JPH06796B2 - ガングリオシドｇｍ▲下３▼の製造方法 - Google Patents
ガングリオシドｇｍ▲下３▼の製造方法Info
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- JPH06796B2 JPH06796B2 JP12395285A JP12395285A JPH06796B2 JP H06796 B2 JPH06796 B2 JP H06796B2 JP 12395285 A JP12395285 A JP 12395285A JP 12395285 A JP12395285 A JP 12395285A JP H06796 B2 JPH06796 B2 JP H06796B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明はガングリオシドＧＭ3の製造方法に関する。
哺乳動物細胞の糖脂質（グリコリピド）は、スフィンゴ
シンという長鎖アミノアルコールに脂肪酸がアミド結合
したセラミドという脂質構造に、グルコース、ガラクト
ース、Ｎ−アセチルグルコサミン、Ｎ−アセチルガラク
トサミン、フコース、シアル酸などの糖が種々の組み合
せでグリコシド結合したもので、いわゆるスフィンゴ糖
脂質とんわれる範疇に属する。このうちシアル酸を有す
るものを特にガングリオシドと称する。
シンという長鎖アミノアルコールに脂肪酸がアミド結合
したセラミドという脂質構造に、グルコース、ガラクト
ース、Ｎ−アセチルグルコサミン、Ｎ−アセチルガラク
トサミン、フコース、シアル酸などの糖が種々の組み合
せでグリコシド結合したもので、いわゆるスフィンゴ糖
脂質とんわれる範疇に属する。このうちシアル酸を有す
るものを特にガングリオシドと称する。
これらの化合物は一般にその大部分が細胞膜２分子層の
外側分子層に局在し、最近の研究によれば細胞における
識別や情報の受容と応答、レセプター機能、分化、細胞
の増殖・悪性変化・行動などにおいて重要な役割を果し
ているものと考えられている。
外側分子層に局在し、最近の研究によれば細胞における
識別や情報の受容と応答、レセプター機能、分化、細胞
の増殖・悪性変化・行動などにおいて重要な役割を果し
ているものと考えられている。
これらのガングリオシドのうち、ガングリオシドＧＭ3
は、脳、ヒト脾臓およびイヌの赤血球が単離され、その
構造は式(11)であることがわかっている〔ハコモリ（１
９８３）、ハンドブック・オブ・リピッド・リサーチ、
Vol.３、スフィンゴ脂質生化学、カンファー、ハコモリ
編、プレナム・プレス、ニューヨーク、ｐ８９−１６
６、 (Handbook of Lipid Research,Vol.3,Sphingolipid Bio
chemistry,eds.Kanfer JN,Hakomori S,Plenum Press,Ne
w York,p89-166)〕。
は、脳、ヒト脾臓およびイヌの赤血球が単離され、その
構造は式(11)であることがわかっている〔ハコモリ（１
９８３）、ハンドブック・オブ・リピッド・リサーチ、
Vol.３、スフィンゴ脂質生化学、カンファー、ハコモリ
編、プレナム・プレス、ニューヨーク、ｐ８９−１６
６、 (Handbook of Lipid Research,Vol.3,Sphingolipid Bio
chemistry,eds.Kanfer JN,Hakomori S,Plenum Press,Ne
w York,p89-166)〕。
ＧＭ3ガングリオシドの生合成は、腸上皮組織分化およ
び細胞成長の接触阻害と相関があることがわかってい
る。繊維芽球成長要因の存在下におけるベビーハムスタ
ー腎繊維芽球細胞の成長は、外部から加えられたＧＭ3
ガングリオシドの存在により特異的に阻害される。生物
膜の成分であるガングリオシドがこのように重要な機能
を有しているにもかかわらず、ＧＭ3ガングリオシドお
よび関連するガングリオシドの全合成は、これまでに達
成されていない。
び細胞成長の接触阻害と相関があることがわかってい
る。繊維芽球成長要因の存在下におけるベビーハムスタ
ー腎繊維芽球細胞の成長は、外部から加えられたＧＭ3
ガングリオシドの存在により特異的に阻害される。生物
膜の成分であるガングリオシドがこのように重要な機能
を有しているにもかかわらず、ＧＭ3ガングリオシドお
よび関連するガングリオシドの全合成は、これまでに達
成されていない。
シャピロは、ＧＭ3ガングリオシドの合成のためのアプ
ローチを報告している（Shapiro D(1974)、24th,Int.Cor
gr.Pure Appl.Chem.２：１５３−６６；（１９７６）Ch
em.Abstr.85:177800）。しかし、合成ＧＭ3ガングリオ
シドのＣ−２ｃの立体配置は明らかにされていない。
ローチを報告している（Shapiro D(1974)、24th,Int.Cor
gr.Pure Appl.Chem.２：１５３−６６；（１９７６）Ch
em.Abstr.85:177800）。しかし、合成ＧＭ3ガングリオ
シドのＣ−２ｃの立体配置は明らかにされていない。
したがってＧＭ3ガングリオシドを立体選択的に精密合
成することは、ガングリオシドの分子構造と生物情報と
の相関を解明するうえで必要不可欠なことである。
成することは、ガングリオシドの分子構造と生物情報と
の相関を解明するうえで必要不可欠なことである。
本発明の目的は、ガングリオシドＧＭ3を立体選択的に
合成する方法を提供することである。
合成する方法を提供することである。
本発明は化合物(3)： (3) Ｒ1＝Ｂｎ（β）、Ｒ2＝Ｂｎ、Ｒ3＝Ｈ (4) Ｒ1＝Ｂｎ（β）、Ｒ2＝Ｂｎ、Ｒ3＝Ａｃ (5) Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈ、Ｒ3＝Ａｃ (6) Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ａｃ (7) Ｒ1＝Ｈ、Ｒ2＝Ｒ3＝Ａｃ (8) Ｒ1＝CNHCCl3（α）、Ｒ2＝Ｒ3＝Ａｃ をアセチル化して化合物(4)を得、これを脱ベンジル化
して化合物(5)を得、これをアセチル化して化合物(6)を
得、この化合物(6)をヒドラジニウムアセテートで処理
して化合物(7)を得、これをＮａＨ−Ｃｌ3ＣＣＮで処理
して化合物(8)を得、この化合物(8)を化合物(9) （式中Ｂｚはベンゾイル基を示す） と反応させて化合物(10)を得、さらに脱アセチル化およ
びケン化を行うことを特徴とする式(11)で表わされるガ
ングリオシドＧＭ3の製造方法である。
して化合物(5)を得、これをアセチル化して化合物(6)を
得、この化合物(6)をヒドラジニウムアセテートで処理
して化合物(7)を得、これをＮａＨ−Ｃｌ3ＣＣＮで処理
して化合物(8)を得、この化合物(8)を化合物(9) （式中Ｂｚはベンゾイル基を示す） と反応させて化合物(10)を得、さらに脱アセチル化およ
びケン化を行うことを特徴とする式(11)で表わされるガ
ングリオシドＧＭ3の製造方法である。
以下、本発明を詳細に説明する。
まず本発明方法の出発物質として使用される化合物(3)
は、クーンの方法により合成されるＮ−アセチルノイラ
ミン酸アセテートメチルエステル〔化合物(1)〕と、ベ
ンジル２、３、６、２′、６′−ペンタ−Ｏ−ベンジル
ラクトース〔化合物(2)〕を、ジクロロメタン、１，２
−ジクロロエタン等の溶媒中、Ｈｇ（ＣＮ）2、ＨｇＢ
ｒ2、モレキユラーシーブ、Ａｇ2ＣＯ3、ＡｇＣｌＯ4、
ＡｇＯＳＯ2ＣＦ3、（ＣＨ3）3ＣＯＳＯ2ＣＦ3等のグリ
コシデーション触媒存在下に、−２０℃〜１５０℃で１
〜１２０時間程度反応させることにより得られる。また
化合物(2)は、ベンジル３′，４′−Ｏ−イソプロピリ
デンラクトースをＤＭＦ中、ＮａＨ存在下に、ベンジル
ブロマイドで処理してベンジル体としたのち、これを酢
酸水溶液で処理してイソプロピリデン基を脱離すること
により得られる。
は、クーンの方法により合成されるＮ−アセチルノイラ
ミン酸アセテートメチルエステル〔化合物(1)〕と、ベ
ンジル２、３、６、２′、６′−ペンタ−Ｏ−ベンジル
ラクトース〔化合物(2)〕を、ジクロロメタン、１，２
−ジクロロエタン等の溶媒中、Ｈｇ（ＣＮ）2、ＨｇＢ
ｒ2、モレキユラーシーブ、Ａｇ2ＣＯ3、ＡｇＣｌＯ4、
ＡｇＯＳＯ2ＣＦ3、（ＣＨ3）3ＣＯＳＯ2ＣＦ3等のグリ
コシデーション触媒存在下に、−２０℃〜１５０℃で１
〜１２０時間程度反応させることにより得られる。また
化合物(2)は、ベンジル３′，４′−Ｏ−イソプロピリ
デンラクトースをＤＭＦ中、ＮａＨ存在下に、ベンジル
ブロマイドで処理してベンジル体としたのち、これを酢
酸水溶液で処理してイソプロピリデン基を脱離すること
により得られる。
一方、ガングリオシドのセラミド化合物(9)は、スキー
ム１ｂに示す方法により合成することができる。化合物
（Ｉ）はスキーム１ａに示すような方法により合成する
ことができる（特願昭５９−４４９１３号明細書参
照）。
ム１ｂに示す方法により合成することができる。化合物
（Ｉ）はスキーム１ａに示すような方法により合成する
ことができる（特願昭５９−４４９１３号明細書参
照）。
化合物は、１−ブロモテトラデカンのようなアルキル
ハライドと、トリフェニルホスフィンをキシレン等の溶
媒中で一夜還流することにより得られる。
ハライドと、トリフェニルホスフィンをキシレン等の溶
媒中で一夜還流することにより得られる。
１，２−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−キシロ−ペン
トジアルド−１，４−フラノースと化合物を、ＴＨ
Ｆ、ヘキサン等の溶媒中、BuLi存在下に反応させると４
−アルキルビニル体が得られる。反応温度は−１５℃
〜２５℃、時間は０．５〜２４時間が適当である。
トジアルド−１，４−フラノースと化合物を、ＴＨ
Ｆ、ヘキサン等の溶媒中、BuLi存在下に反応させると４
−アルキルビニル体が得られる。反応温度は−１５℃
〜２５℃、時間は０．５〜２４時間が適当である。
化合物を、乾燥ピリジン中、メタンスルホニルクロラ
イドで処理して３−メタンスルホニル体とする。この
反応温度は０℃〜２５℃、時間は２〜２４時間が適当で
ある。
イドで処理して３−メタンスルホニル体とする。この
反応温度は０℃〜２５℃、時間は２〜２４時間が適当で
ある。
次に化合物を酢酸／水中で処理して、イソプロピリデ
ン基を脱離し、ジオール体を得る。この反応温度は７
０〜９０℃、時間は0.５〜５時間が適当である。
ン基を脱離し、ジオール体を得る。この反応温度は７
０〜９０℃、時間は0.５〜５時間が適当である。
化合物を、エタノール等の溶媒中、メタ過ヨウ素酸ナ
トリウム等の酸化剤で処理してジオール部分を開裂し、
次いで水素化ホウ素ナトリウムのような還元剤で処理し
てジオール体を得る。この酸化反応の温度は０℃〜２
５℃、時間は0.５〜２４時間、また還元反応の温度は０
℃〜１０℃、時間は0.５〜２時間が適当である。
トリウム等の酸化剤で処理してジオール部分を開裂し、
次いで水素化ホウ素ナトリウムのような還元剤で処理し
てジオール体を得る。この酸化反応の温度は０℃〜２
５℃、時間は0.５〜２４時間、また還元反応の温度は０
℃〜１０℃、時間は0.５〜２時間が適当である。
次に化合物を、ジクロロメタン等の溶媒中、ピリジニ
ウムｐ−トルエンスルホネートのような触媒の存在下
に、エチルビニルエーテルのようなアルキルビニルエー
テルと反応させ、ジ−アルキルビニルエーテル体を得
る。この反応の温度は０℃〜３０℃、時間は0.５〜２４
時間が適当である。
ウムｐ−トルエンスルホネートのような触媒の存在下
に、エチルビニルエーテルのようなアルキルビニルエー
テルと反応させ、ジ−アルキルビニルエーテル体を得
る。この反応の温度は０℃〜３０℃、時間は0.５〜２４
時間が適当である。
さらに化合物を、ＤＭＦ等の溶媒中、アジ化ナトリウ
ムのようなアジ化物で処理してアジドを得る。この反
応の温度は７０℃〜１２０℃、時間は１夜〜６日間が適
当である。
ムのようなアジ化物で処理してアジドを得る。この反
応の温度は７０℃〜１２０℃、時間は１夜〜６日間が適
当である。
アジドを、エタノール、イソプロパノールのような溶
媒中、水素化ホウ素ナトリウム、リンドラー溶媒／Ｈ2
のような還元剤で還元してアミンとする。水素化ホウ
素ナトリウムを使用するばあいの反応温度は還流温度、
時間は１日〜６日間が適当であり、リンドラー溶媒／Ｈ
2を使用するばあいの反応温度は０℃〜３０℃、時間は
２〜２４時間、また水素の圧力は１〜４気圧が適当であ
る。
媒中、水素化ホウ素ナトリウム、リンドラー溶媒／Ｈ2
のような還元剤で還元してアミンとする。水素化ホウ
素ナトリウムを使用するばあいの反応温度は還流温度、
時間は１日〜６日間が適当であり、リンドラー溶媒／Ｈ
2を使用するばあいの反応温度は０℃〜３０℃、時間は
２〜２４時間、また水素の圧力は１〜４気圧が適当であ
る。
こうして得られたアミンを、ピリジン、ジメチルアミ
ノピリジン等の存在下に、アシルハライ 応の温度は０℃〜３０℃、時間は0.５〜２４時間が適当
である。また、アミンをジクロロメタン等に溶解し、
２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイド、ト
リーｎ−ブチルアミンなどの を得ることができる。この反応は、アルゴンなどの不活
性気流中、温度は還流温度、時間0.５〜１３時間程度で
十分に進行する。
ノピリジン等の存在下に、アシルハライ 応の温度は０℃〜３０℃、時間は0.５〜２４時間が適当
である。また、アミンをジクロロメタン等に溶解し、
２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイド、ト
リーｎ−ブチルアミンなどの を得ることができる。この反応は、アルゴンなどの不活
性気流中、温度は還流温度、時間0.５〜１３時間程度で
十分に進行する。
ロロメタン等の溶媒中、ピリジニウムｐ−トルエンスル
ホネート、アンバーリストＡ−１５などで処理して、保
護基を脱離すると、目的のセラミド化合物 または(9)を得る。
ホネート、アンバーリストＡ−１５などで処理して、保
護基を脱離すると、目的のセラミド化合物 または(9)を得る。
このようにして得られた化合物（Ｉ）をピリジン中、ト
リチルクロライドで処理してトリチル体(II)としたの
ち、塩化ベンゾイル、ジメチルアミノピリジンで処理し
てトリチル−ベンゾイル体(III)を得、これをパラトル
エンスルホン酸で処理してトリチル基を脱離し、セラミ
ドのベンゾイル体(IV)を得る。化合物(II)、(III)を単
離することなく反応を行うこともできる。
リチルクロライドで処理してトリチル体(II)としたの
ち、塩化ベンゾイル、ジメチルアミノピリジンで処理し
てトリチル−ベンゾイル体(III)を得、これをパラトル
エンスルホン酸で処理してトリチル基を脱離し、セラミ
ドのベンゾイル体(IV)を得る。化合物(II)、(III)を単
離することなく反応を行うこともできる。
こうして得られた化合物(3)を、無水酢酸／ピリジンに
よりアセチル化して化合物(4)を得る。
よりアセチル化して化合物(4)を得る。
化合物(4)を、たとえば、メタノール中、１０％Ｐｄ−
Ｃを加えて接触還元して脱ベンジル体(5)を得る。化合
物(5)を無水酢酸／ピリジンによりアセチル化してパー
アセテート(6)としたのち、ＤＭＦ等の溶媒中、ヒドラ
ジニウムアセテートを加え、３０℃〜８０℃で、５分〜
３０分程度処理して１−位のアセチル基を脱離して化合
物(7)を得る。この化合物(7)を塩化メチレン等の溶媒
中、氷冷下、ＮａＨ存在下、トリクロロアセトニトリル
と反応させて化合物(8)を得る。これにセラミド化合物
(9)を、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下、グリコシル
化触媒、たとえばＢＦ3・Ｅｔ2Ｏ／モレキユラ−シーブ
４存在下に反応させて、化合物(10)を得る。化合物(1
0)を常法により、たとえばＭｅＯＮａ／ＭｅＯＨにより
アセチル基およびベンゾイル基を脱離し、次いでアンバ
ーリスト１５で中和し、目的のガングリオシドＧＭ3(1
1)を得る。本発明方法の一具体例を次のスキームに示
す。
Ｃを加えて接触還元して脱ベンジル体(5)を得る。化合
物(5)を無水酢酸／ピリジンによりアセチル化してパー
アセテート(6)としたのち、ＤＭＦ等の溶媒中、ヒドラ
ジニウムアセテートを加え、３０℃〜８０℃で、５分〜
３０分程度処理して１−位のアセチル基を脱離して化合
物(7)を得る。この化合物(7)を塩化メチレン等の溶媒
中、氷冷下、ＮａＨ存在下、トリクロロアセトニトリル
と反応させて化合物(8)を得る。これにセラミド化合物
(9)を、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下、グリコシル
化触媒、たとえばＢＦ3・Ｅｔ2Ｏ／モレキユラ−シーブ
４存在下に反応させて、化合物(10)を得る。化合物(1
0)を常法により、たとえばＭｅＯＮａ／ＭｅＯＨにより
アセチル基およびベンゾイル基を脱離し、次いでアンバ
ーリスト１５で中和し、目的のガングリオシドＧＭ3(1
1)を得る。本発明方法の一具体例を次のスキームに示
す。
実施例１ 化合物(3)５０７mg（0.３７３mmol）を無水酢酸5.０m
l、ピリジン5.０mlに溶かし、室温で一昼夜攪拌する。
反応液を減圧乾固したのちシリカゲルカラム（ワコーゲ
ルＣ−３００ ５０ｇ）を用いて精製する。１０％メタ
ノール含有トルエンによる溶出、化合物(4)４８４mg
（９３％）を得る。
l、ピリジン5.０mlに溶かし、室温で一昼夜攪拌する。
反応液を減圧乾固したのちシリカゲルカラム（ワコーゲ
ルＣ−３００ ５０ｇ）を用いて精製する。１０％メタ
ノール含有トルエンによる溶出、化合物(4)４８４mg
（９３％）を得る。
〔化合物(4)の性質〕 ▲〔α〕27 D▼−3.３３ Ｃ＝1.１７ ＣＨＣｌ3 元素分析 計算値 C,65.27 H,6.27,N,1.00 測定値 C,65.25,H,6.47,N,1.03 ＰＭＲ 400MHz CDCl3 ppm(TMS) 1.762,1.855,1.973,2.000,2.013, 2.073 s, 2.598,q,J=12.69,4.64 H-3Caq, 3.834, 実施例２ 化合物(4)４２７mg（０．３０５mmol）をメタノール１
５mlに溶かし、１０％Ｐｄ−ｃ２００mgを加え、接触還
元を行なう。化合物(5)の生成を確認し、（ＴＬＣ、Ｂ
ｕＯＨ−ＥｔＯＨ−Ｈ2Ｏ（４：２：２）、Ｒｆ0.５
５）反応終了後、ろ過してＰｄ−ｃを除き、減圧濃縮
し、残渣を無水酢酸５ml、ピリジン５mlに溶かし、室温
で２時間攪拌する。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムＣ−３００ １０ｇを用いて精製する。ＥｔＯＡｃに
より溶出することにより化合物(6)２３５mgを得た（収
率６9.３％）。
５mlに溶かし、１０％Ｐｄ−ｃ２００mgを加え、接触還
元を行なう。化合物(5)の生成を確認し、（ＴＬＣ、Ｂ
ｕＯＨ−ＥｔＯＨ−Ｈ2Ｏ（４：２：２）、Ｒｆ0.５
５）反応終了後、ろ過してＰｄ−ｃを除き、減圧濃縮
し、残渣を無水酢酸５ml、ピリジン５mlに溶かし、室温
で２時間攪拌する。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムＣ−３００ １０ｇを用いて精製する。ＥｔＯＡｃに
より溶出することにより化合物(6)２３５mgを得た（収
率６9.３％）。
〔化合物(6)の性質〕 Ｒｆ 0.２８（ＥｔＯＡｃ） 元素分析 計算値 C,49.77,H,5.72,N,1.26 測定値 C,49.85,H,5.77,N,1.45 ＰＭＲ 400MHz:CDCl3,ppm(TMS),1.68,t, J=12.45,H-3c,ax,1.86〜2.25, 36H,2.58,m,H-3c,eq, 3.84,3.85,s,OCH3 実施例３ 化合物(6)１９０mg（0.１７１mmol）をＤＭＦ1.０mlに
溶かし、５０℃で加熱し、ヒドラジニウムアセテート１
９mgを加え５分間攪拌する。冷却したのち、ＥｔＯＡｃ
１０mlを加え、３０分攪拌する。ＥｔＯＡｃで希釈し、
飽和食塩水で洗浄する。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し、
減圧乾固する。残渣をシリカゲルカラム（ワコーゲルＣ
−３００、１０ｇ、１％メタノール含有酢酸エチル）で
精製し、化合物(7)を１４８mg（8.１％）得た。
溶かし、５０℃で加熱し、ヒドラジニウムアセテート１
９mgを加え５分間攪拌する。冷却したのち、ＥｔＯＡｃ
１０mlを加え、３０分攪拌する。ＥｔＯＡｃで希釈し、
飽和食塩水で洗浄する。有機層をＭｇＳＯ4で乾燥し、
減圧乾固する。残渣をシリカゲルカラム（ワコーゲルＣ
−３００、１０ｇ、１％メタノール含有酢酸エチル）で
精製し、化合物(7)を１４８mg（8.１％）得た。
〔化合物(7)の性質〕 Ｒｆ 0.２９ １％メタノール含有酢酸エチル 元素分析 計算値 C,49.48 H,5.76,N,1.31 測定値 C,49.25,H,5.81,N,1.56 実施例４ 化合物(7)１４５mg（0.１３６mmol）を塩化メチレン1.
０mlに溶かし氷冷下トリクロロアセトニトリル５４μ
ｌ、ＮａＨ（６０％油性）7.０mgを加え、２時間攪拌す
る。反応液を減圧乾固し、シリカゲルカラム（ワコーゲ
ルＣ−３００ １０ｇ酢酸エチル）を用いて精製し、化
合物(8)を１１０mg（６6.８％）得た。
０mlに溶かし氷冷下トリクロロアセトニトリル５４μ
ｌ、ＮａＨ（６０％油性）7.０mgを加え、２時間攪拌す
る。反応液を減圧乾固し、シリカゲルカラム（ワコーゲ
ルＣ−３００ １０ｇ酢酸エチル）を用いて精製し、化
合物(8)を１１０mg（６6.８％）得た。
〔化合物(8)の性質〕 ＰＭＲ 400MHz,CDCl3,ppm(TMS),1.68,t, J=12,45,H-3c,ax,1.86〜2.10, 33H,2.58,q,J=12.69,4.63,H-3c,eq,3.848,s, 6.49,d,J=3.67,H-1a,8.66,s, ＣＭＲ 25MHz,CDCl3 ppm 93.13,c-1a, 96.88.-2c.101.15,C-16,161.13, 実施例５ 化合物(8)６０mg（0.０４９mmol）、及びセラミド化合
物(9)３７mg（0.０４９mmol）をクロロホルム0.５mlに
溶かし、活性化したＭＳ４Ａ0.５ｇと共にアルゴン雰囲
気下、氷冷しつつ、この溶液にＢＦ3・Ｅｔ2Ｏ７μを
加え２時間攪拌する。さらに室温で一昼夜攪拌したの
ち、反応液をクロロホルムで希釈し、セライトろ過し、
不溶物をろ去する。母液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲ
ルカラム（ワコーゲルＣ−３００ １２ｇ ３％メタノ
ール含有クロロホルム）を用いて精製し、化合物(10)３
２mgを得た。
物(9)３７mg（0.０４９mmol）をクロロホルム0.５mlに
溶かし、活性化したＭＳ４Ａ0.５ｇと共にアルゴン雰囲
気下、氷冷しつつ、この溶液にＢＦ3・Ｅｔ2Ｏ７μを
加え２時間攪拌する。さらに室温で一昼夜攪拌したの
ち、反応液をクロロホルムで希釈し、セライトろ過し、
不溶物をろ去する。母液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲ
ルカラム（ワコーゲルＣ−３００ １２ｇ ３％メタノ
ール含有クロロホルム）を用いて精製し、化合物(10)３
２mgを得た。
〔化合物(10)の性質〕 ▲〔α〕２５゜ Ｄ▼＋４．５１゜（ＣＨＣｌ3、Ｃ＝１
−１３） Ｒｆ 0.３９（ＥｔＯＡｃ） 元素分析 計算値 C,61.91 H,8.16,N,1.55 測定値 C,61.93,H,8.22,N,1.58 ＰＭＲ 400MHz,CDCl3,ppm,TMS,0.88,t, J=6.35,-CH3×２，1.25,-CH2-×32, 1.67,t,J=12.46,H-3c,ax,1.86〜 2.22, 2.57,q,J=12.69, 4.67,H-3c,eq,3.84,s, 7.44,m,2H,7.60,m,1H,7.99,芳香族プロトン ＣＭＲ 22.5MHz,CDCl3,ppm,96.93,c-2c,100.56,c-1a,1
01.05,c-1b. 実施例６ 化合物(10)２５mg（0.０１４mmol）をメタノール0.5ml
に溶かし、Ｎ・ＣＨ３ＯＮａ５６μを加え室温で一昼
夜攪拌する。反応液を減圧乾固し、残渣をＨ2Ｏ０．１m
l、テトラヒドロフラン０．５ml、メタノール０．５ml
の混合溶媒に溶かし、５時間攪拌する。反応液をアンバ
ーリスト１５２中和したのち減圧濃縮し、残渣をメタノ
ールから再結晶し、目的のガングリオシドＧＭ3を１１m
g(61.7%)得た。
−１３） Ｒｆ 0.３９（ＥｔＯＡｃ） 元素分析 計算値 C,61.91 H,8.16,N,1.55 測定値 C,61.93,H,8.22,N,1.58 ＰＭＲ 400MHz,CDCl3,ppm,TMS,0.88,t, J=6.35,-CH3×２，1.25,-CH2-×32, 1.67,t,J=12.46,H-3c,ax,1.86〜 2.22, 2.57,q,J=12.69, 4.67,H-3c,eq,3.84,s, 7.44,m,2H,7.60,m,1H,7.99,芳香族プロトン ＣＭＲ 22.5MHz,CDCl3,ppm,96.93,c-2c,100.56,c-1a,1
01.05,c-1b. 実施例６ 化合物(10)２５mg（0.０１４mmol）をメタノール0.5ml
に溶かし、Ｎ・ＣＨ３ＯＮａ５６μを加え室温で一昼
夜攪拌する。反応液を減圧乾固し、残渣をＨ2Ｏ０．１m
l、テトラヒドロフラン０．５ml、メタノール０．５ml
の混合溶媒に溶かし、５時間攪拌する。反応液をアンバ
ーリスト１５２中和したのち減圧濃縮し、残渣をメタノ
ールから再結晶し、目的のガングリオシドＧＭ3を１１m
g(61.7%)得た。
〔化合物(11)の性質〕 ＰＭＲ 400MHz,Me2SO-d6-D2O(98:2V/V),TMS,ppm,1.23,
s,64H-CH2,1.89,s,3H,NHCOCH3 ,1.92,bs,2H,H-6′,1.37,
H-3c,ax,2.75,H-3c,eq,4.16,d,J=7.57,Hla,4.19,d,J=7.
56,H-1b
s,64H-CH2,1.89,s,3H,NHCOCH3 ,1.92,bs,2H,H-6′,1.37,
H-3c,ax,2.75,H-3c,eq,4.16,d,J=7.57,Hla,4.19,d,J=7.
56,H-1b
Claims (1)
- 【請求項１】化合物(3)： (3) Ｒ1＝Ｂｎ（β）、Ｒ2＝Ｂｎ、Ｒ3＝Ｈ (4) Ｒ1＝Ｂｎ（β）、Ｒ2＝Ｂｎ、Ｒ3＝Ａｃ (5) Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈ、Ｒ3＝Ａｃ (6) Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ａｃ (7) Ｒ1＝Ｈ、Ｒ2＝Ｒ3＝Ａｃ (8) Ｒ1＝CNHCCl3（α）、Ｒ2＝Ｒ3＝Ａｃ をアセチル化して化合物(4)を得、これを脱ベンジル化
して化合物(5)を得、これをアセチル化して化合物(6)を
得、この化合物(6)をヒドラジニウムアセテートで処理
して化合物(7)を得、これをＮａＨ−Ｃｌ3ＣＣＮで処理
して化合物(8)を得、この化合物(8)を化合物(9) （式中Ｂｚはベンゾイル基を示す） と反応させて化合物(10)を得、さらに脱アセチル化およ
びケン化を行うことを特徴とする式(11)で表わされるガ
ングリオシドＧＭ3の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12395285A JPH06796B2 (ja) | 1985-06-07 | 1985-06-07 | ガングリオシドｇｍ▲下３▼の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12395285A JPH06796B2 (ja) | 1985-06-07 | 1985-06-07 | ガングリオシドｇｍ▲下３▼の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61282393A JPS61282393A (ja) | 1986-12-12 |
| JPH06796B2 true JPH06796B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=14873404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12395285A Expired - Lifetime JPH06796B2 (ja) | 1985-06-07 | 1985-06-07 | ガングリオシドｇｍ▲下３▼の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06796B2 (ja) |
-
1985
- 1985-06-07 JP JP12395285A patent/JPH06796B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61282393A (ja) | 1986-12-12 |
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