JPH0670030B2 - アルドースのアリールｃ―グリコシド系化合物の製造法 - Google Patents
アルドースのアリールｃ―グリコシド系化合物の製造法Info
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- JPH0670030B2 JPH0670030B2 JP6212390A JP6212390A JPH0670030B2 JP H0670030 B2 JPH0670030 B2 JP H0670030B2 JP 6212390 A JP6212390 A JP 6212390A JP 6212390 A JP6212390 A JP 6212390A JP H0670030 B2 JPH0670030 B2 JP H0670030B2
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- aldose
- aryl
- acid ester
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明はアルドースのアセタール位チオホスフィン酸エ
ステル誘導体と芳香族系化合物とを反応させ、アリール
Ｃ−グリコシド系化合物を製造する方法に関するもので
ある。
ステル誘導体と芳香族系化合物とを反応させ、アリール
Ｃ−グリコシド系化合物を製造する方法に関するもので
ある。
アルドースのアリールＣ−グリコシド系化合物は広く天
然に存在し、抗腫瘍性、抗癌性作用などを有するものが
多く注目をあびているが、その合成には不安定な糖中間
体や過剰の活性化剤を使用したり、選択性などの面で問
題があり工業的に優れた方法は未だ知られていない。
然に存在し、抗腫瘍性、抗癌性作用などを有するものが
多く注目をあびているが、その合成には不安定な糖中間
体や過剰の活性化剤を使用したり、選択性などの面で問
題があり工業的に優れた方法は未だ知られていない。
従来知られている方法はハロゲノ糖、トリクロアセトイ
ミデート糖、ピリジルチオ糖やトリフロロアセチル糖な
どを芳香族系化合物と反応させるが、原料のグリコシル
供与体の安定性が乏しく高度に脱水した反応条件が必要
なこと、過剰の活性化剤が使用される場合が多く、また
これらいずれの反応もアリールβ−Ｃ−グリコシドを主
生成物として与え、アリールα−Ｃ−グリコシドの製造
は制限される場合が多い等の欠点が多く工業化は困難で
ある。
ミデート糖、ピリジルチオ糖やトリフロロアセチル糖な
どを芳香族系化合物と反応させるが、原料のグリコシル
供与体の安定性が乏しく高度に脱水した反応条件が必要
なこと、過剰の活性化剤が使用される場合が多く、また
これらいずれの反応もアリールβ−Ｃ−グリコシドを主
生成物として与え、アリールα−Ｃ−グリコシドの製造
は制限される場合が多い等の欠点が多く工業化は困難で
ある。
本発明者らは上記の事情に鑑み鋭意研究した結果、アル
ドースのアセタール位チオホスフィン酸エステル誘導体
を用い、過塩素酸銀を活性化剤として使用することで目
的を達しうることを知り本発明に到達した。
ドースのアセタール位チオホスフィン酸エステル誘導体
を用い、過塩素酸銀を活性化剤として使用することで目
的を達しうることを知り本発明に到達した。
すなわち本発明の要旨は、アルドースのヘミアセタール
位がアセタール結合している糖の水酸基の水素が一般式 （式中R1，R2は非置換または置換されたアルキル基ある
いはアリール基を示す。）で表されるホスフィノチオイ
ル基で置換されたアルドースのアセタール位チオホスフ
ィン酸エステル誘導体と、芳香族系化合物を過塩素酸塩
を共存させ反応させることを特徴とするアルドースのア
リールＣ−グリコシド系化合物の製造法である。
位がアセタール結合している糖の水酸基の水素が一般式 （式中R1，R2は非置換または置換されたアルキル基ある
いはアリール基を示す。）で表されるホスフィノチオイ
ル基で置換されたアルドースのアセタール位チオホスフ
ィン酸エステル誘導体と、芳香族系化合物を過塩素酸塩
を共存させ反応させることを特徴とするアルドースのア
リールＣ−グリコシド系化合物の製造法である。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の原料の１つ、アルドースのアセタール位チオホ
スフィン酸エステル誘導体は、アセタール位の水酸基が
遊離のアルドースとハロゲン化ホスフィノチオイルと塩
基存在下合成できる。アルドースは周知のものを使用で
きる。具体的にはグルコース、マンノース、ガラクトー
ス、２−デオキシ−Ｄ−グルコース、２−デオキシ−Ｄ
−マンノース、２−デオキシ−Ｄ−ガラクトース、２−
アミノ−２−デオキシ−グルコースなどを挙げることが
できる。
スフィン酸エステル誘導体は、アセタール位の水酸基が
遊離のアルドースとハロゲン化ホスフィノチオイルと塩
基存在下合成できる。アルドースは周知のものを使用で
きる。具体的にはグルコース、マンノース、ガラクトー
ス、２−デオキシ−Ｄ−グルコース、２−デオキシ−Ｄ
−マンノース、２−デオキシ−Ｄ−ガラクトース、２−
アミノ−２−デオキシ−グルコースなどを挙げることが
できる。
ハロゲン化ホスフィノチオイルとしては周知のものを使
用できる。例えば塩化ジメチルホスフィノチオイル、臭
化ジメチルホスフィノチオイル、塩化ジフェニルホスフ
ィノチオイル等が挙げられる。
用できる。例えば塩化ジメチルホスフィノチオイル、臭
化ジメチルホスフィノチオイル、塩化ジフェニルホスフ
ィノチオイル等が挙げられる。
塩基としては周知のものを使用できる。例えば水酸化ナ
トリウム、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ
［5.4.0］ウンデカ−７−エン、ｎ−ブチルリチウム等
を挙げることができる。
トリウム、トリエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ
［5.4.0］ウンデカ−７−エン、ｎ−ブチルリチウム等
を挙げることができる。
本発明の他の原料の１つとして使用される芳香族系化合
物は周知のものを使用できる。例えば1,3,5−トリメト
キシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、1,3,5−トリ
エトキシベンゼン、1,3−ジエトキシベンゼン、1,3,5−
トリブトキシベンゼン、1,3−ジブトキシベンゼン、１
−メトキシ−３−エトキシベンゼンなどの例が挙げられ
る。
物は周知のものを使用できる。例えば1,3,5−トリメト
キシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、1,3,5−トリ
エトキシベンゼン、1,3−ジエトキシベンゼン、1,3,5−
トリブトキシベンゼン、1,3−ジブトキシベンゼン、１
−メトキシ−３−エトキシベンゼンなどの例が挙げられ
る。
続いてアルドースのアセタール位チオホスフィン酸エス
テルと前述した芳香族系化合物との反応について説明す
る。この方法ではこれらのモル比は特に制限はなく芳香
族化合物を大過剰に用いてもよいが、通常は１〜数倍モ
ル等量である。
テルと前述した芳香族系化合物との反応について説明す
る。この方法ではこれらのモル比は特に制限はなく芳香
族化合物を大過剰に用いてもよいが、通常は１〜数倍モ
ル等量である。
溶媒はアルコールを除く周知の有機溶媒を使用できる。
例えばエーテル、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラン等を挙げることができる。
例えばエーテル、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラン等を挙げることができる。
反応温度は特に制限はないが、−40℃〜60℃好ましくは
−20℃〜40℃である。反応時間は反応温度、原料の種類
等によってことなるが、数分〜数十時間の範囲である。
−20℃〜40℃である。反応時間は反応温度、原料の種類
等によってことなるが、数分〜数十時間の範囲である。
反応を行うにあたってはアルドースのアセタール位チオ
ホスフィン酸エステル誘導体に対し、過塩素酸塩の共存
下で行う。過塩素酸塩は100〜500モル％で行うこともで
きるが、好ましくは100〜300モル％で使用する。これら
の活性剤となる塩は特に無水状態にすることもなく反応
系にモレキュラーシーブス等の脱水剤を共存させるだけ
で十分である。過塩素酸塩としては、過塩素酸リチウ
ム、過塩素酸トリチル、過塩素酸銀等が挙げられる。特
に過塩素酸銀が好ましい。
ホスフィン酸エステル誘導体に対し、過塩素酸塩の共存
下で行う。過塩素酸塩は100〜500モル％で行うこともで
きるが、好ましくは100〜300モル％で使用する。これら
の活性剤となる塩は特に無水状態にすることもなく反応
系にモレキュラーシーブス等の脱水剤を共存させるだけ
で十分である。過塩素酸塩としては、過塩素酸リチウ
ム、過塩素酸トリチル、過塩素酸銀等が挙げられる。特
に過塩素酸銀が好ましい。
本発明はこのように有用な化合物を収率良く、緩和な条
件下で製造でき、副生成物も少なく、その工業的価値は
大である。
件下で製造でき、副生成物も少なく、その工業的価値は
大である。
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが本発
明はその要旨を越えない限り、以下の実施例により何等
の制限もうけるものではない。
明はその要旨を越えない限り、以下の実施例により何等
の制限もうけるものではない。
参考例１ 2,3,4,6−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−グルコピラノー
ス 10.0g（18.5mmol）をTHF2mlに溶解し、−30℃下
1.5Mのヘキサン溶液としたブチルリチウム13.6ml（20.4
mmol）を加え、30分攪はんし塩化ジメチルホスフィノチ
オイル2.62g（20.4mmol）をTHF20mlに溶解して加える。
２時間攪はんし、水を加えてジクロロメタンで抽出し、
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去しシリカゲルカラムクロマト（展開剤；ヘキサン：酢
酸エチル＝10:1）で精製して2,3,4,6−テトラ−Ｏ−ベ
ンジル−Ｄ−グルコピラノシル ジメチルチオホスフィ
ン酸エステル10.1g（86％）が得られた。1 H−NMR（CDCl3）；δ1.86（6H,d,J＝13Hz,P−CH3） 実施例１ 参考例１で合成したジメチルチオホスフィン酸エステル
127.2mg（0.2mmol）、1,3,5−トリメトキシベンゼン33.
8mg（0.2mmol）、過塩素酸銀41.4mg（0.2mmol）、モレ
キュラーシーブス4A粉末約100mgをベンゼン2mlに懸濁さ
せ、一晩室温で攪はんし５％硫化ナトリウム5mlを加え
反応を停止する。反応混合物をろ過後、酢酸エチルで抽
出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を
減圧留去し調整用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘ
キサン：酢酸エチル＝4:1）で精製したところ目的のα
−Ｃ−グリコシル化合物が65.2mg（47％）得られた。13 C−NMR（ppm）;55.3,55.9,56.1（OCH3） 実施例２ 参考例１で合成したジメチルチオホスフィン酸エステル
126.9mg（0.2mmol）、1,3,5−トリメトキシベンゼン67.
9mg（0.4mmol）、過塩素酸銀41.7mg（0.2mmol）、モレ
キュラーシーブス4A粉末約100mgをベンゼン2mlに懸濁さ
せ、一晩室温で攪はんし５％硫化ナトリウム5mlを加え
反応を停止する。反応混合物をろ過後、酢酸エチルで抽
出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を
減圧留去し調整用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘ
キサン：酢酸エチル＝4:1）で精製したところ目的のα
−Ｃ−グリコシル化合物が88.8mg（47％）得られた。13 C−NMR（ppm）は実施例１と同じ。
ス 10.0g（18.5mmol）をTHF2mlに溶解し、−30℃下
1.5Mのヘキサン溶液としたブチルリチウム13.6ml（20.4
mmol）を加え、30分攪はんし塩化ジメチルホスフィノチ
オイル2.62g（20.4mmol）をTHF20mlに溶解して加える。
２時間攪はんし、水を加えてジクロロメタンで抽出し、
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去しシリカゲルカラムクロマト（展開剤；ヘキサン：酢
酸エチル＝10:1）で精製して2,3,4,6−テトラ−Ｏ−ベ
ンジル−Ｄ−グルコピラノシル ジメチルチオホスフィ
ン酸エステル10.1g（86％）が得られた。1 H−NMR（CDCl3）；δ1.86（6H,d,J＝13Hz,P−CH3） 実施例１ 参考例１で合成したジメチルチオホスフィン酸エステル
127.2mg（0.2mmol）、1,3,5−トリメトキシベンゼン33.
8mg（0.2mmol）、過塩素酸銀41.4mg（0.2mmol）、モレ
キュラーシーブス4A粉末約100mgをベンゼン2mlに懸濁さ
せ、一晩室温で攪はんし５％硫化ナトリウム5mlを加え
反応を停止する。反応混合物をろ過後、酢酸エチルで抽
出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を
減圧留去し調整用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘ
キサン：酢酸エチル＝4:1）で精製したところ目的のα
−Ｃ−グリコシル化合物が65.2mg（47％）得られた。13 C−NMR（ppm）;55.3,55.9,56.1（OCH3） 実施例２ 参考例１で合成したジメチルチオホスフィン酸エステル
126.9mg（0.2mmol）、1,3,5−トリメトキシベンゼン67.
9mg（0.4mmol）、過塩素酸銀41.7mg（0.2mmol）、モレ
キュラーシーブス4A粉末約100mgをベンゼン2mlに懸濁さ
せ、一晩室温で攪はんし５％硫化ナトリウム5mlを加え
反応を停止する。反応混合物をろ過後、酢酸エチルで抽
出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を
減圧留去し調整用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘ
キサン：酢酸エチル＝4:1）で精製したところ目的のα
−Ｃ−グリコシル化合物が88.8mg（47％）得られた。13 C−NMR（ppm）は実施例１と同じ。
実施例３ 参考例１で合成したジメチルチオホスフィン酸エステル
126.9mg（0.2mmol）、1,3−ジメトキシベンゼン55.2mg
（0.4mmol）、過塩素酸銀41.4mg（0.2mmol）、モレキュ
ラーシーブス4A粉末約100mgをベンゼン2mlに懸濁させ、
１時間室温で攪はんし５％硫化ナトリウム5mlを加え反
応を停止する。反応混合物をろ過後、酢酸エチルで抽出
し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減
圧留去し調整用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキ
サン：酢酸エチル＝4:1）で精製したところ目的のα−
Ｃ−グリコシル化合物が91mg（69％）得られた。1 H−NMR（δ）;3.6（3H,OCH3）,3.7（3H,OCH3）
126.9mg（0.2mmol）、1,3−ジメトキシベンゼン55.2mg
（0.4mmol）、過塩素酸銀41.4mg（0.2mmol）、モレキュ
ラーシーブス4A粉末約100mgをベンゼン2mlに懸濁させ、
１時間室温で攪はんし５％硫化ナトリウム5mlを加え反
応を停止する。反応混合物をろ過後、酢酸エチルで抽出
し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して、溶媒を減
圧留去し調整用シリカゲル薄層クロマト（展開剤；ヘキ
サン：酢酸エチル＝4:1）で精製したところ目的のα−
Ｃ−グリコシル化合物が91mg（69％）得られた。1 H−NMR（δ）;3.6（3H,OCH3）,3.7（3H,OCH3）
Claims (3)
- 【請求項１】アルドースのヘミアセタール位がアセター
ル結合している糖の水酸基の水素が一般式 （式中R1，R2は非置換または置換されたアルキル基ある
いはアリール基を示す。）で表されるホスフィノチオイ
ル基で置換されたアルドースのアセタール位チオホスフ
ィン酸エステル誘導体と、芳香族系化合物を過塩素酸塩
の共存下、反応させることを特徴とするアルドースのア
リールＣ−グリコシド系化合物の製造法。 - 【請求項２】アルドースのアセタール位チオホスフィン
酸エステルとしてジメチルチオホスフィン酸エステル誘
導体を用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の製造法。 - 【請求項３】過塩素酸塩として過塩素酸銀を用いること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6212390A JPH0670030B2 (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | アルドースのアリールｃ―グリコシド系化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6212390A JPH0670030B2 (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | アルドースのアリールｃ―グリコシド系化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03264576A JPH03264576A (ja) | 1991-11-25 |
| JPH0670030B2 true JPH0670030B2 (ja) | 1994-09-07 |
Family
ID=13190976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6212390A Expired - Lifetime JPH0670030B2 (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | アルドースのアリールｃ―グリコシド系化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0670030B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-13 JP JP6212390A patent/JPH0670030B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03264576A (ja) | 1991-11-25 |
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