ｍ）中の
フェノールの溶液を、このＮａＨ懸濁液に徐々に加え
た。反応物を室温で３０分間攪拌した。この反応物に１
８−クラウン−６を加え、次にハロゲン化アルキル
（５．０当量）を滴下した。室温で数時間攪拌した後、
飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液で反応停止させ、水で希釈しＥｔ
ＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ抽出物を水洗し、次いで
ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去により粗
生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィーにより精製した。
【００８４】１−ベンジルオキシ−３−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ペンチ
ルオキシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６
−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−
６−ヒドロキシ ベンゼンおよび１−ブロモペンタンか
ら、白色固体として１００％の収率で製造された。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ペンチ
ルオキシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６
−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−
６−ヒドロキシ ベンゼンおよび１−ブロモペンタンか
ら、白色固体として１００％の収率で製造された。
【００８５】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．５６（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４３（ｍ，５）、６．７
８（ｓ，１）、６．５３（ｓ，１）、５．１２（ｓ，
２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝６．６２Ｈｚ）、３．８
６（ｔ，２，Ｊ＝６．０２Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，
Ｊ＝７．５３Ｈｚ）、１．８０（ｍ，４）、１．４７
（ｍ，１２）、１．３７（ｓ，６）、１．１９（ｔ，
３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、０．９４（ｔ，３，Ｊ＝７．
０３Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０１２、２９５８、２９５７、２
９４２、２９３８、２２００、１７００、１５０６、１
４７１、１４５４、１４１２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４５２（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ29Ｈ41ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７７．１２；Ｈ、９．１５；Ｎ、３．１０ 実測値 Ｃ、７７．２９；Ｈ、９．３９；Ｎ、２．９
１。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４３（ｍ，５）、６．７
８（ｓ，１）、６．５３（ｓ，１）、５．１２（ｓ，
２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝６．６２Ｈｚ）、３．８
６（ｔ，２，Ｊ＝６．０２Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，
Ｊ＝７．５３Ｈｚ）、１．８０（ｍ，４）、１．４７
（ｍ，１２）、１．３７（ｓ，６）、１．１９（ｔ，
３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、０．９４（ｔ，３，Ｊ＝７．
０３Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０１２、２９５８、２９５７、２
９４２、２９３８、２２００、１７００、１５０６、１
４７１、１４５４、１４１２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４５２（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ29Ｈ41ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７７．１２；Ｈ、９．１５；Ｎ、３．１０ 実測値 Ｃ、７７．２９；Ｈ、９．３９；Ｎ、２．９
１。
【００８６】Ｆ．１−（６−シアノ−６−メチルヘプチ
ルオキシ）−２−エチル−４−ペンチルオキシ−５−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
ルオキシ）−２−エチル−４−ペンチルオキシ−５−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
【００８７】１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオ
キシ）−２−エチル−４−ペンチルオキシ−５−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ペンチルオキシ ベンゼンから９７％の収率で製造され
た。
キシ）−２−エチル−４−ペンチルオキシ−５−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ペンチルオキシ ベンゼンから９７％の収率で製造され
た。
【００８８】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４６（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７０（ｓ，１）、６．５
３（ｓ，１）、５．５８（ｓ，１）、３．９９（ｔ，
２，Ｊ＝６．５８Ｈｚ）、３．９１（ｔ，２，Ｊ＝６．
６０Ｈｚ）、２．５７（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈｚ）、
１．８０（ｍ，４）、１．５７（ｓ（ｂｒ），６）、
１．４２（ｍ，４）、１．３６（ｓ，６）、１．１８
（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、０．９５（ｔ，３，Ｊ
＝６．９３Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４１、３０１１、２９４０、２
８７４、２２３７、１６０４、１５０８、１４７１ｃｍ
-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３６１（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ22Ｈ35ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７３．１３；Ｈ、９．６９ 実測値 Ｃ、７３．３３；Ｈ、９．５３。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７０（ｓ，１）、６．５
３（ｓ，１）、５．５８（ｓ，１）、３．９９（ｔ，
２，Ｊ＝６．５８Ｈｚ）、３．９１（ｔ，２，Ｊ＝６．
６０Ｈｚ）、２．５７（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈｚ）、
１．８０（ｍ，４）、１．５７（ｓ（ｂｒ），６）、
１．４２（ｍ，４）、１．３６（ｓ，６）、１．１８
（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、０．９５（ｔ，３，Ｊ
＝６．９３Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４１、３０１１、２９４０、２
８７４、２２３７、１６０４、１５０８、１４７１ｃｍ
-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３６１（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ22Ｈ35ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７３．１３；Ｈ、９．６９ 実測値 Ｃ、７３．３３；Ｈ、９．５３。
【００８９】Ｇ．４−エチル−２−ペンチルオキシ−５
−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）ヘプチル］オキシ］フェノール 二ナトリウム塩の
製造。 エチレングリコールジエチルエーテル（０．２０Ｍ溶
液）中のニトリルの溶液に、アルゴン雰囲気下でトリ−
ｎ−ブチルスズアジド（６．０当量）を加えた。次いで
反応物を４８ないし７２時間還流した。次にこの反応物
を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌ（１１当量）で処理し２
時間攪拌した。次いで反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し減圧で溶媒を除くと橙色油状物が得られた。
得られた油状物をＥｔ2Ｏに溶解し、１．１ＭのＫＦ水
溶液（８．０当量）で処理し、２．５時間攪拌した。得
られた沈澱を濾過により除いた。溶媒を濾液から除き、
残った残留物をヘキサンで摩砕した。得られた固体をメ
タノールに溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（５当量）で処理
し、１．５時間攪拌した。次いで溶媒を減圧で除去し、
得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ
／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフィーによって精
製した。所望生成物が白色の親液性ナトリウム塩として
得られた。
−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）ヘプチル］オキシ］フェノール 二ナトリウム塩の
製造。 エチレングリコールジエチルエーテル（０．２０Ｍ溶
液）中のニトリルの溶液に、アルゴン雰囲気下でトリ−
ｎ−ブチルスズアジド（６．０当量）を加えた。次いで
反応物を４８ないし７２時間還流した。次にこの反応物
を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌ（１１当量）で処理し２
時間攪拌した。次いで反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し減圧で溶媒を除くと橙色油状物が得られた。
得られた油状物をＥｔ2Ｏに溶解し、１．１ＭのＫＦ水
溶液（８．０当量）で処理し、２．５時間攪拌した。得
られた沈澱を濾過により除いた。溶媒を濾液から除き、
残った残留物をヘキサンで摩砕した。得られた固体をメ
タノールに溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（５当量）で処理
し、１．５時間攪拌した。次いで溶媒を減圧で除去し、
得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ
／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフィーによって精
製した。所望生成物が白色の親液性ナトリウム塩として
得られた。
【００９０】４−エチル−２−ペンチルオキシ−５−
［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）ヘプチル］オキシ］フェノール 二ナトリウム塩
が、１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−
２−エチル−４−ペンチルオキシ−５−ヒドロキシ ベ
ンゼンから２７％の収率で製造された。
［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ル）ヘプチル］オキシ］フェノール 二ナトリウム塩
が、１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−
２−エチル−４−ペンチルオキシ−５−ヒドロキシ ベ
ンゼンから２７％の収率で製造された。
【００９１】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．５５（１０％ＭｅＯＨ
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ９．８５（ｓ（ｂｒ），
１）、６．６１（ｓ，１）、６．４５（ｓ，１）、３．
８２（ｔ，２，Ｊ＝６．５８Ｈｚ）、３．７２（ｔ，
２，Ｊ＝６．５０Ｈｚ）、２．３８（ｑ，２，Ｊ＝７．
４７Ｈｚ）、１．５９（ｍ，４）、１．３０（ｍ，
８）、１．１０（ｍ，４）、１．０２（ｔ，３，Ｊ＝
７．４５Ｈｚ）、０．８７（ｔ，３，Ｊ＝６．９７Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４２０、２９３６、１６１２、１５１
９、１４４８ｃｍ-1。マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ
４４９（Ｍ+＋２Ｎａ+＋Ｈ）、４２７（Ｍ+＋Ｎａ
+Ｈ）。 元素分析（Ｃ22Ｈ34Ｎ4Ｏ3Ｎａ2−２．０Ｈ2Ｏとして） 理論値 Ｃ、５４．５４；Ｈ、７．８５；Ｎ、１１．５
７ 実測値 Ｃ、５４．５０；Ｈ、７．００；Ｎ、１１．２
６。
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ９．８５（ｓ（ｂｒ），
１）、６．６１（ｓ，１）、６．４５（ｓ，１）、３．
８２（ｔ，２，Ｊ＝６．５８Ｈｚ）、３．７２（ｔ，
２，Ｊ＝６．５０Ｈｚ）、２．３８（ｑ，２，Ｊ＝７．
４７Ｈｚ）、１．５９（ｍ，４）、１．３０（ｍ，
８）、１．１０（ｍ，４）、１．０２（ｔ，３，Ｊ＝
７．４５Ｈｚ）、０．８７（ｔ，３，Ｊ＝６．９７Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４２０、２９３６、１６１２、１５１
９、１４４８ｃｍ-1。マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ
４４９（Ｍ+＋２Ｎａ+＋Ｈ）、４２７（Ｍ+＋Ｎａ
+Ｈ）。 元素分析（Ｃ22Ｈ34Ｎ4Ｏ3Ｎａ2−２．０Ｈ2Ｏとして） 理論値 Ｃ、５４．５４；Ｈ、７．８５；Ｎ、１１．５
７ 実測値 Ｃ、５４．５０；Ｈ、７．００；Ｎ、１１．２
６。
【００９２】実施例４ Ａ．５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒ
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
【００９３】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３９（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
【００９４】Ｂ．１−［６−メチル−６−シアノヘプチ
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 アセトン６００ｍｌ中の２−シアノ−２−メチル−７−
クロロヘプタン（１５．０１ｇ、８６．８ｍｍｏｌ）の
溶液に、酢酸テトラエチルアンモニウム四水和物（４
５．３６ｇ、１．７４ｍｏｌ）を加えた。次いで反応物
をアルゴン雰囲気下で２５時間還流した。反応物を室温
に冷却し、アセトンを減圧で除いた。得られた残留物に
水およびＥｔ2Ｏを加えた。水層をＥｔ2Ｏで数回抽出
し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により透明な油状物（２３．１９ｇ）を得た。
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 アセトン６００ｍｌ中の２−シアノ−２−メチル−７−
クロロヘプタン（１５．０１ｇ、８６．８ｍｍｏｌ）の
溶液に、酢酸テトラエチルアンモニウム四水和物（４
５．３６ｇ、１．７４ｍｏｌ）を加えた。次いで反応物
をアルゴン雰囲気下で２５時間還流した。反応物を室温
に冷却し、アセトンを減圧で除いた。得られた残留物に
水およびＥｔ2Ｏを加えた。水層をＥｔ2Ｏで数回抽出
し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により透明な油状物（２３．１９ｇ）を得た。
【００９５】メタノール４００ｍｌ中の上で製造された
アセタートに、Ｋ2ＣＯ3（１６．２７ｇ）を加え、室温
で２４時間攪拌した。反応混合物を濾過して固体を除
き、濾液から溶媒を除去した。得られた固体をＥｔＯＡ
ｃに溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をＨ2Ｏで洗浄した。
有機溶液をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により黄色油状物１４．５０ｇを得、これを、シリカ
ゲル支持体を用い５％ないし６０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ンの溶媒勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望のア
ルコールが透明な油状物（１０．５８ｇ、５７％）とし
て得られた。 ＴＬＣ Ｒｆ＝０．１３（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ン）。
アセタートに、Ｋ2ＣＯ3（１６．２７ｇ）を加え、室温
で２４時間攪拌した。反応混合物を濾過して固体を除
き、濾液から溶媒を除去した。得られた固体をＥｔＯＡ
ｃに溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をＨ2Ｏで洗浄した。
有機溶液をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により黄色油状物１４．５０ｇを得、これを、シリカ
ゲル支持体を用い５％ないし６０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ンの溶媒勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望のア
ルコールが透明な油状物（１０．５８ｇ、５７％）とし
て得られた。 ＴＬＣ Ｒｆ＝０．１３（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ン）。
【００９６】上で製造された２−シアノ−２−メチル−
７−ヒドロキシヘプタンおよび２，３−ジヒドロキシ−
４−エチル−ベンズアルデヒドの乾燥ＴＨＦ溶液５０ｍ
ｌを室温で攪拌した。この溶液に、トリフェニルホスフ
ィン（１７．９１ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）および最後に
ジエチル アゾジカルボキシラート（１１．８９ｇ、６
８．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２時間１５
分間攪拌し、次いで飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で反応停止させ
た。ＴＨＦを減圧で除き、得られた残留物をＥｔＯＡｃ
に溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をブラインで洗浄した。
有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去
により橙色固体を得た。この生成物を、固体支持体とし
てシリカゲルを用い１０％ないし３０％ＥｔＯＡｃ／ヘ
キサンの勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望生成
物が黄色油状物（１０．５０ｇ、５１％）として得られ
た。
７−ヒドロキシヘプタンおよび２，３−ジヒドロキシ−
４−エチル−ベンズアルデヒドの乾燥ＴＨＦ溶液５０ｍ
ｌを室温で攪拌した。この溶液に、トリフェニルホスフ
ィン（１７．９１ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）および最後に
ジエチル アゾジカルボキシラート（１１．８９ｇ、６
８．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２時間１５
分間攪拌し、次いで飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で反応停止させ
た。ＴＨＦを減圧で除き、得られた残留物をＥｔＯＡｃ
に溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をブラインで洗浄した。
有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去
により橙色固体を得た。この生成物を、固体支持体とし
てシリカゲルを用い１０％ないし３０％ＥｔＯＡｃ／ヘ
キサンの勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望生成
物が黄色油状物（１０．５０ｇ、５１％）として得られ
た。
【００９７】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４４
（ｓ，１）、９．６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，
１）、６．３６（ｓ，１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８５（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３４（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
（ｓ，１）、９．６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，
１）、６．３６（ｓ，１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８５（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３４（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
【００９８】Ｃ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2０／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2０／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
【００９９】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４０（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６
実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６
実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
【０１００】Ｄ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
【０１０１】１−ベンジルオキシ−３−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
【０１０２】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３８（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４
０、１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４
０、１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
【０１０３】Ｅ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−イ
ソプロポキシ ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ（１．３Ｍ溶液）に入れた、ヘキサンで洗浄
したＮａＨ（２．１０当量）の懸濁液を、室温でアルゴ
ン雰囲気下に攪拌した。乾燥ＤＭＦ（０．１５Ｍ）中の
フェノールの溶液を、このＮａＨ懸濁液に徐々に加え
た。反応物を室温で３０分間攪拌した。この反応物に１
８−クラウン−６を加え、次にハロゲン化アルキル
（５．０当量）を滴下した。室温で数時間攪拌した後、
飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液で反応停止させ、水で希釈しＥｔ
ＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ抽出物を水洗し、次いで
ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去により粗
生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィーにより精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−イ
ソプロポキシ ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ（１．３Ｍ溶液）に入れた、ヘキサンで洗浄
したＮａＨ（２．１０当量）の懸濁液を、室温でアルゴ
ン雰囲気下に攪拌した。乾燥ＤＭＦ（０．１５Ｍ）中の
フェノールの溶液を、このＮａＨ懸濁液に徐々に加え
た。反応物を室温で３０分間攪拌した。この反応物に１
８−クラウン−６を加え、次にハロゲン化アルキル
（５．０当量）を滴下した。室温で数時間攪拌した後、
飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液で反応停止させ、水で希釈しＥｔ
ＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ抽出物を水洗し、次いで
ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去により粗
生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィーにより精製した。
【０１０４】１−ベンジルオキシ−３−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−イソプ
ロポキシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６
−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−
６−ヒドロキシ ベンゼンおよび２−ヨードプロパンか
ら、白色固体として１００％の収率で製造された。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−イソプ
ロポキシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６
−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−
６−ヒドロキシ ベンゼンおよび２−ヨードプロパンか
ら、白色固体として１００％の収率で製造された。
【０１０５】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．５３（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．３８（ｍ，５）、６．８
０（ｓ，１）、６．５２（ｓ，１）、５．１２（ｓ，
２）、４．４０（ｍ，１）、３．８７（ｔ，２，Ｊ＝
６．２１Ｈｚ）、２．５７（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８０（ｍ，２）、１．５６（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．３３（ｄ，６，Ｊ＝
６．０５Ｈｚ）、１．８１（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２２、２９７８、２９４１、２
２３６、１６００、１５０５、１４７１、１４１１、１
３８３、１３１６ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４２３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ27Ｈ37ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．５９；Ｈ、８．７４；Ｎ、３．３１ 実測値 Ｃ、７６．６７；Ｈ、７．７４；Ｎ、３．５
８。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．３８（ｍ，５）、６．８
０（ｓ，１）、６．５２（ｓ，１）、５．１２（ｓ，
２）、４．４０（ｍ，１）、３．８７（ｔ，２，Ｊ＝
６．２１Ｈｚ）、２．５７（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８０（ｍ，２）、１．５６（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．３３（ｄ，６，Ｊ＝
６．０５Ｈｚ）、１．８１（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２２、２９７８、２９４１、２
２３６、１６００、１５０５、１４７１、１４１１、１
３８３、１３１６ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４２３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ27Ｈ37ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．５９；Ｈ、８．７４；Ｎ、３．３１ 実測値 Ｃ、７６．６７；Ｈ、７．７４；Ｎ、３．５
８。
【０１０６】Ｆ．１−（６−シアノ−６−メチルヘプチ
ルオキシ）−２−エチル−４−イソプロポキシ−５−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
ルオキシ）−２−エチル−４−イソプロポキシ−５−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
【０１０７】１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオ
キシ）−２−エチル−４−イソプロポキシ−５−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
イソプロポキシ ベンゼンから９７％の収率で製造され
た。
キシ）−２−エチル−４−イソプロポキシ−５−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
イソプロポキシ ベンゼンから９７％の収率で製造され
た。
【０１０８】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４１（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７２（ｓ，１）、６．５
２（ｓ，１）、５．５８（ｓ，１）、４．４３（ｍ，
１）、３．９０（ｔ，２，Ｊ＝６．２２Ｈｚ）、２．５
６（ｑ，２，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、１．８２（ｍ，
２）、１．５６（ｍ，６）、１．３６（ｓ，６）、１．
３４（ｄ，６，Ｊ＝６．０６Ｈｚ）、１．１６（ｔ，
３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５３５、３０２４、２９７９、２
９４１、２８７３、２２３６、１６０３、１５０７、１
４７１ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３３３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ20Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７２．０４；Ｈ、９．３７；Ｎ、４．２０ 実測値 Ｃ、７２．３２；Ｈ、９．６３；Ｎ、４．３
０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７２（ｓ，１）、６．５
２（ｓ，１）、５．５８（ｓ，１）、４．４３（ｍ，
１）、３．９０（ｔ，２，Ｊ＝６．２２Ｈｚ）、２．５
６（ｑ，２，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、１．８２（ｍ，
２）、１．５６（ｍ，６）、１．３６（ｓ，６）、１．
３４（ｄ，６，Ｊ＝６．０６Ｈｚ）、１．１６（ｔ，
３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５３５、３０２４、２９７９、２
９４１、２８７３、２２３６、１６０３、１５０７、１
４７１ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３３３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ20Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７２．０４；Ｈ、９．３７；Ｎ、４．２０ 実測値 Ｃ、７２．３２；Ｈ、９．６３；Ｎ、４．３
０。
【０１０９】Ｇ．４−エチル−２−（１−メチルエトキ
シ）−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール
−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウ
ム塩の製造。 エチレングリコールジエチルエーテル（０．２０Ｍ溶
液）中のニトリルの溶液に、アルゴン雰囲気下でトリ−
ｎ−ブチルスズアジド（６．０当量）を加えた。次いで
反応物を４８ないし７２時間還流した。次にこの反応物
を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌ（１１当量）で処理し２
時間攪拌した。次いで反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し減圧で溶媒を除くと橙色油状物が得られた。
得られた油状物をＥｔ2Ｏに溶解し、１．１ＭのＫＦ水
溶液（８．０当量）で処理し、２．５時間攪拌した。得
られた沈澱を濾過により除いた。溶媒を濾液から除き、
残った残留物をヘキサンで摩砕した。得られた固体をメ
タノールに溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（５当量）で処理
し、１．５時間攪拌した。次いで溶媒を減圧で除去し、
得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ
／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフィーによって精
製した。所望生成物が白色の親液性ナトリウム塩として
得られた。
シ）−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール
−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウ
ム塩の製造。 エチレングリコールジエチルエーテル（０．２０Ｍ溶
液）中のニトリルの溶液に、アルゴン雰囲気下でトリ−
ｎ−ブチルスズアジド（６．０当量）を加えた。次いで
反応物を４８ないし７２時間還流した。次にこの反応物
を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌ（１１当量）で処理し２
時間攪拌した。次いで反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し減圧で溶媒を除くと橙色油状物が得られた。
得られた油状物をＥｔ2Ｏに溶解し、１．１ＭのＫＦ水
溶液（８．０当量）で処理し、２．５時間攪拌した。得
られた沈澱を濾過により除いた。溶媒を濾液から除き、
残った残留物をヘキサンで摩砕した。得られた固体をメ
タノールに溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（５当量）で処理
し、１．５時間攪拌した。次いで溶媒を減圧で除去し、
得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ
／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフィーによって精
製した。所望生成物が白色の親液性ナトリウム塩として
得られた。
【０１１０】４−エチル−２−（１−メチルエトキシ）
−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５
−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウム塩
が、１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−
２−エチル−４−イソプロポキシ−５−ヒドロキシ ベ
ンゼンから４３％の収率で製造された。
−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５
−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウム塩
が、１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−
２−エチル−４−イソプロポキシ−５−ヒドロキシ ベ
ンゼンから４３％の収率で製造された。
【０１１１】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４８（１０％ＭｅＯＨ
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ９．６７（ｓ（ｂｒ），
１）、６．６３（ｓ，１）、６．４６（ｓ，１）、４．
２９（ｍ，２）、３．７２（ｔ，２，Ｊ＝６．４７Ｈ
ｚ）、２．３７（ｑ，２，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）、１．５
８（ｍ，４）、１．３２（ｍ，４）、１．２２（ｓ，
６）、１．１６（ｄ，６，Ｊ＝６．１０Ｈｚ）、１．０
２（ｔ，３，Ｊ＝７．４８Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９７３、２９３７、２８７２、１
６２０、１５０８、１４３７ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３７７（Ｍ+＋Ｈ）。 元素分析（Ｃ20Ｈ31Ｎ4Ｏ3Ｎａ−１．７Ｈ2Ｏとして） 理論値 Ｃ、５５．９３；Ｈ、８．０８；Ｎ、１３．０
５ 実測値 Ｃ、５６．２６；Ｈ、８．２４；Ｎ、１２．６
７。
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ９．６７（ｓ（ｂｒ），
１）、６．６３（ｓ，１）、６．４６（ｓ，１）、４．
２９（ｍ，２）、３．７２（ｔ，２，Ｊ＝６．４７Ｈ
ｚ）、２．３７（ｑ，２，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）、１．５
８（ｍ，４）、１．３２（ｍ，４）、１．２２（ｓ，
６）、１．１６（ｄ，６，Ｊ＝６．１０Ｈｚ）、１．０
２（ｔ，３，Ｊ＝７．４８Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９７３、２９３７、２８７２、１
６２０、１５０８、１４３７ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３７７（Ｍ+＋Ｈ）。 元素分析（Ｃ20Ｈ31Ｎ4Ｏ3Ｎａ−１．７Ｈ2Ｏとして） 理論値 Ｃ、５５．９３；Ｈ、８．０８；Ｎ、１３．０
５ 実測値 Ｃ、５６．２６；Ｈ、８．２４；Ｎ、１２．６
７。
【０１１２】実施例５ Ａ．５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒ
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
【０１１３】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３９（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
【０１１４】Ｂ．１−［６−メチル−６−シアノヘプチ
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 アセトン６００ｍｌ中の２−シアノ−２−メチル−７−
クロロヘプタン（１５．０１ｇ、８６．８ｍｍｏｌ）の
溶液に、酢酸テトラエチルアンモニウム四水和物（４
５．３６ｇ、１．７４ｍｏｌ）を加えた。次いで反応物
をアルゴン雰囲気下で２５時間還流した。反応物を室温
に冷却し、アセトンを減圧で除いた。得られた残留物に
水およびＥｔ2Ｏを加えた。水層をＥｔ2Ｏで数回抽出
し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により透明な油状物（２３．１９ｇ）を得た。
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 アセトン６００ｍｌ中の２−シアノ−２−メチル−７−
クロロヘプタン（１５．０１ｇ、８６．８ｍｍｏｌ）の
溶液に、酢酸テトラエチルアンモニウム四水和物（４
５．３６ｇ、１．７４ｍｏｌ）を加えた。次いで反応物
をアルゴン雰囲気下で２５時間還流した。反応物を室温
に冷却し、アセトンを減圧で除いた。得られた残留物に
水およびＥｔ2Ｏを加えた。水層をＥｔ2Ｏで数回抽出
し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により透明な油状物（２３．１９ｇ）を得た。
【０１１５】メタノール４００ｍｌ中の上で製造された
アセタートに、Ｋ2ＣＯ3（１６．２７ｇ）を加え、室温
で２４時間攪拌した。反応混合物を濾過して固体を除
き、濾液から溶媒を除去した。得られた固体をＥｔＯＡ
ｃに溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をＨ2Ｏで洗浄した。
有機溶液をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により黄色油状物１４．５０ｇを得、これを、シリカ
ゲル支持体を用い５％ないし６０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ンの溶媒勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望のア
ルコールが透明な油状物（１０．５８ｇ、５７％）とし
て得られた。 ＴＬＣ Ｒｆ＝０．１３（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ン）。
アセタートに、Ｋ2ＣＯ3（１６．２７ｇ）を加え、室温
で２４時間攪拌した。反応混合物を濾過して固体を除
き、濾液から溶媒を除去した。得られた固体をＥｔＯＡ
ｃに溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をＨ2Ｏで洗浄した。
有機溶液をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により黄色油状物１４．５０ｇを得、これを、シリカ
ゲル支持体を用い５％ないし６０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ンの溶媒勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望のア
ルコールが透明な油状物（１０．５８ｇ、５７％）とし
て得られた。 ＴＬＣ Ｒｆ＝０．１３（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ン）。
【０１１６】上で製造された２−シアノ−２−メチル−
７−ヒドロキシヘプタンおよび２，４−ジヒドロキシ−
５−エチル−ベンズアルデヒドの乾燥ＴＨＦ溶液５０ｍ
ｌを室温で攪拌した。この溶液に、トリフェニルホスフ
ィン（１７．９１ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）および最後に
ジエチル アゾジカルボキシラート（１１．８９ｇ、６
８．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２時間１５
分間攪拌し、次いで飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で反応停止させ
た。ＴＨＦを減圧で除き、得られた残留物をＥｔＯＡｃ
に溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をブラインで洗浄した。
有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去
により橙色固体を得た。この生成物を、固体支持体とし
てシリカゲルを用い１０％ないし３０％ＥｔＯＡｃ／ヘ
キサンの勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望生成
物が黄色油状物（１０．５０ｇ、５１％）として得られ
た。
７−ヒドロキシヘプタンおよび２，４−ジヒドロキシ−
５−エチル−ベンズアルデヒドの乾燥ＴＨＦ溶液５０ｍ
ｌを室温で攪拌した。この溶液に、トリフェニルホスフ
ィン（１７．９１ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）および最後に
ジエチル アゾジカルボキシラート（１１．８９ｇ、６
８．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２時間１５
分間攪拌し、次いで飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で反応停止させ
た。ＴＨＦを減圧で除き、得られた残留物をＥｔＯＡｃ
に溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をブラインで洗浄した。
有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去
により橙色固体を得た。この生成物を、固体支持体とし
てシリカゲルを用い１０％ないし３０％ＥｔＯＡｃ／ヘ
キサンの勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望生成
物が黄色油状物（１０．５０ｇ、５１％）として得られ
た。
【０１１７】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４４
（ｓ，１）、９．６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，
１）、６．３６（ｓ，１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８５（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３４（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
（ｓ，１）、９．６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，
１）、６．３６（ｓ，１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８５（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３４（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
【０１１８】Ｃ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2Ｏ／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2Ｏ／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
【０１１９】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４０（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２６（ｓ，１）、６．４２（ｓ，
１）、４．１８（ｔ，２，Ｊ＝５．８０Ｈｚ）、３．７
７（ｔ，２，Ｊ＝６．２８Ｈｚ）、２．５７（１，２，
Ｊ＝７．４１Ｈｚ）、２，３０（ｍ，２）、１．９６
（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２１、２９７１、２９３７、１
６４３、１５８６、１４９４ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ12Ｈ15Ｏ3Ｃｌとして） 理論値 Ｃ、５９．３３；Ｈ、６．２３；Ｃｌ、１４．
６１ 実測値 Ｃ、５９．２４；Ｈ、６．１８；Ｃｌ、１４．
６９。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２６（ｓ，１）、６．４２（ｓ，
１）、４．１８（ｔ，２，Ｊ＝５．８０Ｈｚ）、３．７
７（ｔ，２，Ｊ＝６．２８Ｈｚ）、２．５７（１，２，
Ｊ＝７．４１Ｈｚ）、２，３０（ｍ，２）、１．９６
（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２１、２９７１、２９３７、１
６４３、１５８６、１４９４ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ12Ｈ15Ｏ3Ｃｌとして） 理論値 Ｃ、５９．３３；Ｈ、６．２３；Ｃｌ、１４．
６１ 実測値 Ｃ、５９．２４；Ｈ、６．１８；Ｃｌ、１４．
６９。
【０１２０】Ｄ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
【０１２１】１−ベンジルオキシ−３−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−３−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
【０１２２】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３８（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４
０、１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４
０、１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
【０１２３】Ｅ．１−ベンジルオキシ−５−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−２−
［１−（３−メチル−２−ブテニル）］オキシ ベンゼ
ンの製造。 フェノール、トリフェニルホスフィン（１．０当量）お
よび所望アルコール（１．０当量）のＴＨＦ溶液（フェ
ノール中０．１２Ｍ）を、室温でアルゴン雰囲気下に攪
拌した。攪拌しながらジエチルアゾ−ジカルボキシラー
ト（１．０当量）を加えた。反応物を室温で１６時間攪
拌した。次いで反応物の溶媒を除き、得られた残留物を
シリカゲルに前もって吸収させ、酢酸エチル／ヘキサン
混合物で溶出するフラッシュクロマトグラフィーにより
精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−２−
［１−（３−メチル−２−ブテニル）］オキシ ベンゼ
ンの製造。 フェノール、トリフェニルホスフィン（１．０当量）お
よび所望アルコール（１．０当量）のＴＨＦ溶液（フェ
ノール中０．１２Ｍ）を、室温でアルゴン雰囲気下に攪
拌した。攪拌しながらジエチルアゾ−ジカルボキシラー
ト（１．０当量）を加えた。反応物を室温で１６時間攪
拌した。次いで反応物の溶媒を除き、得られた残留物を
シリカゲルに前もって吸収させ、酢酸エチル／ヘキサン
混合物で溶出するフラッシュクロマトグラフィーにより
精製した。
【０１２４】１−ベンジルオキシ−５−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−２−［１−
（３−メチル−２−ブテニル）］オキシ ベンゼンが、
１−ベンジルオキシ−３−（６−シアノ−６−メチルヘ
プチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロキシ ベンゼ
ンおよび３−メチル−２−ブテン−１−オールから、白
色固体として９２％の収率で製造された。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−２−［１−
（３−メチル−２−ブテニル）］オキシ ベンゼンが、
１−ベンジルオキシ−３−（６−シアノ−６−メチルヘ
プチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロキシ ベンゼ
ンおよび３−メチル−２−ブテン−１−オールから、白
色固体として９２％の収率で製造された。
【０１２５】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．５５（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．３９（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５０（ｓ，１）、５．５４（ｍ，
１）、５．１３（ｓ，２）、４．５５（ｄ，２，Ｊ＝
６．８５Ｈｚ）、３．８４（ｔ，２，Ｊ＝６．２３Ｈ
ｚ）、２．５７（ｑ，ｚ，Ｊ＝７．６１Ｈｚ）、１．７
８（ｍ，５）、１．７１（ｓ，３）、１．５０（ｍ，
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５５Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０１２、２９７７、２９４１、２
２３６、１６０７、１５０６、１４７１、１４１２ｃｍ
-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４４９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ29Ｈ39ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７７．４７；Ｈ、８．７４；Ｎ、３．１２ 実測値 Ｃ、７８．４９；Ｈ、８．５５；Ｎ、２．７
７。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．３９（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５０（ｓ，１）、５．５４（ｍ，
１）、５．１３（ｓ，２）、４．５５（ｄ，２，Ｊ＝
６．８５Ｈｚ）、３．８４（ｔ，２，Ｊ＝６．２３Ｈ
ｚ）、２．５７（ｑ，ｚ，Ｊ＝７．６１Ｈｚ）、１．７
８（ｍ，５）、１．７１（ｓ，３）、１．５０（ｍ，
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５５Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０１２、２９７７、２９４１、２
２３６、１６０７、１５０６、１４７１、１４１２ｃｍ
-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４４９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ29Ｈ39ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７７．４７；Ｈ、８．７４；Ｎ、３．１２ 実測値 Ｃ、７８．４９；Ｈ、８．５５；Ｎ、２．７
７。
【０１２６】Ｆ．１−［１−（３−メチルブチル）オキ
シ］−２−ヒドロキシ−４−（６−シアノ−６−メチル
ヘプチルオキシ）−５−エチル ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
シ］−２−ヒドロキシ−４−（６−シアノ−６−メチル
ヘプチルオキシ）−５−エチル ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
【０１２７】１−［１−（３−メチルブチル）オキシ］
−２−ヒドロキシ−４−（６−シアノ−６−メチルヘプ
チルオキシ）−５−エチル ベンゼンが、１−ベンジル
オキシ−５−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキ
シ）−４−エチル−２−［１−（３−メチル−２−ブテ
ニル）］オキシ ベンゼンから９１％の収率で製造され
た。
−２−ヒドロキシ−４−（６−シアノ−６−メチルヘプ
チルオキシ）−５−エチル ベンゼンが、１−ベンジル
オキシ−５−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキ
シ）−４−エチル−２−［１−（３−メチル−２−ブテ
ニル）］オキシ ベンゼンから９１％の収率で製造され
た。
【０１２８】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４４（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７０（ｓ，１）、６．５
３（ｓ，１）、５．５３（ｓ，１）、４．０３（ｔ，
２，Ｊ＝６．６７Ｈｚ）、３．９１（ｔ，２，Ｊ＝６．
２４Ｈｚ）、２．５７（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈｚ）、
１．８１（ｍ，２）、１．６９（ｑ，１，Ｊ＝６．５７
Ｈｚ）、１．５６（ｍ，８）、１．３６（ｓ，６）、
１．１７（ｔ，６，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、０．９８
（ｄ，６，Ｊ＝６．５７Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４１、３０１９、２９６２、２
８７３、２２３６、１６０４、１５０８、１４７１ｃｍ
-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３６１（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ22Ｈ35ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７３．０９；Ｈ、９．７６；Ｎ、３．８７ 実測値 Ｃ、７３．３６；Ｈ、９．６８；Ｎ、４．０
４。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７０（ｓ，１）、６．５
３（ｓ，１）、５．５３（ｓ，１）、４．０３（ｔ，
２，Ｊ＝６．６７Ｈｚ）、３．９１（ｔ，２，Ｊ＝６．
２４Ｈｚ）、２．５７（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈｚ）、
１．８１（ｍ，２）、１．６９（ｑ，１，Ｊ＝６．５７
Ｈｚ）、１．５６（ｍ，８）、１．３６（ｓ，６）、
１．１７（ｔ，６，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、０．９８
（ｄ，６，Ｊ＝６．５７Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４１、３０１９、２９６２、２
８７３、２２３６、１６０４、１５０８、１４７１ｃｍ
-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３６１（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ22Ｈ35ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７３．０９；Ｈ、９．７６；Ｎ、３．８７ 実測値 Ｃ、７３．３６；Ｈ、９．６８；Ｎ、４．０
４。
【０１２９】Ｇ．４−エチル−２−（３−メチルブトキ
シ）−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール
−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウ
ム塩の製造。 エチレングリコールジエチルエーテル（０．２０Ｍ溶
液）中のニトリルの溶液に、アルゴン雰囲気下でトリ−
ｎ−ブチルスズアジド（６．０当量）を加えた。次いで
反応物を４８ないし７２時間還流した。次にこの反応物
を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌ（１１当量）で処理し２
時間攪拌した。次いで反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し減圧で溶媒を除くと橙色油状物が得られた。
得られた油状物をＥｔ2Ｏに溶解し、１．１ＭのＫＦ水
溶液（８．０当量）で処理し、２．５時間攪拌した。得
られた沈澱を濾過により除いた。溶媒を濾液から除き、
残った残留物をヘキサンで摩砕した。得られた固体をメ
タノールに溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（５当量）で処理
し、１．５時間攪拌した。次いで溶媒を減圧で除去し、
得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ
／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフィーによって精
製した。所望生成物が白色の親液性ナトリウム塩として
得られた。
シ）−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール
−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウ
ム塩の製造。 エチレングリコールジエチルエーテル（０．２０Ｍ溶
液）中のニトリルの溶液に、アルゴン雰囲気下でトリ−
ｎ−ブチルスズアジド（６．０当量）を加えた。次いで
反応物を４８ないし７２時間還流した。次にこの反応物
を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌ（１１当量）で処理し２
時間攪拌した。次いで反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し減圧で溶媒を除くと橙色油状物が得られた。
得られた油状物をＥｔ2Ｏに溶解し、１．１ＭのＫＦ水
溶液（８．０当量）で処理し、２．５時間攪拌した。得
られた沈澱を濾過により除いた。溶媒を濾液から除き、
残った残留物をヘキサンで摩砕した。得られた固体をメ
タノールに溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（５当量）で処理
し、１．５時間攪拌した。次いで溶媒を減圧で除去し、
得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ
／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフィーによって精
製した。所望生成物が白色の親液性ナトリウム塩として
得られた。
【０１３０】４−エチル−２−（３−メチルブトキシ）
−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５
−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウム塩
が、１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−
２−エチル−４−（３−メチルブトキシ）−５−ヒドロ
キシ ベンゼンから４３％の収率で製造された。
−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５
−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウム塩
が、１−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−
２−エチル−４−（３−メチルブトキシ）−５−ヒドロ
キシ ベンゼンから４３％の収率で製造された。
【０１３１】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４８（１０％ＭｅＯＨ
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ９．７０（ｓ（ｂｒ），
１）、６．６２（ｓ，１）、６．４６（ｓ，１）、３．
８６（ｔ，２，Ｊ＝６．７４Ｈｚ）、３．７２（ｔ，
２，Ｊ＝６．３７Ｈｚ）、２．３８（ｑ，２，Ｊ＝７．
４８Ｈｚ）、１．７６（ｍ，１）、１．５４（ｍ，
４）、１．２６（ｍ，５）、１．２１（ｓ，６）、１．
１１（ｍ，３）、１．０２（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈ
ｚ）、０．８９（ｄ，６，Ｊ＝６．６２Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４１５、２９６０、２９３０、２８６
０、１６１０、１５１６、１４６６ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４４９（Ｍ+＋２Ｎａ+
＋Ｈ）、４２７（Ｍ+＋Ｎａ+＋Ｈ）、４０４（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ22Ｈ35Ｎ4Ｏ3Ｎａ−２．２５Ｈ2Ｏとし
て） 理論値 Ｃ、５６．５２；Ｈ、８．５２；Ｎ、１１．９
９ 実測値 Ｃ、５６．２６；Ｈ、８．００；Ｎ、１１．７
５。
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ９．７０（ｓ（ｂｒ），
１）、６．６２（ｓ，１）、６．４６（ｓ，１）、３．
８６（ｔ，２，Ｊ＝６．７４Ｈｚ）、３．７２（ｔ，
２，Ｊ＝６．３７Ｈｚ）、２．３８（ｑ，２，Ｊ＝７．
４８Ｈｚ）、１．７６（ｍ，１）、１．５４（ｍ，
４）、１．２６（ｍ，５）、１．２１（ｓ，６）、１．
１１（ｍ，３）、１．０２（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈ
ｚ）、０．８９（ｄ，６，Ｊ＝６．６２Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４１５、２９６０、２９３０、２８６
０、１６１０、１５１６、１４６６ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４４９（Ｍ+＋２Ｎａ+
＋Ｈ）、４２７（Ｍ+＋Ｎａ+＋Ｈ）、４０４（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ22Ｈ35Ｎ4Ｏ3Ｎａ−２．２５Ｈ2Ｏとし
て） 理論値 Ｃ、５６．５２；Ｈ、８．５２；Ｎ、１１．９
９ 実測値 Ｃ、５６．２６；Ｈ、８．００；Ｎ、１１．７
５。
【０１３２】実施例６ Ａ．５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒ
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
【０１３３】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３９（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
【０１３４】Ｂ．１−［６−メチル−６−シアノヘプチ
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 アセトン６００ｍｌ中の２−シアノ−２−メチル−７−
クロロヘプタン（１５．０１ｇ、８６．８ｍｍｏｌ）の
溶液に、酢酸テトラエチルアンモニウム四水和物（４
５．３６ｇ、１．７４ｍｏｌ）を加えた。次いで反応物
をアルゴン雰囲気下で２５時間還流した。反応物を室温
に冷却し、アセトンを減圧で除いた。得られた残留物に
水およびＥｔ2Ｏを加えた。水層をＥｔ2Ｏで数回抽出
し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により透明な油状物（２３．１９ｇ）を得た。
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 アセトン６００ｍｌ中の２−シアノ−２−メチル−７−
クロロヘプタン（１５．０１ｇ、８６．８ｍｍｏｌ）の
溶液に、酢酸テトラエチルアンモニウム四水和物（４
５．３６ｇ、１．７４ｍｏｌ）を加えた。次いで反応物
をアルゴン雰囲気下で２５時間還流した。反応物を室温
に冷却し、アセトンを減圧で除いた。得られた残留物に
水およびＥｔ2Ｏを加えた。水層をＥｔ2Ｏで数回抽出
し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により透明な油状物（２３．１９ｇ）を得た。
【０１３５】メタノール４００ｍｌ中の上で製造された
アセタートに、Ｋ2ＣＯ3（１６．２７ｇ）を加え、室温
で２４時間攪拌した。反応混合物を濾過して固体を除
き、濾液から溶媒を除去した。得られた固体をＥｔＯＡ
ｃに溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をＨ2Ｏで洗浄した。
有機溶液をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により黄色油状物１４．５０ｇを得、これを、シリカ
ゲル支持体を用い５％ないし６０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ンの溶媒勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望のア
ルコールが透明な油状物（１０．５８ｇ、５７％）とし
て得られた。 ＴＬＣ Ｒｆ＝０．１３（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ン）。
アセタートに、Ｋ2ＣＯ3（１６．２７ｇ）を加え、室温
で２４時間攪拌した。反応混合物を濾過して固体を除
き、濾液から溶媒を除去した。得られた固体をＥｔＯＡ
ｃに溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をＨ2Ｏで洗浄した。
有機溶液をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により黄色油状物１４．５０ｇを得、これを、シリカ
ゲル支持体を用い５％ないし６０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ンの溶媒勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望のア
ルコールが透明な油状物（１０．５８ｇ、５７％）とし
て得られた。 ＴＬＣ Ｒｆ＝０．１３（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ン）。
【０１３６】上で製造された２−シアノ−２−メチル−
７−ヒドロキシヘプタンおよび２，３−ジヒドロキシ−
４−エチル−ベンズアルデヒドの乾燥ＴＨＦ溶液５０ｍ
ｌを室温で攪拌した。この溶液に、トリフェニルホスフ
ィン（１７．９１ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）および最後に
ジエチル アゾジカルボキシラート（１１．８９ｇ、６
８．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２時間１５
分間攪拌し、次いで飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で反応停止させ
た。ＴＨＦを減圧で除き、得られた残留物をＥｔＯＡｃ
に溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をブラインで洗浄した。
有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去
により橙色固体を得た。この生成物を、固体支持体とし
てシリカゲルを用い１０％ないし３０％ＥｔＯＡｃ／ヘ
キサンの勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望生成
物が黄色油状物（１０．５０ｇ、５１％）として得られ
た。
７−ヒドロキシヘプタンおよび２，３−ジヒドロキシ−
４−エチル−ベンズアルデヒドの乾燥ＴＨＦ溶液５０ｍ
ｌを室温で攪拌した。この溶液に、トリフェニルホスフ
ィン（１７．９１ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）および最後に
ジエチル アゾジカルボキシラート（１１．８９ｇ、６
８．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２時間１５
分間攪拌し、次いで飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で反応停止させ
た。ＴＨＦを減圧で除き、得られた残留物をＥｔＯＡｃ
に溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をブラインで洗浄した。
有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去
により橙色固体を得た。この生成物を、固体支持体とし
てシリカゲルを用い１０％ないし３０％ＥｔＯＡｃ／ヘ
キサンの勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望生成
物が黄色油状物（１０．５０ｇ、５１％）として得られ
た。
【０１３７】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４４
（ｓ，１）、９．６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，
１）、６．３６（ｓ，１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８５（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３４（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
（ｓ，１）、９．６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，
１）、６．３６（ｓ，１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８５（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３４（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
【０１３８】Ｃ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2Ｏ／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2Ｏ／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
【０１３９】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４０（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６ 実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６ 実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
【０１４０】Ｄ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
【０１４１】１−ベンジルオキシ−２−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
【０１４２】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３８（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４
０、１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４
０、１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
【０１４３】Ｅ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−シ
クロペンチルオキシ ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ（１．３Ｍ溶液）に入れた、ヘキサンで洗浄
したＮａＨ（２．１０当量）の懸濁液を、室温でアルゴ
ン雰囲気下に攪拌した。乾燥ＤＭＦ（０．１５Ｍ）中の
フェノールの溶液を、このＮａＨ懸濁液に徐々に加え
た。反応物を室温で３０分間攪拌した。この反応物に１
８−クラウン−６を加え、次にハロゲン化アルキル
（５．０当量）を滴下した。室温で数時間攪拌した後、
飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液で反応停止させ、水で希釈しＥｔ
ＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ抽出物を水洗し、次いで
ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去により粗
生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィーにより精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−シ
クロペンチルオキシ ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ（１．３Ｍ溶液）に入れた、ヘキサンで洗浄
したＮａＨ（２．１０当量）の懸濁液を、室温でアルゴ
ン雰囲気下に攪拌した。乾燥ＤＭＦ（０．１５Ｍ）中の
フェノールの溶液を、このＮａＨ懸濁液に徐々に加え
た。反応物を室温で３０分間攪拌した。この反応物に１
８−クラウン−６を加え、次にハロゲン化アルキル
（５．０当量）を滴下した。室温で数時間攪拌した後、
飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液で反応停止させ、水で希釈しＥｔ
ＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ抽出物を水洗し、次いで
ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去により粗
生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィーにより精製した。
【０１４４】１−ベンジルオキシ−２−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−シクロ
ペンチルオキシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２
−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エ
チル−６−ヒドロキシ ベンゼンおよびブロモシクロペ
ンタンから、白色固体として９２％の収率で製造され
た。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−シクロ
ペンチルオキシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２
−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エ
チル−６−ヒドロキシ ベンゼンおよびブロモシクロペ
ンタンから、白色固体として９２％の収率で製造され
た。
【０１４５】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．５３（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．３９（ｍ，５）、６．７
８（ｓ，１）、６．５３（ｓ，１）、５．１０（ｓ，
２）、４．７７（ｍ，１）、３．８７（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５８（ｑ，ｚ，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，７）、１．５４（ｍ，７）、１．
３７（ｓ，６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４３Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２５、３０１２、２９４４、２
８７２、２２３６、１６０８、１５０５、１４７１、１
４１２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４４９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ29Ｈ39ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７７．４７；Ｈ、８．７４；Ｎ、３．１２ 実測値 Ｃ、７７．２０；Ｈ、８．９５；Ｎ、３．２
３。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．３９（ｍ，５）、６．７
８（ｓ，１）、６．５３（ｓ，１）、５．１０（ｓ，
２）、４．７７（ｍ，１）、３．８７（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５８（ｑ，ｚ，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，７）、１．５４（ｍ，７）、１．
３７（ｓ，６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４３Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２５、３０１２、２９４４、２
８７２、２２３６、１６０８、１５０５、１４７１、１
４１２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４４９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ29Ｈ39ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７７．４７；Ｈ、８．７４；Ｎ、３．１２ 実測値 Ｃ、７７．２０；Ｈ、８．９５；Ｎ、３．２
３。
【０１４６】Ｆ．１−シクロペンチルオキシ−２−ヒド
ロキシ−４−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキ
シ）−５−エチル ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
ロキシ−４−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキ
シ）−５−エチル ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
【０１４７】１−シクロペンチルオキシ−２−ヒドロキ
シ−４−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−
５−エチル ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−５−
（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチ
ル−２−シクロペンチルオキシベンゼンから、透明な油
状物として９７％の収率で製造された。
シ−４−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−
５−エチル ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−５−
（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチ
ル−２−シクロペンチルオキシベンゼンから、透明な油
状物として９７％の収率で製造された。
【０１４８】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４４（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７０（ｓ，１）、６．５
２（ｓ，１）、５．５３（ｓ，１）、４．７０（ｍ，
１）、３．９０（ｔ，２，Ｊ＝６．２２Ｈｚ）、２．５
７（ｑ，２，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、１．８３（ｍ，
２）、１．６４（ｍ，２）、１．５５（ｍ，２）、１．
３６（ｓ，６）、１．１７（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５５０、３０１３、２９６８、２
９４５、２８７３、２２３８、１６００、１５０６、１
４７１ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３５９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ22Ｈ33ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７３．５０；Ｈ、９．２５；Ｎ、３．９０ 実測値 Ｃ、７３．７９；Ｈ、９．５３；Ｎ、３．７
３。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７０（ｓ，１）、６．５
２（ｓ，１）、５．５３（ｓ，１）、４．７０（ｍ，
１）、３．９０（ｔ，２，Ｊ＝６．２２Ｈｚ）、２．５
７（ｑ，２，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、１．８３（ｍ，
２）、１．６４（ｍ，２）、１．５５（ｍ，２）、１．
３６（ｓ，６）、１．１７（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５５０、３０１３、２９６８、２
９４５、２８７３、２２３８、１６００、１５０６、１
４７１ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３５９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ22Ｈ33ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７３．５０；Ｈ、９．２５；Ｎ、３．９０ 実測値 Ｃ、７３．７９；Ｈ、９．５３；Ｎ、３．７
３。
【０１４９】Ｇ．２−（シクロペンチルオキシ）−４−
エチル−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾー
ル−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリ
ウム塩の製造。 ダイグライム（０．４Ｍ溶液）中のニトリルの溶液を、
ジメチルアミノエタノールヒドロクロリド（２．０当
量）、ジメチルアミノエタノール（２．０当量）、およ
びナトリウムアジド（５．０当量）で処理した。次いで
反応混合物を４８ないし７２時間１３０℃に加熱した。
次に反応物を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌで反応停止さ
せ、２時間攪拌した。反応混合物を水で希釈し、酢酸エ
チルで数回抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で
乾燥し、濾過し溶媒を除去して、黄褐色の固体を得た。
この固体をＭｅＯＨに溶解し、３当量のＮａＯＨで処理
した。メタノールを除去して、得られた固体をＣＨＰ−
２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ／Ｈ2Ｏで溶出する逆相
クロマトグラフィーにより精製した。所望生成物が白色
の親液性ナトリウム塩として得られた。
エチル−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾー
ル−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリ
ウム塩の製造。 ダイグライム（０．４Ｍ溶液）中のニトリルの溶液を、
ジメチルアミノエタノールヒドロクロリド（２．０当
量）、ジメチルアミノエタノール（２．０当量）、およ
びナトリウムアジド（５．０当量）で処理した。次いで
反応混合物を４８ないし７２時間１３０℃に加熱した。
次に反応物を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌで反応停止さ
せ、２時間攪拌した。反応混合物を水で希釈し、酢酸エ
チルで数回抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で
乾燥し、濾過し溶媒を除去して、黄褐色の固体を得た。
この固体をＭｅＯＨに溶解し、３当量のＮａＯＨで処理
した。メタノールを除去して、得られた固体をＣＨＰ−
２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ／Ｈ2Ｏで溶出する逆相
クロマトグラフィーにより精製した。所望生成物が白色
の親液性ナトリウム塩として得られた。
【０１５０】２−（シクロペンチルオキシ）−４−エチ
ル−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−
５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウム
塩を、１−シクロペンチルオキシ−２−ヒドロキシ−４
−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−５−エ
チル ベンゼンから、方法Ｂによって３４％の収率で製
造した。
ル−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−
５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノール ナトリウム
塩を、１−シクロペンチルオキシ−２−ヒドロキシ−４
−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−５−エ
チル ベンゼンから、方法Ｂによって３４％の収率で製
造した。
【０１５１】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４２（１０％ＭｅＯＨ
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ６．５７（ｓ，１）、
６．４７（ｓ，１）、４．６４（ｍ，１）、３．７２
（ｔ，２，Ｊ＝６．４５Ｈｚ）、２．３７（ｑ，２，Ｊ
＝７．４７Ｈｚ）、１．７０（ｓ（ｂｒ），６）、１．
５８（ｍ，８）、１．２６（ｍ，４）、１．２２（ｓ，
６）、１．０９（ｍ，４）、１．０２（ｔ，３，Ｊ＝
７．４１Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４２３、２９６０、２８６９、１６０
８、１５２７、１４６４、１３８９ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４４７（Ｍ+＋２Ｎ
ａ+）、４２５（Ｍ+＋Ｎａ+）。 元素分析（Ｃ22Ｈ34Ｎ4Ｏ3Ｎａ−２．０Ｈ2Ｏとして） 理論値 Ｃ、５７．１９；Ｈ、８．２９；Ｎ、１２．１
４ 実測値 Ｃ、５７．２８；Ｈ、８．３２；Ｎ、１１．９
４。
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ６．５７（ｓ，１）、
６．４７（ｓ，１）、４．６４（ｍ，１）、３．７２
（ｔ，２，Ｊ＝６．４５Ｈｚ）、２．３７（ｑ，２，Ｊ
＝７．４７Ｈｚ）、１．７０（ｓ（ｂｒ），６）、１．
５８（ｍ，８）、１．２６（ｍ，４）、１．２２（ｓ，
６）、１．０９（ｍ，４）、１．０２（ｔ，３，Ｊ＝
７．４１Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４２３、２９６０、２８６９、１６０
８、１５２７、１４６４、１３８９ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４４７（Ｍ+＋２Ｎ
ａ+）、４２５（Ｍ+＋Ｎａ+）。 元素分析（Ｃ22Ｈ34Ｎ4Ｏ3Ｎａ−２．０Ｈ2Ｏとして） 理論値 Ｃ、５７．１９；Ｈ、８．２９；Ｎ、１２．１
４ 実測値 Ｃ、５７．２８；Ｈ、８．３２；Ｎ、１１．９
４。
【０１５２】実施例７ Ａ．４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシ−１−アセト
フェノンの製造。 乾いた丸底フラスコ中Ｎ2雰囲気下で、２，４−ジヒド
ロキシアセトフェノン（１５．２ｇ、１００ｍｍｏｌ）
を、メチルエチルケトン（４００ｍｌ）およびＤＭＳＯ
（１００ｍｌ）に溶解した。この溶液に臭化ベンジル
（１７．０ｇ、１００ｍｍｏｌ）およびＫ2ＣＯ3（２
７．６ｇ、２００ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を１５時
間加熱還流および攪拌した。メチルエチルケトンを減圧
で除去し、ＤＭＳＯ溶液をＥｔＯＡｃで希釈し、ブライ
ンで数回洗浄した。有機物質を集め、乾燥（ＭｇＳ
Ｏ4）し、濾過し濃縮して暗色の固体を得た。この固体
をヘキサン／トルエンから再結晶するとベンジルエーテ
ルが黄褐色の固体（１２．８ｇ、５５．７％）として得
られた。
フェノンの製造。 乾いた丸底フラスコ中Ｎ2雰囲気下で、２，４−ジヒド
ロキシアセトフェノン（１５．２ｇ、１００ｍｍｏｌ）
を、メチルエチルケトン（４００ｍｌ）およびＤＭＳＯ
（１００ｍｌ）に溶解した。この溶液に臭化ベンジル
（１７．０ｇ、１００ｍｍｏｌ）およびＫ2ＣＯ3（２
７．６ｇ、２００ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を１５時
間加熱還流および攪拌した。メチルエチルケトンを減圧
で除去し、ＤＭＳＯ溶液をＥｔＯＡｃで希釈し、ブライ
ンで数回洗浄した。有機物質を集め、乾燥（ＭｇＳ
Ｏ4）し、濾過し濃縮して暗色の固体を得た。この固体
をヘキサン／トルエンから再結晶するとベンジルエーテ
ルが黄褐色の固体（１２．８ｇ、５５．７％）として得
られた。
【０１５３】ｍｐ １４３−１４４．５℃。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１２．７７（ｓ，１Ｈ）、７．
７０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．３−７．５（ｍ，
５Ｈ）、６．５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．５３
（ｓ，１Ｈ）、５．１１（ｓ，２Ｈ）、２．５８（ｓ，
３Ｈ）。 元素分析（Ｃ15Ｈ12Ｏ3として） 理論値 Ｃ、７４．３６；Ｈ、５．８２ 実測値 Ｃ、７４．５２；Ｈ、５．９７。
７０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、７．３−７．５（ｍ，
５Ｈ）、６．５４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、６．５３
（ｓ，１Ｈ）、５．１１（ｓ，２Ｈ）、２．５８（ｓ，
３Ｈ）。 元素分析（Ｃ15Ｈ12Ｏ3として） 理論値 Ｃ、７４．３６；Ｈ、５．８２ 実測値 Ｃ、７４．５２；Ｈ、５．９７。
【０１５４】Ｂ．２［６−メチル−６−シアノヘプチ
ル］オキシ−４−ベンジルオキシ−１−アセトフェノン
の製造。 ＤＭＦ（１５０ｍｌ）中の４−ベンジルオキシ−２−ヒ
ドロキシ−１−アセトフェノン（９．６５ｇ、４２ｍｍ
ｏｌ）の溶液に、２−シアノ−２−メチル−７−クロロ
ヘプトン（６．８６ｇ、４０ｍｍｏｌ）、Ｋ2ＣＯ3（１
０．６ｇ、７７ｍｍｏｌ）、およびＫＩ（１．６ｇ、
９．６ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を９０℃に加熱し２
４時間攪拌した。固体を濾過により除き、ＤＭＦを減圧
で除去した。残留物を、移動相としてヘキサン中５％な
いし２０％のＥｔＯＡｃの勾配を使用するプレプ−５０
０ＨＰＬＣにより３０分間精製すると、純粋なエーテル
が透明な油状物（１２．１ｇ、７９．８％）として得ら
れた。
ル］オキシ−４−ベンジルオキシ−１−アセトフェノン
の製造。 ＤＭＦ（１５０ｍｌ）中の４−ベンジルオキシ−２−ヒ
ドロキシ−１−アセトフェノン（９．６５ｇ、４２ｍｍ
ｏｌ）の溶液に、２−シアノ−２−メチル−７−クロロ
ヘプトン（６．８６ｇ、４０ｍｍｏｌ）、Ｋ2ＣＯ3（１
０．６ｇ、７７ｍｍｏｌ）、およびＫＩ（１．６ｇ、
９．６ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を９０℃に加熱し２
４時間攪拌した。固体を濾過により除き、ＤＭＦを減圧
で除去した。残留物を、移動相としてヘキサン中５％な
いし２０％のＥｔＯＡｃの勾配を使用するプレプ−５０
０ＨＰＬＣにより３０分間精製すると、純粋なエーテル
が透明な油状物（１２．１ｇ、７９．８％）として得ら
れた。
【０１５５】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ７．８５（ｄ，１
Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、７．３−７．５（ｍ，５Ｈ）、
６．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４、１．８Ｈｚ）、
６．５３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、５．１２
（ｓ，２Ｈ）、４．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．３Ｈ
ｚ）、２．６１（ｓ，３Ｈ）、１．８５−１．９５
（ｍ，２Ｈ）、１．５−１．６（ｍ，６Ｈ）、１．３７
（ｓ，６Ｈ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９４３、２２３８、１６０１ｃｍ
-1。 マススペクトル（ｍ／ｅ）３７９。
Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、７．３−７．５（ｍ，５Ｈ）、
６．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．４、１．８Ｈｚ）、
６．５３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、５．１２
（ｓ，２Ｈ）、４．０４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．３Ｈ
ｚ）、２．６１（ｓ，３Ｈ）、１．８５−１．９５
（ｍ，２Ｈ）、１．５−１．６（ｍ，６Ｈ）、１．３７
（ｓ，６Ｈ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９４３、２２３８、１６０１ｃｍ
-1。 マススペクトル（ｍ／ｅ）３７９。
【０１５６】Ｃ．１−ベンジルオキシ−３［６−メチル
−６−シアノヘプチル］オキシ−５−エチル ベンゼン
の製造。 ＣＣｌ4（３０ｍｌ）中の２［６−メチル−６−シアノ
ヘプチル］オキシ−４−ベンジルオキシ−１−アセトフ
ェノン（１２．１ｇ、３１．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ト
リフルオロ酢酸（４４．４ｇ、３９０ｍｍｏｌ）および
トリエチルシラン（２１．８ｇ、１８８ｍｍｏｌ）を加
えた。反応物を室温で１．５時間攪拌し、次いでＥｔＯ
Ａｃで希釈し水性Ｎａ2ＣＯ3で洗浄することにより後処
理した。有機物質を集め、乾燥（ＭｇＳＯ4）し、濾過
し、減圧濃縮した。残留物を、１５分間でヘキサン中３
％から５％に至るＥｔＯＡｃの勾配、次いで５％ＥｔＯ
Ａｃに維持するプレプ−５００ＨＰＬＣによって精製し
た。適当な画分を濃縮すると、還元された生成物（１
０．６ｇ、９１．５％）が透明な液体として得られた。
−６−シアノヘプチル］オキシ−５−エチル ベンゼン
の製造。 ＣＣｌ4（３０ｍｌ）中の２［６−メチル−６−シアノ
ヘプチル］オキシ−４−ベンジルオキシ−１−アセトフ
ェノン（１２．１ｇ、３１．６ｍｍｏｌ）の溶液に、ト
リフルオロ酢酸（４４．４ｇ、３９０ｍｍｏｌ）および
トリエチルシラン（２１．８ｇ、１８８ｍｍｏｌ）を加
えた。反応物を室温で１．５時間攪拌し、次いでＥｔＯ
Ａｃで希釈し水性Ｎａ2ＣＯ3で洗浄することにより後処
理した。有機物質を集め、乾燥（ＭｇＳＯ4）し、濾過
し、減圧濃縮した。残留物を、１５分間でヘキサン中３
％から５％に至るＥｔＯＡｃの勾配、次いで５％ＥｔＯ
Ａｃに維持するプレプ−５００ＨＰＬＣによって精製し
た。適当な画分を濃縮すると、還元された生成物（１
０．６ｇ、９１．５％）が透明な液体として得られた。
【０１５７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．３５−７．５
（ｍ，５Ｈ）、７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈ
ｚ）、６．５３（ｓ，１Ｈ）、６．５２（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝６．５，２Ｈｚ）、５．０６（ｓ，２Ｈ）、３．９
６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、２．６０（ｑ，２
Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、１．８−１．８５（ｍ，２
Ｈ）、１．５−１．６（ｍ，６Ｈ）、１．３７（ｓ，６
Ｈ）、１．２０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）。
（ｍ，５Ｈ）、７．０６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈ
ｚ）、６．５３（ｓ，１Ｈ）、６．５２（ｄｄ，１Ｈ，
Ｊ＝６．５，２Ｈｚ）、５．０６（ｓ，２Ｈ）、３．９
６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、２．６０（ｑ，２
Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、１．８−１．８５（ｍ，２
Ｈ）、１．５−１．６（ｍ，６Ｈ）、１．３７（ｓ，６
Ｈ）、１．２０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）。
【０１５８】Ｄ．１−ブロモ−２−ベンジルオキシ−４
［６−メチル−６−シアノヘプチル］オキシ−５−エチ
ル ベンゼンの製造。 ＣＣｌ4（１２５ｍｌ）中の１−ベンジルオキシ−３
［６−メチル−６−シアノヘプチル］オキシ−５−エチ
ル ベンゼン（１０．６ｇ、２８．９ｍｍｏｌ）の溶液
に、ＮＢＳ（６．０ｇ、３３．３ｍｍｏｌ）を加えた。
室温で攪拌を６時間続けた。次いで混合物をＣＨ2Ｃｌ2
で希釈し、Ｈ2Ｏで希釈した。有機物質を集め、乾燥
（ＭｇＳＯ4）し、濾過し、減圧濃縮した。残留物をヘ
キサン／ＥｔＯＡｃから再結晶すると、アリールブロミ
ド（１２．６ｇ、９７．８％）が淡黄色固体として得ら
れた。
［６−メチル−６−シアノヘプチル］オキシ−５−エチ
ル ベンゼンの製造。 ＣＣｌ4（１２５ｍｌ）中の１−ベンジルオキシ−３
［６−メチル−６−シアノヘプチル］オキシ−５−エチ
ル ベンゼン（１０．６ｇ、２８．９ｍｍｏｌ）の溶液
に、ＮＢＳ（６．０ｇ、３３．３ｍｍｏｌ）を加えた。
室温で攪拌を６時間続けた。次いで混合物をＣＨ2Ｃｌ2
で希釈し、Ｈ2Ｏで希釈した。有機物質を集め、乾燥
（ＭｇＳＯ4）し、濾過し、減圧濃縮した。残留物をヘ
キサン／ＥｔＯＡｃから再結晶すると、アリールブロミ
ド（１２．６ｇ、９７．８％）が淡黄色固体として得ら
れた。
【０１５９】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．３５−７．５
（ｍ，５Ｈ）、７．２２（ｓ，１Ｈ）、６．５０（ｓ，
１Ｈ）、５．１７（ｓ，２Ｈ）、３．９０（ｔ，２Ｈ，
Ｊ＝５．３Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈ
ｚ）、１．７５−１．８５（ｍ，２Ｈ）、１．５０−
１．６５（ｍ，６Ｈ）、１．３７（ｓ，６Ｈ）、１．１
８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２０、２９８１、２９４６、２
２３８、１６６２、１６００ｃｍ-1。 マススペクトル（ｍ／ｅ）４４４、４４５、４４６。
（ｍ，５Ｈ）、７．２２（ｓ，１Ｈ）、６．５０（ｓ，
１Ｈ）、５．１７（ｓ，２Ｈ）、３．９０（ｔ，２Ｈ，
Ｊ＝５．３Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈ
ｚ）、１．７５−１．８５（ｍ，２Ｈ）、１．５０−
１．６５（ｍ，６Ｈ）、１．３７（ｓ，６Ｈ）、１．１
８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２０、２９８１、２９４６、２
２３８、１６６２、１６００ｃｍ-1。 マススペクトル（ｍ／ｅ）４４４、４４５、４４６。
【０１６０】Ｅ．１−ベンジルオキシ−５−［［６−シ
アノ−６−メチル−５−イル）ヘプチル］オキシ］−４
−エチル−２−（フェニルチオ）−ベンゼンの製造。 乾燥ＴＨＦ５０ｍｌ中の１−ブロモ−２−ベンジルオキ
シ−４［６−メチル−６−シアノヘプチル］オキシ−５
−エチル ベンゼン（１．０ｇ、２．２５ｍｍｏｌ）の
溶液を−７８℃に冷却した。ｔ−プチルリチウム（１．
７Ｍヘキサン溶液２．８ｍｌ、４．５ｍｍｏｌ）をこの
アリールブロミド溶液に加え、−７８℃で３０分間攪拌
した。次にジフェニルジスルフィド（１．０ｇ、４．５
ｍｍｏｌ）をこのアニオン溶液に加え、混合物を−７８
℃で５分間攪拌し、次いで室温に加温した。室温で３０
分間攪拌した後、反応を飽和ＮＨ4Ｃｌ水で停止させ、
酢酸エチルで抽出した。有機抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し溶媒を除いて粗生成物を得た。この粗生成物
を６％酢酸エチル／ヘキサンで溶出するシリカゲル上の
フラッシュクロマトグラフィーにより精製した。チオエ
ーテル生成物が８０％の収率で得られた。
アノ−６−メチル−５−イル）ヘプチル］オキシ］−４
−エチル−２−（フェニルチオ）−ベンゼンの製造。 乾燥ＴＨＦ５０ｍｌ中の１−ブロモ−２−ベンジルオキ
シ−４［６−メチル−６−シアノヘプチル］オキシ−５
−エチル ベンゼン（１．０ｇ、２．２５ｍｍｏｌ）の
溶液を−７８℃に冷却した。ｔ−プチルリチウム（１．
７Ｍヘキサン溶液２．８ｍｌ、４．５ｍｍｏｌ）をこの
アリールブロミド溶液に加え、−７８℃で３０分間攪拌
した。次にジフェニルジスルフィド（１．０ｇ、４．５
ｍｍｏｌ）をこのアニオン溶液に加え、混合物を−７８
℃で５分間攪拌し、次いで室温に加温した。室温で３０
分間攪拌した後、反応を飽和ＮＨ4Ｃｌ水で停止させ、
酢酸エチルで抽出した。有機抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥
し、濾過し溶媒を除いて粗生成物を得た。この粗生成物
を６％酢酸エチル／ヘキサンで溶出するシリカゲル上の
フラッシュクロマトグラフィーにより精製した。チオエ
ーテル生成物が８０％の収率で得られた。
【０１６１】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．１０（ｍ，
６）、６．５０（ｓ，１）、５．１０（ｓ，２）、３．
９４（ｔ，２，Ｊ＝６．２０Ｈｚ）、２．５４（ｑ，
２，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、１．８３（ｍ，２）、１．５
８（ｓ（ｂｒ），６）、１．２０（ｓ，６）、１．１８
（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２０、２９７８、２９４３、２
８７０、２２３０、１７５０、１５９９、１５７５、１
５５０、１４９９ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４７３（Ｍ+）。
６）、６．５０（ｓ，１）、５．１０（ｓ，２）、３．
９４（ｔ，２，Ｊ＝６．２０Ｈｚ）、２．５４（ｑ，
２，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、１．８３（ｍ，２）、１．５
８（ｓ（ｂｒ），６）、１．２０（ｓ，６）、１．１８
（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２０、２９７８、２９４３、２
８７０、２２３０、１７５０、１５９９、１５７５、１
５５０、１４９９ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４７３（Ｍ+）。
【０１６２】Ｆ．４−（６−シアノ−６−メチルヘプチ
ルオキシ）−５−エチル−２−ヒドロキシ−１−（フェ
ニルチオ） ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（３０ｍｌ）中の１−ベンジルオキシ−５−
［［６−シアノ−６−メチル−５−イル）ヘプチル］オ
キシ］−４−エチル−２−（フェニルチオ）−ベンゼン
（１．０ｇ）の溶液を−７８℃に冷却した。この溶液に
ＢＢｒ3（ＣＨ2Ｃｌ2中の１．０Ｍ溶液を２．１ｍｌ）
を加えた。続いて反応物を室温に加温し、水で反応を鎮
めた。反応混合物をＣＨ2Ｃｌ2で抽出した。有機抽出物
をＭｇＳＯ4で乾燥し、濾過し減圧濃縮した。粗生成物
を５％酢酸エチル／ヘキサンで溶出するシリカゲル上の
フラッシュクロマトグラフィーにより精製した。所望の
フェノールが７４％の収率で得られた。
ルオキシ）−５−エチル−２−ヒドロキシ−１−（フェ
ニルチオ） ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（３０ｍｌ）中の１−ベンジルオキシ−５−
［［６−シアノ−６−メチル−５−イル）ヘプチル］オ
キシ］−４−エチル−２−（フェニルチオ）−ベンゼン
（１．０ｇ）の溶液を−７８℃に冷却した。この溶液に
ＢＢｒ3（ＣＨ2Ｃｌ2中の１．０Ｍ溶液を２．１ｍｌ）
を加えた。続いて反応物を室温に加温し、水で反応を鎮
めた。反応混合物をＣＨ2Ｃｌ2で抽出した。有機抽出物
をＭｇＳＯ4で乾燥し、濾過し減圧濃縮した。粗生成物
を５％酢酸エチル／ヘキサンで溶出するシリカゲル上の
フラッシュクロマトグラフィーにより精製した。所望の
フェノールが７４％の収率で得られた。
【０１６３】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．００−７．
４０（ｍ，７）、６．６０（ｓ，１）、６．４０（ｓ
（ｂｒ），１）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝６．２０Ｈ
ｚ）、２．６０（ｑ，２，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、１．８
８（ｍ，２）、１．６０（ｓ（ｂｒ），６）、１．４０
（ｓ，６）、１．２０（ｔ，３，７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３４４１、３０２１、２９７７、２
９４３、２２３０、１６０８、１５８０、１４９０ｃｍ
-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３８４（Ｍ+＋Ｈ）、
３８３（Ｍ+）。
４０（ｍ，７）、６．６０（ｓ，１）、６．４０（ｓ
（ｂｒ），１）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝６．２０Ｈ
ｚ）、２．６０（ｑ，２，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）、１．８
８（ｍ，２）、１．６０（ｓ（ｂｒ），６）、１．４０
（ｓ，６）、１．２０（ｔ，３，７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３４４１、３０２１、２９７７、２
９４３、２２３０、１６０８、１５８０、１４９０ｃｍ
-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３８４（Ｍ+＋Ｈ）、
３８３（Ｍ+）。
【０１６４】Ｇ．４−エチル−２−（フェニルチオ）−
５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−
イル）ヘプチル］オキシ］フェノール 二ナトリウム塩
の製造。 ダイグライム（５ｍｌ）中の４−（６−シアノ−６−メ
チルヘプチルオキシ）−５−エチル−２−ヒドロキシ−
１−（フェニルチオ） ベンゼン（０．６８０ｇ）の溶
液を、ジメチルアミノエタノールヒドロクロリド（０．
８０ｇ、２．０当量）、ジメチルアミノエタノール
（０．３６ｇ、２．０当量）およびナトリウムアジド
（０．５０ｇ、５．０当量）で処理した。次いで反応混
合物を４８時間１３０℃に加熱した。次に反応物を室温
に冷却し、５Ｎ ＨＣｌで反応停止させ２時間攪拌し
た。反応混合物を水で希釈し、酢酸エチルで数回抽出し
た。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥し、濾過し溶
媒を除去すると黄褐色の固体が得られた。この固体をＭ
ｅＯＨに溶解し、３当量のＮａＯＨで処理した。メタノ
ールを除去し、得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い
６０％ＭｅＯＨ／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフ
ィーによって精製した。所望生成物が、白色親液性ナト
リウム塩として３６％の収率で得られた。
５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−
イル）ヘプチル］オキシ］フェノール 二ナトリウム塩
の製造。 ダイグライム（５ｍｌ）中の４−（６−シアノ−６−メ
チルヘプチルオキシ）−５−エチル−２−ヒドロキシ−
１−（フェニルチオ） ベンゼン（０．６８０ｇ）の溶
液を、ジメチルアミノエタノールヒドロクロリド（０．
８０ｇ、２．０当量）、ジメチルアミノエタノール
（０．３６ｇ、２．０当量）およびナトリウムアジド
（０．５０ｇ、５．０当量）で処理した。次いで反応混
合物を４８時間１３０℃に加熱した。次に反応物を室温
に冷却し、５Ｎ ＨＣｌで反応停止させ２時間攪拌し
た。反応混合物を水で希釈し、酢酸エチルで数回抽出し
た。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥し、濾過し溶
媒を除去すると黄褐色の固体が得られた。この固体をＭ
ｅＯＨに溶解し、３当量のＮａＯＨで処理した。メタノ
ールを除去し、得られた固体をＣＨＰ−２０樹脂を用い
６０％ＭｅＯＨ／Ｈ2Ｏで溶出する逆相クロマトグラフ
ィーによって精製した。所望生成物が、白色親液性ナト
リウム塩として３６％の収率で得られた。
【０１６５】1ＨＮＭＲ（ｄ6ＤＭＳＯ）δ７．２０
（ｍ，２）、７．００（ｍ，４）、６．７０（ｓ，
１）、３．８２（ｍ，２）、２．２０（ｑ，２，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）、１．６２（ｍ，４）、１．２５（ｍ，
２）、１．２０（ｓ，６）、１．１０（ｍ，２）、１．
０５（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４３０、２９３５、２８８０、１６０
５、１５８１、１４７８ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４７１（Ｍ+２Ｎａ+＋
Ｈ）、４４９（Ｍ+＋Ｎａ+＋Ｈ）、４２８（Ｍ+＋
Ｈ）。 元素分析（Ｃ23Ｈ28Ｎ4Ｏ2ＳＮａ2−０．５Ｈ2Ｏとし
て） 理論値 Ｃ、５７．６２；Ｈ、６．０５；Ｎ、１１．６
９ 実測値 Ｃ、５７．５７；Ｈ、６．３１；Ｎ、１１．５
９。
（ｍ，２）、７．００（ｍ，４）、６．７０（ｓ，
１）、３．８２（ｍ，２）、２．２０（ｑ，２，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）、１．６２（ｍ，４）、１．２５（ｍ，
２）、１．２０（ｓ，６）、１．１０（ｍ，２）、１．
０５（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４３０、２９３５、２８８０、１６０
５、１５８１、１４７８ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４７１（Ｍ+２Ｎａ+＋
Ｈ）、４４９（Ｍ+＋Ｎａ+＋Ｈ）、４２８（Ｍ+＋
Ｈ）。 元素分析（Ｃ23Ｈ28Ｎ4Ｏ2ＳＮａ2−０．５Ｈ2Ｏとし
て） 理論値 Ｃ、５７．６２；Ｈ、６．０５；Ｎ、１１．６
９ 実測値 Ｃ、５７．５７；Ｈ、６．３１；Ｎ、１１．５
９。
【０１６６】実施例８ Ａ．５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒ
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
ドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
【０１６７】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３９（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
【０１６８】Ｂ．１−［６−メチル−６−シアノヘプチ
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 アセトン６００ｍｌ中の２−シアノ−２−メチル−７−
クロロヘプタン（１５．０１ｇ、８６．８ｍｍｏｌ）の
溶液に、酢酸テトラエチルアンモニウム四水和物（４
５．３６ｇ、１．７４ｍｏｌ）を加えた。次いで反応物
をアルゴン雰囲気下で２５時間還流した。反応物を室温
に冷却し、アセトンを減圧で除いた。得られた残留物に
水およびＥｔ2Ｏを加えた。水層をＥｔ2Ｏで数回抽出
し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により透明な油状物（２３．１９ｇ）を得た。
ルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５−ヒドロキ
シ ベンゼンの製造。 アセトン６００ｍｌ中の２−シアノ−２−メチル−７−
クロロヘプタン（１５．０１ｇ、８６．８ｍｍｏｌ）の
溶液に、酢酸テトラエチルアンモニウム四水和物（４
５．３６ｇ、１．７４ｍｏｌ）を加えた。次いで反応物
をアルゴン雰囲気下で２５時間還流した。反応物を室温
に冷却し、アセトンを減圧で除いた。得られた残留物に
水およびＥｔ2Ｏを加えた。水層をＥｔ2Ｏで数回抽出
し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により透明な油状物（２３．１９ｇ）を得た。
【０１６９】メタノール４００ｍｌ中の上で製造された
アセタートに、Ｋ2ＣＯ3（１６．２７ｇ）を加え、室温
で２４時間攪拌した。反応混合物を濾過して固体を除
き、濾液から溶媒を除去した。得られた固体をＥｔＯＡ
ｃに溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をＨ2Ｏで洗浄した。
有機溶液をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により黄色油状物１４．５０ｇを得、これを、シリカ
ゲル支持体を用い５％ないし６０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ンの溶媒勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望のア
ルコールが透明な油状物（１０．５８ｇ、５７％）とし
て得られた。 ＴＬＣ Ｒｆ＝０．１３（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ン）。
アセタートに、Ｋ2ＣＯ3（１６．２７ｇ）を加え、室温
で２４時間攪拌した。反応混合物を濾過して固体を除
き、濾液から溶媒を除去した。得られた固体をＥｔＯＡ
ｃに溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をＨ2Ｏで洗浄した。
有機溶液をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除
去により黄色油状物１４．５０ｇを得、これを、シリカ
ゲル支持体を用い５％ないし６０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ンの溶媒勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望のア
ルコールが透明な油状物（１０．５８ｇ、５７％）とし
て得られた。 ＴＬＣ Ｒｆ＝０．１３（３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ン）。
【０１７０】上で製造された２−シアノ−２−メチル−
７−ヒドロキシヘプタンおよび２，３−ジヒドロキシ−
４−エチル−ベンズアルデヒドの乾燥ＴＨＦ溶液５０ｍ
ｌを室温で攪拌した。この溶液に、トリフェニルホスフ
ィン（１７．９１ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）および最後に
ジエチル アゾジカルボキシラート（１１．８９ｇ、６
８．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２時間１５
分間攪拌し、次いで飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で反応停止させ
た。ＴＨＦを減圧で除き、得られた残留物をＥｔＯＡｃ
に溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をブラインで洗浄した。
有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去
により橙色固体を得た。この生成物を、固体支持体とし
てシリカゲルを用い１０％ないし３０％ＥｔＯＡｃ／ヘ
キサンの勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望生成
物が黄色油状物（１０．５０ｇ、５１％）として得られ
た。
７−ヒドロキシヘプタンおよび２，３−ジヒドロキシ−
４−エチル−ベンズアルデヒドの乾燥ＴＨＦ溶液５０ｍ
ｌを室温で攪拌した。この溶液に、トリフェニルホスフ
ィン（１７．９１ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）および最後に
ジエチル アゾジカルボキシラート（１１．８９ｇ、６
８．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２時間１５
分間攪拌し、次いで飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で反応停止させ
た。ＴＨＦを減圧で除き、得られた残留物をＥｔＯＡｃ
に溶解し、このＥｔＯＡｃ溶液をブラインで洗浄した。
有機層をＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去
により橙色固体を得た。この生成物を、固体支持体とし
てシリカゲルを用い１０％ないし３０％ＥｔＯＡｃ／ヘ
キサンの勾配で５０分間溶出するウォーターズ・プレプ
５００クロマトグラフィーによって精製した。所望生成
物が黄色油状物（１０．５０ｇ、５１％）として得られ
た。
【０１７１】1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４４
（ｓ，１）、９．６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，
１）、６．３６（ｓ，１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８５（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３４（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
（ｓ，１）、９．６７（ｓ，１）、７．２２（ｓ，
１）、６．３６（ｓ，１）、４．０２（ｔ，２，Ｊ＝
６．２２Ｈｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５２Ｈ
ｚ）、１．８５（ｍ，２）、１．５５（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３４（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９８０、２９４４、２８６０、２
２３０、１６４０、１５８５、１４９３ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３０３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ25ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７１．２６；Ｈ、８．３１；Ｎ、４．６２ 実測値 Ｃ、７１．３９；Ｈ、８．１０；Ｎ、４．７
５。
【０１７２】Ｃ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2Ｏ／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ホ
ルミル ベンゼンの製造。 乾燥ＤＭＦ４０ｍｌの溶液、１−［６−メチル−６−シ
アノヘプチルオキシ］−２−エチル−４−ホルミル−５
−ヒドロキシ ベンゼン（３．０５ｇ、１０．７ｍｍｏ
ｌ）およびＫ2ＣＯ3（２．４３ｇ、１７．６ｍｍｏｌ）
を室温で攪拌した。この混合物に臭化ベンジル（３．６
６ｇ、２１．４ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加
温した。１９時間後に反応物を室温に冷却し、固体を濾
過によって除いた。ＤＭＦを６ｍＨｇの減圧蒸留により
濾液から除き、得られた物質をＥｔＯＡｃに溶解し、水
およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去により白色固体（４．５２
ｇ）を得た。この固体をＥｔ2Ｏ／ヘキサンから再結晶
して白色のフレーク３．４２ｇ（８２％）を得た。
【０１７３】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４０（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６ 実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６７（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４５（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．００（ｔ，２，Ｊ＝
６．１５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．４２Ｈ
ｚ）、１．８６（ｍ，２）、１．５８（ｓ（ｂｒ），
６）、１．３７（ｓ，６）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝
７．５０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）２９８０、２９４０、２８６０、２２３
０、１６６０、１６００、１５７５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３９３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ3ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．３０；Ｈ、７．９４；Ｎ、３．５６ 実測値 Ｃ、７６．５４；Ｈ、７．８４；Ｎ、３．６
０。
【０１７４】Ｄ．１−ベンジルオキシ−３−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒ
ドロキシ ベンゼンの製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
【０１７５】１−ベンジルオキシ−３−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−ヒドロ
キシ ベンゼンが、１−ベンジルオキシ−２−（６−シ
アノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−６−
ホルミル ベンゼンから９４％の収率で得られた。
【０１７６】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３８（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４
０、１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４２（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．３０（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、３．８９（ｔ，２，Ｊ＝
６．２５Ｈｚ）、２．５８（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈ
ｚ）、１．８２（ｍ，１）、１．５２（ｓ（ｂｒ），
６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４５０、２９５０、２８７０、２２４
０、１７５０、１６２５、１５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３８２（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ31ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７５．５６；Ｈ、８．１９；Ｎ、３．６７ 実測値 Ｃ、７４．９１；Ｈ、８．１３；Ｎ、４．１
１。
【０１７７】Ｅ．１−ベンジルオキシ−５−（６−シア
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−２−
（４−フルオロベンジル）オキシ ベンゼンの製造。 フェノールのＴＨＦ溶液（フェノール中０．１２Ｍ）、
トリフェニルホスフィン（１．０当量）および所望のア
ルコール（１．０当量）を室温でアルゴン雰囲気下に攪
拌した。攪拌しながらジエチルアゾ−ジカルボキシラー
ト（１．０当量）を加えた。反応物を室温で１６時間攪
拌した。次いで反応物の溶媒を除去し、得られた残留物
をシリカゲルに前もって吸収させ、酢酸エチル／ヘキサ
ン混合物で溶出するフラッシュクロマトグラフィーによ
り精製した。
ノ−６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−２−
（４−フルオロベンジル）オキシ ベンゼンの製造。 フェノールのＴＨＦ溶液（フェノール中０．１２Ｍ）、
トリフェニルホスフィン（１．０当量）および所望のア
ルコール（１．０当量）を室温でアルゴン雰囲気下に攪
拌した。攪拌しながらジエチルアゾ−ジカルボキシラー
ト（１．０当量）を加えた。反応物を室温で１６時間攪
拌した。次いで反応物の溶媒を除去し、得られた残留物
をシリカゲルに前もって吸収させ、酢酸エチル／ヘキサ
ン混合物で溶出するフラッシュクロマトグラフィーによ
り精製した。
【０１７８】１−ベンジルオキシ−５−（６−シアノ−
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−２−（４−
フルオロベンジル）オキシ ベンゼンが、１−ベンジル
オキシ−２−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキ
シ）−４−エチル−６−ヒドロキシ ベンゼンおよび４
−フルオロベンジルアルコールから、白色固体として５
２％の収率で製造された。
６−メチルヘプチルオキシ）−４−エチル−２−（４−
フルオロベンジル）オキシ ベンゼンが、１−ベンジル
オキシ−２−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキ
シ）−４−エチル−６−ヒドロキシ ベンゼンおよび４
−フルオロベンジルアルコールから、白色固体として５
２％の収率で製造された。
【０１７９】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．５５（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４６（ｍ，５）、７．０
７（ｄ，２，Ｊ＝８．７０Ｈｚ）、７．０５（ｄ，２，
Ｊ＝８．７０Ｈｚ）、６．８７（ｓ，１）、６．６１
（ｓ，１）、５．１７（ｓ，２）、５．０７（ｓ，
２）、３．９２（ｔ，２，Ｊ＝６．２０Ｈｚ）、２．６
３（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈｚ）、１．８５（ｍ，
２）、１．６０（ｍ，６）、１．３９（ｓ，６）、１．
２３（ｔ，３，Ｊ＝７．４４Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３０６６、２９７６、２９３８、２８５
８、２２３２、１６０８、１５５３、１４６２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４８９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ31Ｈ36ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．０５；Ｈ、７．４１；Ｎ、２．８６ 実測値 Ｃ、７６．２８；Ｈ、７．７０；Ｎ、３．１
６。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４６（ｍ，５）、７．０
７（ｄ，２，Ｊ＝８．７０Ｈｚ）、７．０５（ｄ，２，
Ｊ＝８．７０Ｈｚ）、６．８７（ｓ，１）、６．６１
（ｓ，１）、５．１７（ｓ，２）、５．０７（ｓ，
２）、３．９２（ｔ，２，Ｊ＝６．２０Ｈｚ）、２．６
３（ｑ，２，Ｊ＝７．５１Ｈｚ）、１．８５（ｍ，
２）、１．６０（ｍ，６）、１．３９（ｓ，６）、１．
２３（ｔ，３，Ｊ＝７．４４Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３０６６、２９７６、２９３８、２８５
８、２２３２、１６０８、１５５３、１４６２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４８９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ31Ｈ36ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７６．０５；Ｈ、７．４１；Ｎ、２．８６ 実測値 Ｃ、７６．２８；Ｈ、７．７０；Ｎ、３．１
６。
【０１８０】Ｆ．１−（４−フルオロベンジル）オキシ
−２−ヒドロキシ−４−（６−シアノ−６−メチルヘプ
チルオキシ）−５−エチル ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
−２−ヒドロキシ−４−（６−シアノ−６−メチルヘプ
チルオキシ）−５−エチル ベンゼンの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
【０１８１】１−（４−フルオロベンジル）オキシ−２
−ヒドロキシ−４−（６−シアノ−６−メチルヘプチル
オキシ）−５−エチル ベンゼンが、１−ベンジルオキ
シ−５−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−
４−エチル−２−（４−フルオロベンジル）オキシ ベ
ンゼンから、透明な油状物として８５％の収率で製造さ
れた。
−ヒドロキシ−４−（６−シアノ−６−メチルヘプチル
オキシ）−５−エチル ベンゼンが、１−ベンジルオキ
シ−５−（６−シアノ−６−メチルヘプチルオキシ）−
４−エチル−２−（４−フルオロベンジル）オキシ ベ
ンゼンから、透明な油状物として８５％の収率で製造さ
れた。
【０１８２】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３６（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４０（ｄ，１，Ｊ＝５．
４８Ｈｚ）、７．３７（ｄ，１，Ｊ＝５．４２Ｈｚ）、
７．０８（ｄ，１，Ｊ＝８．６６Ｈｚ）、７．０６
（ｄ，１，Ｊ＝８．６６Ｈｚ）、６．７７（ｓ，１）、
６．５５（ｓ，１）、５．７５（ｓ，１）、５．００
（ｓ，２）、３．９０（ｔ，２，Ｊ＝６．２０Ｈｚ）、
２．６０（ｄｄ，２，Ｊ＝７．４８Ｈｚ）、１．８２
（ｍ，２）、１．５７（ｓ（ｂｒ），６）、１．３６
（ｓ，６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４５Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４６、２９７７、２９４３、２
８７３、２２５０、１６０４、１５１３、１４７１ｃｍ
-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３９９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ24Ｈ30ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７２．１６；Ｈ、７．５７；Ｎ、３．５１ 実測値 Ｃ、７１．８６；Ｈ、７．６６；Ｎ、３．２
７。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４０（ｄ，１，Ｊ＝５．
４８Ｈｚ）、７．３７（ｄ，１，Ｊ＝５．４２Ｈｚ）、
７．０８（ｄ，１，Ｊ＝８．６６Ｈｚ）、７．０６
（ｄ，１，Ｊ＝８．６６Ｈｚ）、６．７７（ｓ，１）、
６．５５（ｓ，１）、５．７５（ｓ，１）、５．００
（ｓ，２）、３．９０（ｔ，２，Ｊ＝６．２０Ｈｚ）、
２．６０（ｄｄ，２，Ｊ＝７．４８Ｈｚ）、１．８２
（ｍ，２）、１．５７（ｓ（ｂｒ），６）、１．３６
（ｓ，６）、１．１９（ｔ，３，Ｊ＝７．４５Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４６、２９７７、２９４３、２
８７３、２２５０、１６０４、１５１３、１４７１ｃｍ
-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３９９（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ24Ｈ30ＮＯ3として） 理論値 Ｃ、７２．１６；Ｈ、７．５７；Ｎ、３．５１ 実測値 Ｃ、７１．８６；Ｈ、７．６６；Ｎ、３．２
７。
【０１８３】Ｇ．２−［（４−フルオロフェニル）メト
キシ］−４−エチル−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ
−テトラゾール−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノ
ールナトリウム塩の製造。 ダイグライム（０．４Ｍ溶液）中のニトリルの溶液を、
ジメチルアミノエタノールヒドロクロリド（２．０当
量）、ジメチルアミノエタノール（２．０当量）および
ナトリウムアジド（５．０当量）で処理した。次いで反
応混合物を４８ないし７２時間１３０℃に加熱した。次
にこの反応物を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌで反応停止
させ、２時間攪拌した。反応混合物を水で希釈し、酢酸
エチルで数回抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4
で乾燥し、濾過し溶媒を除くと黄褐色の固体が得られ
た。この固体をＭｅＯＨに溶解し、３当量のＮａＯＨで
処理した。メタノールを除き、得られた固体をＣＨＰ−
２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ／Ｈ2Ｏで溶出する逆相
クロマトグラフィーによって精製した。所望生成物が白
色の親液性ナトリウム塩として得られた。
キシ］−４−エチル−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ
−テトラゾール−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノ
ールナトリウム塩の製造。 ダイグライム（０．４Ｍ溶液）中のニトリルの溶液を、
ジメチルアミノエタノールヒドロクロリド（２．０当
量）、ジメチルアミノエタノール（２．０当量）および
ナトリウムアジド（５．０当量）で処理した。次いで反
応混合物を４８ないし７２時間１３０℃に加熱した。次
にこの反応物を室温に冷却し、５Ｎ ＨＣｌで反応停止
させ、２時間攪拌した。反応混合物を水で希釈し、酢酸
エチルで数回抽出した。酢酸エチル抽出物をＭｇＳＯ4
で乾燥し、濾過し溶媒を除くと黄褐色の固体が得られ
た。この固体をＭｅＯＨに溶解し、３当量のＮａＯＨで
処理した。メタノールを除き、得られた固体をＣＨＰ−
２０樹脂を用い６０％ＭｅＯＨ／Ｈ2Ｏで溶出する逆相
クロマトグラフィーによって精製した。所望生成物が白
色の親液性ナトリウム塩として得られた。
【０１８４】２−［（４−フルオロフェニル）メトキ
シ］−４−エチル−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−
テトラゾール−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノー
ル ナトリウム塩が、１−（４−フルオロベンジル）オ
キシ−２−ヒドロキシ−４−（６−シアノ−６−メチル
ヘプチルオキシ）−５−エチル ベンゼンから４３％の
収率で製造された。
シ］−４−エチル−５−［［６−メチル−６−（２Ｈ−
テトラゾール−５−イル）ヘプチル］オキシ］フェノー
ル ナトリウム塩が、１−（４−フルオロベンジル）オ
キシ−２−ヒドロキシ−４−（６−シアノ−６−メチル
ヘプチルオキシ）−５−エチル ベンゼンから４３％の
収率で製造された。
【０１８５】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４５（１０％ＭｅＯＨ
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ１０．１０（ｓ（ｂ
ｒ），１）、７．４８（ｄｄ，２，Ｊ＝８．５１、５．
７８Ｈｚ）、７．１８（ｄ，１，Ｊ＝８．８９Ｈｚ）、
７．１５（ｄ，１，Ｊ＝８．９０Ｈｚ）、６．６９
（ｓ，１）、６．５１（ｓ，１）、４．９４（ｓ，
２）、３．７２（ｔ，２，Ｊ＝６．３８Ｈｚ）、２．３
６（ｑ，２，Ｊ＝７．４９Ｈｚ）、１．５７（ｍ，
２）、１．２７（ｍ，２）、１．２２（ｓ，６）、１．
１０（ｍ，２）、１．００（ｔ，３，Ｊ＝７．４３Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４８２、２９４１、２８５７、１６０
７、１５１２、１４６６ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４８７（Ｍ+＋２Ｎ
ａ+）、４６５（Ｍ+＋Ｎａ+＋Ｈ）。 元素分析（Ｃ24Ｈ30Ｎ4Ｏ3ＦＮａ−２．２Ｈ2Ｏとし
て） 理論値 Ｃ、５７．１３；Ｈ、６．８７；Ｎ、１１．１
１ 実測値 Ｃ、５７．０８；Ｈ、６．７５；Ｎ、１０．９
８。
／ＣＨ2Ｃｌ2）。1 ＨＮＭＲ（ｄ6−ＤＭＳＯ）δ１０．１０（ｓ（ｂ
ｒ），１）、７．４８（ｄｄ，２，Ｊ＝８．５１、５．
７８Ｈｚ）、７．１８（ｄ，１，Ｊ＝８．８９Ｈｚ）、
７．１５（ｄ，１，Ｊ＝８．９０Ｈｚ）、６．６９
（ｓ，１）、６．５１（ｓ，１）、４．９４（ｓ，
２）、３．７２（ｔ，２，Ｊ＝６．３８Ｈｚ）、２．３
６（ｑ，２，Ｊ＝７．４９Ｈｚ）、１．５７（ｍ，
２）、１．２７（ｍ，２）、１．２２（ｓ，６）、１．
１０（ｍ，２）、１．００（ｔ，３，Ｊ＝７．４３Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４８２、２９４１、２８５７、１６０
７、１５１２、１４６６ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４８７（Ｍ+＋２Ｎ
ａ+）、４６５（Ｍ+＋Ｎａ+＋Ｈ）。 元素分析（Ｃ24Ｈ30Ｎ4Ｏ3ＦＮａ−２．２Ｈ2Ｏとし
て） 理論値 Ｃ、５７．１３；Ｈ、６．８７；Ｎ、１１．１
１ 実測値 Ｃ、５７．０８；Ｈ、６．７５；Ｎ、１０．９
８。
【０１８６】実施例９ Ａ．５−エチル−２，４−−ジヒドロキシベンズアルデ
ヒドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
ヒドの製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
【０１８７】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３９（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
【０１８８】Ｂ．クロモンの製造。 ＥｔＯＨ（無水）２２５ｍｌの溶液に、室温およびアル
ゴン雰囲気下で金属Ｎａ１６．５６ｇを１時間かけて加
えた。全てのＮａが添加された後、反応混合物を１時間
還流し、次いで室温に冷却した。２，４−ジヒドロキシ
アセトフェノン（３４．８２ｇ、０．１８０ｍｏｌ）、
ジエチルオキシラート（５４．５７ｍｌ、０．４１ｍｏ
ｌ）、無水ＥｔＯＨ（４５ｍｌ）、およびジエチルエー
テル（４５ｍｌ）の混合物をこのナトリウムエトキシド
溶液に２５分間かけて加えた。得られた濃い栗色の反応
混合物を次に２．５時間還流し次いで室温に冷却した。
反応混合物をおよそ６００ｍｌの１Ｎ ＨＣｌに注ぎ、
次いでＥｔ2Ｏで数回抽出した。エーテルを抽出物から
除き、得られたゴム状物をＥｔＯＨ１３５ｍｌに溶解し
た。次いでこの溶液に濃ＨＣｌ２．２５ｍｌを加え、こ
の後４５分間還流した。反応物を室温に冷却し、ＥｔＯ
Ｈを減圧で除去すると茶色の固体が残った。この固体を
ＥｔＯＡｃに溶解し、Ｈ2Ｏで１回、飽和ＮａＨＣＯ3で
２回、Ｈ2Ｏで１回洗浄し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により茶色の固体８７ｇを
得、これをＥｔＯＡｃ／石油エーテルから再結晶した。
再結晶により黄褐色固体のクロモン２４．０７ｇ（４８
％）が得られた。
ゴン雰囲気下で金属Ｎａ１６．５６ｇを１時間かけて加
えた。全てのＮａが添加された後、反応混合物を１時間
還流し、次いで室温に冷却した。２，４−ジヒドロキシ
アセトフェノン（３４．８２ｇ、０．１８０ｍｏｌ）、
ジエチルオキシラート（５４．５７ｍｌ、０．４１ｍｏ
ｌ）、無水ＥｔＯＨ（４５ｍｌ）、およびジエチルエー
テル（４５ｍｌ）の混合物をこのナトリウムエトキシド
溶液に２５分間かけて加えた。得られた濃い栗色の反応
混合物を次に２．５時間還流し次いで室温に冷却した。
反応混合物をおよそ６００ｍｌの１Ｎ ＨＣｌに注ぎ、
次いでＥｔ2Ｏで数回抽出した。エーテルを抽出物から
除き、得られたゴム状物をＥｔＯＨ１３５ｍｌに溶解し
た。次いでこの溶液に濃ＨＣｌ２．２５ｍｌを加え、こ
の後４５分間還流した。反応物を室温に冷却し、ＥｔＯ
Ｈを減圧で除去すると茶色の固体が残った。この固体を
ＥｔＯＡｃに溶解し、Ｈ2Ｏで１回、飽和ＮａＨＣＯ3で
２回、Ｈ2Ｏで１回洗浄し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により茶色の固体８７ｇを
得、これをＥｔＯＡｃ／石油エーテルから再結晶した。
再結晶により黄褐色固体のクロモン２４．０７ｇ（４８
％）が得られた。
【０１８９】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．２７（４０％ＥｔＯＡ
ｃ：／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ８．８０（ｓ（ｂｒ），
１）、７．９８（ｄ，１，Ｊ＝８．７８Ｈｚ）、７．１
３（ｄ，１，Ｊ＝８．７８Ｈｚ）、７．１３（ｓ，
１）、４．４７（ｑ，２，Ｊ＝７．１１Ｈｚ）、２．９
６（ｔ，２，Ｊ＝７．２５Ｈｚ）、１．７３（ｍ，
２）、１．４６（ｔ，３，Ｊ＝７．１６Ｈｚ）、１．０
２（ｔ，３，Ｊ＝７．１１Ｈｚ）。
ｃ：／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ８．８０（ｓ（ｂｒ），
１）、７．９８（ｄ，１，Ｊ＝８．７８Ｈｚ）、７．１
３（ｄ，１，Ｊ＝８．７８Ｈｚ）、７．１３（ｓ，
１）、４．４７（ｑ，２，Ｊ＝７．１１Ｈｚ）、２．９
６（ｔ，２，Ｊ＝７．２５Ｈｚ）、１．７３（ｍ，
２）、１．４６（ｔ，３，Ｊ＝７．１６Ｈｚ）、１．０
２（ｔ，３，Ｊ＝７．１１Ｈｚ）。
【０１９０】Ｃ．エチル ３，４−ジヒドロ−８−プロ
ピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラート
の製造。 パー瓶中でクロモン（１２．０７ｇ、０．０４４ｍｏ
ｌ）を酢酸２１０ｍｌに溶解した。この溶液に１０％Ｐ
ｄ／Ｃ（７．２ｇ）触媒を加え、瓶を５２ｐｓｉの気体
Ｈ2で加圧した。反応物を２３時間攪拌した。半融ガラ
ス漏斗中のセライト層を介する濾過によって触媒を除去
した。触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。濾液から溶媒を除
き、得られた油状物をトルエンと共沸させて１２ｇの茶
色の油状物を得た。この物質を、シリカゲルカートリッ
ジを備え、５％ないし４０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンの勾
配で２５０ｍｌ／分の流速で５０分間溶出し、５００ｍ
ｌの画分を集めるウォーターズ・プレプ５００ＨＰＬＣ
で精製した。精製されたクロマンが桃色の油状物（１０
ｇ、８６％）として得られた。
ピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラート
の製造。 パー瓶中でクロモン（１２．０７ｇ、０．０４４ｍｏ
ｌ）を酢酸２１０ｍｌに溶解した。この溶液に１０％Ｐ
ｄ／Ｃ（７．２ｇ）触媒を加え、瓶を５２ｐｓｉの気体
Ｈ2で加圧した。反応物を２３時間攪拌した。半融ガラ
ス漏斗中のセライト層を介する濾過によって触媒を除去
した。触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。濾液から溶媒を除
き、得られた油状物をトルエンと共沸させて１２ｇの茶
色の油状物を得た。この物質を、シリカゲルカートリッ
ジを備え、５％ないし４０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンの勾
配で２５０ｍｌ／分の流速で５０分間溶出し、５００ｍ
ｌの画分を集めるウォーターズ・プレプ５００ＨＰＬＣ
で精製した。精製されたクロマンが桃色の油状物（１０
ｇ、８６％）として得られた。
【０１９１】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．５０（４０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７３（ｄ，１，Ｊ＝８．
２０Ｈｚ）、６．３７（ｄ，１，Ｊ＝８．２０Ｈｚ）、
４．７８（ｓ（ｂｒ），１）、４．７５（ｍ，１）、
４．２５（ｍ，２）、２．６８（ｍ，４）、２．１６
（ｍ，２）、１．６０（ｍ，２）、１．２９（ｔ，３，
Ｊ＝７．０７Ｈｚ）、０．９９（ｔ，３，Ｊ＝７．３４
Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７３（ｄ，１，Ｊ＝８．
２０Ｈｚ）、６．３７（ｄ，１，Ｊ＝８．２０Ｈｚ）、
４．７８（ｓ（ｂｒ），１）、４．７５（ｍ，１）、
４．２５（ｍ，２）、２．６８（ｍ，４）、２．１６
（ｍ，２）、１．６０（ｍ，２）、１．２９（ｔ，３，
Ｊ＝７．０７Ｈｚ）、０．９９（ｔ，３，Ｊ＝７．３４
Ｈｚ）。
【０１９２】Ｄ．エチル ３，４−ジヒドロ−７−［１
−（３−ヒドロキシプロポキシ）］−８−プロピル−２
Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 エチル ３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−
ベンゾピラン−２−カルボキシラート（２．０４ｇ、
７．７３ｍｍｏｌ）の乾燥ＤＭＦ３０ｍｌの溶液を室温
でＫ2ＣＯ3（３．２０ｇ、２３．２ｍｍｏｌ）と共に攪
拌した。この反応混合物に臭化アリル（１．８７ｇ、１
５．５ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２０時間攪
拌し、次いで水で希釈し、酢酸エチルで数回抽出した。
ＥｔＯＡｃ抽出物を水で洗浄し次いでＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去によりアリルエーテル２．
２３ｇを透明な油状物として得た。次にこのアリルエー
テルをアルゴン雰囲気下で乾燥ＴＨＦ（３５ｍｌ）に溶
解した。この溶液に５分間かけて９−ＢＢＮ（１４．４
０ｍｌ、７．１９ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で
３時間攪拌した。続いて反応混合物に３．５Ｍ ＮａＯ
Ｈ２．８８ｍｌを徐々に加え、次いで３０％Ｈ2Ｏ
2（２．８８ｍｌ）を加えた。室温で１時間経過後、反
応物を水で希釈し、ＥｔＯＡｃで数回抽出した。有機抽
出物をＭｇＳＯ4で乾燥し、濾過し溶媒を減圧で除去す
ると黄色油状物２．８２ｇが残った。粗生成物を、シリ
カゲル支持体を用い５％ないし５０％ＥｔＯＡｃ／ヘキ
サンの溶媒勾配で溶出するウォーターズ・プレプ５００
クロマトグラフィーにより精製した。所望生成物（１．
４３ｇ、６２％）が透明な油状物として得られた。
−（３−ヒドロキシプロポキシ）］−８−プロピル−２
Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 エチル ３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−
ベンゾピラン−２−カルボキシラート（２．０４ｇ、
７．７３ｍｍｏｌ）の乾燥ＤＭＦ３０ｍｌの溶液を室温
でＫ2ＣＯ3（３．２０ｇ、２３．２ｍｍｏｌ）と共に攪
拌した。この反応混合物に臭化アリル（１．８７ｇ、１
５．５ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で２０時間攪
拌し、次いで水で希釈し、酢酸エチルで数回抽出した。
ＥｔＯＡｃ抽出物を水で洗浄し次いでＭｇＳＯ4で乾燥
した。濾過および溶媒の除去によりアリルエーテル２．
２３ｇを透明な油状物として得た。次にこのアリルエー
テルをアルゴン雰囲気下で乾燥ＴＨＦ（３５ｍｌ）に溶
解した。この溶液に５分間かけて９−ＢＢＮ（１４．４
０ｍｌ、７．１９ｍｍｏｌ）を加えた。反応物を室温で
３時間攪拌した。続いて反応混合物に３．５Ｍ ＮａＯ
Ｈ２．８８ｍｌを徐々に加え、次いで３０％Ｈ2Ｏ
2（２．８８ｍｌ）を加えた。室温で１時間経過後、反
応物を水で希釈し、ＥｔＯＡｃで数回抽出した。有機抽
出物をＭｇＳＯ4で乾燥し、濾過し溶媒を減圧で除去す
ると黄色油状物２．８２ｇが残った。粗生成物を、シリ
カゲル支持体を用い５％ないし５０％ＥｔＯＡｃ／ヘキ
サンの溶媒勾配で溶出するウォーターズ・プレプ５００
クロマトグラフィーにより精製した。所望生成物（１．
４３ｇ、６２％）が透明な油状物として得られた。
【０１９３】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．１７（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲδ６．８２（１，ｄ，Ｊ＝８．３８Ｈｚ）、
６．４７（１，ｄ，Ｊ＝６．３８Ｈｚ）、４．７６（ｄ
ｄ，１，Ｊ＝６．４１，４．１６Ｈｚ）、４．２４
（ｍ，２）、４．１０（ｔ，２，Ｊ＝６．２１Ｈｚ）、
３．９０（ｍ，２）２．７３（ｍ，２）２．６４（ｍ，
２）、ｚ，１４（ｍ，２）、１．９２（ｍ，１）、１．
５７（ｍ，２）、１．２９（ｔ，３，Ｊ＝６．９０Ｈ
ｚ）、０．９６（ｔ，３，Ｊ＝７．３５Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３４２５、３０２５、１６００、１
６８７、１６７５、１６００ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３２２（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ26Ｏ5として） 理論値 Ｃ、６７．０６；Ｈ、８．１３ 実測値 Ｃ、６７．２６；Ｈ、８．１０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲδ６．８２（１，ｄ，Ｊ＝８．３８Ｈｚ）、
６．４７（１，ｄ，Ｊ＝６．３８Ｈｚ）、４．７６（ｄ
ｄ，１，Ｊ＝６．４１，４．１６Ｈｚ）、４．２４
（ｍ，２）、４．１０（ｔ，２，Ｊ＝６．２１Ｈｚ）、
３．９０（ｍ，２）２．７３（ｍ，２）２．６４（ｍ，
２）、ｚ，１４（ｍ，２）、１．９２（ｍ，１）、１．
５７（ｍ，２）、１．２９（ｔ，３，Ｊ＝６．９０Ｈ
ｚ）、０．９６（ｔ，３，Ｊ＝７．３５Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３４２５、３０２５、１６００、１
６８７、１６７５、１６００ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３２２（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ26Ｏ5として） 理論値 Ｃ、６７．０６；Ｈ、８．１３ 実測値 Ｃ、６７．２６；Ｈ、８．１０。
【０１９４】Ｅ．エチル ７−［３−［（６−ホルミル
−４−エチル−１−ヒドロキシ−３−イル）オキシ］プ
ロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−
１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 乾燥ＴＨＦ（４５ｍｌ）中の３，４−ジヒドロ−７−
［１−（３−ヒドロキシプロポキシ）］−８−プロピル
−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラート
（２．２１ｇ、６．８２ｍｍｏｌ）、５−エチル−２，
３−ジヒドロキシベンズアルデヒド（１．１３ｇ、６．
８２ｍｍｏｌ）およびトリフェニルホスフェン（１．８
０ｇ、６．８２ｍｍｏｌ）の溶液を室温で攪拌した。こ
の溶液にジエチル アゾジカルボキシラート（１．１９
ｇ、６．８２ｍｍｏｌ）を加え、反応物を室温で４．５
時間攪拌した。反応を水で停止させ、次いで酢酸エチル
で抽出した。酢酸エチル抽出物を水およびブラインで洗
浄し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の
除去により橙色の物質を得、これを２０％ＥｔＯＡｃ／
ヘキサンで溶出するシリカゲル上のフラッシュクロマト
グラフィーにより精製した。所望生成物が透明な油状物
（２．０４ｇ）として６３％の収率で得られた。
−４−エチル−１−ヒドロキシ−３−イル）オキシ］プ
ロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−
１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 乾燥ＴＨＦ（４５ｍｌ）中の３，４−ジヒドロ−７−
［１−（３−ヒドロキシプロポキシ）］−８−プロピル
−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラート
（２．２１ｇ、６．８２ｍｍｏｌ）、５−エチル−２，
３−ジヒドロキシベンズアルデヒド（１．１３ｇ、６．
８２ｍｍｏｌ）およびトリフェニルホスフェン（１．８
０ｇ、６．８２ｍｍｏｌ）の溶液を室温で攪拌した。こ
の溶液にジエチル アゾジカルボキシラート（１．１９
ｇ、６．８２ｍｍｏｌ）を加え、反応物を室温で４．５
時間攪拌した。反応を水で停止させ、次いで酢酸エチル
で抽出した。酢酸エチル抽出物を水およびブラインで洗
浄し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の
除去により橙色の物質を得、これを２０％ＥｔＯＡｃ／
ヘキサンで溶出するシリカゲル上のフラッシュクロマト
グラフィーにより精製した。所望生成物が透明な油状物
（２．０４ｇ）として６３％の収率で得られた。
【０１９５】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．２９（２０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４６（ｓ，１）、７．
２６（ｄ，１，Ｊ＝８．９３Ｈｚ）、６．８１（ｄ，
１，Ｊ＝８．４０Ｈｚ）、６．４７（ｄ，１，Ｊ＝８．
４０Ｈｚ）、６．４３（ｓ，１）、４．７５（ｄｄ，
１，Ｊ＝６．４３，４．２０Ｈｚ）、４．２３（ｍ，
５）、４．１４（ｔ，２，Ｊ＝６．００Ｈｚ）、２．６
５（ｍ，３）、２．６２（ｍ，２）、２．２９（ｍ，
２）、２．１４（ｍ，２）、１．５５（ｍ，２）、１．
２８（ｔ，３，Ｊ＝７．１２Ｈｚ）、１．１９（ｔ，
３，Ｊ＝７．６０Ｈｚ）、０．９３（ｔ，３，Ｊ＝７．
４０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９６５、２９３４、１７４９、１
７２８、１６４１、１６１３、１５８７ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４７０（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ27Ｈ34Ｏ7として） 理論値 Ｃ、６８．９２；Ｈ、７．２８ 実測値 Ｃ、６９．０２；Ｈ、７．２３。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４６（ｓ，１）、７．
２６（ｄ，１，Ｊ＝８．９３Ｈｚ）、６．８１（ｄ，
１，Ｊ＝８．４０Ｈｚ）、６．４７（ｄ，１，Ｊ＝８．
４０Ｈｚ）、６．４３（ｓ，１）、４．７５（ｄｄ，
１，Ｊ＝６．４３，４．２０Ｈｚ）、４．２３（ｍ，
５）、４．１４（ｔ，２，Ｊ＝６．００Ｈｚ）、２．６
５（ｍ，３）、２．６２（ｍ，２）、２．２９（ｍ，
２）、２．１４（ｍ，２）、１．５５（ｍ，２）、１．
２８（ｔ，３，Ｊ＝７．１２Ｈｚ）、１．１９（ｔ，
３，Ｊ＝７．６０Ｈｚ）、０．９３（ｔ，３，Ｊ＝７．
４０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）２９６５、２９３４、１７４９、１
７２８、１６４１、１６１３、１５８７ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４７０（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ27Ｈ34Ｏ7として） 理論値 Ｃ、６８．９２；Ｈ、７．２８ 実測値 Ｃ、６９．０２；Ｈ、７．２３。
【０１９６】Ｆ．エチル ７−［３−［（１−ベンジル
オキシ−６−ホルミル−４−エチル−３−イル）オキ
シ］プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−
２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製
造。 乾燥ＤＭＦ２０ｍｌの溶液、エチル ７−［３−［（６
−ホルミル−４−エチル−１−ヒドロキシ−３−イル）
オキシ］プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピ
ル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラート
（１．９７ｇ、４．１８ｍｍｏｌ）およびＫ2ＣＯ
3（０．９６０ｇ、７．３１ｍｍｏｌ）を室温で攪拌し
た。この混合物に臭化ベンジル（１．４３ｇ、８．３６
ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加温した。１７時
間後、反応物を室温に冷却した。反応を水で停止させ、
得られた混合物をＥｔＯＡｃで抽出した。有機抽出物を
水およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾
燥した。濾過および溶媒の除去により黄色油状物が得ら
れた。この油状物を、シリカゲル支持体を用い５％ない
し３５％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンの溶媒勾配で４５分間溶
出するウォーターズ・プレプ５００クロマトグラフィー
で精製した。所望生成物が白色固体（２．４１ｇ）とし
て得られた。
オキシ−６−ホルミル−４−エチル−３−イル）オキ
シ］プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−
２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製
造。 乾燥ＤＭＦ２０ｍｌの溶液、エチル ７−［３−［（６
−ホルミル−４−エチル−１−ヒドロキシ−３−イル）
オキシ］プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピ
ル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラート
（１．９７ｇ、４．１８ｍｍｏｌ）およびＫ2ＣＯ
3（０．９６０ｇ、７．３１ｍｍｏｌ）を室温で攪拌し
た。この混合物に臭化ベンジル（１．４３ｇ、８．３６
ｍｍｏｌ）を加え、反応物を７５℃に加温した。１７時
間後、反応物を室温に冷却した。反応を水で停止させ、
得られた混合物をＥｔＯＡｃで抽出した。有機抽出物を
水およびブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾
燥した。濾過および溶媒の除去により黄色油状物が得ら
れた。この油状物を、シリカゲル支持体を用い５％ない
し３５％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンの溶媒勾配で４５分間溶
出するウォーターズ・プレプ５００クロマトグラフィー
で精製した。所望生成物が白色固体（２．４１ｇ）とし
て得られた。
【０１９７】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３９（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６８（ｓ，１）、７．５７（ｍ，５）、６．８２（ｄ，
１，Ｊ＝８．４０Ｈｚ）、６．５０（ｓ，１）、６．４
６（ｄ，１，Ｊ＝８．４１Ｈｚ）、５．１６（ｓ，
２）、４．７４（ｄｄ，１，Ｊ＝６．５０，４．１６Ｈ
ｚ）、４．２４（ｍ，４）、４．１５（ｔ，２，Ｊ＝
５．８５Ｈｚ）、２．６７（ｍ，４）、２．５５（ｑ，
２，Ｊ＝７．４５Ｈｚ）、２．３１（ｍ，２）、２．１
９（ｍ，２）、１．５５（ｍ，２）、１．２９（ｔ，
３，Ｊ＝７．０７Ｈｚ）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝７．
４８Ｈｚ）、０．９４（ｔ，３，Ｊ＝７．３４Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３２９２、３４７５、１７５０、１７２
５、１６４１、１５８７ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ５６１（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ46Ｏ7として） 理論値 Ｃ、７２．８６；Ｈ、７．１４ 実測値 Ｃ、７３．０７；Ｈ、７．４１。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４０（ｓ，１）、７．
６８（ｓ，１）、７．５７（ｍ，５）、６．８２（ｄ，
１，Ｊ＝８．４０Ｈｚ）、６．５０（ｓ，１）、６．４
６（ｄ，１，Ｊ＝８．４１Ｈｚ）、５．１６（ｓ，
２）、４．７４（ｄｄ，１，Ｊ＝６．５０，４．１６Ｈ
ｚ）、４．２４（ｍ，４）、４．１５（ｔ，２，Ｊ＝
５．８５Ｈｚ）、２．６７（ｍ，４）、２．５５（ｑ，
２，Ｊ＝７．４５Ｈｚ）、２．３１（ｍ，２）、２．１
９（ｍ，２）、１．５５（ｍ，２）、１．２９（ｔ，
３，Ｊ＝７．０７Ｈｚ）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝７．
４８Ｈｚ）、０．９４（ｔ，３，Ｊ＝７．３４Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３２９２、３４７５、１７５０、１７２
５、１６４１、１５８７ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ５６１（Ｍ+＋１）。 元素分析（Ｃ24Ｈ46Ｏ7として） 理論値 Ｃ、７２．８６；Ｈ、７．１４ 実測値 Ｃ、７３．０７；Ｈ、７．４１。
【０１９８】Ｇ．エチル ７−［３−［（１−ベンジル
オキシ−６−ヒドロキシ−４−エチル−３−イル）オキ
シ］プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−
２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製
造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
オキシ−６−ヒドロキシ−４−エチル−３−イル）オキ
シ］プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−
２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製
造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
【０１９９】エチル ７−［３−［（１−ベンジルオキ
シ−６−ヒドロキシ−４−エチル−３−イル）オキシ］
プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ
−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートが、エチル
７−［３−［（１−ベンジルオキシ−６−ホルミル−
４−エチル−３−イル）オキシ］プロポキシ］−３，４
−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−
２−カルボキシラートから２７％の収率で得られた。
シ−６−ヒドロキシ−４−エチル−３−イル）オキシ］
プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ
−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートが、エチル
７−［３−［（１−ベンジルオキシ−６−ホルミル−
４−エチル−３−イル）オキシ］プロポキシ］−３，４
−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−
２−カルボキシラートから２７％の収率で得られた。
【０２００】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３７（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４３（ｍ，５）、６．８
６（ｄ，１，Ｊ＝８．４０Ｈｚ）、６．８３（ｓ，
１）、６．６２（ｓ，１）、６．５３（ｄ，１，Ｊ＝
８．４０Ｈｚ）、５．３９（ｓ，１）、５．０６（ｓ，
１）、４．７６（ｄｄ，１，Ｊ＝６．５０、４．２１Ｈ
ｚ）、４．２７（ｍ，２）、４．１８（ｍ，２）、２．
７４（ｍ，４）、２．６２（ｑ，２，Ｊ＝７．４４Ｈ
ｚ）、２．２６（ｍ，４）、１．６５（ｍ，２）、１．
３３（ｔ，３，Ｊ＝７．０７Ｈｚ）、１．２２（ｔ，
３，Ｊ＝７．４５Ｈｚ）、１．０１（ｔ，３，Ｊ＝７．
３３Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３６４３、３５７９、３０２９、２
９７９、２９４３、２８００、１７５７、１７２９、１
６２０、１５８６、１５１４ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ５４８（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ33Ｈ40Ｏ7−０．１Ｈ2Ｏとして） 理論値 Ｃ、７１．９４；Ｈ、７．３６ 実測値 Ｃ、７１．３７；Ｈ、７．５２。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４３（ｍ，５）、６．８
６（ｄ，１，Ｊ＝８．４０Ｈｚ）、６．８３（ｓ，
１）、６．６２（ｓ，１）、６．５３（ｄ，１，Ｊ＝
８．４０Ｈｚ）、５．３９（ｓ，１）、５．０６（ｓ，
１）、４．７６（ｄｄ，１，Ｊ＝６．５０、４．２１Ｈ
ｚ）、４．２７（ｍ，２）、４．１８（ｍ，２）、２．
７４（ｍ，４）、２．６２（ｑ，２，Ｊ＝７．４４Ｈ
ｚ）、２．２６（ｍ，４）、１．６５（ｍ，２）、１．
３３（ｔ，３，Ｊ＝７．０７Ｈｚ）、１．２２（ｔ，
３，Ｊ＝７．４５Ｈｚ）、１．０１（ｔ，３，Ｊ＝７．
３３Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３６４３、３５７９、３０２９、２
９７９、２９４３、２８００、１７５７、１７２９、１
６２０、１５８６、１５１４ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ５４８（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ33Ｈ40Ｏ7−０．１Ｈ2Ｏとして） 理論値 Ｃ、７１．９４；Ｈ、７．３６ 実測値 Ｃ、７１．３７；Ｈ、７．５２。
【０２０１】Ｈ．エチル ［３−［（１−ベンジルオキ
シ−４−エチル−２−メトキシ−５−イル）オキシ］プ
ロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−
１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 乾燥ＤＭＦ（１．３Ｍ溶液）に入れた、ヘキサンで洗浄
したＮａＨ（２．１０当量）の懸濁液を、室温でアルゴ
ン雰囲気下に攪拌した。乾燥ＤＭＦ（０．１５Ｍ）中の
フェノールの溶液を、このＮａＨ懸濁液に徐々に加え
た。反応物を室温で３０分間攪拌した。この反応物に１
８−クラウン−６を加え、次にハロゲン化アルキル
（５．０当量）を滴下した。室温で数時間攪拌した後、
飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液で反応停止させ、水で希釈しＥｔ
ＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ抽出物を水洗し、次いで
ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去により粗
生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィーにより精製した。
シ−４−エチル−２−メトキシ−５−イル）オキシ］プ
ロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−
１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 乾燥ＤＭＦ（１．３Ｍ溶液）に入れた、ヘキサンで洗浄
したＮａＨ（２．１０当量）の懸濁液を、室温でアルゴ
ン雰囲気下に攪拌した。乾燥ＤＭＦ（０．１５Ｍ）中の
フェノールの溶液を、このＮａＨ懸濁液に徐々に加え
た。反応物を室温で３０分間攪拌した。この反応物に１
８−クラウン−６を加え、次にハロゲン化アルキル
（５．０当量）を滴下した。室温で数時間攪拌した後、
飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液で反応停止させ、水で希釈しＥｔ
ＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ抽出物を水洗し、次いで
ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去により粗
生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィーにより精製した。
【０２０２】エチル ［３−［（１−ベンジルオキシ−
４−エチル−２−メトキシ−５−イル）オキシ］プロポ
キシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−
ベンゾピラン−２−カルボキシラートが、エチル ７−
［３−［（１−ベンジルオキシ−６−ヒドロキシ−４−
エチル−３−イル）オキシ］プロポキシ］−３，４−ジ
ヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−
カルボキシラートから、透明な油状物として８４％の収
率で製造された。
４−エチル−２−メトキシ−５−イル）オキシ］プロポ
キシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−
ベンゾピラン−２−カルボキシラートが、エチル ７−
［３−［（１−ベンジルオキシ−６−ヒドロキシ−４−
エチル−３−イル）オキシ］プロポキシ］−３，４−ジ
ヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−
カルボキシラートから、透明な油状物として８４％の収
率で製造された。
【０２０３】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４８（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４３（ｍ，５）、６．８
５（ｄ，２，Ｊ＝８．４０Ｈｚ）、６．８０（ｓ，
１）、６．６１（ｓ，１）、６．５１（ｄ，２，Ｊ＝
８．４０Ｈｚ）、５．１５（ｓ，２）、４．７８（ｄ
ｄ，１，Ｊ＝６．４４、４．２５Ｈｚ）、４．２７
（ｍ，２）、４．１６（ｔ，２，Ｊ＝６．００Ｈｚ）、
４．１０（ｔ，２，Ｊ＝６．００Ｈｚ）、３．９０
（ｓ，３）、２．６９（ｍ，６）、２．２４（ｍ，
４）、１．６４（ｍ，２）、１．３２（ｔ，３，Ｊ＝
７．０６Ｈｚ）、１．２３（ｔ，３，Ｊ＝７．５３Ｈ
ｚ）、１．００（ｔ，３，Ｊ＝７．３５Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０３１、３０１５、２９７７、２
９４６、２８７０、１７５０、１７３０、１６３０、１
６００、１５１５、１４５０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ５６２（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ34Ｈ42Ｏ7として） 理論値 Ｃ、７２．５７；Ｈ、７．５２ 実測値 Ｃ、７３．８５；Ｈ、７．４０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４３（ｍ，５）、６．８
５（ｄ，２，Ｊ＝８．４０Ｈｚ）、６．８０（ｓ，
１）、６．６１（ｓ，１）、６．５１（ｄ，２，Ｊ＝
８．４０Ｈｚ）、５．１５（ｓ，２）、４．７８（ｄ
ｄ，１，Ｊ＝６．４４、４．２５Ｈｚ）、４．２７
（ｍ，２）、４．１６（ｔ，２，Ｊ＝６．００Ｈｚ）、
４．１０（ｔ，２，Ｊ＝６．００Ｈｚ）、３．９０
（ｓ，３）、２．６９（ｍ，６）、２．２４（ｍ，
４）、１．６４（ｍ，２）、１．３２（ｔ，３，Ｊ＝
７．０６Ｈｚ）、１．２３（ｔ，３，Ｊ＝７．５３Ｈ
ｚ）、１．００（ｔ，３，Ｊ＝７．３５Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０３１、３０１５、２９７７、２
９４６、２８７０、１７５０、１７３０、１６３０、１
６００、１５１５、１４５０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ５６２（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ34Ｈ42Ｏ7として） 理論値 Ｃ、７２．５７；Ｈ、７．５２ 実測値 Ｃ、７３．８５；Ｈ、７．４０。
【０２０４】Ｉ．エチル ［３−［（６−エチル−３−
ヒドロキシ−４−メトキシ−１−イル）オキシ］プロポ
キシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−
ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
ヒドロキシ−４−メトキシ−１−イル）オキシ］プロポ
キシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−
ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを用い
酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュクロ
マトグラフィーにより精製した。
【０２０５】エチル ［３−［（６−エチル−３−ヒド
ロキシ−４−メトキシ−１−イル）オキシ］プロポキ
シ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−ベ
ンゾピラン−２−カルボキシラートが、エチル ［３−
［（１−ベンジルオキシ−４−エチル−２−メトキシ−
５−イル）オキシ］プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−
８−プロピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキ
シラートから９１％の収率で製造された。
ロキシ−４−メトキシ−１−イル）オキシ］プロポキ
シ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−ベ
ンゾピラン−２−カルボキシラートが、エチル ［３−
［（１−ベンジルオキシ−４−エチル−２−メトキシ−
５−イル）オキシ］プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−
８−プロピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキ
シラートから９１％の収率で製造された。
【０２０６】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３２（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．８１（ｄ，１，Ｊ＝８．
３２Ｈｚ）、６．７０（ｓ，１）、６．５７（ｓ，
１）、６．４７（ｄ，１，Ｊ＝８．３２Ｈｚ）、５．５
１（ｓ，１）、４．７５（ｄｄ，１，Ｊ＝６．６３、
４．１３Ｈｚ）、４．２３（ｍ，２）、４．１２（ｍ，
４）、３．８６（ｓ，３）、２．６５（ｍ，６）、２．
２３（ｍ，４）、１．６０（ｍ，２）、１．２９（ｔ，
３，Ｊ＝７．１８Ｈｚ）、１．１７（ｔ，３，Ｊ＝７．
４３Ｈｚ）、０．９４（ｔ，３，Ｊ＝７．３２Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４６、３０２２、２９６４、２
８７７、１７６２、１７３０、１６１５、１５８５、１
５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４７２（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ27Ｈ36Ｏ7として） 理論値 Ｃ、６８．６２；Ｈ、７．６８ 実測値 Ｃ、６８．８８；Ｈ、７．４０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．８１（ｄ，１，Ｊ＝８．
３２Ｈｚ）、６．７０（ｓ，１）、６．５７（ｓ，
１）、６．４７（ｄ，１，Ｊ＝８．３２Ｈｚ）、５．５
１（ｓ，１）、４．７５（ｄｄ，１，Ｊ＝６．６３、
４．１３Ｈｚ）、４．２３（ｍ，２）、４．１２（ｍ，
４）、３．８６（ｓ，３）、２．６５（ｍ，６）、２．
２３（ｍ，４）、１．６０（ｍ，２）、１．２９（ｔ，
３，Ｊ＝７．１８Ｈｚ）、１．１７（ｔ，３，Ｊ＝７．
４３Ｈｚ）、０．９４（ｔ，３，Ｊ＝７．３２Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４６、３０２２、２９６４、２
８７７、１７６２、１７３０、１６１５、１５８５、１
５１０ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４７２（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ27Ｈ36Ｏ7として） 理論値 Ｃ、６８．６２；Ｈ、７．６８ 実測値 Ｃ、６８．８８；Ｈ、７．４０。
【０２０７】Ｊ．３，４−ジヒドロ−８−プロピル−７
−［３−（２−エチル−５−ヒドロキシ−４−メトキシ
−フェノキシ）プロポキシ］−２Ｈ−１−ベンゾピラン
−２−カルボン酸の製造。 エチルエステルを室温下にジオキサン（０．１４Ｍ溶
液）中で攪拌した。この溶液を３．０当量のＮａＯＨ
（２Ｎ水溶液）で処理した。反応物を室温で２．５時間
攪拌し、次いでジオキサンを減圧で除去した。得られた
残留物を水に溶解し、５Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に酸性化し
た（白色沈澱が生成する）。水性混合物を酢酸エチルで
数回抽出し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および
溶媒の除去により粗生成物を得た。
−［３−（２−エチル−５−ヒドロキシ−４−メトキシ
−フェノキシ）プロポキシ］−２Ｈ−１−ベンゾピラン
−２−カルボン酸の製造。 エチルエステルを室温下にジオキサン（０．１４Ｍ溶
液）中で攪拌した。この溶液を３．０当量のＮａＯＨ
（２Ｎ水溶液）で処理した。反応物を室温で２．５時間
攪拌し、次いでジオキサンを減圧で除去した。得られた
残留物を水に溶解し、５Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に酸性化し
た（白色沈澱が生成する）。水性混合物を酢酸エチルで
数回抽出し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および
溶媒の除去により粗生成物を得た。
【０２０８】３，４−ジヒドロ−８−プロピル−７−
［３−（２−エチル−５−ヒドロキシ−４−メトキシ−
フェノキシ）プロポキシ］−２Ｈ−１−ベンゾピラン−
２−カルボン酸を、６．５／３．４／０．１のＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン／ＡｃＯＨで溶出するシリカゲル上のフラ
ッシュクロマトグラフィーにより精製した。所望の酸が
白色固体（０．１１５ｇ、４１％）として得られた。
［３−（２−エチル−５−ヒドロキシ−４−メトキシ−
フェノキシ）プロポキシ］−２Ｈ−１−ベンゾピラン−
２−カルボン酸を、６．５／３．４／０．１のＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン／ＡｃＯＨで溶出するシリカゲル上のフラ
ッシュクロマトグラフィーにより精製した。所望の酸が
白色固体（０．１１５ｇ、４１％）として得られた。
【０２０９】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３８（６．５／３．４
／０．１のＥｔＯＡｃ／ヘキサン／ＡｃＯＨ）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．８４（ｄ，１，Ｊ＝８．
４０Ｈｚ）、６．７０（ｓ，１）、６．５６（ｓ，
１）、６．５１（ｄ，１，Ｊ＝８．４０Ｈｚ）、４．７
６（ｄｄ，１，Ｊ＝８．４０、３．７２Ｈｚ）、４．１
５（ｔ，２，Ｊ＝６．１０Ｈｚ）、４．１１（ｔ，２，
Ｊ＝６．２８Ｈｚ）、３．８６（ｓ，３）、２．７８
（ｍ，２）、２．６３（ｍ，４）、２．２７（ｍ，
４）、１．５４（ｍ，２）、１．１７（ｔ，３，Ｊ＝
７．４６Ｈｚ）、０．９４（ｔ，３，Ｊ＝７．３０Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４３０、２９５７、２９４５、２８８
５、１７０１、１６１２、１５１５、１４６４ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４４４（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ32Ｏ7として） 理論値 Ｃ、６７．５５；Ｈ、７．２６ 実測値 Ｃ、６６．２９；Ｈ、６．８６。
／０．１のＥｔＯＡｃ／ヘキサン／ＡｃＯＨ）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．８４（ｄ，１，Ｊ＝８．
４０Ｈｚ）、６．７０（ｓ，１）、６．５６（ｓ，
１）、６．５１（ｄ，１，Ｊ＝８．４０Ｈｚ）、４．７
６（ｄｄ，１，Ｊ＝８．４０、３．７２Ｈｚ）、４．１
５（ｔ，２，Ｊ＝６．１０Ｈｚ）、４．１１（ｔ，２，
Ｊ＝６．２８Ｈｚ）、３．８６（ｓ，３）、２．７８
（ｍ，２）、２．６３（ｍ，４）、２．２７（ｍ，
４）、１．５４（ｍ，２）、１．１７（ｔ，３，Ｊ＝
７．４６Ｈｚ）、０．９４（ｔ，３，Ｊ＝７．３０Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３４３０、２９５７、２９４５、２８８
５、１７０１、１６１２、１５１５、１４６４ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４４４（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ25Ｈ32Ｏ7として） 理論値 Ｃ、６７．５５；Ｈ、７．２６ 実測値 Ｃ、６６．２９；Ｈ、６．８６。
【０２１０】実施例１０ Ａ．５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒ
の製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
の製造。 ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）をアルゴン雰囲気
下で０℃に冷却した。このＤＭＦにＰＯＣｌ3（１８．
６０ｍｌ、０．２０ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に加え
た。０℃で数分経過後に反応物を室温に加温し、ＣＨ2
Ｃｌ2（１５０ｍｌ）を反応混合物に加えて固体を溶解
した。続いて反応物を０℃に再冷却した。４−エチルレ
ゾルシノール（２５．０ｇ、０．１８１ｍｏｌ）を２０
０ｍｌのＣＨ2Ｃｌ2溶液として反応混合物に加えた。０
℃で１０分間攪拌した後、反応物を室温に加温し、次い
で１６時間還流した。反応物を室温に冷却し、ＮａＯＡ
ｃ（５０ｇ）の水溶液１００ｍｌを徐々に加えた。この
混合物を４０分間還流し、次いで室温に冷却した。水層
をＣＨ2Ｃｌ2で数回洗浄した。有機物を合し１Ｎ ＨＣ
ｌ溶液およびブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により橙色の固体を得、これ
をトルエンおよびヘキサンから再結晶した（１７ｇ、５
６％）。
【０２１１】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３９（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．３０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２９（ｓ，１）、６．３６（ｓ
（ｂｒ），１）、２．６１（ｑ，２，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、１．２５（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。
【０２１２】Ｂ．１−（３−クロロプロポキシ−１−イ
ル）−３−ヒドロキシ−４−ホルミル−５−エチル ベ
ンゼンの製造。 ５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド
（８．００ｇ、４８．１ｍｍｏｌ）の乾燥ＴＨＦ溶液１
９０ｍｌ、３−クロロプロパノール（４．５５ｇ、４
８．１ｍｍｏｌ）およびトリフェニルホスフィン（１
２．６２ｇ、４８．１ｍｍｏｌ）を室温で攪拌した。こ
の溶液にジエチルアゾジカルボキシラート（７．６０ｍ
ｌ、４８．１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１０ｍｌを加え
た。反応物を室温で１７時間攪拌し、この後溶媒を減圧
で除去した。粗製物質をメルク６０μシリカゲル１２５
ｇに吸着させ、次いでメルクシリカゲル１００ｍｌのプ
ラグを介して３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサン１ｌで溶出し
た。得られた黄色油状物を、次いで５％ないし３０％Ｅ
ｔＯＡｃ／ヘキサンの溶媒勾配で４５分間溶出するシリ
カゲル上のウォーターズ・プレプ５００クロマトグラフ
ィーによってさらに精製した。所望生成物が透明な油状
物（７．０３ｇ、６１％）として得られた。
ル）−３−ヒドロキシ−４−ホルミル−５−エチル ベ
ンゼンの製造。 ５−エチル−２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド
（８．００ｇ、４８．１ｍｍｏｌ）の乾燥ＴＨＦ溶液１
９０ｍｌ、３−クロロプロパノール（４．５５ｇ、４
８．１ｍｍｏｌ）およびトリフェニルホスフィン（１
２．６２ｇ、４８．１ｍｍｏｌ）を室温で攪拌した。こ
の溶液にジエチルアゾジカルボキシラート（７．６０ｍ
ｌ、４８．１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１０ｍｌを加え
た。反応物を室温で１７時間攪拌し、この後溶媒を減圧
で除去した。粗製物質をメルク６０μシリカゲル１２５
ｇに吸着させ、次いでメルクシリカゲル１００ｍｌのプ
ラグを介して３０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサン１ｌで溶出し
た。得られた黄色油状物を、次いで５％ないし３０％Ｅ
ｔＯＡｃ／ヘキサンの溶媒勾配で４５分間溶出するシリ
カゲル上のウォーターズ・プレプ５００クロマトグラフ
ィーによってさらに精製した。所望生成物が透明な油状
物（７．０３ｇ、６１％）として得られた。
【０２１３】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４７（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２６（ｓ，１）、６．４２（ｓ，
１）、４．１８（ｔ，２，Ｊ＝５．８０Ｈｚ）、３．７
７（ｔ，２，Ｊ＝６．２８Ｈｚ）、２．５７（ｑ，２，
Ｊ＝７．４１Ｈｚ）、２．３０（ｍ，２）、１．９６
（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２１、２９７１、２９３７、１
６４３、１５８６、１４９４ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ２４３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ12Ｈ15Ｏ3Ｃｌとして） 理論値 Ｃ、５９．３３；Ｈ、６．２３；Ｃｌ、１４．
６１ 実測値 Ｃ、５９．２４；Ｈ、６．１８；Ｃｌ、１４．
６９。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１１．４０（ｓ，１）、９．
７１（ｓ，１）、７．２６（ｓ，１）、６．４２（ｓ，
１）、４．１８（ｔ，２，Ｊ＝５．８０Ｈｚ）、３．７
７（ｔ，２，Ｊ＝６．２８Ｈｚ）、２．５７（ｑ，２，
Ｊ＝７．４１Ｈｚ）、２．３０（ｍ，２）、１．９６
（ｔ，３，Ｊ＝７．５４Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２１、２９７１、２９３７、１
６４３、１５８６、１４９４ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ２４３（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ12Ｈ15Ｏ3Ｃｌとして） 理論値 Ｃ、５９．３３；Ｈ、６．２３；Ｃｌ、１４．
６１ 実測値 Ｃ、５９．２４；Ｈ、６．１８；Ｃｌ、１４．
６９。
【０２１４】Ｃ．１−ベンジルオキシ−３−［３−クロ
ロプロポキシ］−４−エチル−６−ホルミル ベンゼン
の製造。 乾燥ＤＭＦに入れた、ヘキサンで洗浄したＮａＨ（６０
％油中分散物２．４０ｇ、６０ｍｍｏｌ）の懸濁液を、
室温でアルゴン雰囲気下に攪拌した。１−（３−クロロ
プロポキシ−１−イル）−３−ヒドロキシ−４−ホルミ
ル−５−エチルベンゼン（６．９２ｇ、２８．６ｍｍｏ
ｌ）の乾燥ＤＭＦ溶液５０ｍｌを、このＮａＨ懸濁液に
徐々に加え、この混合物を室温で３０分間攪拌した。こ
のアルコキシド溶液に臭化ベンジル（９．７８ｇ、５
７．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で攪拌を続けた。３時間
後に飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で注意深く反応停止させ、次い
で反応物を水で希釈しＥｔＯＡｃ数回で抽出した。有機
抽出物を水洗し、ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶
媒の除去により黄色固体を得た。この固体を、シリカゲ
ル支持体を用い５％ないし４０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサン
の溶媒勾配で４５分間溶出するウォーターズ・プレプ５
００クロマトグラフィーにより精製した。所望生成物が
白色固体（７．１４ｇ、７５％）として得られた。
ロプロポキシ］−４−エチル−６−ホルミル ベンゼン
の製造。 乾燥ＤＭＦに入れた、ヘキサンで洗浄したＮａＨ（６０
％油中分散物２．４０ｇ、６０ｍｍｏｌ）の懸濁液を、
室温でアルゴン雰囲気下に攪拌した。１−（３−クロロ
プロポキシ−１−イル）−３−ヒドロキシ−４−ホルミ
ル−５−エチルベンゼン（６．９２ｇ、２８．６ｍｍｏ
ｌ）の乾燥ＤＭＦ溶液５０ｍｌを、このＮａＨ懸濁液に
徐々に加え、この混合物を室温で３０分間攪拌した。こ
のアルコキシド溶液に臭化ベンジル（９．７８ｇ、５
７．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で攪拌を続けた。３時間
後に飽和ＮＨ4Ｃｌ溶液で注意深く反応停止させ、次い
で反応物を水で希釈しＥｔＯＡｃ数回で抽出した。有機
抽出物を水洗し、ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶
媒の除去により黄色固体を得た。この固体を、シリカゲ
ル支持体を用い５％ないし４０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサン
の溶媒勾配で４５分間溶出するウォーターズ・プレプ５
００クロマトグラフィーにより精製した。所望生成物が
白色固体（７．１４ｇ、７５％）として得られた。
【０２１５】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３４（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４１（ｓ，１）、７．
６８（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４９（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．１７（ｔ，２，Ｊ＝
５．７８Ｈｚ）、３．７８（ｔ，２，Ｊ＝６．２２Ｈ
ｚ）、２．５７（ｑ，２，Ｊ＝７．５３Ｈｚ）、２．２
９（ｍ，２）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０１３、２９７１、２８７５、１
６６７、１６０７、１５０５、１４６５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３３２（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ19Ｈ21Ｏ3Ｃｌとして） 理論値 Ｃ、６８．５７；Ｈ、６．３６；Ｃｌ、１０．
６５ 実測値 Ｃ、６８．６８；Ｈ、６．５４；Ｃｌ、１０．
５３。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ１０．４１（ｓ，１）、７．
６８（ｓ，１）、７．４２（ｍ，５）、６．４９（ｓ，
１）、５．２０（ｓ，２）、４．１７（ｔ，２，Ｊ＝
５．７８Ｈｚ）、３．７８（ｔ，２，Ｊ＝６．２２Ｈ
ｚ）、２．５７（ｑ，２，Ｊ＝７．５３Ｈｚ）、２．２
９（ｍ，２）、１．１８（ｔ，３，Ｊ＝７．５０Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０１３、２９７１、２８７５、１
６６７、１６０７、１５０５、１４６５ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ３３２（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ19Ｈ21Ｏ3Ｃｌとして） 理論値 Ｃ、６８．５７；Ｈ、６．３６；Ｃｌ、１０．
６５ 実測値 Ｃ、６８．６８；Ｈ、６．５４；Ｃｌ、１０．
５３。
【０２１６】Ｄ．１−ベンジルオキシ−３−［３−クロ
ロプロポキシ］−４−エチル−６−ヒドロキシベンゼン
の製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
ロプロポキシ］−４−エチル−６−ヒドロキシベンゼン
の製造。 ＣＨ2Ｃｌ2（０．１８Ｍ）中のアルデヒドの溶液を室温
の下でｍ−クロロ過安息香酸（１．１当量）で処理し、
反応物を室温で攪拌した。３０分後に沈澱が生成した。
反応は５時間後に完了した。この沈澱を濾過により除い
た。溶媒を減圧で除去し、得られた固体をＴＨＦ（０．
２８Ｍ）に溶解し、２Ｎ ＮａＯＨ（２．５当量）と共
に一夜攪拌した。続いてＴＨＦを減圧で除き、得られた
水性混合物をＨ2Ｏで希釈し、１Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に
酸性化した。乳状の懸濁液をＥｔＯＡｃで数回抽出し
た。有機抽出物を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液で数回、次い
でブラインで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒除去により茶色の油状物８．７０ｇ
が得られた。この油状物をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製した。
【０２１７】１−ベンジルオキシ−２−［３−クロロプ
ロポキシ］−４−エチル−６−ヒドロキシベンゼンが、
１−ベンジルオキシ−２−［３−クロロプロポキシ］−
４−エチル−６−ホルミルベンゼンから６６％の収率で
得られた。
ロポキシ］−４−エチル−６−ヒドロキシベンゼンが、
１−ベンジルオキシ−２−［３−クロロプロポキシ］−
４−エチル−６−ホルミルベンゼンから６６％の収率で
得られた。
【０２１８】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４６（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４４（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５８（ｓ，１）、５．２５（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、４．０３（ｔ，２，Ｊ＝
５．７７Ｈｚ）、３．７８（ｔ，３，Ｊ＝６．３６Ｈ
ｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５６Ｈｚ）、２．２
３（ｍ，２）、１．１７（ｔ，３，Ｊ＝７．５９Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５５２、３０１２、２９６９、２
９３４、１５１１、１４６９ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３２０（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ21Ｏ3Ｃｌとして） 理論値 Ｃ、６７．３９；Ｈ、６．６０；Ｃｌ、１１．
０５ 実測値 Ｃ、６７．０９；Ｈ、６．５６；Ｃｌ、１０．
８２。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４４（ｍ，５）、６．７
９（ｓ，１）、６．５８（ｓ，１）、５．２５（ｓ，
１）、５．１０（ｓ，２）、４．０３（ｔ，２，Ｊ＝
５．７７Ｈｚ）、３．７８（ｔ，３，Ｊ＝６．３６Ｈ
ｚ）、２．５６（ｑ，２，Ｊ＝７．５６Ｈｚ）、２．２
３（ｍ，２）、１．１７（ｔ，３，Ｊ＝７．５９Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５５２、３０１２、２９６９、２
９３４、１５１１、１４６９ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３２０（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ18Ｈ21Ｏ3Ｃｌとして） 理論値 Ｃ、６７．３９；Ｈ、６．６０；Ｃｌ、１１．
０５ 実測値 Ｃ、６７．０９；Ｈ、６．５６；Ｃｌ、１０．
８２。
【０２１９】Ｅ．１−ベンジルオキシ−３−［３−クロ
ロプロポキシ］−４−エチル−６−エトキシ ベンゼン
の製造。 乾燥ＤＭＦ（１．３Ｍ溶液）に入れた、ヘキサンで洗浄
したＮａＨ（２．１０当量）の懸濁液を、室温でアルゴ
ン雰囲気下に攪拌した。乾燥ＤＭＦ（０．１５Ｍ）中の
フェノールの溶液を、このＮａＨ懸濁液に徐々に加え
た。反応物を室温で３０分間攪拌した。この反応物に１
８−クラウン−６を加え、次にハロゲン化アルキル
（５．０当量）を滴下した。室温で数時間攪拌した後、
飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液で反応停止させ、水で希釈しＥｔ
ＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ抽出物を水洗し、次いで
ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去により粗
生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィーにより精製した。
ロプロポキシ］−４−エチル−６−エトキシ ベンゼン
の製造。 乾燥ＤＭＦ（１．３Ｍ溶液）に入れた、ヘキサンで洗浄
したＮａＨ（２．１０当量）の懸濁液を、室温でアルゴ
ン雰囲気下に攪拌した。乾燥ＤＭＦ（０．１５Ｍ）中の
フェノールの溶液を、このＮａＨ懸濁液に徐々に加え
た。反応物を室温で３０分間攪拌した。この反応物に１
８−クラウン−６を加え、次にハロゲン化アルキル
（５．０当量）を滴下した。室温で数時間攪拌した後、
飽和ＮＨ4Ｃｌ水溶液で反応停止させ、水で希釈しＥｔ
ＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ抽出物を水洗し、次いで
ＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶媒の除去により粗
生成物を得、これをシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィーにより精製した。
【０２２０】１−ベンジルオキシ−２−［３−クロロプ
ロポキシ］−４−エチル−６−エトキシ ベンゼンが、
１−ベンジルオキシ−２−［３−クロロプロポキシ］−
４−エチル−６−ヒドロキシ ベンゼンおよびヨウ化エ
チルから、白色固体として７７％の収率で製造された。
ロポキシ］−４−エチル−６−エトキシ ベンゼンが、
１−ベンジルオキシ−２−［３−クロロプロポキシ］−
４−エチル−６−ヒドロキシ ベンゼンおよびヨウ化エ
チルから、白色固体として７７％の収率で製造された。
【０２２１】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４８（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４０（ｍ，５）、６．８
０（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．１６（ｓ，
２）、４．１０（ｑ，２，Ｊ＝６．９７Ｈｚ）、４．０
０（ｔ，２，Ｊ＝５．７０Ｈｚ）、３．７７（ｔ，ｚ，
Ｊ＝６．７３Ｈｚ）、２．６０（ｑ，２，Ｊ＝７．５０
Ｈｚ）、２．２１（ｍ，２）、１．４３（ｔ，３，Ｊ＝
６．９７Ｈｚ）、１．２０（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０１１、２９７１、２９５０、２
８９０、１６２０、１５０７、１４７１ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３４８（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ20Ｈ25Ｏ3Ｃｌとして） 理論値 Ｃ、６８．８６；Ｈ、７．２２ 実測値 Ｃ、６９．３５；Ｈ、７．３８。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４０（ｍ，５）、６．８
０（ｓ，１）、６．５６（ｓ，１）、５．１６（ｓ，
２）、４．１０（ｑ，２，Ｊ＝６．９７Ｈｚ）、４．０
０（ｔ，２，Ｊ＝５．７０Ｈｚ）、３．７７（ｔ，ｚ，
Ｊ＝６．７３Ｈｚ）、２．６０（ｑ，２，Ｊ＝７．５０
Ｈｚ）、２．２１（ｍ，２）、１．４３（ｔ，３，Ｊ＝
６．９７Ｈｚ）、１．２０（ｔ，３，Ｊ＝７．４６Ｈ
ｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０１１、２９７１、２９５０、２
８９０、１６２０、１５０７、１４７１ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ３４８（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ20Ｈ25Ｏ3Ｃｌとして） 理論値 Ｃ、６８．８６；Ｈ、７．２２ 実測値 Ｃ、６９．３５；Ｈ、７．３８。
【０２２２】Ｆ．クロモンの製造。 ＥｔＯＨ（無水）２２５ｍｌの溶液に、室温およびアル
ゴン雰囲気下で金属Ｎａ１６．５６ｇを１時間かけて加
えた。全てのＮａが添加された後、反応混合物を１時間
還流し、次いで室温に冷却した。２，４−ジヒドロキシ
アセトフェノン（３４．８２ｇ、０．１８０ｍｏｌ）、
ジエチルオキシラート（５４．５７ｍｌ、０．４１ｍｏ
ｌ）、無水ＥｔＯＨ（４５ｍｌ）、およびジエチルエー
テル（４５ｍｌ）の混合物をこのナトリウムエトキシド
溶液に２５分間かけて加えた。得られた濃い栗色の反応
混合物を次に２．５時間還流し次いで室温に冷却した。
反応混合物をおよそ６００ｍｌの１Ｎ ＨＣｌに注ぎ、
次いでＥｔ2Ｏで数回抽出した。エーテルを抽出物から
除き、得られたゴム状物をＥｔＯＨ１３５ｍｌに溶解し
た。次いでこの溶液に濃ＨＣｌ２．２５ｍｌを加え、こ
の後４５分間還流した。反応物を室温に冷却し、ＥｔＯ
Ｈを減圧で除去すると茶色の固体が残った。この固体を
ＥｔＯＡｃに溶解し、Ｈ2Ｏで１回、飽和ＮａＨＣＯ3で
２回、Ｈ2Ｏで１回洗浄し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により茶色の固体８７ｇを
得、これをＥｔＯＡｃ／石油エーテルから再結晶した。
再結晶により黄褐色固体のクロモン２４．０７ｇ（４８
％）が得られた。
ゴン雰囲気下で金属Ｎａ１６．５６ｇを１時間かけて加
えた。全てのＮａが添加された後、反応混合物を１時間
還流し、次いで室温に冷却した。２，４−ジヒドロキシ
アセトフェノン（３４．８２ｇ、０．１８０ｍｏｌ）、
ジエチルオキシラート（５４．５７ｍｌ、０．４１ｍｏ
ｌ）、無水ＥｔＯＨ（４５ｍｌ）、およびジエチルエー
テル（４５ｍｌ）の混合物をこのナトリウムエトキシド
溶液に２５分間かけて加えた。得られた濃い栗色の反応
混合物を次に２．５時間還流し次いで室温に冷却した。
反応混合物をおよそ６００ｍｌの１Ｎ ＨＣｌに注ぎ、
次いでＥｔ2Ｏで数回抽出した。エーテルを抽出物から
除き、得られたゴム状物をＥｔＯＨ１３５ｍｌに溶解し
た。次いでこの溶液に濃ＨＣｌ２．２５ｍｌを加え、こ
の後４５分間還流した。反応物を室温に冷却し、ＥｔＯ
Ｈを減圧で除去すると茶色の固体が残った。この固体を
ＥｔＯＡｃに溶解し、Ｈ2Ｏで１回、飽和ＮａＨＣＯ3で
２回、Ｈ2Ｏで１回洗浄し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥し
た。濾過および溶媒の除去により茶色の固体８７ｇを
得、これをＥｔＯＡｃ／石油エーテルから再結晶した。
再結晶により黄褐色固体のクロモン２４．０７ｇ（４８
％）が得られた。
【０２２３】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．２７（４０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ８．８０（ｓ（ｂｒ），
１）、７．９８（ｄ，１，Ｊ＝８．７８Ｈｚ）、７．１
３（ｄ，１，Ｊ＝８．７８Ｈｚ）、７．１３（ｓ，
１）、４．４７（ｑ，２，Ｊ＝７．１１Ｈｚ）、２．９
６（ｔ，２，Ｊ＝７．２５Ｈｚ）、１．７３（ｍ，
２）、１．４６（ｔ，３，Ｊ＝７．１６Ｈｚ）、１．０
２（ｔ，３，Ｊ＝７．１１Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ８．８０（ｓ（ｂｒ），
１）、７．９８（ｄ，１，Ｊ＝８．７８Ｈｚ）、７．１
３（ｄ，１，Ｊ＝８．７８Ｈｚ）、７．１３（ｓ，
１）、４．４７（ｑ，２，Ｊ＝７．１１Ｈｚ）、２．９
６（ｔ，２，Ｊ＝７．２５Ｈｚ）、１．７３（ｍ，
２）、１．４６（ｔ，３，Ｊ＝７．１６Ｈｚ）、１．０
２（ｔ，３，Ｊ＝７．１１Ｈｚ）。
【０２２４】Ｇ．エチル ３，４−ジヒドロ−８−プロ
ピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラート
の製造。 パー瓶中でクロモン（１２．０７ｇ、０．０４４ｍｏ
ｌ）を酢酸２１０ｍｌに溶解した。この溶液に１０％Ｐ
ｄ／Ｃ（７．２ｇ）触媒を加え、瓶を５２ｐｓｉの気体
Ｈ2で加圧した。反応物を２３時間攪拌した。半融ガラ
ス漏斗中のセライト層を介する濾過によって触媒を除去
した。触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。濾液から溶媒を除
き、得られた油状物をトルエンと共沸させて１２ｇの茶
色の油状物を得た。この物質を、シリカゲルカートリッ
ジを備え、５％ないし４０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンの勾
配で２５０ｍｌ／分の流速で５０分間溶出し、５００ｍ
ｌの画分を集めるウォーターズ・プレプ５００ＨＰＬＣ
で精製した。精製されたクロマンが桃色の油状物（１０
ｇ、８６％）として得られた。
ピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラート
の製造。 パー瓶中でクロモン（１２．０７ｇ、０．０４４ｍｏ
ｌ）を酢酸２１０ｍｌに溶解した。この溶液に１０％Ｐ
ｄ／Ｃ（７．２ｇ）触媒を加え、瓶を５２ｐｓｉの気体
Ｈ2で加圧した。反応物を２３時間攪拌した。半融ガラ
ス漏斗中のセライト層を介する濾過によって触媒を除去
した。触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。濾液から溶媒を除
き、得られた油状物をトルエンと共沸させて１２ｇの茶
色の油状物を得た。この物質を、シリカゲルカートリッ
ジを備え、５％ないし４０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンの勾
配で２５０ｍｌ／分の流速で５０分間溶出し、５００ｍ
ｌの画分を集めるウォーターズ・プレプ５００ＨＰＬＣ
で精製した。精製されたクロマンが桃色の油状物（１０
ｇ、８６％）として得られた。
【０２２５】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．５０（４０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７３（ｄ，１，Ｊ＝８．
２０Ｈｚ）、６．３７（ｄ，１，Ｊ＝８．２０Ｈｚ）、
４．７８（ｓ（ｂｒ），１）、４．７５（ｍ，１）、
４．２５（ｍ，２）、２．６８（ｍ，４）、２．１６
（ｍ，２）、１．６０（ｍ，２）、１．２９（ｔ，３，
Ｊ＝７．０７Ｈｚ）、０．９９（ｔ，３，Ｊ＝７．３４
Ｈｚ）。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．７３（ｄ，１，Ｊ＝８．
２０Ｈｚ）、６．３７（ｄ，１，Ｊ＝８．２０Ｈｚ）、
４．７８（ｓ（ｂｒ），１）、４．７５（ｍ，１）、
４．２５（ｍ，２）、２．６８（ｍ，４）、２．１６
（ｍ，２）、１．６０（ｍ，２）、１．２９（ｔ，３，
Ｊ＝７．０７Ｈｚ）、０．９９（ｔ，３，Ｊ＝７．３４
Ｈｚ）。
【０２２６】Ｈ．エチル ［３−［（１−ベンジルオキ
シ−４−エチル−２−エトキシ−５−イル）オキシ］プ
ロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−
１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 アセトン（８．０ｍｌ）中の１−ベンジルオキシ−３−
［３−クロロプロポキシ］−４−エチル−６−エトキシ
ベンゼン（１．０ｇ、２．８７ｍｍｏｌ）の溶液に、
アルゴン雰囲気下でＮａＩ（４．３１ｇ、２８．７ｍｍ
ｏｌ）を加えた。反応混合物を８時間還流し、次いで室
温に冷却した。アセトンを減圧で反応混合物から除去
し、残留物をジエチルエーテルに溶解し、水洗した。エ
ーテル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥し、濾過した。溶媒を
除去すると１．０９ｇのヨウ化物が黄色油状物として得
られ、これは−４℃に放置すると固化した。
シ−４−エチル−２−エトキシ−５−イル）オキシ］プ
ロポキシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−
１−ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 アセトン（８．０ｍｌ）中の１−ベンジルオキシ−３−
［３−クロロプロポキシ］−４−エチル−６−エトキシ
ベンゼン（１．０ｇ、２．８７ｍｍｏｌ）の溶液に、
アルゴン雰囲気下でＮａＩ（４．３１ｇ、２８．７ｍｍ
ｏｌ）を加えた。反応混合物を８時間還流し、次いで室
温に冷却した。アセトンを減圧で反応混合物から除去
し、残留物をジエチルエーテルに溶解し、水洗した。エ
ーテル抽出物をＭｇＳＯ4で乾燥し、濾過した。溶媒を
除去すると１．０９ｇのヨウ化物が黄色油状物として得
られ、これは−４℃に放置すると固化した。
【０２２７】アルゴン雰囲気下、室温で、乾燥ＤＭＦ
４．０ｍｌ中のエチル ３，４−ジヒドロ−８−プロピ
ル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラート
（０．５４５ｇ、２．０６ｍｍｏｌ）およびＫ2ＣＯ
3（０．８５４ｇ、６．１８ｍｍｏｌ）の混合物を、上
で製造されたヨウ化物のＤＭＦ溶液４．０ｍｌで処理し
た。
４．０ｍｌ中のエチル ３，４−ジヒドロ−８−プロピ
ル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキシラート
（０．５４５ｇ、２．０６ｍｍｏｌ）およびＫ2ＣＯ
3（０．８５４ｇ、６．１８ｍｍｏｌ）の混合物を、上
で製造されたヨウ化物のＤＭＦ溶液４．０ｍｌで処理し
た。
【０２２８】室温で４２時間攪拌した後、水で反応を停
止させ、次いで酢酸エチルで数回抽出した。酢酸エチル
抽出物を水洗し次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過およ
び溶媒の除去により黄色油状物１．３０ｇを得た。この
油状物を２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出するシリカ
ゲル上のフラッシュクロマトグラフィーによって精製し
た。所望の連結した生成物（０．９３２ｇ）が黄色油状
物として７９％の収率で得られた。
止させ、次いで酢酸エチルで数回抽出した。酢酸エチル
抽出物を水洗し次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過およ
び溶媒の除去により黄色油状物１．３０ｇを得た。この
油状物を２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出するシリカ
ゲル上のフラッシュクロマトグラフィーによって精製し
た。所望の連結した生成物（０．９３２ｇ）が黄色油状
物として７９％の収率で得られた。
【０２２９】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４８（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４３（ｍ，５）、６．８
５（ｄ，１，Ｊ＝８．３７Ｈｚ）、６．８２（ｓ，
１）、６．６０（ｓ，１）、６．５０（ｄ，１，Ｊ＝
８．３７Ｈｚ）、５．１３（ｓ，２）、４．７８（ｍ，
１）、４．２６（ｍ，２）、４．１３（ｍ，６）、２．
６７（ｍ，６）、２．２４（ｍ，４）、１．６２（ｍ，
２）、１．４６（ｔ，３，Ｊ＝７．００Ｈｚ）、１．３
２（ｔ，３，Ｊ＝７．０９Ｈｚ）、１．２１（ｔ，３，
Ｊ＝７．４７Ｈｚ）、０．９８（ｔ，３，Ｊ＝７．３４
Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２７、３０１０、２９６６、２
９３０、２８６７、１７５０、１６１１、１５０７、１
４６９ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４８６（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ35Ｈ44Ｏ7として） 理論値 Ｃ、７２．８９；Ｈ、７．６９ 実測値 Ｃ、７２．８５；Ｈ、７．４０。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ７．４３（ｍ，５）、６．８
５（ｄ，１，Ｊ＝８．３７Ｈｚ）、６．８２（ｓ，
１）、６．６０（ｓ，１）、６．５０（ｄ，１，Ｊ＝
８．３７Ｈｚ）、５．１３（ｓ，２）、４．７８（ｍ，
１）、４．２６（ｍ，２）、４．１３（ｍ，６）、２．
６７（ｍ，６）、２．２４（ｍ，４）、１．６２（ｍ，
２）、１．４６（ｔ，３，Ｊ＝７．００Ｈｚ）、１．３
２（ｔ，３，Ｊ＝７．０９Ｈｚ）、１．２１（ｔ，３，
Ｊ＝７．４７Ｈｚ）、０．９８（ｔ，３，Ｊ＝７．３４
Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３０２７、３０１０、２９６６、２
９３０、２８６７、１７５０、１６１１、１５０７、１
４６９ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＡＢ）ｍ／ｅ４８６（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ35Ｈ44Ｏ7として） 理論値 Ｃ、７２．８９；Ｈ、７．６９ 実測値 Ｃ、７２．８５；Ｈ、７．４０。
【０２３０】Ｉ．エチル ［３−［（６−エチル−４−
エトキシ−３−ヒドロキシ−１−イル）オキシ］プロポ
キシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−
ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを使用
し酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュク
ロマトグラフィーにより精製した。
エトキシ−３−ヒドロキシ−１−イル）オキシ］プロポ
キシ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−
ベンゾピラン−２−カルボキシラートの製造。 酢酸エチルまたはメタノール（０．１４Ｍ溶液）中のベ
ンジルエーテルの溶液に、１０％Ｐｄ／Ｃ（１５％ｗ／
ｗ）を加えた。気体水素をこの溶液に１５分間通気し
た。次いで反応物を室温で水素雰囲気下に攪拌した。出
発物質が消費された後、反応混合物中にアルゴンを１５
分間通気した。反応混合物を半融ガラス漏斗中のセライ
ト層を介して濾過し、触媒をＥｔＯＡｃで洗浄した。得
られた粗生成物を、固体支持体としてシリカゲルを使用
し酢酸エチル／ヘキサン混合物で溶出するフラッシュク
ロマトグラフィーにより精製した。
【０２３１】エチル ［３−［（６−エチル−４−エト
キシ−３−ヒドロキシ−１−イル）オキシ］プロポキ
シ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−ベ
ンゾピラン−２−カルボキシラートが、エチル ［３−
［（１−ベンジルオキシ−４−エチル−２−エトキシ−
５−イル）オキシ］プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−
８−プロピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキ
シラートから、白色固体として８７％の収率で製造され
た。
キシ−３−ヒドロキシ−１−イル）オキシ］プロポキ
シ］−３，４−ジヒドロ−８−プロピル−２Ｈ−１−ベ
ンゾピラン−２−カルボキシラートが、エチル ［３−
［（１−ベンジルオキシ−４−エチル−２−エトキシ−
５−イル）オキシ］プロポキシ］−３，４−ジヒドロ−
８−プロピル−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボキ
シラートから、白色固体として８７％の収率で製造され
た。
【０２３２】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．３２（３０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．８５（ｄ，１，Ｊ＝８．
３７Ｈｚ）、６．７４（ｓ，１）、６．６２（ｓ，
１）、６．５２（ｄ，１，Ｊ＝８．３７Ｈｚ）、４．７
９（ｍ，１）、４．１９（ｍ，８）、２．６８（ｍ，
８）、２．２６（ｍ，４）、１．６２（ｍ，２）、１．
４５（ｔ，３，Ｊ＝６．９６Ｈｚ）、１．３３（ｔ，
３，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）、１．２１（ｔ，３，Ｊ＝７．
５４Ｈｚ）、１．００（ｔ，３，Ｊ＝７．３３Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４０、３０２６、２９６５、２
９３４、２８７３、１７５０、１６１１、１５０９、１
４９２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４８６（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ28Ｈ38ＮＯ7として） 理論値 Ｃ、６９．１１；Ｈ、７．８７ 実測値 Ｃ、６９．００；Ｈ、８．００。
ｃ／ヘキサン）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．８５（ｄ，１，Ｊ＝８．
３７Ｈｚ）、６．７４（ｓ，１）、６．６２（ｓ，
１）、６．５２（ｄ，１，Ｊ＝８．３７Ｈｚ）、４．７
９（ｍ，１）、４．１９（ｍ，８）、２．６８（ｍ，
８）、２．２６（ｍ，４）、１．６２（ｍ，２）、１．
４５（ｔ，３，Ｊ＝６．９６Ｈｚ）、１．３３（ｔ，
３，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）、１．２１（ｔ，３，Ｊ＝７．
５４Ｈｚ）、１．００（ｔ，３，Ｊ＝７．３３Ｈｚ）。 ＩＲ（ＣＨＣｌ3）３５４０、３０２６、２９６５、２
９３４、２８７３、１７５０、１６１１、１５０９、１
４９２ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４８６（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ28Ｈ38ＮＯ7として） 理論値 Ｃ、６９．１１；Ｈ、７．８７ 実測値 Ｃ、６９．００；Ｈ、８．００。
【０２３３】Ｊ．３，４−ジヒドロ−８−プロピル−７
−［３−（２−エチル−５−ヒドロキシ−４−エトキシ
−フェノキシ）プロポキシ］−２Ｈ−１−ベンゾピラン
−２−カルボン酸の製造。 エチルエステルを室温下にジオキサン（０．１４Ｍ溶
液）中で攪拌した。この溶液を３．０当量のＮａＯＨ
（２Ｎ水溶液）で処理した。反応物を室温で２．５時間
攪拌し、次いでジオキサンを減圧で除いた。得られた残
留物を水に溶解し、５Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に酸性化した
（白色沈澱が生成する）。水性混合物を酢酸エチルで数
回抽出し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶
媒の除去により粗生成物を得た。
−［３−（２−エチル−５−ヒドロキシ−４−エトキシ
−フェノキシ）プロポキシ］−２Ｈ−１−ベンゾピラン
−２−カルボン酸の製造。 エチルエステルを室温下にジオキサン（０．１４Ｍ溶
液）中で攪拌した。この溶液を３．０当量のＮａＯＨ
（２Ｎ水溶液）で処理した。反応物を室温で２．５時間
攪拌し、次いでジオキサンを減圧で除いた。得られた残
留物を水に溶解し、５Ｎ ＨＣｌでｐＨ１に酸性化した
（白色沈澱が生成する）。水性混合物を酢酸エチルで数
回抽出し、次いでＭｇＳＯ4で乾燥した。濾過および溶
媒の除去により粗生成物を得た。
【０２３４】３，４−ジヒドロ−８−プロピル−７−
［３−（２−エチル−５−ヒドロキシ−４−エトキシ−
フェノキシ）プロポキシ］−２Ｈ−１−ベンゾピラン−
２−カルボン酸をＥｔＯＡｃ／ヘキサンから再結晶する
ことにより精製した。所望の酸が白色結晶（０．４３６
ｇ、７１％）として得られた。
［３−（２−エチル−５−ヒドロキシ−４−エトキシ−
フェノキシ）プロポキシ］−２Ｈ−１−ベンゾピラン−
２−カルボン酸をＥｔＯＡｃ／ヘキサンから再結晶する
ことにより精製した。所望の酸が白色結晶（０．４３６
ｇ、７１％）として得られた。
【０２３５】ＴＬＣ Ｒｆ＝０．４９（６．５／３．４
／０．１のＥｔＯＡｃ／ヘキサン／ＡｃＯＨ）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．８４（ｄ，１，Ｊ＝８．
４４Ｈｚ）、６．６９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，
１）、６．５０（ｄ，１，Ｊ＝８．４４Ｈｚ）、５．６
５（ｓ（ｂｒ），１）、４．７７（ｄｄ，１，Ｊ＝７．
６２、３．７２Ｈｚ）、４．１０（ｍ，６）、２．７７
（ｍ，２）、２．６２（ｍ，４）、２．２２（ｍ，
４）、１．５４（ｍ，２）、１．４２（ｔ，３，Ｊ＝
６．９８Ｈｚ）、１．１６（ｔ，３，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、０．９４（ｔ，３，Ｊ＝７．３０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３２１５（ｂｒ）、２９５６、２９３
０、２８７０、１７０６、１６１３、１５８９、１５１
６ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４５８（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ26Ｈ34Ｏ7として） 理論値 Ｃ、６８．１０；Ｈ、７．４７ 実測値 Ｃ、６８．１３；Ｈ、７．５６。
／０．１のＥｔＯＡｃ／ヘキサン／ＡｃＯＨ）。1 ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ６．８４（ｄ，１，Ｊ＝８．
４４Ｈｚ）、６．６９（ｓ，１）、６．５６（ｓ，
１）、６．５０（ｄ，１，Ｊ＝８．４４Ｈｚ）、５．６
５（ｓ（ｂｒ），１）、４．７７（ｄｄ，１，Ｊ＝７．
６２、３．７２Ｈｚ）、４．１０（ｍ，６）、２．７７
（ｍ，２）、２．６２（ｍ，４）、２．２２（ｍ，
４）、１．５４（ｍ，２）、１．４２（ｔ，３，Ｊ＝
６．９８Ｈｚ）、１．１６（ｔ，３，Ｊ＝７．４８Ｈ
ｚ）、０．９４（ｔ，３，Ｊ＝７．３０Ｈｚ）。 ＩＲ（ＫＢｒ）３２１５（ｂｒ）、２９５６、２９３
０、２８７０、１７０６、１６１３、１５８９、１５１
６ｃｍ-1。 マススペクトル（ＦＤ）ｍ／ｅ４５８（Ｍ+）。 元素分析（Ｃ26Ｈ34Ｏ7として） 理論値 Ｃ、６８．１０；Ｈ、７．４７ 実測値 Ｃ、６８．１３；Ｈ、７．５６。
【０２３６】式Ｉの化合物は、ロイコトリエンＢ4の過
剰放出を特徴とする、臨床状態を包含する任意の状態の
処置に有用でなければならない。これらの状態は、喘息
のような即時型過敏反応を包含する。ロイコトリエンＢ
4の「過剰放出」という語は、ロイコトリエンの量に関
連した特定の状態を引き起こすに充分なロイコトリエン
の量を意味する。過剰であると考えられるロイコトリエ
ンの量は、特定の状態を惹起するのに要するロイコトリ
エンの量、および関係する哺乳動物の種を包含する様々
な因子に依存するであろう。当業者には理解できるであ
ろうが、ロイコトリエンの過剰放出を特徴とする状態と
なっているまたは該状態になり易い哺乳動物の、式Ｉの
化合物による処置の成功は、その状態の症状の退縮また
は防止によって測定されるであろう。
剰放出を特徴とする、臨床状態を包含する任意の状態の
処置に有用でなければならない。これらの状態は、喘息
のような即時型過敏反応を包含する。ロイコトリエンＢ
4の「過剰放出」という語は、ロイコトリエンの量に関
連した特定の状態を引き起こすに充分なロイコトリエン
の量を意味する。過剰であると考えられるロイコトリエ
ンの量は、特定の状態を惹起するのに要するロイコトリ
エンの量、および関係する哺乳動物の種を包含する様々
な因子に依存するであろう。当業者には理解できるであ
ろうが、ロイコトリエンの過剰放出を特徴とする状態と
なっているまたは該状態になり易い哺乳動物の、式Ｉの
化合物による処置の成功は、その状態の症状の退縮また
は防止によって測定されるであろう。
【０２３７】 ヒト好中球に対する[3Ｈ]−ＬＴＢ4の結合の阻害 ヒト好中球に対する[3Ｈ]−ＬＴＢ4の結合を阻害する本
発明化合物の有効性を、Ｄ．Ｗ．ゴールドマン、および
Ｅ．Ｊ．ゲッツェル：スペシフィック・バインディング
・オブ・リューコトリエン・Ｂ4・トゥー・レセプター
ズ・オン・ヒューマン・ポリモルヌクレアー・リューコ
サイツ、ジャーナル・オブ・イミュノロジー（Ｊ．Ｉｍ
ｍｕｎｏｌ．）１２９巻１６００−１６０４頁（１９８
２）により開発された放射性リガンド結合検定の適応を
用いることにより測定した。ヘパリン処理した静脈血を
正常な人間のポランティアから採取し、フィコール−ハ
イパーク遠心、デキストラン７０沈降および低張性溶解
の標準技術によって好中球を単離した。細胞調製物は≧
９０％が好中球であり、≧９０％が生存していた。シラ
ン処理した１２ｘ７５ｍｍのガラス管に以下の順序で加
えることにより、結合検定を実施した：相異なる量の被
験化合物を含有するＤＭＳＯ１０μｌ、２．６５ｎＭ[3
Ｈ]−ＬＴＢ4２０μｌ、および０．１％卵アルブミンを
含有するハンクス均衡塩類溶液中に懸濁させた細胞５０
０μｌ（２ｘ１０7細胞／ｍｌ）。管を４℃で１０分間
インキュベートし、ブランデルＭＢ−４８Ｒ収穫器で細
胞を分離することにより反応を停止させた。細胞に結合
した放射活性をシンチレーション分光法によって測定し
た。２０００倍過剰より多くの非放射性リガンドを添加
した時の結合した標識の量を測定することにより、非特
異結合を決定した。データを解析する際には、非特異結
合についての適当な補正を行なった。インキュベーショ
ン混合物中のＤＭＳＯの濃度（１．９％）は、放射性リ
ガンドの結合に影響しなかった。１０％および９０％の
間の対照の結合の値のｌｏｇ−ｌｏｇｉｔプロットの直
線回帰分析を用いてデータを分析し、ＩＣ50を算出し
た。
発明化合物の有効性を、Ｄ．Ｗ．ゴールドマン、および
Ｅ．Ｊ．ゲッツェル：スペシフィック・バインディング
・オブ・リューコトリエン・Ｂ4・トゥー・レセプター
ズ・オン・ヒューマン・ポリモルヌクレアー・リューコ
サイツ、ジャーナル・オブ・イミュノロジー（Ｊ．Ｉｍ
ｍｕｎｏｌ．）１２９巻１６００−１６０４頁（１９８
２）により開発された放射性リガンド結合検定の適応を
用いることにより測定した。ヘパリン処理した静脈血を
正常な人間のポランティアから採取し、フィコール−ハ
イパーク遠心、デキストラン７０沈降および低張性溶解
の標準技術によって好中球を単離した。細胞調製物は≧
９０％が好中球であり、≧９０％が生存していた。シラ
ン処理した１２ｘ７５ｍｍのガラス管に以下の順序で加
えることにより、結合検定を実施した：相異なる量の被
験化合物を含有するＤＭＳＯ１０μｌ、２．６５ｎＭ[3
Ｈ]−ＬＴＢ4２０μｌ、および０．１％卵アルブミンを
含有するハンクス均衡塩類溶液中に懸濁させた細胞５０
０μｌ（２ｘ１０7細胞／ｍｌ）。管を４℃で１０分間
インキュベートし、ブランデルＭＢ−４８Ｒ収穫器で細
胞を分離することにより反応を停止させた。細胞に結合
した放射活性をシンチレーション分光法によって測定し
た。２０００倍過剰より多くの非放射性リガンドを添加
した時の結合した標識の量を測定することにより、非特
異結合を決定した。データを解析する際には、非特異結
合についての適当な補正を行なった。インキュベーショ
ン混合物中のＤＭＳＯの濃度（１．９％）は、放射性リ
ガンドの結合に影響しなかった。１０％および９０％の
間の対照の結合の値のｌｏｇ−ｌｏｇｉｔプロットの直
線回帰分析を用いてデータを分析し、ＩＣ50を算出し
た。
【０２３８】モルモットの肺膜に対するトリチウム化Ｌ
ＴＢ4の結合を阻害する式Ｉの化合物の有効性を以下の
ように決定した。
ＴＢ4の結合を阻害する式Ｉの化合物の有効性を以下の
ように決定した。
【０２３９】モルモットの肺膜における[3Ｈ]−ＬＴＢ4
放射性リガンド結合検定。[3Ｈ]−ＬＴＢ4（１９６−２
００Ｃｉ／ｍｍｏｌ）はニュー・イングランド・ヌクレ
アー（ボストン、ＭＡ）から購入した。他の材料は全て
シグマ（セントルイス、ＭＯ）から購入した。ポリプロ
ピレンのミニ管中３０℃で４５分間のインキュベーショ
ン（５５５ｍｌ）を行なうが、この中には、２５ｍＭ
ＭＯＰＳ、１０ｍＭ ＭｇＣｌ2、１０ｍＭ ＣａＣ
ｌ2、ｐＨ６．５、およそ１４０ｐＭの[3Ｈ]−ＬＴＢ4
を含有しリガンドまたは媒質（１ｍＭ炭酸ナトリウム中
０．１％ＤＭＳＯ。最終濃度。）を適宜置換させた緩衝
液中に入れたモルモットの肺膜蛋白２５ｍｇ（ソーシー
等、モレキュラー・ファーマコロジー（Ｍｏｌ．Ｐｈａ
ｒｍａｃｏｌ．）３９巻７２頁（１９９１））を入れ
た。氷冷洗浄緩衝液（２５ｍＭトリス−ＨＣｌ、ｐＨ
７．５）１ｍｌを添加し直ちにブランデル（ガイサース
バーグ、ＭＤ）４８プレイス収穫器を用いてファットマ
ンＧＦ／Ｃグラスファイバーフィルターで減圧濾過する
ことにより、この結合反応を停止させた。フィルターを
洗浄緩衝液１ｍｌで３回洗浄した。計数効率５０％の液
体シンチレーション計数により、レディー・プロテイン
・プラス・カクテル（ベックマン、フラートン、ＣＡ）
を使用して、捕捉された放射活性を測定した。置換され
得なかった結合を１ｍＭ ＬＴＢ4の存在下で測定した
が、これは通常、総結合の１０％に満たなかった。対照
の結合の１０％および９０％の間の値のｌｏｇ−ｌｏｇ
ｉｔプロットの直線回帰分析を用いてデータを分析し、
ＩＣ50および勾配の計数（疑似−ヒル計数）を算出し
た。このようにして得られたＩＣ50値を放射性リガンド
の濃度について補正して（チェングおよびプルソフ、バ
イオケミカル・ファーマコロジー（Ｂｉｏｃｈｅｍ．Ｐ
ｈａｒｍａｃｏｌ．）２２巻３０９９頁（１９７３））
Ｋi値を算出した。下に報告するデータは、ｎ回の実験
についての、ｐＫｉとして知られる−ｌｏｇＫiの平均
値である。
放射性リガンド結合検定。[3Ｈ]−ＬＴＢ4（１９６−２
００Ｃｉ／ｍｍｏｌ）はニュー・イングランド・ヌクレ
アー（ボストン、ＭＡ）から購入した。他の材料は全て
シグマ（セントルイス、ＭＯ）から購入した。ポリプロ
ピレンのミニ管中３０℃で４５分間のインキュベーショ
ン（５５５ｍｌ）を行なうが、この中には、２５ｍＭ
ＭＯＰＳ、１０ｍＭ ＭｇＣｌ2、１０ｍＭ ＣａＣ
ｌ2、ｐＨ６．５、およそ１４０ｐＭの[3Ｈ]−ＬＴＢ4
を含有しリガンドまたは媒質（１ｍＭ炭酸ナトリウム中
０．１％ＤＭＳＯ。最終濃度。）を適宜置換させた緩衝
液中に入れたモルモットの肺膜蛋白２５ｍｇ（ソーシー
等、モレキュラー・ファーマコロジー（Ｍｏｌ．Ｐｈａ
ｒｍａｃｏｌ．）３９巻７２頁（１９９１））を入れ
た。氷冷洗浄緩衝液（２５ｍＭトリス−ＨＣｌ、ｐＨ
７．５）１ｍｌを添加し直ちにブランデル（ガイサース
バーグ、ＭＤ）４８プレイス収穫器を用いてファットマ
ンＧＦ／Ｃグラスファイバーフィルターで減圧濾過する
ことにより、この結合反応を停止させた。フィルターを
洗浄緩衝液１ｍｌで３回洗浄した。計数効率５０％の液
体シンチレーション計数により、レディー・プロテイン
・プラス・カクテル（ベックマン、フラートン、ＣＡ）
を使用して、捕捉された放射活性を測定した。置換され
得なかった結合を１ｍＭ ＬＴＢ4の存在下で測定した
が、これは通常、総結合の１０％に満たなかった。対照
の結合の１０％および９０％の間の値のｌｏｇ−ｌｏｇ
ｉｔプロットの直線回帰分析を用いてデータを分析し、
ＩＣ50および勾配の計数（疑似−ヒル計数）を算出し
た。このようにして得られたＩＣ50値を放射性リガンド
の濃度について補正して（チェングおよびプルソフ、バ
イオケミカル・ファーマコロジー（Ｂｉｏｃｈｅｍ．Ｐ
ｈａｒｍａｃｏｌ．）２２巻３０９９頁（１９７３））
Ｋi値を算出した。下に報告するデータは、ｎ回の実験
についての、ｐＫｉとして知られる−ｌｏｇＫiの平均
値である。
【０２４０】
【表１】 化合物 ヒト好中球との結合 モルモットの肺との結合（実施例Ｎｏ．） ＩＣ５０（ｎＭ） ｐＫｉ（ｎ） １ ６．０ ７．６４±０．１６ （４） ２ ４．８ ７．９１±０．１０ （７） ３ ６．６ ７．６７±０．１３ （３） ４ １２ ７．３９±０．１３ （７） ５ ３６ ７．１３±０．０９ （７） ６ ４２ ７．１１±０．１４ （４） ７ ８８５ ６．６６±０．１３ （４） ８ ３１ ６．９６±０．０２ （３） ９ ２．９ ８．８２±０．２５ （３） １０ ４．２ ８．８９±０．２０ （８）
【０２４１】上記のように、本発明化合物は選択的なロ
イコトリエンＢ4アンタゴニストとして有用である。よ
って、本発明のさらなる態様は、ロイコトリエンＢ4の
過剰放出を特徴とする状態にあるまたは該状態になり易
い哺乳動物を処置する方法であって、式Ｉに係る化合物
またはその薬学上許容し得る塩の有効量を投与すること
からなる方法である。
イコトリエンＢ4アンタゴニストとして有用である。よ
って、本発明のさらなる態様は、ロイコトリエンＢ4の
過剰放出を特徴とする状態にあるまたは該状態になり易
い哺乳動物を処置する方法であって、式Ｉに係る化合物
またはその薬学上許容し得る塩の有効量を投与すること
からなる方法である。
【０２４２】本明細書中使用される「有効量」という語
は、該状態の症候を退縮または防止することのできる本
発明化合物の量を意味する。本発明により意図されるロ
イコトリエン拮抗は、医学上の治療的および／または予
防的処置の両者を適宜包含する。本発明に従って投与さ
れる化合物の個々の用量は、無論、例えば投与される化
合物、投与経路、および処置される状態を含む、当該症
例を取り巻く個々の状況によって決定されるであろう。
典型的な日用量は、本発明に係る活性化合物約０．１ｍ
ｇ／ｋｇないし約３００ｍｇ／ｋｇを含むであろう。好
ましい日用量は一般に約０．５ないし約２０ｍｇ／ｋｇ
となろう。
は、該状態の症候を退縮または防止することのできる本
発明化合物の量を意味する。本発明により意図されるロ
イコトリエン拮抗は、医学上の治療的および／または予
防的処置の両者を適宜包含する。本発明に従って投与さ
れる化合物の個々の用量は、無論、例えば投与される化
合物、投与経路、および処置される状態を含む、当該症
例を取り巻く個々の状況によって決定されるであろう。
典型的な日用量は、本発明に係る活性化合物約０．１ｍ
ｇ／ｋｇないし約３００ｍｇ／ｋｇを含むであろう。好
ましい日用量は一般に約０．５ないし約２０ｍｇ／ｋｇ
となろう。
【０２４３】該化合物は、経口、直腸、経皮、皮下、静
脈内、筋肉内、そして経鼻を含む様々な経路によって投
与することができる。
脈内、筋肉内、そして経鼻を含む様々な経路によって投
与することができる。
【０２４４】様々な生理学的機能がロイコトリエンＢ4
に付随している。したがって本発明化合物は、喘息およ
びアレルギー疾患（アレルギー性鼻炎を含む）、炎症性
腸疾患、乾癬、虚血、ショック、成人呼吸窮迫症候群な
らびに関節炎といったような、ロイコトリエンＢ4に関
連する、哺乳動物における様々な異常を処置する能力を
有すると信じられる。故に、本発明はさらに、喘息、ア
レルギー疾患、炎症性腸疾患、乾癬、ショック、虚血、
成人呼吸窮迫症候群または関節炎を軽減する用量の本発
明化合物を投与することにより、ロイコトリエンＢ4に
拮抗するとして上に開示される程度に上記異常を処置す
る方法を提供する。
に付随している。したがって本発明化合物は、喘息およ
びアレルギー疾患（アレルギー性鼻炎を含む）、炎症性
腸疾患、乾癬、虚血、ショック、成人呼吸窮迫症候群な
らびに関節炎といったような、ロイコトリエンＢ4に関
連する、哺乳動物における様々な異常を処置する能力を
有すると信じられる。故に、本発明はさらに、喘息、ア
レルギー疾患、炎症性腸疾患、乾癬、ショック、虚血、
成人呼吸窮迫症候群または関節炎を軽減する用量の本発
明化合物を投与することにより、ロイコトリエンＢ4に
拮抗するとして上に開示される程度に上記異常を処置す
る方法を提供する。
【０２４５】本発明化合物は、好ましくは投与前に調合
される。故に、本発明のさらなる態様は、式Ｉの化合物
またはその薬学上許容し得る塩の有効量およびそのため
の薬学上許容し得る担体、希釈剤または賦形剤からなる
薬用製剤である。
される。故に、本発明のさらなる態様は、式Ｉの化合物
またはその薬学上許容し得る塩の有効量およびそのため
の薬学上許容し得る担体、希釈剤または賦形剤からなる
薬用製剤である。
【０２４６】係る製剤中の活性成分は、該製剤の０．１
％ないし９９．９％（重量）からなる。薬学上許容し得
るという語は、担体、希釈剤または賦形剤が製剤の他の
成分と共存することができ、その被投与者にとって有害
でないものでなければならないことを意味する。
％ないし９９．９％（重量）からなる。薬学上許容し得
るという語は、担体、希釈剤または賦形剤が製剤の他の
成分と共存することができ、その被投与者にとって有害
でないものでなければならないことを意味する。
【０２４７】本薬用製剤は、既知の且つ容易に入手し得
る成分を用いて既知の方法により製造される。本発明に
係る組成物の製造において、活性成分は通常、担体と混
合し、または担体によって希釈し、またはカプセル、サ
シェー、紙もしくは他の容器の形であってよい担体内に
入れる。担体が希釈剤としての役割を持つとき、これは
固体、半固体または液体物質であってよく、該活性成分
のための媒質、賦形剤または基質として働く。したがっ
て該組成物は、錠剤、丸剤、散剤、トローチ剤、サシェ
ー、カシェー剤、エリキシル剤、懸濁剤、乳剤、溶液、
シロップ剤、エアロゾル剤（固体としてまたは液体基質
中の）、例えば１０重量％までの活性化合物を含有する
軟膏、軟および硬ゼラチンカプセル剤、座剤、無菌注射
溶液、無菌の包装された散剤などの剤型とすることがで
きる。
る成分を用いて既知の方法により製造される。本発明に
係る組成物の製造において、活性成分は通常、担体と混
合し、または担体によって希釈し、またはカプセル、サ
シェー、紙もしくは他の容器の形であってよい担体内に
入れる。担体が希釈剤としての役割を持つとき、これは
固体、半固体または液体物質であってよく、該活性成分
のための媒質、賦形剤または基質として働く。したがっ
て該組成物は、錠剤、丸剤、散剤、トローチ剤、サシェ
ー、カシェー剤、エリキシル剤、懸濁剤、乳剤、溶液、
シロップ剤、エアロゾル剤（固体としてまたは液体基質
中の）、例えば１０重量％までの活性化合物を含有する
軟膏、軟および硬ゼラチンカプセル剤、座剤、無菌注射
溶液、無菌の包装された散剤などの剤型とすることがで
きる。
【０２４８】好適な担体、賦形剤、および希釈剤の例
は、乳糖、デキストロース、シュクロース、ソルビトー
ル、マンニトール、澱粉、アラビアゴム、燐酸カルシウ
ム、アルギン酸塩、トラガカント、ゼラチン、ケイ酸カ
ルシウム、微結晶セルロース、ポリビニルピロリドン、
セルロース、ウォーターシロップ、メチルセルロース、
メチルヒドロキシベンゾアート、プロピルヒドロキシベ
ンゾアート、タルク、ステアリン酸マグネシウムおよび
鉱油である。さらに該製剤は、潤滑剤、湿潤剤、甘味
料、香料などを含有させることができる。本発明に係る
組成物は、当分野で良く知られる方法を用いることによ
り、患者への投与後に活性成分の迅速な、持続的な、ま
たは遅延させた放出を提供するように製剤化することが
できる。
は、乳糖、デキストロース、シュクロース、ソルビトー
ル、マンニトール、澱粉、アラビアゴム、燐酸カルシウ
ム、アルギン酸塩、トラガカント、ゼラチン、ケイ酸カ
ルシウム、微結晶セルロース、ポリビニルピロリドン、
セルロース、ウォーターシロップ、メチルセルロース、
メチルヒドロキシベンゾアート、プロピルヒドロキシベ
ンゾアート、タルク、ステアリン酸マグネシウムおよび
鉱油である。さらに該製剤は、潤滑剤、湿潤剤、甘味
料、香料などを含有させることができる。本発明に係る
組成物は、当分野で良く知られる方法を用いることによ
り、患者への投与後に活性成分の迅速な、持続的な、ま
たは遅延させた放出を提供するように製剤化することが
できる。
【０２４９】該組成物は好ましくは単位投薬型に製剤化
し、各用量は一般に約０．１ないし約３００ｍｇ、好ま
しくは約１ないし約２５０ｍｇの活性成分を含有する。
「単位投薬型」という語は、人間である対象または他の
哺乳動物に対する一回の用量として好適な物理的に別個
の単位を意味し、各々の単位は、所望の治療効果を産む
よう計算された前もって定められた量の活性物質を適当
な薬学的担体と共に含有する。
し、各用量は一般に約０．１ないし約３００ｍｇ、好ま
しくは約１ないし約２５０ｍｇの活性成分を含有する。
「単位投薬型」という語は、人間である対象または他の
哺乳動物に対する一回の用量として好適な物理的に別個
の単位を意味し、各々の単位は、所望の治療効果を産む
よう計算された前もって定められた量の活性物質を適当
な薬学的担体と共に含有する。
【０２５０】以下の製剤例は単なる例示であって、いか
なる方法によっても本発明の範囲を限定するものと解し
てはならない。「活性成分」とは、無論、式Ｉに係る化
合物またはその薬学上許容し得る塩を意味する。
なる方法によっても本発明の範囲を限定するものと解し
てはならない。「活性成分」とは、無論、式Ｉに係る化
合物またはその薬学上許容し得る塩を意味する。
【０２５１】製剤１ 以下の成分を用いて硬ゼラチンカプセル剤を製造する： 量（ｍｇ／カプセル） 活性成分 ２５０ 乾燥澱粉 ２００ ステアリン酸マグネシウム １０ 計 ４６０ｍｇ
【０２５２】上の成分を混合し、４６０ｍｇの量を硬ゼ
ラチンカプセルに充填する。
ラチンカプセルに充填する。
【０２５３】製剤２ 下の成分を用いて錠剤を製造する： 量（ｍｇ／カプセル） 活性成分 ２５０ 微結晶セルロース ４００ 二酸化ケイ素、（fumed） １０ ステアラート酸 ５ 計 ６６５ｍｇ
【０２５４】成分を混和し圧縮して各々６６５ｍｇの重
量の錠剤を形成させる。
量の錠剤を形成させる。
【０２５５】製剤３ 以下の成分を含有するエアロゾル溶液を製造する： 量（ｍｇ／カプセル） 活性成分 ２５０ 微結晶セルロース ４００ 二酸化ケイ素、（fumed） １０ ステアラート酸 ５ 計 ６６５ｍｇ
【０２５６】活性化合物をエタノールと混合し、この混
合物をプロペラント２２の一部に加え、−３０℃に集
め、充填装置に移す。次いで、必要な量をステンレスス
チール容器に供給し、プロペラントの残量で希釈する。
次いでバルブユニットをこの容器に装着する。
合物をプロペラント２２の一部に加え、−３０℃に集
め、充填装置に移す。次いで、必要な量をステンレスス
チール容器に供給し、プロペラントの残量で希釈する。
次いでバルブユニットをこの容器に装着する。
【０２５７】製剤４ 活性成分６０ｍｇを各々含有する錠剤を以下のように製
造する： 活性成分 ６０ｍｇ 澱粉 ４５ｍｇ 微結晶セルロース ３５ｍｇ ポリビニルピロリドン（水中１０％溶液として） ４ｍｇ カルボキシメチル澱粉ナトリウム ４．５ｍｇ ステアリン酸澱粉マグネシウム ０．５ｍｇ タルク １ｍｇ 計 １５０ｍｇ
造する： 活性成分 ６０ｍｇ 澱粉 ４５ｍｇ 微結晶セルロース ３５ｍｇ ポリビニルピロリドン（水中１０％溶液として） ４ｍｇ カルボキシメチル澱粉ナトリウム ４．５ｍｇ ステアリン酸澱粉マグネシウム ０．５ｍｇ タルク １ｍｇ 計 １５０ｍｇ
【０２５８】活性成分、澱粉およびセルロースを米国Ｎ
ｏ．４５メッシュの篩で篩過し、完全に混合する。ポリ
ビニルピロリドンを含有する水溶液を、得られた粉末と
混合し、この混合物を米国Ｎｏ．１４メッシュの篩で篩
過する。こうして製造された顆粒を５０℃で乾燥し、米
国Ｎｏ．１８メッシュの篩で篩過する。次いでこの顆粒
に、予め米国Ｎｏ．６０メッシュの篩で篩過しておいた
カルボキシメチル澱粉ナトリウム、ステアリン酸マグネ
シウムおよびタルクを添加し、混合した後打錠機で圧縮
して各々１５０ｍｇの重量の錠剤を得た。
ｏ．４５メッシュの篩で篩過し、完全に混合する。ポリ
ビニルピロリドンを含有する水溶液を、得られた粉末と
混合し、この混合物を米国Ｎｏ．１４メッシュの篩で篩
過する。こうして製造された顆粒を５０℃で乾燥し、米
国Ｎｏ．１８メッシュの篩で篩過する。次いでこの顆粒
に、予め米国Ｎｏ．６０メッシュの篩で篩過しておいた
カルボキシメチル澱粉ナトリウム、ステアリン酸マグネ
シウムおよびタルクを添加し、混合した後打錠機で圧縮
して各々１５０ｍｇの重量の錠剤を得た。
【０２５９】製剤５ 各々８０ｍｇの活性成分を含有するカプセル剤を以下の
ように製造する： 活性成分 ８０ｍｇ 澱粉 ５９ｍｇ 微結晶セルロース ５９ｍｇ ステアリン酸マグネシウム ２ｍｇ 計 ２００ｍｇ
ように製造する： 活性成分 ８０ｍｇ 澱粉 ５９ｍｇ 微結晶セルロース ５９ｍｇ ステアリン酸マグネシウム ２ｍｇ 計 ２００ｍｇ
【０２６０】活性成分、セルロース、澱粉、およびステ
アリン酸マグネシウムを混和し、米国Ｎｏ．４５メッシ
ュの篩で篩過し、２００ｍｇの量を硬ゼラチンカプセル
に充填する。
アリン酸マグネシウムを混和し、米国Ｎｏ．４５メッシ
ュの篩で篩過し、２００ｍｇの量を硬ゼラチンカプセル
に充填する。
【０２６１】製剤６ 活性成分２２５ｍｇを各々含有する座剤を以下のように
製造する： 活性成分 ２２５ｍｇ 飽和脂肪酸グリセリド ２０００ｍｇ 計 ２２２５ｍｇ 活性成分を米国Ｎｏ．６０メッシュの篩で篩過し、前も
って必要最小限の熱を用いて融解してある飽和脂肪酸グ
リセリドに懸濁する。次いでこの混合物を公称２ｇ容量
の座剤用鋳型に注ぎ、放冷する。
製造する： 活性成分 ２２５ｍｇ 飽和脂肪酸グリセリド ２０００ｍｇ 計 ２２２５ｍｇ 活性成分を米国Ｎｏ．６０メッシュの篩で篩過し、前も
って必要最小限の熱を用いて融解してある飽和脂肪酸グ
リセリドに懸濁する。次いでこの混合物を公称２ｇ容量
の座剤用鋳型に注ぎ、放冷する。
【０２６２】製剤７ ５ｍｌ用量につき活性成分５０ｍｇを含有する懸濁液を
以下のように製造する： 活性成分 カルボキシメチルセルロースナトリウム ５０ｍｇ シロップ １．２５ｍｌ 安息香酸溶液 ０．１０ｍｌ 香料 適量 着色料 適量 精製水で計５ｍｌとする
以下のように製造する： 活性成分 カルボキシメチルセルロースナトリウム ５０ｍｇ シロップ １．２５ｍｌ 安息香酸溶液 ０．１０ｍｌ 香料 適量 着色料 適量 精製水で計５ｍｌとする
【０２６３】活性成分を米国Ｎｏ．４５メッシュの篩で
篩過し、カルボキシメチルセルロースナトリウムおよび
シロップと混合して滑らかなペーストを生成させる。安
息香酸溶液、香料および着色料を少量の水で希釈し、攪
拌しながら添加する。次いで必要な容量とするに充分な
水を加える。
篩過し、カルボキシメチルセルロースナトリウムおよび
シロップと混合して滑らかなペーストを生成させる。安
息香酸溶液、香料および着色料を少量の水で希釈し、攪
拌しながら添加する。次いで必要な容量とするに充分な
水を加える。
【０２６４】製剤８ 静脈用製剤を以下のように製造する： 活性成分 １００ｍｇ 等張食塩水 １０００ｍｌ
【０２６５】上の成分を有する溶液は一般に１ｍｌ／分
の速度で対象に静脈内投与される。
の速度で対象に静脈内投与される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/165 9283−4Ｃ 31/185 9283−4Ｃ 31/19 9283−4Ｃ 31/35 9360−4Ｃ 31/365 ＡＢＦ 9360−4Ｃ 31/41 ＡＥＤ 9360−4Ｃ 31/445 9360−4Ｃ 31/495 9360−4Ｃ Ｃ０７Ｄ 257/04 7433−4Ｃ 295/18 Ａ Ｚ 311/66 7252−4Ｃ
Claims (9)
- 【請求項１】 式Ｉ： 【化１】 ［式中、 ＤはＯまたはＳであり；Ｒ1は、Ｃ1−Ｃ10アルキル、Ｃ
3−Ｃ8シクロアルキル、または、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ4ア
ルキル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、トリフルオロメチル、も
しくはジ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）アミノから選ばれる０な
いし３個の同一のもしくは異なる置換基をフェニル環上
に有する（Ｃ1−Ｃ4アルキル）フェニルであり；Ｒ
2は、Ｃ1−Ｃ5アルキル、Ｃ2−Ｃ5アルケニル、Ｃ2−Ｃ
5アルキニル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシであり；Ｘは−Ｏ
−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−ＣＨ2−であ
り；Ｙは−Ｏ−または−ＣＨ2−であり；または合して
−Ｘ−Ｙ−が−ＣＨ＝ＣＨ−もしくは−Ｃ≡Ｃ−であ
り；Ｚは、結合、または直鎖もしくは分枝鎖Ｃ1−Ｃ10
アルキリデニルであり；Ａは、結合、−Ｏ−、−Ｓ−、
−ＣＨ＝ＣＨ−、または−ＣＲaＲb−［式中、Ｒaおよ
びＲbは各々独立して水素、Ｃ1−Ｃ5アルキル、または
Ｒ6−置換フェニルであり、またはこれらの結合してい
る炭素原子と合してＣ4−Ｃ8シクロアルキル環を形成し
ている］であり；Ｒ3はＲ4、 【化２】 ［式中、 Ｒは各々独立して水素またはＣ1−Ｃ4アルキルであり；
Ｒ4は各々独立して−ＣＯＯＨ、５−テトラゾリル、−
ＣＯＮ（Ｒ7）2、または−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ8であり；Ｒ
5は水素またはハロゲンであり；Ｒ6は各々水素、Ｃ1−
Ｃ4アルキル、Ｃ2−Ｃ5アルケニル、Ｃ2−Ｃ5アルキニ
ル、ベンジル、メトキシ、−Ｗ−Ｒ4、−Ｔ−Ｇ−Ｒ4、
（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−Ｔ−（Ｃ1−Ｃ4アルキリデニ
ル）−Ｏ−、またはヒドロキシであり；Ｒ7は各々独立
して水素、フェニル、またはＣ1−Ｃ4アルキル、または
窒素原子と合してモルホリノ、ピペリジノ、ピペラジ
ノ、もしくはピロリジノ基を形成し；Ｒ8はＣ1−Ｃ4ア
ルキルまたはフェニルであり；Ｒ9は水素、ハロゲン、
ヒドロキシ、Ｃ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、
（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−Ｓ（Ｏ）q−、トリフルオロメ
チル、またはジ（Ｃ1−Ｃ3アルキル）アミノ、−Ｗ−Ｒ
4、または−Ｔ−Ｇ−Ｒ4であり；Ｗは各々結合または炭
素原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖二価ヒドロカ
ルビル残基であり；Ｇは各々炭素原子数１ないし８の直
鎖または分枝鎖二価ヒドロカルビル残基であり；Ｔは各
々結合、−ＣＨ2−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＨＣＯ
−、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−Ｓ（Ｏ）q−であり；ｑ
は各々独立して０、１、または２であり；ｐは０または
１であり；そして、 ｔは０または１である］である。ただし、 Ｘが−Ｏ−または−Ｓ−である時、Ｙは−Ｏ−ではな
く；Ｙが−Ｏ−である時、ＺおよびＡが共に結合である
ことはなく；Ａが−Ｏ−または−Ｓ−である時、Ｒ4は
Ｒ6ではなく；Ａが−Ｏ−または−Ｓ−であり且つＺが
結合である時、Ｙは−Ｏ−ではなく;Ｙが−Ｏ−である
時、Ｚは結合ではなく；そして、 ｐが０である時、Ｗは結合ではない。］で示される化合
物またはその薬学上許容し得る塩基付加塩。 - 【請求項２】 式： 【化３】 ［式中、Ｒ1はＣ1−Ｃ6アルキルまたはＣ5−Ｃ6シクロ
アルキルであり；Ｒ2はＣ 1−Ｃ4アルキルであり；Ｚは
Ｃ2−Ｃ4アルキリデンであり；Ａは−Ｏ−、−ＣＨ
2−、または−（ＣＨ3）2−であり；Ｒ3は−ＣＯＯＨ、
５−テトラゾリルまたは構造： 【化４】 ［式中、 Ｒはｎ−プロピルであり、 Ｔは−Ｏ−であり、 Ｗは結合であり、そしてＲ4は−ＣＯＯＨまたは５−テ
トラゾリルである］を有する二環式基である］で示され
る請求項１に記載の化合物。 - 【請求項３】 ４−エチル−２−メトキシ−５−［［６
−メチル−６−（２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ヘプ
チル］オキシ］フェノールまたはその薬学上許容し得る
塩基付加塩、 ３，４−ジヒドロ−８−プロピル−７−［３−（２−エ
チル−５−ヒドロキシ−４−メトキシ−フェノキシ）プ
ロポキシ］−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボン酸
またはその薬学上許容し得る塩基付加塩、 ４−エチル−２−エトキシ−５−［［６−メチル−６−
（２Ｈ−テトラゾール−５−イル）ヘプチル］オキシ］
フェノールまたはその薬学上許容し得る塩基付加塩、お
よび、 ３，４−ジヒドロ−８−プロピル−７−［３−（２−エ
チル−５−ヒドロキシ−４−エトキシ−フェノキシ）プ
ロポキシ］−２Ｈ−１−ベンゾピラン−２−カルボン酸
またはその薬学上許容し得る塩基付加塩、 より成る群から選ばれる、請求項２に記載の化合物。 - 【請求項４】 ロイコトリエンの過剰放出を特徴とする
任意の状態にあるまたは該状態になり易い哺乳動物を処
置する方法であって、請求項１に記載の化合物またはそ
の薬学上許容し得る塩基付加塩のロイコトリエン拮抗量
を当該哺乳動物に投与することからなる方法。 - 【請求項５】 ロイコトリエンの過剰放出を特徴とする
任意の状態にあるまたは該状態になり易い哺乳動物を処
置する方法であって、請求項２に記載の化合物またはそ
の薬学上許容し得る塩基付加塩のロイコトリエン拮抗量
を当該哺乳動物に投与することからなる方法。 - 【請求項６】 喘息により代表される型の即時過敏反応
にあるまたはこれになり易い哺乳動物を処置する方法で
あって、請求項１に記載の化合物またはその薬学上許容
し得る塩基付加塩の治療的有効量を当該哺乳動物に投与
することからなる方法。 - 【請求項７】 喘息により代表される型の即時過敏反応
にあるまたはこれになり易い哺乳動物を処置する方法で
あって、請求項２に記載の化合物またはその薬学上許容
し得る塩基付加塩の治療的有効量を当該哺乳動物に投与
することからなる方法。 - 【請求項８】 薬学上許容し得る担体と組み合わせた請
求項１の化合物またはその薬学上許容し得る塩基付加塩
からなる薬用製剤。 - 【請求項９】 薬学上許容し得る担体と組み合わせた請
求項２の化合物またはその薬学上許容し得る塩基付加塩
からなる薬用製剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/907,492 US5352690A (en) | 1992-07-01 | 1992-07-01 | 1,2,4-trioxygenated benzene derivatives useful as leukotriene antagonists |
| US907492 | 1992-07-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0680566A true JPH0680566A (ja) | 1994-03-22 |
Family
ID=25424188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5154990A Pending JPH0680566A (ja) | 1992-07-01 | 1993-06-25 | ロイコトリエンアンタゴニストとして有用な１，２，４−トリ酸素化ベンゼン誘導体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5352690A (ja) |
| EP (1) | EP0579412B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0680566A (ja) |
| CA (1) | CA2095487A1 (ja) |
| DE (1) | DE69321411T2 (ja) |
| ES (1) | ES2121949T3 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6090836A (en) * | 1996-02-02 | 2000-07-18 | Merck & Co., Inc. | Benzisoxazole-derived antidiabetic compounds |
| US5847008A (en) * | 1996-02-02 | 1998-12-08 | Merck & Co., Inc. | Method of treating diabetes and related disease states |
| US5859051A (en) * | 1996-02-02 | 1999-01-12 | Merck & Co., Inc. | Antidiabetic agents |
| US6020382A (en) * | 1996-02-02 | 2000-02-01 | Merck & Co., Inc. | Method of treating diabetes and related disease states |
| US5916922A (en) * | 1996-12-03 | 1999-06-29 | Eli Lilly And Company | Phenyl glyoxamides as SPLA2 inhibitors |
| US6090839A (en) * | 1996-12-23 | 2000-07-18 | Merck & Co., Inc. | Antidiabetic agents |
| US6160000A (en) * | 1996-12-23 | 2000-12-12 | Merck & Co., Inc. | Antidiabetic agents based on aryl and heteroarylacetic acids |
| AU2001292874B2 (en) | 2000-09-27 | 2006-06-15 | Merck & Co., Inc. | Benzopyrancarboxylic acid derivatives for the treatment of diabetes and lipid disorders |
| EP1347755A2 (en) * | 2000-10-31 | 2003-10-01 | Merck & Co., Inc. | Benzopyrancarboxylic acid derivatives for the treatment of diabetes and lipid disorders |
| US20100074949A1 (en) | 2008-08-13 | 2010-03-25 | William Rowe | Pharmaceutical composition and administration thereof |
| DE60322075D1 (de) * | 2002-07-30 | 2008-08-21 | Merck & Co Inc | Ppar alpha selektive verbindungen zur behandlung von dyslipidämie und anderen lipidstörungen |
| DK1773816T3 (en) | 2004-06-24 | 2015-01-26 | Vertex Pharma | Modulators of ATP-binding cassette transporters |
| US8354427B2 (en) | 2004-06-24 | 2013-01-15 | Vertex Pharmaceutical Incorporated | Modulators of ATP-binding cassette transporters |
| US20090105272A1 (en) * | 2005-12-24 | 2009-04-23 | Grootenhuis Peter D J | Prodrugs of modulators of ABC transporters |
| JP5409010B2 (ja) | 2005-12-28 | 2014-02-05 | バーテックス ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド | Ｎ−［２，４−ビス（１，１−ジメチルエチル）−５−ヒドロキシフェニル］−１，４−ジヒドロ−４−オキソキノリン−３−カルボキサミドの固体形態 |
| NZ624460A (en) | 2009-03-20 | 2015-12-24 | Vertex Pharma | Process for making modulators of cystic fibrosis transmembrane conductance regulator |
| US8802700B2 (en) | 2010-12-10 | 2014-08-12 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated | Modulators of ATP-Binding Cassette transporters |
| MY170724A (en) | 2012-01-27 | 2019-08-27 | Biotropics Malaysia Berhad | Use of certain trioxygenated benzene derivatives in body fat management |
| CN104470518A (zh) | 2012-02-27 | 2015-03-25 | 沃泰克斯药物股份有限公司 | 药物组合物及其施用 |
| CA2963945C (en) | 2014-10-07 | 2023-01-10 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated | Co-crystals of modulators of cystic fibrosis transmembrane conductance regulator |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1384530A (en) * | 1971-07-29 | 1975-02-19 | Fisons Ltd | Chromone derivatives |
| SU469247A3 (ru) * | 1972-01-14 | 1975-04-30 | Майлз Лабораториз Инк (Фирма) | Способ получени производных хромона |
| DE3169761D1 (en) * | 1981-01-09 | 1985-05-09 | Fisons Plc | Phenoxy- and thiophenoxy compounds, methods for their preparation and pharmaceutical formulations containing them |
| DE3265715D1 (en) * | 1981-03-24 | 1985-10-03 | Fisons Plc | Anti srs-a carboxylic acid derivatives, processes for their production and pharmaceutical formulations containing them |
| US4661505A (en) * | 1982-11-03 | 1987-04-28 | Eli Lilly And Company | Leukotriene antagonists |
| US5105017A (en) * | 1983-07-18 | 1992-04-14 | Eli Lilly And Company | Leukotriene antagonist intermediates |
| US4665203A (en) * | 1983-08-08 | 1987-05-12 | G. D. Searle & Co. | Substituted dihydrobenzopyrans useful as leukotriene D4 inhibitors |
| US4565882A (en) * | 1984-01-06 | 1986-01-21 | G. D. Searle & Co. | Substituted dihydrobenzopyran-2-carboxylates |
| ZA875319B (en) * | 1986-08-15 | 1988-02-15 | F. Hoffmann-La Roche & Co. Aktiengesellschaft | Use of dihydro benzopyran derivatives |
| US4945099A (en) * | 1987-01-12 | 1990-07-31 | Eli Lilly And Company | Anti-inflammatory agents |
| US4889871A (en) * | 1987-05-29 | 1989-12-26 | G. D. Searle & Co. | Alkoxy-substituted dihydrobenzopyran-2-carboxylate derivatives |
| EP0336068A1 (en) * | 1988-02-11 | 1989-10-11 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Phenoxyalkoxy-3,4-dihydro-2H-1-benzopyran derivatives |
| US4996230A (en) * | 1990-02-16 | 1991-02-26 | Eli Lilly And Company | Leukotriene antagonists |
| US5073562A (en) * | 1990-05-10 | 1991-12-17 | G. D. Searle & Co. | Alkoxy-substituted dihydrobenzopyran-2-carboxylic acids and derivatives thereof |
-
1992
- 1992-07-01 US US07/907,492 patent/US5352690A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-05-04 CA CA002095487A patent/CA2095487A1/en not_active Abandoned
- 1993-06-25 JP JP5154990A patent/JPH0680566A/ja active Pending
- 1993-06-29 DE DE69321411T patent/DE69321411T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-06-29 EP EP93305090A patent/EP0579412B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-06-29 ES ES93305090T patent/ES2121949T3/es not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0579412B1 (en) | 1998-10-07 |
| DE69321411D1 (de) | 1998-11-12 |
| EP0579412A1 (en) | 1994-01-19 |
| DE69321411T2 (de) | 1999-03-25 |
| ES2121949T3 (es) | 1998-12-16 |
| CA2095487A1 (en) | 1994-01-02 |
| US5352690A (en) | 1994-10-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0680566A (ja) | ロイコトリエンアンタゴニストとして有用な１，２，４−トリ酸素化ベンゼン誘導体 | |
| US5552441A (en) | Leukotriene B4 antagonists | |
| JP2549239B2 (ja) | 複素環化合物 | |
| JPH0469153B2 (ja) | ||
| JPH0276862A (ja) | 複素環式化合物 | |
| WO1997044306A1 (fr) | Derives de chalcone et medicaments les contenant | |
| AU599516B2 (en) | Substituted tetralins, chromans and related compounds in the treatment of asthma, arthritis and related diseases | |
| JPS63188646A (ja) | 抗炎症剤 | |
| JPH0753725B2 (ja) | ４ｈ―１―ベンゾピラン―４―オン誘導体およびその塩、それらの製造法並びにそれらを含有する抗炎症剤 | |
| EP0434249A2 (en) | Benzofuran derivatives | |
| KR19990071978A (ko) | 인단 다이머 화합물 및 그 약학적 용도 | |
| US4916148A (en) | Naphtho(2,1-b) furan derivatives | |
| NZ223477A (en) | Tetrazole-substituted naphthalene carboxamide derivatives and anti-inflammatory compositions | |
| JPS63188644A (ja) | 抗炎症剤 | |
| EP0143952B1 (en) | Substituted cinnamyl-2,3-dihydrobenzopyrans and cinnamylphenols useful as anti-inflammatory agents | |
| CZ280133B6 (cs) | Substituovaný fenylfenolleukotrienový antagonist a farmaceutický prostředek, který ho obsahuje | |
| US6166031A (en) | Substituted tetralins, chromans and related compounds in the treatment of asthma | |
| AU642265B2 (en) | Imidazo (4,5-c) pyridines with PAF antagonist activity | |
| KR19990036032A (ko) | 엔도테린 수용체 길항제 | |
| EP0313296A2 (en) | Substituted chromans and related compounds in the treatment of asthma | |
| JP2002530394A (ja) | 新規アガロフラン誘導体、それらの製造、それらを含む医薬組成物および医薬としてのそれらの使用 | |
| EP0201351B1 (en) | 1,3-dioxane ethers | |
| JPH08508515A (ja) | 二環式カルボン酸ロイコトリエンｂ▲下４▼拮抗物質 | |
| JPH09124631A (ja) | ベンゾフラン誘導体及びそれを含む医薬組成物 | |
| JPH0560462B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040316 |